JP5637231B2 - 電界効果型トランジスタの製造方法 - Google Patents
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fT〜gm/{2π(Cint+Cext)}
で表されるが、上述のカーボンナノチューブFETにおいては真性容量Cintに対する 寄生容量Cextが大きいので電流利得遮断周波数fTが小さくなり、高速動作ができないという問題がある。
fT〜gm/{2π(Cint+Cext)}
となる。
fT〜N・gm/{2π(NCint+Cext)}
となり、Nの増加に伴ってfTが増加する。
fmax〜{fT/8π(Rg・Cgd)}1/2
となる。したがって、主ゲート電極に金属的性質を有するカーボンナノチューブを用いることでゲート抵抗Rgが低減され、結果としてfmaxが向上する。
fT〜N・gm/{2π(NCint+Cext)}
で表され、Nの増加に伴って増加するgm及び真性容量Cintに対して、寄生容量Cextの比率がさらに小さくなり、その結果、fTが大きくなるので、より高速化が可能になる。
その結果、ゲート電極端部45上から成長するカーボンナノチューブ48の径もソース電極12上のものにくらべて太くなり、ゲート電極としての金属的性質を有する多層カーボンナノチューブを構成することになる。
12 ソース電極
13 Al膜
14 Fe膜
15 ドレイン電極
16 カーボンナノチューブ
17 SOG膜
19 ゲート電極
20 Ti膜
21 Pt層
22 Ti膜
23 SOG膜
25 ソース電極
26 Al膜
27 Fe膜
28 ドレイン電極
29 カーボンナノチューブ
30 SOG膜
31 接地電極
32 ゲート電極
33 ソース電極
34 ドレイン電極
35 カーボンナノチューブ
36 SOG膜
37 ゲート電極
38 ソース電極
39 ドレイン電極
40 カーボンナノチューブ
41 SOG膜
45 ゲート電極端部
46 Al層
47 Fe膜
48 カーボンナノチューブ
49 SOG膜
50 ゲート絶縁膜
51 絶縁性基板
52 ソース電極
53 ドレイン電極
54 カーボンナノチューブ
55 絶縁膜
56 ゲート電極
57 接地電極
Claims (1)
- 絶縁性基板上にAl膜上にFe膜を設けたFe/Al積層薄膜からなる触媒作用を有する第1の電極を設けるとともに、前記第1の電極に間隔を隔てて対向する触媒作用を有さない第2の電極を設ける工程と、
前記絶縁性基板上に、前記第1の電極と前記第2の電極の間であって、且つ、前記第1の電極及び前記第2の電極の一方の端部側にTa膜上にFe膜を設けたFe/Ta積層薄膜からなる触媒作用を有する第3の電極を設けるとともに前記第1の電極と第2の電極を結ぶ方向に対して交わる方向に前記第3の電極に間隔を隔てて対向する触媒作用を有さない第4の電極を設ける工程と、
前記第1の電極を成長基点として前記第2の電極に達する半導体的性質を示すカーボンナノチューブを成長させてチャネルとすると同時に、前記第3の電極を成長基点として第4の電極方向に延在する金属的性質を示すカーボンナノチューブを成長させて主ゲート電極を形成する工程と、
前記チャネル上と主ゲート電極間においてゲート絶縁膜になるとともに、前記チャネルと主ゲート電極とを覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜上に前記第1の電極と投影的に重なるようにFe/Al積層薄膜からなる触媒作用を有する第5の電極を設けるとともに、前記第2の電極と投影的に重なるように触媒作用を有さない第6の電極を設ける工程と、
前記第5の電極を成長基点として第6の電極に達する半導体的性質を示すカーボンナノチューブを成長させてチャネルとする工程と
を有することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
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