JP5686017B2 - スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents

スパッタリングターゲットの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5686017B2
JP5686017B2 JP2011070743A JP2011070743A JP5686017B2 JP 5686017 B2 JP5686017 B2 JP 5686017B2 JP 2011070743 A JP2011070743 A JP 2011070743A JP 2011070743 A JP2011070743 A JP 2011070743A JP 5686017 B2 JP5686017 B2 JP 5686017B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
backing plate
solder
target
frame
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011070743A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012201979A (ja
Inventor
正則 除補
正則 除補
耕樹 大西
耕樹 大西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2011070743A priority Critical patent/JP5686017B2/ja
Publication of JP2012201979A publication Critical patent/JP2012201979A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5686017B2 publication Critical patent/JP5686017B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、ターゲット材とバッキングプレートとをボンディング材により接合してなるスパッタリングターゲットの製造方法に関する。
一般に、スパッタリングターゲットは、薄膜を形成するための材料であるターゲット材と、導電性および熱伝導性に優れた材質のバッキングプレートとが接合材で接合されている。
たとえば、加熱されたホットプレート上にバッキングプレートを載置し、このバッキングプレートの上面に溶融状態の接合材を塗布し、バッキングプレートとターゲット材とを接合できる。
特許文献1には、融点が低く溶融時の酸化物の発生を抑制可能なはんだ合金をスパッタリング用ターゲットのボンディング材として用いて、スパッタリングターゲットとバッキングプレートとの接合温度を低くすることにより、反りや割れを防止する技術が開示されている。
特許文献2には、ボンディング材を塗布するターゲット材の片面を研磨して、ターゲット材とバッキングプレートとの接合強度を高めようとする技術が開示されている。
特開平7−227690号公報 特許2970729号公報
このようなスパッタリングターゲットにおいて、ターゲット材とバッキングプレートとの間に均一な所定の厚さのボンディング層を形成することが従来から行われている。このようなスパッタリングターゲットにおいて、スパッタリング時に高温となるターゲット材は、バッキングプレートを冷却することにより、ボンディング層を介して冷却される。ボンディング層は、ターゲット材とバッキングプレートとの間の熱膨張差による応力を緩和するために、所定の厚さを持って形成される。
しかしながら、ボンディング層が厚い場合には、接合時の溶融状態のボンディング材が冷却されて凝固する際に収縮して、いわゆる「引け巣」が生じる場合がある。この引け巣がターゲット材とバッキングプレートとの間に生じていると、スパッタリング時の冷却が不均一となり、熱膨張差によりターゲット材がバッキングプレートから剥がれたり、割れたりするおそれがある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ターゲット材とバッキングプレートとの間の任意の厚さのボンディング層を隙間なく形成することにより、熱膨張差による剥がれや割れが生じにくいスパッタリングターゲットを製造することを目的とする。
本発明は、バッキングプレート上にターゲット材を積層し、これらをはんだ材により接合することによりスパッタリングターゲットを製造する方法であって、前記バッキングプレートと前記ターゲット材との接合部の外周を囲む枠状部材を配置して、この枠状部材の内側に前記接合部に連続するはんだ溜まりを形成し、溶融状態の前記はんだ材を供給する前に、前記はんだ溜まりの底面に、前記はんだ材の固着を防ぐマスキング材を配置し、前記マスキング材を配置した後、前記接合部および前記はんだ溜まりを溶融状態の前記はんだ材で満たし、前記はんだ材が凝固した後に、前記枠状部材と前記マスキング材及び前記はんだ溜まり内の前記はんだ材とを取り除く。
この方法において、前記マスキング材を配置する際に、前記ターゲット材の下面の外周部にかかるように前記バッキングプレートの上面に前記マスキング材を貼付するとよい。
スパッタリングターゲットの製造において、ボンディング層に引け巣が生じるのを防ぐために、ターゲット材とバッキングプレートとを接合するはんだ材を十分に供給しておくことが考えられる。しかしながら、十分に供給しても、はんだ材が接合部から流れ出て引け巣が生じるおそれがある。これに対して、本発明に係るスパッタリングターゲットの製造方法によれば、接合部を囲むはんだ溜まりに溶融状態のはんだ材を供給するので、接合部からはんだ材が流れ出ることがなく、引け巣の形成を確実に防止できる。
また、マスキング材によってはんだ溜まりの底面、すなわちホットプレート上面やバッキングプレート上面へのはんだ材の固着が防止できるので、マスキング材と枠状部材とを取り除くことにより、余剰のはんだ材を容易に除去できる。
この製造方法において、前記枠状部材の内側に前記バッキングプレートおよび前記ターゲット材を配置してもよい。この場合、はんだ溜まりは、バッキングプレートおよびターゲット材の側面と、バッキングプレートを載置したたとえばホットプレートの上面と、枠状部材の内面との間に形成される。また、この場合には、前記枠状部材の内側に配置した前記バッキングプレートの上面を覆う深さまで溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することにより、接合部およびはんだ溜まりに対してはんだ材を容易に供給できる。
あるいは、この製造方法において、前記バッキングプレートの上面よりも小さい前記枠状部材を前記バッキングプレート上に載置するとともに、この枠状部材の内側に前記ターゲット材を配置してもよい。この場合、はんだ溜まりは、ターゲット材の側面と、バッキングプレートの上面と、枠状部材の内面との間に形成される。また、この場合には、前記バッキングプレート上に載置された前記枠状部材の内側に溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することにより、接合部およびはんだ溜まりに対してはんだ材を容易に供給できる。
また、この製造方法において、前記バッキングプレートと前記ターゲット材との間に所定の間隙を形成するワイヤを介装することが好ましい。この場合、適当な直径を有するワイヤを介装するだけで、ターゲット材とバッキングプレートとの間に形成されるボンディング層の厚さを容易に設定できる。適切な厚さのボンディング層によって、ターゲット材とバッキングプレートの熱膨張差による応力が緩和されるので、熱膨張差による剥がれや割れを生じにくいスパッタリングターゲットを製造できる。
本発明のスパッタリングターゲットの製造方法によれば、ターゲット材とバッキングプレートとの間の任意の厚さのボンディング層を隙間なく形成できるので、熱膨張差による剥がれや割れが生じにくいスパッタリングターゲットを製造することができる。
本発明のスパッタリングターゲットの製造方法に係り、ターゲット材とバッキングプレートの直径がほぼ同じであるスパッタリングターゲットの一例を示す側面図である。 本発明のスパッタリングターゲットの製造方法に係り、枠状部材の内径がバッキングプレートの外形よりも大きい場合の実施形態において、はんだが供給された接合面にターゲット材を積層する状態を示す断面図である。 図2に示す状態に続き、積層状態のターゲット材およびバッキングプレートの接合部およびはんだ溜まりに溶融状態のはんだ材が満たされた状態を示す断面図である。 図3に示す状態に続き、接合されたバッキングプレートおよびターゲット材から枠状部材およびはんだ溜まりの余剰はんだを取り除いた状態を示す断面図である。 本発明のスパッタリングターゲットの製造方法に係り、ターゲット材の直径がバッキングプレートよりも小さいスパッタリングターゲットの一例を示す側面図である。 本発明のスパッタリングターゲットの製造方法に係り、枠状部材の内径がバッキングプレートの外形よりも小さい場合の実施形態において、はんだが供給された接合面にターゲット材を積層する状態を示す断面図である。 図6に示す実施形態において、はんだ溜まりの底面に配置したマスキング材を示す平面図である。 図6に示す状態に続き、積層状態のターゲット材およびバッキングプレートの接合部およびはんだ溜まりに溶融状態のはんだ材が満たされた状態を示す断面図である。 図8に示す状態に続き、接合されたバッキングプレートおよびターゲット材から枠状部材およびはんだ溜まりの余剰はんだをマスキング材とともに取り除いた状態を示す断面図である。
以下、本発明に係るスパッタリングターゲットの製造方法の実施形態について説明する。第1実施形態に係るスパッタリングターゲット10は、図1に示すように、バッキングプレート20と、バッキングプレート20に接合されたターゲット材30と、これらバッキングプレート20およびターゲット材30を接合するはんだ材により形成されたボンディング層40とから構成される。
バッキングプレート20は、たとえば、銅または銅合金製の外径:200mm、厚さ:6mmの板材である。ターゲット材30は、たとえば、ITOまたはAZO製の外径:200mm、板厚:5mmの板材である。ボンディング層40を形成するはんだ材は、In,In−Sn系合金,Pb−Sn系合金,Sn−Ag系合金等の低融点はんだ材である。
これらバッキングプレート20とターゲット材30との間の接合部11には、バッキングプレート20とターゲット材30との間隔を安定させ、ボンディング層40を所望の厚さに形成するために、たとえば直径0.4mmのAl製やCu製等のワイヤ70が介装されている。
スパッタリングターゲット10は、ホットプレート60上に載置したバッキングプレート20上にターゲット材30を積層し、これらをはんだ材により接合することにより製造する。
まず、図2に示すように、バッキングプレート20および枠状部材50を、表面にフッ素樹脂加工等が施されたホットプレート60上に載置する。このとき、バッキングプレート20を加熱しながら、たとえば超音波はんだごてを用いて、はんだ材をバッキングプレート20の上面22の全体に塗布してなじませておく。また、バッキングプレート20の外周面21と枠状部材50との間隔が均等となるように、これらの部材を配置する。また、バッキングプレート20の上面22に、ワイヤ70を置いておく。
枠状部材50は、Al、Cu等からなり、はんだ材が固着しにくいようにフッ素樹脂等によって表面がライニングされている円筒状(たとえば内径210mm、外径230mm高さ12mm)の治具であり、バッキングプレート20の厚さよりも高さが大きい。バッキングプレート20を囲むようにこの枠状部材50を配置することにより、枠状部材50の内周面51とバッキングプレート20の外周面21との間に、はんだ溜まり12を形成できる。
次に、図2に示すように、ホットプレート60によってバッキングプレート20および枠状部材50を加熱しながら、はんだ溜まり12に対して、バッキングプレート20の上面22を覆うように、十分な量の溶融状態のはんだ材を供給する。そして、図3に示すようにバッキングプレート20上にターゲット材30を積層して積層方向に押圧することにより、バッキングプレート20とターゲット材30との間隔をワイヤ70に応じた大きさとする。
このとき、枠状部材50の内側に供給された溶融状態のはんだ材によってバッキングプレート20の上面22が覆われている状態でターゲット材30を積層するので、はんだ溜まり12およびこのはんだ溜まり12に連続する接合部11に、はんだ材が満たされた状態となる。
次に、ホットプレート60による加熱を停止して、バッキングプレート20およびターゲット材30とともにはんだ材を徐冷し、凝固させてボンディング層40を形成する。このとき、図3に示すように温度低下に伴いはんだ材の体積が減少するが、はんだ溜まり12を満たす十分な量の余剰はんだ41があるので、接合部11のボンディング層40に空隙が生じることはない。
そして、はんだ材が凝固したら、図4に示すように枠状部材50およびはんだ溜まり12の余剰はんだ41を取り除き、必要に応じてバッキングプレート20の外周面21およびターゲット材30の外周面31を研磨することにより、スパッタリングターゲット10が製造される。
次に、本発明に係るスパッタリングターゲットの製造方法の第2の実施形態について説明する。この実施形態に係るスパッタリングターゲット110は、図5に示すように、バッキングプレート120と、バッキングプレート120よりも直径が小さいターゲット材130とがボンディング層140によって接合されており、バッキングプレート120の上面121とターゲット材130の下面131との間(すなわち接合部111)に、第1実施形態と同様にボンディング層140を安定して形成するためのワイヤ70が介装されている。
このスパッタリングターゲット110を製造する際には、図6に示すように、バッキングプレート120の外形よりも小さい内径を有する枠状部材150をバッキングプレート120の上面121に載置して接合部111の外周を囲み、枠状部材150の内側に接合部111に連続するはんだ溜まり112を形成する。そして、接合部111およびはんだ溜まり112を溶融状態のはんだ材で満たすことにより、空隙のないボンディング層140を形成して両部材120,130を接合する。
接合の前処理として、図7に示すように、バッキングプレート120の上面121の外周部に、耐熱性を有するフッ素樹脂テープ等のたとえば厚さ0.15mmのマスキングテープ(マスキング材)Mを貼付して、はんだ溜まり112においてはんだがバッキングプレート120の上面121に固着するのを防止するためのマスキングエリアを形成しておく。このマスキングエリアを接合部111に僅かに入り込むように形成することにより、スパッタリングターゲット110においてターゲット材130からはんだ材がはみ出してバッキングプレート120に固着するのを防止する。
なお、本実施形態では、図7に示すように長方形帯状のマスキングテープMを、角度をずらしながら複数枚重ねて貼付することにより、バッキングプレート120の外周部に設定された略リング状のマスキングエリアを形成しているが、リング状のマスキングシートなどを用いてマスキングエリアを形成してもよい。
バッキングプレート120をホットプレート60により加熱しながら、たとえば超音波はんだごてを用いて、はんだ材をバッキングプレート120の上面121の全体に塗布してなじませておく。そして、ホットプレート60上でバッキングプレート120および枠状部材150を加熱しながら、マスキングテープMを貼付したバッキングプレート120の上面121に、枠状部材150およびワイヤ70を配置した後、図6に示すように枠状部材150の内側(すなわち接合部111およびはんだ溜まり112)に溶融状態のはんだ材を供給する。
そして、図8に示すように、バッキングプレート120上の枠状部材150の内側に、はんだ材を押しつぶすようにターゲット材130を積層する。これにより、連続する接合部111とはんだ溜まり112とが溶融状態のはんだ材で満たされた状態で、バッキングプレート120とターゲット材130とがワイヤ70の直径に応じた間隔をおいて積層される。
次いで、ホットプレート60による加熱を停止してはんだ材を凝固させ、ボンディング層140を形成する。この冷却に伴いはんだ材の体積が減少するが、接合部111のはんだ材が収縮しても、ここに連続するはんだ溜まり112からはんだ材が供給されるので、接合部111に形成されるボンディング層140に空隙が生じるおそれはない。
そして、はんだ材が凝固したら、図9に示すようにマスキングテープM、枠状部材150およびはんだ溜まり112の余剰はんだ141を取り除き、必要に応じてバッキングプレート120の上面121やターゲット材130の外周面132を研磨することにより、スパッタリングターゲット110が製造される。
なお、マスキングテープMがターゲット材130の下面131の外周部にかかるようにバッキングプレート120の上面121に貼付されているので、このマスキングテープM上で固化したはんだがマスキングテープMとともに取り除かれる。これにより、図9に示すように、ボンディング層140はターゲット材130の外周面132よりも内側に入り込むように形成される。これにより、ボンディング層140のはみ出しが原因となってスパッタ中に異常放電が発生することを防止できる。この場合、バッキングプレート20とターゲット材30との接合面積は、ターゲット材30の少なくとも95%以上、好ましくは98%以上とする。
以上説明したように、本発明のスパッタリングターゲットによれば、ターゲット材とバッキングプレートとの間の任意の厚さのボンディング層を隙間なく形成できるので、熱膨張差による剥がれや割れが生じにくいスパッタリングターゲットを製造することができる。なお、本発明は前記実施形態の構成のものに限定されるものではなく、細部構成においては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
10,110 スパッタリングターゲット
11,111 接合部
12,112 はんだ溜まり
20,120 バッキングプレート
21 外周面
22,121 上面
30,130 ターゲット材
31,132 外周面
131 下面
40,140 ボンディング層
41 余剰はんだ
50,150 枠状部材
51 内周面
52 外周面
60 ホットプレート
70 ワイヤ
M マスキングテープ(マスキング材)

Claims (7)

  1. バッキングプレート上にターゲット材を積層し、これらをはんだ材により接合することによりスパッタリングターゲットを製造する方法であって、
    前記バッキングプレートと前記ターゲット材との接合部の外周を囲む枠状部材を配置して、この枠状部材の内側に前記接合部に連続するはんだ溜まりを形成し、
    溶融状態の前記はんだ材を供給する前に、前記はんだ溜まりの底面に、前記はんだ材の固着を防ぐマスキング材を配置し、
    前記マスキング材を配置した後、前記接合部および前記はんだ溜まりを溶融状態の前記はんだ材で満たし、
    前記はんだ材が凝固した後に、前記枠状部材と前記マスキング材及び前記はんだ溜まり内の前記はんだ材とを取り除くことを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。
  2. 前記マスキング材を配置する際に、前記ターゲット材の下面の外周部にかかるように前記バッキングプレートの上面に前記マスキング材を貼付することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
  3. 前記枠状部材の内側に前記バッキングプレートおよび前記ターゲット材を配置することを特徴とする請求項1又は2に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
  4. 前記枠状部材の内側に配置した前記バッキングプレートの上面を覆う深さまで溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することを特徴とする請求項に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
  5. 前記バッキングプレートの上面よりも小さい前記枠状部材を前記バッキングプレート上に載置するとともに、この枠状部材の内側に前記ターゲット材を配置することを特徴とする請求項1又は2に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
  6. 前記バッキングプレート上に載置された前記枠状部材の内側に溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することを特徴とする請求項に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
  7. 前記バッキングプレートと前記ターゲット材との間に所定の間隙を形成するワイヤを介装することを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
JP2011070743A 2011-03-28 2011-03-28 スパッタリングターゲットの製造方法 Expired - Fee Related JP5686017B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011070743A JP5686017B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 スパッタリングターゲットの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011070743A JP5686017B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 スパッタリングターゲットの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012201979A JP2012201979A (ja) 2012-10-22
JP5686017B2 true JP5686017B2 (ja) 2015-03-18

Family

ID=47183282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011070743A Expired - Fee Related JP5686017B2 (ja) 2011-03-28 2011-03-28 スパッタリングターゲットの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5686017B2 (ja)

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3233215C1 (de) * 1982-09-07 1984-04-19 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum Befestigen von in Scheiben- oder Plattenform vorliegenden Targetmaterialien auf Kuehlteller fuer Aufstaeubanlagen
JPS6228063A (ja) * 1985-07-26 1987-02-06 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk スパツタリング用タ−ゲツトの製造方法
JPS63317668A (ja) * 1987-06-18 1988-12-26 Seiko Epson Corp スパッタリング用タ−ゲット
JP2634678B2 (ja) * 1989-06-15 1997-07-30 日立金属株式会社 スパッタリング用ターゲット組立体およびその製造方法
US5230462A (en) * 1992-07-08 1993-07-27 Materials Research Corporation Method of soldering a sputtering target to a backing member
JPH08170170A (ja) * 1994-12-16 1996-07-02 Tosoh Corp スパッタリングターゲット
JP3983862B2 (ja) * 1997-10-24 2007-09-26 Dowaホールディングス株式会社 スパッタリングターゲットとその接合方法及び接合装置
JP3759673B2 (ja) * 1998-01-12 2006-03-29 三井金属鉱業株式会社 スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP5231815B2 (ja) * 2008-01-15 2013-07-10 日東電工株式会社 マスキング用粘着テープおよびスパッタリングターゲットの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012201979A (ja) 2012-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5103911B2 (ja) 円筒形スパッタリングターゲット及びその製造方法
JP6498272B2 (ja) 蓋部を用いる電気的デバイスの搭載方法、および、当該方法における使用に適した蓋部
JP5228245B2 (ja) スパッタリングターゲット
US8759158B2 (en) Assembly jig for a semiconductor device and assembly method for a semiconductor device
JP2015050347A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20230360897A1 (en) Sputtering target-backing plate assembly, manufacturing method therefor, and recovery method for sputtering target
JP2010150610A (ja) 円筒形スパッタリングターゲット
JP7118630B2 (ja) スパッタリングターゲットを製造する方法
JP2011119652A (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2011252237A (ja) 円筒形スパッタリングターゲットの製造方法
JP5686017B2 (ja) スパッタリングターゲットの製造方法
TWI658163B (zh) 靶材貼合製作方法
JP6297923B2 (ja) 撮像素子実装用基板及び撮像装置
JP2020513157A (ja) 成形プロセスに基づく半導体パッケージング方法および半導体装置
JP2011029319A (ja) パワーモジュール用基板の製造方法および製造中間体
JP2003183822A (ja) スパッタリングターゲットおよびその製造方法
JP2010238963A (ja) パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法及びパワーモジュール
JP5146296B2 (ja) パワーモジュール用基板の製造方法
JP2018135590A (ja) 円筒形スパッタリングターゲット、焼結体及び円筒形スパッタリングターゲットの製造方法
CN105097558A (zh) 芯片封装结构、制作方法及芯片封装基板
JP2011119653A (ja) ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP5131205B2 (ja) パワーモジュール用基板の製造方法
JP2003258017A (ja) バンプ電極形成方法
JP5613913B2 (ja) パワーモジュール用基板、パワーモジュール用基板の製造方法及びパワーモジュール
WO2022070880A1 (ja) スパッタリングターゲット‐バッキングプレート接合体、その製造方法及びスパッタリングターゲットの回収方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130927

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140306

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140507

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140630

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141224

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150106

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5686017

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees