JP5659545B2 - オゾン水供給システム及びシリコンウエハの湿式酸化処理システム - Google Patents
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Description
図1A〜Fに示すように、第1の実施形態に係るオゾン水供給システムは、オゾンガス製造装置及びオゾン溶解装置(ともに図示せず)を有するオゾン水供給装置1と、オゾン濃度測定装置2,3と、オゾン水供給配管4とを備え、オゾン水供給配管4を介してオゾン水供給装置1から湿式酸化槽10に所定濃度のオゾン水を供給することができる。また、第1の実施形態におけるシリコンウエハの湿式酸化処理システムは、第1の実施形態に係るオゾン水供給システムと、当該オゾン水供給システムにオゾン水供給配管4を介して接続された湿式酸化槽10とを備える。
本発明の第2の実施形態を図2に示す。
図2に示すように、第2の実施形態におけるシリコンウエハの湿式酸化処理システムは、湿式酸化槽10に、湿式酸化処理に用いられるオゾン水の温度を測定する水温測定装置11が設けられている以外は、第1の実施形態におけるシリコンウエハの湿式酸化処理システムと同様の構成を備える。したがって、第1の実施形態における湿式酸化処理システムと同様の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
本発明の第3の実施形態を図3に示す。
図3に示すように、第3の実施形態における湿式酸化処理システムは、湿式酸化槽10に、湿式酸化処理に用いられるオゾン水の温度を測定する水温測定装置11と、湿式酸化槽10内のオゾン水の水温を調整し得る水温制御装置12とが設けられている以外は、第1の実施形態における湿式酸化処理システムと同様の構成を備える。したがって、第1の実施形態における湿式酸化処理システムと同様の構成には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
シリコンウエハを2%フッ酸及び2%過酸化水素混合溶液に2分間浸漬させた後、比抵抗18.2MΩ・cm以上の超純水を用いてリンス洗浄した。リンス洗浄後のシリコンウエハを下記のようにして湿式酸化処理を行った。
オゾン水を20倍に希釈するように希釈水を導入し、当該希釈されたオゾン水(オゾン濃度:1.0ppm,25℃)を湿式酸化槽10に導入し、20分間湿式酸化処理を行った以外は、実施例1と同様にしてシリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
図3(D)に示すオゾン水供給システムを用い、オゾン水を40倍に希釈するように希釈水を導入し、当該希釈されたオゾン水(オゾン濃度:0.5ppm,30℃)を湿式酸化槽10に導入し、水温測定装置11による水温の測定結果に基づいて水温制御装置12にてオゾン水の水温を30℃に維持させながら、40分間湿式酸化処理を行った以外は、実施例1と同様にしてシリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
オゾン水供給装置1にてオゾン濃度20ppm及び炭酸濃度100ppmのガス溶解水を製造した以外は、実施例3と同様にしてシリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
図1(A)に示すオゾン水供給システムを用い、オゾン水供給装置1にてオゾン濃度20ppmのオゾン水を製造し、オゾン水を希釈することなく当該オゾン水(オゾン濃度:20ppm,25℃)を湿式酸化槽10に導入した以外は、実施例1と同様にして湿式酸化処理を行い、シリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
オゾン水供給装置1にてオゾン濃度10ppmのオゾン水を製造した以外は、比較例1と同様にして湿式酸化処理を行い、シリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
バルブ6の制御を行わずに、オゾン水を10倍程度に希釈するように希釈水を導入し、当該希釈されたオゾン水(オゾン濃度:2ppm程度,25℃)を湿式酸化槽10に導入した以外は、実施例1と同様にしてシリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
オゾン水を20倍程度に希釈するように希釈水を導入し、当該希釈されたオゾン水(オゾン濃度:1ppm程度,25℃)を湿式酸化槽10に導入した以外は、実施例3と同様にしてシリコンウエハにおけるCa付着量及びシリコン酸化膜の膜厚を測定した。結果を表1に示す。
2…オゾン濃度測定装置
3…オゾン濃度測定装置
4…オゾン水供給配管
5…希釈水供給配管
6…バルブ
10…湿式酸化槽
11…水温測定装置
12…水温制御装置
Claims (7)
- オゾン水供給装置と、
前記オゾン水供給装置からユースポイントに供給されるオゾン水のオゾン濃度を測定する第1オゾン濃度測定装置及び第2オゾン濃度測定装置と、
前記オゾン水供給装置から前記ユースポイントに前記オゾン水を供給するオゾン水供給配管と、
前記オゾン水供給配管の途中に接続され、前記オゾン水を希釈するための希釈水を供給する希釈水供給配管とを備え、
前記第1オゾン濃度測定装置が前記オゾン水供給装置に、前記第2オゾン濃度測定装置が前記オゾン水供給配管における前記希釈水供給配管との接続部よりも後段側に設けられており、
前記第1オゾン濃度測定装置及び前記第2オゾン濃度測定装置における測定値に基づいて、前記オゾン水供給装置から前記ユースポイントに供給されるオゾン水を希釈することにより該オゾン水のオゾン濃度が0.01〜2ppmの範囲に調整されることを特徴とするオゾン水供給システム。 - 前記オゾン水供給装置は、オゾンガス発生装置を有しており、
前記オゾンガス発生装置が、前記第1オゾン濃度測定装置における測定値に基づいて、オゾンガスの発生量を制御することを特徴とする請求項1に記載のオゾンガス供給システム。 - 前記ユースポイントにて使用されるオゾン水の水温に基づいて、前記オゾン水のオゾン濃度を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載のオゾン水供給システム。
- 前記第1オゾン濃度測定装置及び/又は前記第2オゾン濃度測定装置において測定されたオゾン水のオゾン濃度が2ppmを超える場合に、警報を発する警報発生装置をさらに備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のオゾン水供給システム。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のオゾン水供給システムと、前記オゾン水供給システムからオゾン水が供給される湿式酸化槽とを備え、
前記オゾン水供給システムから前記湿式酸化槽に供給されたオゾン水中にシリコンウエハを浸漬させることにより、当該シリコンウエハの表面に酸化膜を形成することを特徴とするシリコンウエハの湿式酸化処理システム。 - 前記湿式酸化槽内のオゾン水の水温を測定し得る水温測定装置をさらに備え、
前記オゾン水供給システムは、前記水温測定装置における測定値に基づいて、前記湿式酸化槽に供給されるオゾン水のオゾン濃度を調整することを特徴とする請求項5に記載のシリコンウエハの湿式酸化処理システム。 - 前記湿式酸化槽内のオゾン水の水温を測定し得る水温測定装置と、前記水温測定装置における測定値に基づいて、前記湿式酸化槽内のオゾン水の水温を制御し得る水温制御装置とをさらに備えることを特徴とする請求項5に記載のシリコンウエハの湿式酸化システム。
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