JP5700929B2 - 歯科インプラント用セメント - Google Patents
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Description
本発明の歯科インプラント用セメントは、歯科インプラントを構成するアバットメントと上部構造体とを接着するために用いられる第一成分および第二成分から構成され、第一成分と第二成分とが混合することで硬化する機能を有し、アバットメントと上部構造体との接着が、第一成分を、アバットメントの接合面および上部構造体の接合面から選択される少なくとも一方の接合面に付与し、かつ、第二成分を、アバットメントの接合面および上部構造体の接合面から選択される少なくとも一方の接合面に付与し、これら接合面への第一成分および第二成分の付与を終えた後、アバットメントの接合面と上部構造体の接合面とを接合させることにより、第一成分と第二成分とを混合し、当該混合物を硬化させるプロセスを少なくとも経ることで実施される。
ここで、第一成分および第二成分のうちのいずれか一方の成分の23℃における粘度が0.1〜10Pa・sであり、他方の成分の23℃における粘度が10〜100Pa・sである。
酸塩基硬化型セメントとしては、リン酸亜鉛セメント、グラスアイオノマーセメント、ポリカルボキシレートセメント、酸化亜鉛ユージノールセメントなどが挙げられ、いずれも従来公知のものが利用できる。以下にこれらセメントの詳細について説明する。
リン酸亜鉛セメント(ZnO−H3PO4系セメント)は、第一成分が主成分としてリン酸を含み、その含有量は、たとえばセメント全体に対して45〜63質量%程度とすることができる。また、第二成分が主成分として酸化亜鉛を含み、さらに酸化マグネシウムが含まれていることが好ましく、その他に、酸化ストロンチウムや二酸化珪素、酸化第二鉄、酸化イットリウム等の金属酸化物が含まれていてもよい。第二成分に用いられるこれら金属酸化物成分は、一般的には、70〜90質量%の酸化亜鉛と、10〜30質量%の酸化マグネシウム等のその他の金属酸化物とを混合したものを700℃以上の高温で焼結して得られた焼結体をボールミル等で粉砕した粉末状のものが利用される。また、第一成分や、第二成分には、上記成分以外に水などの水溶性溶媒を含み、さらに、必要に応じて増粘剤などのその他の添加剤が添加されてもよい。
グラスアイオノマーセメントは、第一成分が主成分としてポリカルボン酸を含み、第二成分が主成分としてフルオロアルミノシリケートガラスを含むものである。さらに、これら第一成分および第二成分には、水などの水溶性溶媒が含まれ、必要に応じて増粘剤などのその他の添加剤を添加してもよい。
ポリカルボキシレートセメントは、第一成分が主成分としてポリカルボン酸を含む。このポリカルボン酸としては、アクリル酸の重合物や、アクリル酸とアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルあるいは不飽和カルボン酸(たとえばマレイン酸、イタコン酸、アコニット酸等)との共重合物などが挙げられる。また、第一成分としては、ポリカルボン酸と共に、低分子のカルボン酸(たとえば、クエン酸、酒石酸、マレイン酸等)が含まれていてもよい。また、第二成分は主成分として酸化亜鉛を含み、その他にも酸化マグネシウムが含まれていてもよい。さらに、第二成分には、酸化珪素、酸化アルミニウム、弗化カルシウム、燐酸アルミニウム、氷晶石などのその他の金属酸化物が含まれていてもよい。さらに、これら第一成分および第二成分には、水などの水溶性溶媒が含まれ、必要に応じて増粘剤などのその他の添加剤を添加してもよい。
酸化亜鉛ユージノールセメントは、第一成分が主成分として油状液体であるユージノール(eugenol、オイゲノールともいう)を含み、第二成分が主成分として酸化亜鉛を含むものである。なお、第二成分には、硬化反応促進剤として酢酸や、酢酸亜鉛を添加することも好ましい。また、第一成分には、必要に応じて増粘剤やその他の添加剤を添加することができる。また、第二成分には、水などの水溶性溶媒が含まれ、必要に応じて増粘剤やその他の添加剤を添加することができる。
ラジカル重合型セメントは、第一成分および第二成分の各々の成分が、ラジカル重合性単量体と化学重合開始剤の一成分とを含むものである。なお、各々の成分には、粘度の調整や、液状またはペースト状のいずれの態様に調整するか等を目的として充填剤を添加してもよく、必要に応じてその他の添加剤も添加してもよい。また、第一成分や第二成分は、通常、接着強度と硬化速度とをバランスよく両立させる観点から、ラジカル重合性単量体100質量部に対して、化学重合開始剤の一成分が0.05〜15質量部の範囲で含まれていることが好ましく、0.5〜8質量部の範囲内で含まれていることがより好ましい。さらに、充填剤を用いる場合は、第一成分や第二成分には、ラジカル重合性単量体100質量部に対して、充填剤が20〜1000質量部の範囲で含まれていることが好ましく、70〜400質量部の範囲内で含まれていることがより好ましい。これにより接着作業に適した適度な粘性に加え、十分な接着強度の確保がより容易となる。以下に、ラジカル重合型セメントに用いられる重合性単量体や化学重合開始剤、また、必要に応じて用いられる充填剤等の各成分について説明する。
重合性単量体としては、ラジカル重合可能な公知の重合性単量体であれば特に制限されないが、重合性や生体への安全性の点から(メタ)アクリル酸エステル系のラジカル重合性単量体が好適に使用される。重合性単量体の具体例としては、下記に例示するものが利用でき、これらを1種単独で或いは2種以上の組み合わせで使用することができる。
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,3−ジヒドロキシブチルメタクリレート、2,4−ジヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,3,4−トリヒドロキシブチルメタクリレート、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、テトラエチレングリコールモノメタクリレート、ペンタエチレングリコールモノメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等のメタクリレート、およびこれらのメタクリレートに対応するアクリレート。
(i)芳香族化合物系の二官能性ラジカル重合性単量体;
2,2−ビス(メタクリロイルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス〔4−(3−メタクリロイルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシフェニル〕プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン)、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシテトラエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシペンタエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシジプロポキシフェニル)プロパン、2−(4−メタクリロイルオキシジエトキシフェニル)−2−(4−メタクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、2−(4−メタクリロイルオキシジエトキシフェニル)−2−(4−メタクリロイルオキシジトリエトキシフェニル)プロパン、2−(4−メタクリロイルオキシジプロポキシフェニル)−2−(4−メタクリロイルオキシトリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシプロポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオキシイソプロポキシフェニル)プロパン、およびこれらのメタクリレートに対応するアクリレート;
エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、およびこれらのメタクリレートに対応するアクリレート;
トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、トリメチロールメタントリメタクリレート等のメタクリレート、および、これらのメタクリレートに対応するアクリレート等。
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、および、ジイソシアネート化合物とグリシドールジメタクリレートとの付加から得られるジアダクト等。
なお、以上に説明した重合性単量体は、酸性基を含まない重合性単量体(酸性基非含有重合性単量体)であるが、酸性基を含有する重合性単量体(酸性基含有重合性単量体)を用いることもできる。この場合、重合性単量体としては、酸性基含有重合性単量体を単独で用いてもよく、酸性基含有重合性単量体と酸性基非含有重合性単量体とを併用してもよい。
(i)分子内に1つのカルボキシル基を有すラジカル重合性単量体
(メタ)アクリル酸、N−(メタ)アクリロイルグリシン、N−(メタ)アクリロイルアスパラギン酸、N−(メタ)アクリロイル−5−アミノサリチル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレートおよび上記ラジカル重合性単量体の酸無水物或いは酸ハロゲン化物等。
11−(メタ)アクリロイルオキシウンデカン−1,1−ジカルボン酸、10−(メタ)アクリロイルオキシデカン−1,1−ジカルボン酸、12−(メタ)アクリロイルオキシドデカン−1,1−ジカルボン酸、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキサン−1,1−ジカルボン酸および上記ラジカル重合性単量体の酸無水物或いは酸ハロゲン化物等。
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルジハイドロジェンフォスフェート、ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)ハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルハイドロジェンフォスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルジハイドロジェンフォスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルジハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル2−ブロモエチルハイドロジェンフォスフェート、2−(メタ)アクリルアミドエチルジハイドロジェンフォスフェート、ビス(6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル)ハイドロジェンフォスフェート、ビス(10−(メタ)アクリロイルオキシデシル)ハイドロジェンフォスフェート、ビス{2−(メタ)アクリロイルオキシ−(1−ヒドロキシメチル)エチル}ハイドロジェンフォスフェート等、および、上記ラジカル重合性酸性リン酸エステルの酸無水物、酸ハロゲン化物等。
(v)2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、p−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸等の分子内にスルホ基を有すラジカル重合性単量体。
第一成分および第二成分に用いられる化学重合開始剤は2種以上の化合物の組み合わせからなり、これらを混合(接触)させることによりレドックス系を形成してラジカルを発生するものである。このため、2種類以上の化合物のうちの少なくとも1種を第一成分に、残りを第二成分に配合する。化学重合開始剤を構成する2種類以上の各成分の組み合わせとしては、下記表1中の(1)〜(6)が挙げられる。なお、表1中、括弧内の数値は、相対的な配合割合の好適な範囲を示したものであり、(1)に示す例であれば、第二成分に含まれる有機過酸化物1モルを基準として、第一成分に含まれるアミン化合物が0.01〜4モルの割合であることが好ましいことを意味する。なお、表1中に示される第一成分として示される化合物が第二成分に含まれ、表1中に示される第二成分に示される化合物が第一成分に含まれていてもよい。
有機過酸化物は特に制限されるものではなく、公知のものを使用することができる。代表的な有機過酸化物としては、ケトンパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシケタール、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート等がある。
アミン類としては、特に制限されるものではないが、アミノ基がアリール基、または、ピリジル基に結合した第2級または第3級アミン類が、硬化の加速性の点で好ましい。アミン類としては、具体的には、下記一般式(1)に示される第2級アミンもしくは第3級アミンが挙げられる。
有機スルフィン酸化合物としては、たとえば、ベンゼンスルフィン酸、o−トルエンスルフィン酸、m−トルエンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、2.3−ジメチルベンゼンスルフィン酸、3,5−ジメチルベンゼンスルフィン酸、α−ナフタレンスルフィン酸等のスルフィン酸のリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、キノリニウム塩等が挙げられる。
アリールボレート化合物は、1分子中に1〜4個のホウ素−アリール結合を有するボレート化合物であり、好ましくは1分子中に3〜4個のホウ素−アリール結合を有するボレート化合物である。具体的には、1分子中に3個または4個のホウ素−アリール結合を有するボレートの塩、たとえばナトリウム塩、リチウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩等の金属塩、テトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリブチルアンモニウム塩、トリエタノールアンモニウム塩等のアンモニウム塩、メチルピリジニウム塩、エチルピリジニウム塩、ブチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩、またはメチルキノリニウム塩、エチルキノリニウム塩、ブチルキノリニウム塩等のキノリニウム塩等を挙げることができる。ここで、1分子中に3個のホウ素−アリール結合を有するボレート化合物としては、モノアルキルトリフェニルホウ素、モノアルキルトリス(p−クロロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(p−フルオロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(3,5−ビストリフルオロメチル)フェニルホウ素、モノアルキルトリス[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、モノアルキルトリス(p−ニトロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(m−ニトロフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(p−ブチルフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(m−ブチルフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素、モノアルキルトリス(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素を例示することができる。また、1分子中に4個のホウ素−アリール結合を有するボレートとしては、テトラフェニルホウ素、テトラキス(p−クロロフェニル)ホウ素、テトラキス(p−フルオロフェニル)ホウ素、テトラキス(3,5−ビストリフルオロメチル)フェニルホウ素、テトラキス[3,5−ビス(1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メトキシ−2−プロピル)フェニル]ホウ素、テトラキス(p−ニトロフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ニトロフェニル)ホウ素、テトラキス(p−ブチルフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ブチルフェニル)ホウ素、テトラキス(p−ブチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(m−ブチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(p−オクチルオキシフェニル)ホウ素、テトラキス(m−オクチルオキシフェニル)ホウ素を例示することができる。なお、上記のボレートにおいて、アルキルはn−ブチル、n−オクチルまたはn−ドデシルのいずれかである。
酸性化合物としては、公知の無機酸や有機酸が利用でき、具体的には、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸や、酢酸、マレイン酸、クエン酸、マロン酸、シュウ酸、プロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。また、これら酸性化合物以外にも酸性基含有重合性単量体も利用できる。
バルビツール酸誘導体としては、たとえば、5−ブチル(チオ)バルビツール酸、1,3,5−トリメチル(チオ)バルビツール酸、1−ベンジル−5−フェニル(チオ)バルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−メチル(チオ)バルビツール酸、1−シクロヘキシル−5−ブチル(チオ)バルビツール酸等が挙げられる。
銅化合物としては、アセチルアセトン銅、酢酸第2銅、オレイン酸銅、塩化第2銅、臭化第2銅等を具体的に挙げることができる。
充填剤としては、有機充填剤および無機充填剤が利用できる。有機充填剤としては、たとえばポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、架橋型ポリメタクリル酸メチル、架橋型ポリメタクリル酸エチル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体等が挙げられ、これらは単独でまたは二種以上の混合物として用いることができる。無機充填剤としては、石英、シリカ、アルミナ、シリカチタニア、シリカジルコニア、ランタンガラス、バリウムガラス、ストロンチウムガラス、フルオロアルミノシリケートガラス等が挙げられる。これらもまた、単独でまたは二種以上を混合して用いられる。
混合型セメントとしては、酸塩基硬化反応およびラジカル重合反応の双方の重合メカニズムを利用したセメントであれば特に限定されないが、たとえば、ラジカル重合型セメントにおいて、第一成分に用いられる化学重合開始剤の一成分として銅化合物およびハロゲン化合物を用い、第二成分に用いられる化学重合開始剤の一成分としてバルビツール酸を用いたものが挙げられる。ここで、ハロゲン化合物としては、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンジルジメチルセチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロマイド等が好適に用いられる。また、バルビツール酸1モルに対して、銅化合物は0.000001〜0.01モルの範囲内で用いることが好ましく、ハロゲン化合物は0.0001〜1モルの範囲内で用いることが好ましい。
<重合性単量体>
・D−2.6E:2,2−ビス(4−(メタクリロイルオキシエトキシ)フェニル)プロパン
・UDMA:1,6−ビス(メタクリルエチルオキシカルボニルアミノ)2,2,4−トリメチルヘキサン
・PM:2−メタクリロイルオキシエチルジハイドロジェンフォスフェート(PM1)とビス(2−メタクリロイルオキシエチル)ハイドロジェンホスフェート(PM2)とを、質量比で2:1の割合で含む混合物
・3G:トリエチレングリコールジメタクリレート
・HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
・F−1:球状シリカ−ジルコニアのγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン表面処理物;平均粒子径0.4μm
・F−2:球状シリカ−チタニアのγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン表面処理物;平均粒子径0.07μm
・F−3:ヒュームドシリカ;平均粒子径0.01μm
・F−4:フルオロアルミノシリケートガラス粉末(トクソーアイオノマー、トクヤマデンタル社製)を湿式の連続型ボールミル(ニューマイミル、三井鉱山社製)を用いて平均粒径0.5μmまで粉砕した粉末
・BPO:過酸化ベンゾイル
・PBTEOA:テトラフェニルホウ素のトリエタノールアンモニウム塩
・DEPT:N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ−p−トルイジン
・CPC:カルボキシメチルセルロース
・PA:ポリアクリル酸(重合度1000)
PMを20質量部、UDMAを80質量部、DEPTを0.6質量部、F−1を8質量部、F−2を5質量部混合し、均一になるまで撹拌し、第一成分を調製した。D−2.6Eを50質量部、UDMAを50質量部、PBTEOAを1.4質量部、BPOを7.0質量部、F−1を100質量部、F−2を60質量部混合し、均一になるまで混練し、第二成分を調整した(表2)。
実施例1と同様に、表2に示す組成表にしたがって、第一成分、第二成分を調製し、実施例1と同様にして接着サンプルを作製した。
実施例1と同様に、表1に示す組成表にしたがって、第一成分、第二成分を調製した。そして、これら第一成分および第二成分からなるセメントを用いて、2cm角の純チタン平板と2cm角の歯科用金銀パラジウム合金板との接着サンプルを作製する際には、第一成分および第二成分をあらかじめ練和紙上で混合し、この混合物を2枚の板で挟むことで接着した。また、これ以外の条件については実施例1と同様にして接着サンプルを作製した。なお、接合に際して使用した第一成分および第二成分の使用量は、貼り合わせ界面から、余剰な第一成分および第二成分の混合物がはみ出る量となるように十分な量とした。
表2に各実施例および比較例の接着サンプルを作製する際に用いた第一成分および第二成分の組成、粘度、形態、および、接合前における第一成分および第二成分の混合の有無を示す。また、表3に、各実施例および比較例の接着サンプルの接着強度、接着サンプルを作製する際に発生した余剰セメントの除去性および余剰セメント除去率を評価した結果を示す。
粘度測定装置(BOHLIN社製CSレオメーター CVO120HR)に調製したサンプル0.1gを載せ、23℃で保持しながら粘度の測定を開始し、測定開始から60秒後の粘度をサンプルの粘度とした。なお、粘度測定装置の測定条件は、コーン直径が2cm、コーンの傾斜角度が1°、ショアレート10s−1とした。
接着サンプルを構成する歯科用金銀パラジウム合金板側の外面に瞬間接着剤(東亞合成社製、アロンアルファ、ゼリー状)を塗布し、その上から直径8mmのステンレス製アタッチメント(接着試験片)を圧接して接着試験評価用サンプルを準備した。次いで、この接着試験評価用サンプルを、37℃、湿度100%の環境下で24時間静置した後、引張試験機(島津製作所製オートグラフ)を用い、クロスヘッドスピード2mm/minにて、接着サンプルの接着強度を測定した。なお、1試験当り、4つの試験片について、引張強度を上記方法で測定し、その平均値を接着強度として評価した。
接着サンプルの作製時に、歯科用純チタン板と歯科用金銀パラジウム合金板との接合界面からはみ出した余剰成分を、温度37℃、湿度100%の環境下に静置し、接合直後(0分)から10分目までの期間において、1分毎に探針を用いて余剰成分を引っ掻くことで、余剰成分の除去性を評価した。評価基準は以下の通りである。
○:余剰成分が硬化しておらず、探針により引っ掻いた箇所から余剰成分を容易に除去できる。
△:余剰成分がやや硬化していたが、探針により引っ掻いた場合に、塊状として余剰成分を除去できる。
×:余剰成分が硬化しており、探針により引っ掻いても、余剰成分を除去できない。
接着サンプルの作製時に、接着に用いる歯科用純チタン板および歯科用金銀パラジウム合金板とは別に、もう一枚の歯科用金銀パラジウム合金板を準備し、この板を貼り合わせに用いる歯科用金銀パラジウム合金板と並べて配置した。この際、2枚の歯科用金銀パラジウム合金板は、その端面同士が向き合うように配置すると共に端面間の隙間が100μmとなるようにした。この状態で接合することにより、接合界面からはみ出た余剰成分が隙間に流れ込んだ。この隙間に流れ込んだ余剰成分は、接合から5分間の間、温度37℃、湿度100%の環境下に静置した。その後、この隙間に対して水銃により十分に洗浄を行い、洗浄後に隙間に残った余剰セメントの除去率を、拡大鏡による目視観察にて評価した。評価基準は以下の通りである。
○:隙間部分全て(長さ2cm、幅100μm)において、余剰成分が残存していない。
△:隙間の一部分に、余剰成分が若干残存している(隙間部分の全面積に対する面積割合で約10%以下の割合で残存)。
×:隙間に余剰成分が残存しているのが容易に確認される(隙間部分の全面積に対する面積割合で約10%を超える割合で残存)。
実施例1〜5、比較例6〜11および比較例1〜3で用いたセメントについては、このセメントを用いて形成された接着層の厚み方向について、電子線マイクロアナライザ(EPMA)による定量分析を以下の手順で実施した。
Claims (1)
- 歯科インプラントを構成するアバットメントと上部構造体とを接着するために用いられる第一成分および第二成分から構成され、
上記第一成分と上記第二成分とが混合することで硬化する機能を有し、
上記アバットメントと上記上部構造体との接着が、
上記第一成分を、上記アバットメントの接合面および上記上部構造体の接合面から選択される少なくとも一方の接合面に付与し、かつ、
上記第二成分を、上記アバットメントの接合面および上記上部構造体の接合面から選択される少なくとも一方の接合面に付与し、
これら接合面への上記第一成分および上記第二成分の付与を終えた後、上記アバットメントの接合面と上記上部構造体の接合面とを接合させることにより、上記第一成分と上記第二成分とを混合し、当該混合物を硬化させるプロセスを少なくとも経ることで実施され、
上記第一成分および上記第二成分のうちのいずれか一方の成分の23℃における粘度が0.1〜10Pa・sであり、他方の成分の23℃における粘度が10〜100Pa・sであることを特徴とする歯科インプラント用セメント。
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