JP5659607B2 - 薄膜製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施の形態にかかる薄膜製造方法を説明するための図である。なお、本実施の形態においては、圧電素子に利用される薄膜にかかる薄膜製造方法を例に説明する。
第2の実施の形態は、第1の実施の形態の構成に加えて、基板20の第1主面20aと金属酸化物前駆体溶液12の液面の距離(金属酸化物前駆体溶液層厚み73)に基づいて、光源13のパワーを調整するものである。
第3の実施の形態では、図9に示すように、反応容器10の内壁面に、ダンパー16を設置する。ここで、ダンパー16は、反応容器10の内壁面の全面に設けられている。ダンパー16としては、例えばスポンジなどポーラスな部材を用いることができる。また衝撃波を分散する観点から、ダンパー16として金属酸化物前駆体溶液12と同等の粘弾性特徴を有する部材を用いることができる。具体的には、ダンパー16として、同程度以上の粘度の溶液が入った樹脂でできた袋等を利用することができる。金属酸化物前駆体溶液12の粘度は、1−30mPasec程度である。
11 保持台
12 金属酸化物前駆体溶液
13 光源
14 レーザ光
20 基板
30 薄膜パターン
51 圧電体膜
52 第1電極
53 第2電極
60 受光センサ
61 液面からの拡散反射光
62 基板面からの拡散反射光
63 光源点
64 測定点
65 スリット通過点
66 受光点
67 スリット
68 受光素子
71 光源点から金属酸化物前駆体溶液面までの距離
72 光源点から基板までの距離
73 金属酸化物前駆体溶液層厚み
80 光反射層
Claims (9)
- 基板の第1主面上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、
光源から前記第1主面側に光を照射することにより、前記基板の第1主面上に前記薄膜を形成する形成工程と、
前記光源と同一の光源から光を照射して、前記基板の第1主面と原料溶液面の距離を計測する工程と、
計測結果に基づいて、前記基板の高さ方向の位置を調整する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜製造方法。 - 基板の第1主面上に形成させる薄膜の原料溶液中に、前記基板を配置する配置工程と、
光源から前記第1主面側から光を照射することにより、前記基板の第1主面上に前記薄膜を形成する形成工程と、
前記基板の第1主面と原料溶液面の距離を計測する工程と、
計測結果に基づいて、前記光源から出射させる光の出力を調整する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜製造方法。 - 前記原料溶液は、金属酸化物前駆体溶液であり、前記薄膜は、金属酸化物薄膜であることを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 前記形成工程は、前記第1主面側から前記原料溶液表面を照射位置として、波長400nm以下の前記光を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 前記形成工程は、前記第1主面側から前記原料溶液中を照射位置として、波長400nm以下の前記光を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 前記形成工程は、前記第1主面側から前記基板の前記第1主面を照射位置として、波長400nm以上の前記光を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 前記形成工程は、前記第1主面側から前記基板内部を照射位置として、波長400nm以上の前記光を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 前記形成工程は、前記第1主面側から前記基板の第1主面の裏面である第2主面を照射位置として、波長400nm以上の前記光を照射することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜製造方法。
- 反応溶液を満たす反応容器の内壁には、前記原料溶液に生じた波を緩和するダンパーが設けられていることを特徴とする請求項1から8のいずれか一つに記載の薄膜製造方法。
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