JP5631952B2 - 基板の製造方法 - Google Patents
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Description
GaCl(g)+NH3(g)→GaN(s)+HCl(g)+H2(g)
11:凹部
20:バッファー層
30:セパレータ層
40:半導体層
Claims (6)
- 下地基板を昇温させるステップと、
前記下地基板の上に塩素を含む第1の原料ガスを供給して前記下地基板の表面に前記下地基板の結晶の形状に倣った複数の凹部を形成するステップと、
前記下地基板の上にバッファー層を形成するステップと、
前記バッファー層の上に前記塩素を含む第1の原料ガスと窒素を含む第2の原料ガスを供給してNH 4 Clセパレータ層を形成するステップと、
前記セパレータ層の上に第1の半導体層を形成するステップと、
前記第1の半導体層の上に前記第1の半導体層の形成温度よりも高い温度で第2の半導体層を形成するステップと、
前記下地基板を冷却して前記セパレータ層を中心に前記下地基板と前記第1及び第2の半導体層を分離するステップと、
を含む基板の製造方法。 - 前記バッファー層は、前記第2の原料ガスを用いて形成することを特徴とする請求項1に記載の基板の製造方法。
- 前記バッファー層は、NH3ガスを用いて前記下地基板を窒化させて形成することを特徴とする請求項2に記載の基板の製造方法。
- 前記セパレータ層は、NH3とHClを用いてNH4Clから形成することを特徴とする請求項2に記載の基板の製造方法。
- 前記第1及び第2の半導体層は、III族元素を含む物質と前記第1の原料ガスによって形成された第3の原料ガスと前記第2の原料ガスを用いて形成することを特徴とする請求項2に記載の基板の製造方法。
- 前記第1及び第2の半導体層は、GaとHClによるGaClとNH3の反応によって形成されたGaN層を備えることを特徴とする請求項5に記載の基板の製造方法。
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