JP5671235B2 - 紫外線吸収剤を含むポリカーボネート組成物 - Google Patents

Description

本発明は、ポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％を含む組成物に関する。

様々な高分子成形組成物用安定剤およびそれと共に供給される成形組成物が文献に開示されてきた。安定剤は、高分子成形組成物に固有の有益な特性を、ポリマーの特性に悪影響を与える外部の影響の下であっても引き続き高いレベルで維持することを目的としている。特に、ポリマーが屋外領域において使用される場合、光によるダメージに対する安定化が、対応する成形体の長期有用性に関する重要な面である。そのような成形体は、例えば、熱可塑性プラスチック、例えばポリカーボネート、のシートであり、これらは特にソリッドシート（ｓｏｌｉｄ ｓｈｅｅｔ）、マルチウォールシート（ｍｕｌｔｉ−ｗａｌｌ ｓｈｅｅｔ）、ツインウォールシート（ｔｗｉｎ−ｗａｌｌ ｓｈｅｅｔ）、波形シート、プロファイル、対応する多層システムまたは別の形態で使用される。しかしながら、成形体が屋外暴露後も魅力的な光学特性を示し続けなれればならないことが重要なだけでなく、同時に、成形体の機械特性が、不利な環境条件の場合であっても構造完全性または安定性が長期間保証されうるような高いレベルに維持されなければならない。

ＵＳ ６，２１８，４５０およびＵＳ ６，３５２，７８３は、この関連で紫外線吸収剤との特定のコポリエステルブレンドを記述しており、これは、特に、良好な表面特性並びに良好な物理特性を有する熱成形物品用の保護層の製造において使用される。

ＵＳ ２００２／００８３６４１は、薄いポリオレフィン、ポリエステルまたはポリアミド層の、ヒドロキシフェニルトリアジンを使用する、光、酸素、熱および攻撃的な薬品によるダメージに対する安定化を開示している。

ＵＳ ６，６３２，８６４は、ベンゾトリアゾールタイプの紫外線吸収剤を有する熱可塑性ポリマーを記述している。そのようなポリマーの、良好な表面品質および良好な紫外線保護を有するシートの押し出しへの使用もまた開示されている。

ＷＯ ０２／３４８２６は、ベンゾトリアゾールタイプおよびトリアジンタイプの紫外線吸収剤を有する熱可塑性プラスチック並びにそれらから製造される製品を開示している。押し出されると、特に、長い連続加工の場合、これらのプラスチックは、良好な表面品質および紫外線に対する一定の保護を示す。

ＤＥ １９７３９７９７は、有機材料用の、特に表面コーティング用の、光、熱および酸素によるダメージに対する安定剤としての使用のためのさまざまなトリアジン化合物の混合物を記述している。

ＥＰ−Ａ−１３０８０８４は、有機材料を光、熱および酸素によるダメージに対して安定化するための、２，４−ビス−（４−フェニルフェニル）−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンクラスの化合物と別の選択された紫外線吸収剤との混合物を開示している。

２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）を紫外線安定剤として使用することもまた、ＥＰ １３０８０８４に記述されているように、既知である。

本発明の目的は、先行技術と比較して−特に低温において−改良された衝撃強さを示す紫外線安定化ポリカーボネート組成物であって、更に良好な光学特性も有するポリカーボネート組成物を提供することである。

従って、本発明は、ポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％を含む組成物に関する。

そのような組成物は、意外なことに、良好な物理特性および機械特性を示す。特に、そのようなポリカーボネート組成物は、紫外線照射後に−２０℃の低温において改良されたノッチ付き衝撃強さを示す。そのようなポリカーボネート組成物は、特にソリッドシートまたはマルチウォールシートにおける使用に好適である。それらは、更に多層システムの基礎としても使用されうる。従って、本発明は、特に、本発明の組成物を含むベース層を有する多層シートにも関する。

本発明の範囲内で、本発明の組成物は、物質、材料および／またはそれらの混合物を含有する。本発明の組成物は、少なくとも三種類の出発物質、すなわち、少なくともポリカーボネートと２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）および第三の出発物質としての紫外線吸収剤との組み合わせ、で構成される。

本発明による組成物のためのポリカーボネートは、ホモポリカーボネート、コポリカーボネートおよび熱可塑性ポリエステルカーボネートである。

本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートの平均分子量（重量平均）は、一般的に、２０００〜２００，０００、好ましくは３０００〜１５０，０００、特に５０００〜１００，０００、最も特に好ましくは８０００〜８０，０００、特別には１２，０００〜７０，０００である（ＧＰＣによってポリカーボネート較正をして決定した。）。

これに関連して、更に、相対溶液粘度をジクロロメタン中で２５℃においてもしくはフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの等重量混合物中で測定し、光散乱によって較正することによってまたはゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いポリカーボネート較正して決定される平均分子量Ｍ_ｗは、好ましくは１８，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは２６，０００〜３６，０００ｇ／ｍｏｌかつ特に好ましくは２８，０００〜３５，０００ｇ／ｍｏｌである。

本発明による組成物用のポリカーボネートの製造に関して、例えば、“Ｓｃｈｎｅｌｌ”，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，第９巻，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク，ロンドン，シドニー １９６４年、Ｄ．Ｃ．ＰＲＥＶＯＲＳＥＫ，Ｂ．Ｔ．ＤＥＢＯＮＡ ａｎｄ Ｙ．ＫＥＳＴＥＮ，Ｃｏｒｐｏｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｅｎｔｅｒ，Ａｌｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，モリスタウン，ニュージャージー０７９６０，“Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｐｏｌｙ（ｅｓｔｅｒ）ｃａｒｂｏｎａｔｅ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ”ｉｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏｎ，第１９巻，７５〜９０頁（１９８０年）、Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｎ．Ｎｏｕｖｅｒｔｎｅ，ＢＡＹＥＲ ＡＧ，“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”ｉｎ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，第１１巻，第二版，１９８８年，６４８〜７１８頁，および、Ｄｒｅｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋｉｒｃｈｅｒ ａｎｄ Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，“Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ”ｉｎ Ｂｅｃｋｅｒ／Ｂｒａｕｎ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第３／１巻，Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ，Ｐｏｌｙａｃｅｔａｌｅ，Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ，Ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｅｓｔｅｒ，Ｃａｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｎｉｃｈ，ウィーン １９９２年，１１７〜２９９頁参照。製造を、好ましくは、界面法または溶融エステル交換法によって行い、最初に界面法の例を使用して記述する。

出発化合物として好ましく使用される化合物は、一以上の芳香族基を含む一般式ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（式中、Ｚは、炭素原子を６〜３０個有する二価の有機基である。）のビスフェノールである。そのような化合物の例は、ジヒドロキシジフェニル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、インダンビスフェノール、ビス（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシフェニル）ケトンおよびα，α’−ビス（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼンの群に属するビスフェノールである。

上記化合物群に属する特に好ましいビスフェノールは、ビスフェノールＡ、テトラアルキルビスフェノールＡ、４，４−（メタ−フェニレンジイソプロピル）ジフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４−（パラ−フェニレンジイソプロピル）−ジフェノール、Ｎ−フェニル−イサチンビスフェノール、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン（ＢＰ−ＴＭＣ）、２−ヒドロカルビル−３，３−ビス（４−ヒドロキシアリール）−フタルイミジンタイプのビスフェノール、特に２−フェニル−３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フタルイミジン、および要すればそれらの混合物である。ビスフェノールＡベースのホモポリカーボネートおよびモノマービスフェノールＡと１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンとベースのコポリカーボネートが特に好ましい。本発明によって使用されるビスフェノール化合物を、炭酸化合物、特にホスゲン、と反応させるか、または、溶融エステル交換法の場合、ジフェニルカーボネートもしくはジメチルカーボネートと反応させる。

ポリエステルカーボネートは、既に言及したビスフェノールと、少なくとも一種類の芳香族ジカルボン酸と、要すれば炭酸相当物と、の反応によって得られる。好適な芳香族ジカルボン酸の例としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、３，３’−または４，４’−ジフェニルジカルボン酸およびベンゾフェノンジカルボン酸が挙げられる。ポリカーボネート中のいくつか、８０ｍｏｌ％以下、好ましくは２０〜５０ｍｏｌ％、のカーボネート基は、芳香族ジカルボン酸エステル基で置換されてもよい。

界面法において使用される不活性有機溶媒の例としては、ジクロロメタン、種々のジクロロエタンおよびクロロプロパン化合物、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、クロロベンゼンおよびクロロトルエンが挙げられる。クロロベンゼンまたはジクロロメタンまたはジクロロメタンとクロロベンゼンとの混合物の使用が好ましい。

界面反応は、触媒、例えば第三級アミン、特にＮ−アルキルピペリジンまたはオニウム塩、によって促進されうる。トリブチルアミン、トリエチルアミンおよびＮ−エチルピペリジンの使用が好ましい。溶融エステル交換法の場合、ＤＥ−Ａ ４２３８１２３において言及される触媒が使用される。

ポリカーボネートは、少量の分枝剤の使用によって、意図的に、かつ、制御して分枝されてもよい。好適な分枝剤のなかには、イサチンビスクレゾール、フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェニル）−オルトテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノキシ）−メタン、α，α’，α’’−トリス−（４−ヒドロキシ−フェニル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル、３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、１，４−ビス−（４，４’’−ジヒドロキシトリフェニル）−メチル）−ベンゼンおよび特に１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンおよびビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールがある。

任意に付随して用いられる分枝剤または分枝剤の混合物、使用されるジフェノールに対して０．０５〜２ｍｏｌ％は、ジフェノールと共に使用されても、代わりに合成の遅い段階において添加されてもよい。

連鎖停止剤を使用してもよい。好ましくは、連鎖停止剤として、フェノール類、例えば、フェノール、アルキルフェノール、例えばクレゾールおよび４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、クミルフェノールまたはそれらの混合物、を、ビスフェノール１モルあたり１〜２０ｍｏｌ％、好ましくは２〜１０ｍｏｌ％の量で使用してもよい。フェノール、４−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノールおよびクミルフェノールが好ましい。

連鎖停止剤および分枝剤は、合成に別々に添加されても、ビスフェノールと共に添加されてもよい。

本発明による好ましいポリカーボネートは、ビスフェノールＡのホモポリカーボネートである。

代わりに、本発明によるポリカーボネートは、溶融エステル交換法によって製造されてもよい。溶融エステル交換法は、例えば、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，第１０巻（１９６９年），Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｅｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ，Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，第９巻，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．（１９６４年）および更にＤＥ−Ｃ １０ ３１ ５１２に記述されている。

溶融エステル交換法において、界面法との関連で既に記述されている芳香族ジヒドロキシ化合物を溶融状態で炭酸ジエステルと、好適な触媒および、要すれば別の添加剤を用いて、エステル交換する。

本発明の範囲内の炭酸ジエステルは、式（１）および（２）

（式中、
Ｒ、Ｒ’およびＲ’’ は、互いに独立して、Ｈ、任意に分枝していてもよいＣ_１〜Ｃ_３４−アルキル／シクロアルキル、Ｃ_７〜Ｃ_３４−アルカリルまたはＣ_６〜Ｃ_３４−アリールである。）
の炭酸ジエステルであり、
例えば、
ジフェニルカーボネート、ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−ブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−イソブチルフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ．−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニルカーボネート、ｎ−ペンチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ペンチルフェニル）カーボネート、ｎ−ヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ヘキシルフェニル）カーボネート、シクロヘキシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−シクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノール−フェニルカーボネート、ジ−フェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−イソオクチルフェニルカーボネート、ｎ−ノニルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ノニルフェニル）カーボネート、クミルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−クミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−ナフチルフェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）カーボネート、ジクミルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（ジクミルフェニル）カーボネート、４−フェノキシフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（４−フェノキシフェニル）カーボネート、３−ペンタ−デシルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−（３−ペンタデシルフェニル）カーボネート、トリチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−トリチルフェニルカーボネート、
好ましくは、
ジフェニルカーボネート、ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル−フェニルカーボネート、ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニルカーボネート、フェニルフェノール−フェニルカーボネート、ジ−フェニルフェノールカーボネート、クミルフェニル−フェノールカーボネート、ジ−クミルフェニルカーボネート、
特に好ましくはジフェニルカーボネート
である。

上記炭酸ジエステルの混合物を使用することもまた可能である。

炭酸エステルの量は、ジヒドロキシ化合物に対して、１００〜１３０ｍｏｌ％、好ましくは１０３〜１２０ｍｏｌ％、特に好ましくは１０３〜１０９ｍｏｌ％である。

本発明の範囲内の溶融エステル交換法における触媒として、上記文献に記述されているような塩基性触媒、例えば、アルカリおよびアルカリ土類水酸化物および酸化物並びにアンモニウムまたはホスホニウム塩であって、以下オニウム塩といわれるもの、が使用される。オニウム塩、特に好ましくはホスホニウム塩、の使用が好ましい。本発明の範囲内のホスホニウム塩は、式（３）

（式中、
Ｒ^１〜４ は、同一であっても異なっていてもよく、Ｃ_１〜Ｃ_１０−アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１０−アリール、Ｃ_７〜Ｃ_１０−アラルキルまたはＣ_５〜Ｃ_６−シクロアルキル、好ましくはメチルまたはＣ_６〜Ｃ_１４−アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、
Ｘ⁻ は、アニオン、例えば水酸化物、硫酸塩、硫酸水素塩、炭酸水素塩、炭酸塩、ハロゲン化物、好ましくは塩化物、または式ＯＲ（式中、Ｒは、Ｃ_６〜Ｃ_１４−アリールまたはＣ_７〜Ｃ_１２−アラルキル、好ましくはフェニルである。）のアルコラートである。）
のホスホニウム塩である。好ましい触媒は、
テトラフェニルホスホニウム塩化物、
テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、
テトラフェニルホスホニウムフェノラート、
特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノラート
である。

触媒は、好ましくはビスフェノール１モルに対して１０^−８〜１０^−３ｍｏｌの量で、特に好ましくは１０^−７〜１０^−４ｍｏｌの量で、使用される。

重合速度を増加させるために別の触媒が単独で使用されても要すればオニウム塩に加えて使用されてもよい。そのような触媒としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩、例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウムの水酸化物、アルコキシドおよびアリールオキシド、好ましくはナトリムの水酸化物、アルコキシドまたはアリールオキシド塩が挙げられる。水酸化ナトリウムおよびナトリウムフェノラートが最も好ましい。助触媒の量は、１〜２００ｐｐｂ、好ましくは５〜１５０ｐｐｂ、最も好ましくは１０〜１２５ｐｐｂの範囲にある（それぞれナトリウムとして計算。）。

芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの溶融状態におけるエステル交換反応は、好ましくは二段階で行われる。第一段階において、芳香族ジヒドロキシ化合物の溶融と炭酸ジエステルの溶融とを、８０〜２５０℃、好ましくは１００〜２３０℃、特に好ましくは１２０〜１９０℃の温度において、常圧の下で０〜５時間、好ましくは０．２５〜３時間行う。触媒の添加後、オリゴカーボネートを、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとから、真空（２ｍｍＨｇ以下）を適用し、温度を上げる（２６０℃以下）ことによる蒸留によるモノフェノールの除去によって製造する。このプロセスからの蒸気の主な量はこのようにして得られる。そのようにして製造されるオリゴカーボネートの平均重量平均分子量Ｍ_ｗ（ジクロロメタン中またはフェノール／ｏ−ジクロロベンゼンの等重量混合物中で相対溶液粘度を測定し、光散乱によって較正することによって決定される。）は、２０００ｇ／ｍｏｌ〜１８，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは４０００ｇ／ｍｏｌ〜１５，０００ｇ／ｍｏｌである。

第二段階において、ポリカーボネートは、圧力２ｍｍＨｇ未満において温度を２５０〜３２０℃、好ましくは２７０〜２９５℃まで更に上昇させることによる重縮合において製造される。それによって、残りの蒸気をこのプロセスから除去する。

二種類以上の触媒を互いの組み合わせで使用することも可能である。

アルカリ／アルカリ土類金属触媒を使用する場合、アルカリ／アルカリ土類金属触媒を後で（例えば、オリゴカーボネート合成後、第二段階における重縮合中。）添加することが有利である。

本発明による方法の範囲内で、ポリカーボネートを形成する芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応は、不連続に、または、好ましくは連続的に、例えば撹拌容器、薄層エバポレーター（ｔｈｉｎ−ｌａｙｅｒ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）、流下液膜式蒸発器、撹拌容器カスケード、押出機、ニーダー、シンプル・プレート・リアクター（ｓｉｍｐｌｅ ｐｌａｔｅ ｒｅａｃｔｏｒ）および高粘度プレート・リアクター（ｈｉｇｈ−ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ ｐｌａｔｅ ｒｅａｃｔｏｒ）において行われる。

界面プロセスに類似して、ポリカーボネートまたはコポリカーボネートを多官能性化合物の使用によって製造することが可能である。

本発明によるポリカーボネートおよびコポリカーボネートに、既知の方法で、例えば配合によって、別の芳香族ポリカーボネートおよび／または別のプラスチック、例えば芳香族ポリエステルカーボネート、芳香族ポリエステル、例えばポリブチレンテレフタレートまたはポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステルアミド、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、例えばポリアルキル（メタ）アクリレート、特にポリメチルメタクリレート、ポリアセタール、ポリウレタン、ポリオレフィン、ハロゲン含有ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリシロキサン、ポリベンズイミダゾール、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン、スチレンもしくはアルファ−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体とのコポリマー、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンベースのグラフトポリマーまたはアクリレートゴムベースのグラフトコポリマー（例えば、ＥＰ−Ａ ６４０ ６５５に記述されているグラフトポリマー参照。）またはシリコーンゴム、を添加することが可能である。

本発明によるポリカーボネートおよびその中に存在する別のプラスチックに、そのような熱可塑性樹脂に常套の添加剤、例えば充填剤、別の紫外線安定剤、熱安定剤、帯電防止剤および顔料、を常套の量で添加することが可能である。要すれば、離型性、流動性および／または耐燃性も、外部離型剤、流動化剤および／または防炎加工剤（例えばアルキルおよびアリールホスファイト、ホスフェート、ホスファン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、石英パウダー、グラスファイバーおよびカーボンファイバー、顔料およびそれらの組み合わせ）の添加によって改良されうる。そのような化合物は、例えばＷＯ ９９／５５７７２の１５〜２５頁、ＥＰ １ ３０８ ８０４および“Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ”，Ｈａｎｓ Ｚｗｅｉｆｅｌ編，第５版，２０００年，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ミュンヘンの適切な章に記述されている。

本発明の範囲内で、紫外線吸収剤は、紫外線を実質的に吸収する化合物を意味する。

本発明の範囲内で、用語「実質的に」は、厳密にはわずかにずれても、システムの所望の特性または必要とされる特性が保持されることを意味する。好ましくは、考慮中の目標値の８０％、９０％または９５％が達成される。

本発明の範囲内のアルキルアリールは、アリール基を有するアルキル基を意味する。

好ましい態様において、紫外線吸収剤は式（４）

（式中、Ｒ１およびＸは、同一であるかまたは異なっており、Ｈまたはアルキルまたはアルキルアリールである。）
または式（５）

（式中、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１０、Ｒ_１１は、同一であっても異なっていてもよく、ＨまたはアリールまたはアルキルまたはＣＮまたはハロゲンであり、Ｙは、アルキルである。）
または式（６）

（式中、Ｒ_１２は、アリールまたはアルキルである。）
の化合物である。

以下の紫外線吸収剤が特に好ましい。
Ａ． ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１−ジメチルエチル）−６−（１−メチルプロピル）−フェノール（ＣＡＳ番号３６４３７−３７−３）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ ３５０^{（登録商標）}のもとで市販されている。）
Ｂ． ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（ＣＡＳ番号３１４７−７５−９）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ^{（登録商標）}３２９のもとで市販されているかまたはＢＡＳＦ ＡＧから商品名Ｕｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０２９のもとで市販されているかまたはＣｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．から商品名Ｃｙａｓｏｒｂ^{（登録商標）}ＵＶ−５４１１のもとで市販されている。）
Ｃ． ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェノール（ＣＡＳ番号７０３２１−８６−７）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ ２３４^{（登録商標）}のもとで市販されている。）
Ｄ． ２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１，１−ジメチルエチル）−４−メチル）−フェノール（ＣＡＳ番号３８９６−１１−５）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ ３２６^{（登録商標）}のもとで市販されているかまたはＢＡＳＦ ＡＧから商品名Ｕｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０２６のもとで市販されている。）
Ｅ． ２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（ＣＡＳ番号１０３５９７−４５−１）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ ３６０^{（登録商標）}のもとで市販されているかまたはＡｄｅｋａ−Ｐａｌｍａｒｏｌｅから商品名ＡＤＫ Ｓｔａｂ ＬＡ３１^{（登録商標）}のもとで市販されている。）
Ｆ． ２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシルオキシ）−フェノール（ＣＡＳ番号１４７３１５−５０−２）（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｚｉａｌｉｔａｅｔｅｎｃｈｅｍｉｅから商品名Ｔｉｎｕｖｉｎ １５７７^{（登録商標）}のもとで市販されている。）
Ｇ． ２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）−フェノール（ＣＡＳ番号２７２５−２２−６）（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．から商品名Ｃｙａｓｏｒｂ^{（登録商標）}ＵＶ−１１６４のもとで市販されている。）
Ｈ． エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（ＣＡＳ番号５２３２−９９−５）（ＢＡＳＦ ＡＧから商品名Ｕｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３５のもとで市販されている。）
Ｉ． ２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（ＣＡＳ番号６１９７−３０−４）（ＢＡＳＦ ＡＧから商品名Ｕｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３９のもとで市販されている。）
Ｊ． １，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス−｛［２’−シアノ−３’，３’−ジフェニル−アクリロイル）オキシ］メチル｝−プロパン（ＣＡＳ番号１７８６７１−５８−４）（ＢＡＳＦ ＡＧから商品名Ｕｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３０のもとで市販されている。）
Ｋ． テトラ−エチル−２，２’−（１，４−フェニレン−ジメチリデン）−ビスマロネート（ＣＡＳ番号６３３７−４３−５）（Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨから商品名Ｈｏｓｔａｖｉｎ^{（登録商標）}Ｂ−ＣＡＰ^ＴＭＸＰ３０３０のもとで市販されている。）

別の態様において、本発明は、紫外線吸収剤および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）が重量比５０００：１〜３０：１、好ましくは５００：１〜３０：１、特に好ましくは５００：１〜７０：１で存在することを特徴とする、本発明による組成物に関する。

別の態様において、本発明は、実質的にポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％からなることを特徴とする、本発明による組成物に関する。別の態様において、本発明は、ポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％からなることを特徴とする、本発明による組成物に関する。

好ましい態様において、本発明による組成物は、紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．４ｗｔ．％、特に好ましくは０．１ｗｔ．％〜０．３５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０１ｗｔ．％、特に好ましくは０．０００１ｗｔ．％〜０．００５ｗｔ．％を含む（ｗｔ．％は、それぞれ全組成物に対する。）。

組成物の製造：
ポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％を含む組成物の製造は、常套の混和プロセスを用いて行われ、例えば、紫外線吸収剤の溶液と２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジンの溶液とを好適な溶媒（例えばジクロロメタン、ハロアルカン、ハロ芳香族化合物、クロロベンゼンおよびキシレン）中のポリカーボネートの溶液と混合することによって達成される。次に、物質混合物を、好ましくは既知の方法で押出によってホモジナイズする。この溶液混合物は、好ましくは、溶媒を蒸発させ、次に押し出しを行うことによる既知の方法でワークアップ（ｗｏｒｋ ｕｐ）（例えば配合）される。

加えて、この組成物を常套の混合装置、例えばスクリュー押出機（例えばツインスクリュー押出機、ＺＳＫ）、ニーダー、ブラベンダー（Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）またはバンバリーミル、において混合し、次に押し出す。押出後、押出物を冷却し、微粉砕する。個々の成分をあらかじめ混合し、次に残りの出発物質を個々にかつ／または同様に混合物の形態で添加することも可能である。

ポリカーボネートシートの製造：
共押出ソリッドポリカーボネートシートは、例えば、以下のマシーンおよび装置を用いて製造されうる。
−ガス抜きを備える長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有する主押出機
−長さ２５Ｄかつ直径３５ｍｍのスクリューを有する、カバー層を適用するための共押出機
−幅４５０ｍｍの特別の共押出シートダイ
−平滑カレンダー
−ローラーコンベア
−テイクオフデバイス（ｔａｋｅ−ｏｆｆ ｄｅｖｉｃｅ）
−所定の長さに切断するためのデバイス（ソー）
−デリバリーテーブル（ｄｅｌｉｖｅｒｙ ｔａｂｌｅ）

共押出マルチウォールポリカーボネートシートは、例えば以下のマシーンおよび装置を用いて製造されうる。
−ガス抜きを備える長さ３３Ｄかつ直径７０ｍｍのスクリューを有する主押出機
−共押出アダプター（フィードブロックシステム）
−長さ２５Ｄかつ直径３０ｍｍのスクリューを有する、カバー層を適用するための共押出機
−幅３５０ｍｍの特別のシートダイ
−キャリブレータ
−ローラーコンベア
−テイクオフデバイス
−所定の長さに切断するためのデバイス（ソー）
−デリバリーテーブル

いずれのシートタイプにおいても、ベース材料のポリカーボネートグラニュールを主押出機の供給漏斗（ｆｉｌｌｉｎｇ ｆｕｎｎｅｌ）に供給し、共押出用の材料を共押出機の供給漏斗に供給する。材料の溶融および供給を、それぞれのシリンダー／スクリュー可塑化システムにおいて行う。これら二種類の材料溶融物を共押出アダプターにおいて組み合わせ、ダイを離れ、冷却した後、複合材料を形成する。別のデバイスが、押出シートを輸送し、それらを所定の長さに切断し、かつ、堆積させる役割を果たす。

共押出層を有さないシートを、対応する方法で、共押出機を作動させないことによってかまたは共押出機に主押出機と同一のポリマー組成物を充填することによって、製造する。従って、本発明は、本発明によるシートの製造方法であって、本発明による組成物を押し出す工程および圧延する工程を包含する製造方法にも関する。

本発明は、更に、ポリカーボネートおよび紫外線吸収剤０．０５ｗｔ．％〜０．５ｗｔ．％および化合物２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．０３ｗｔ．％を、要すれば溶媒中で、組み合わせ、混合し、要すればホモジナイズを行い、溶媒を除去することを特徴とする、本発明による組成物の製造方法にも関する。

機械特性：
組成物の機械特性の試験は、以下の規格に従って行われうる。
衝撃強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １８０、ＥＮ ＩＳＯ ２０１８０、ＡＳＴＭ Ｄ２５６、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７９、ＤＩＮ ＥＮ ２０１７９、ＤＩＮ ５３４５３または対応する規格に従って決定されうる。
ノッチ付きＩＺＯＤ衝撃強さは、例えば、ＩＳＯ １８０／１Ａ、ＩＳＯ １８０／１ＡＲに従って、またはＩＳＯ １８０／１Ｂに従ってサイズ８０×１０×４ｍｍ^３の試験片においてまたはＩＳＯ １８０／４Ａに従ってサイズ６３．５×１２．７×３．２ｍｍ^３の試験片において決定されうる。
ノッチ付きシャルピー衝撃強さの測定は、例えばＩＳＯ １７９／１ｅＡ、ＩＳＯ １７９／１ｅＢまたはＩＳＯ １７９／１ｅＣまたはＩＳＯ １７９／１ｆＡ、ＩＳＯ １７９／１ｆＢまたはＩＳＯ １７９／１ｆＣに従ってサイズ８０×１０×４ｍｍ^３または６３．５×１２．７×３．２ｍｍ^３の試験片において行われる。
ノッチ付き試験片およびノッチ無し試験片の衝撃引張強さは、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ８２５６、ＤＩＮ ＥＮ ２８２５６、ＤＩＮ ５３４４８または対応する規格に従って決定されうる。
更に、機械特性値、例えば引張弾性率、降伏点引張応力、降伏点伸び、破断応力、破断伸びまたは公称破断伸び、がＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ５２７、ＤＩＮ ＥＮ ２０５２７、ＤＩＮ ５３４５５／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６１、ＡＳＴＭ Ｄ６３８または対応する規格による引張試験で得られる。
ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ １７８、ＤＩＮ ＥＮ ２０１７８、ＤＩＮ ５３４５２／５３４５７、ＤＩＮ ＥＮ ６３、ＡＳＴＭ Ｄ７９０または対応する規格による曲げ試験が、特性応力および伸び値、例えば常套の撓み（３．５％曲げ応力）の場合の曲げ弾性率、曲げ応力、曲げ強さ、曲げ強さにおける曲げ伸び（ｂｅｎｄｉｎｇ ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）、破断点曲げ応力または破断点曲げ伸び、を提供する。
ビカー軟化温度（ＶＳＴ）は、ＤＩＮ ＩＳＯ ３０６、ＡＳＴＭ Ｄ１５２５または対応する規格に従って決定されうる。
特性力および撓み値は、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６６０３−２または対応する規格に従う衝撃針入度試験によって得られる。

耐候性：
サンプルの風化は、種々の方法によって行われうる。これらとしては、特にＡＳＴＭ Ｇ６、ＡＳＴＭ Ｇ１５１、ＡＳＴＭ Ｇ１５５、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２、ＳＡＥ Ｊ １８８５またはＶＤＡ ７５２０２によるＸｅｎｏｎ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−３によるＬＳＬ−ＷＯＭ法、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ４８９２−２またはＤＩＮ ＥＮ ５００１４によるＸｅｎｏｔｅｓｔ^{（登録商標）}Ｈｉｇｈ Ｅｎｅｒｇｙ、ＡＳＴＭ Ｂ１１７、ＤＩＮ ５００２１、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ７２５３、ＤＩＮ ＥＮ ９２２７またはＩＳＯ １１５０３による曇り試験、およびＩＳＯ ４８９２−３またはＡＳＴＭ Ｇ１５４およびＡＳＴＭ Ｇ５３によるＱＵＶ試験が挙げられる。

流動学的性質：
メルトインデックス（ＭＦＲ、ＭＶＲ）は、ＩＳＯ １１３３に従って、またはＡＳＴＭ Ｄ１２３８ ＭＶＲに従って決定される。
溶融粘度は、ＩＳＯ １１４４３またはＤＩＮ ５４８１１に従って測定される。
溶液粘度は、例えば規格ＩＳＯ １６２８−１／−４またはＤＩＮ ５１５６２−３に従って決定されうる。

光学測定：
光沢度は、反射率計を使用してサイズ６０×４０×２ｍｍ^３のシートにおいて決定され、厚さ２ｍｍだけでなく３ｍｍ、３．２ｍｍおよび４ｍｍもまた検討する。ＤＩＮ ６７５３０、ＩＳＯ ２８１３、ＡＳＴＭ Ｄ５２３または対応する規格がこの測定に使用される。
曇り度および透過率の決定は、ＤＩＮ ５０３６、ＡＳＴＭ Ｄ１００３、ＡＳＴＭ Ｅ１７９またはＩＳＯ １３４６８に従って行われる。
黄色度指数ＹＩは、ＡＳＴＭ Ｅ３１３に従って計算される。
反射測定は、ＤＩＮ ５０３６またはＡＳＴＭ Ｅ１７９に従って行われうる。
ＩＳＯ １０５−Ａ０２が、グレースケールを決定するために使用されうる。

実施例の準備：
配合デバイスは以下のものからなる。
成分計量添加デバイス
・スクリュー径５３ｍｍの同方向回転二軸シャフトニーダー（Ｗｅｒｎｅｒ ＆ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ製のＺＳＫ ５３）
・溶融押出物の成形用の穿孔ダイ
・押出物の冷却および凝固用のウォーターバス
・グラニュレータ

上記配合デバイスを用いて以下の実施例１〜３３の組成物を製造する。

Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５は、Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ ＡＧから市販されている。

Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５は、ＥＵ／ＦＤＡ品質であり、紫外線吸収剤を含まない。ＩＳＯ １１３３によるメルトボリュームレート（ＭＶＲ）は、３００℃かつ荷重１．２ｋｇにおいて６．０ｃｍ^３／（１０分）である。

コンパウンドを製造する時の手順は以下の通りである：実施例において言及される混合物（コンパウンド）が得られるように、実施例において言及される物質を含むＭａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５パウダーのパウダー混合物５ｗｔ．％をＭａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５グラニュール９５ｗｔ．％に添加する。

実施例１：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３５０^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例２：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３５０^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例３：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３５０^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例４：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２９^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例５：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２９^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例６：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２９^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例７：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ２３４^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例８：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ２３４^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例９：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ２３４^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例１０：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２６^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例１１：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２６^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例１２：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３２６^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例１３：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３６０^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例１４：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３６０^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例１５：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ ３６０^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例１６：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ １５７７^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例１７：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ １５７７^{（登録商標）}、０．２０２ｗｔ．％

実施例１８：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｉｂａ製のＴｉｎｕｖｉｎ １５７７^{（登録商標）}、０．２００ｗｔ．％

実施例１９：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．製のＣｙａｓｏｒｂ^{（登録商標）}ＵＶ−１１６４、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例２０：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．製のＣｙａｓｏｒｂ^{（登録商標）}ＵＶ−１１６４、０．２０２ｗｔ．％

実施例２１：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．製のＣｙａｓｏｒｂ^{（登録商標）}ＵＶ−１１６４、０．２００ｗｔ．％

実施例２２：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３５、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例２３：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３５、０．２０２ｗｔ．％

実施例２４：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３５、０．２００ｗｔ．％

実施例２５：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３９、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例２６：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３９、０．２０２ｗｔ．％

実施例２７：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３９、０．２００ｗｔ．％

実施例２８：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３０、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例２９：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３０、０．２０２ｗｔ．％

実施例３０：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・ＢＡＳＦ ＡＧ製のＵｖｉｎｕｌ^{（登録商標）}３０３０、０．２００ｗｔ．％

実施例３１：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨ製のＨｏｓｔａｖｉｎ^{（登録商標）}Ｂ−ＣＡＰ、０．２００ｗｔ．％
・２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）−フェニル−１，３，５−トリアジン、０．００２ｗｔ．％

実施例３２：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．７９８ｗｔ．％
・Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨ製のＨｏｓｔａｖｉｎ^{（登録商標）}Ｂ−ＣＡＰ、０．２０２ｗｔ．％

実施例３３：
・Ｍａｋｒｏｌｏｎ^{（登録商標）}３１０８ ５５０１１５、９９．８００ｗｔ．％
・Ｃｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨ製のＨｏｓｔａｖｉｎ^{（登録商標）}Ｂ−ＣＡＰ、０．２００ｗｔ．％

次に、実施例１〜３３のコンパウンドを処理してサイズ６３．５×１２．７×３．２ｍｍ^３の試験片を成形する。これを、スクリュー径１８ｍｍのＡｒｂｕｒｇ Ａｌｌｒｏｕｎｄｅｒ ２７０Ｓ−５００−６０を用いて行う。

次に、実施例１〜３３の試験片にＡＳＴＭ Ｄ１００３による光透過率測定を行い、黄色度指数ＹＩをＡＳＴＭ Ｅ３１３に従って計算する。

次に、試験片をＭｅｔｈｏｄ １に類似してＩＳＯ ４８９２−３に従ってブラックパネル温度６０℃において連続照射によって３１３ｎｍでＱ−ＰａｎｅｌのＱＵＶ １８００Ｗ中で照射する。

次に、この照射試験片にＡＳＴＭ Ｄ１００３による光透過率測定を行い、ＡＳＴＭ Ｅ３１３に従って黄色度指数ＹＩを計算する。

照射前後の試験片の光学特性の変化を計算する。照射試験片および非照射試験片のノッチ付きＩＺＯＤ衝撃強さを、ＩＳＯ １８０／４Ａに従って−２０℃において決定する。

Claims (8)

1. ポリカーボネート、紫外線吸収剤０．１ｗｔ．％〜０．３５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチル−ヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．００５ｗｔ．％を含み、該紫外線吸収剤が、
   式（４）
   

   

   （式中、Ｒ１およびＸは、同一であるかまたは異なっており、Ｈまたはアルキルまたはアルキルアリールである。）
   の紫外線吸収剤、および
   式（６）
   

   

   （式中、Ｒ_１２はアリールまたはアルキルである。）
   の紫外線吸収剤
   から成る群から選択される組成物。
2. ポリカーボネート、紫外線吸収剤０．１ｗｔ．％〜０．３５ｗｔ．％および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチル−ヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．００５ｗｔ．％を含み、該紫外線吸収剤が
   ａ．２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１，１−ジメチルエチル）−４−メチル）−フェノール、
   ｂ．２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（ＣＡＳ番号１０３５９７−４５−１）
   ｃ．１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス−｛［２’−シアノ−３’，３’−ジ−フェニルアクリロイル）オキシ］メチル｝−プロパン（ＣＡＳ番号１７８６７１−５８−４）
   を含む化合物の群から選択される組成物。
3. ポリカーボネート、前記紫外線吸収剤０．１ｗｔ．％〜０．３５ｗｔ．％および化合物２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）０．０００１ｗｔ．％〜０．００５ｗｔ．％を組み合わせ、混合することを特徴とする、請求項１に記載の組成物の製造方法。
4. 請求項１に記載の組成物を含むシート。
5. 該シートが、該組成物を含むベース層を有する多層シートである、請求項４に記載のシート。
6. 請求項１に記載の組成物を押し出しまたは共押し出しする工程を包含する、請求項４に記載のシートの製造方法。
7. 該紫外線吸収剤および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）が、５０００：１〜３０：１の重量比で存在することを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
8. 該紫外線吸収剤および２−［２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ］フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン（ＣＡＳ番号２０４５８３−３９−１）が、５００：１〜７０：１の重量比で存在することを特徴とする、請求項７に記載の組成物。