JP5630697B2 - Electronic components - Google Patents
Electronic components Download PDFInfo
- Publication number
- JP5630697B2 JP5630697B2 JP2010233189A JP2010233189A JP5630697B2 JP 5630697 B2 JP5630697 B2 JP 5630697B2 JP 2010233189 A JP2010233189 A JP 2010233189A JP 2010233189 A JP2010233189 A JP 2010233189A JP 5630697 B2 JP5630697 B2 JP 5630697B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ground electrode
- electrode
- shield
- region
- ground
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Description
本発明は無線通信装置に用いられる電子部品に関するものであり、特には増幅器用半導体素子とフィルタ等の高周波回路を小型に構成した電子部品に関する。 The present invention relates to an electronic component used in a wireless communication apparatus, and more particularly to an electronic component in which a high-frequency circuit such as an amplifier semiconductor element and a filter is configured in a small size.
図13は無線通信装置の回路ブロック例であって、無線LAN(Local Area Network)用の無線通信装置の高周波回路部を示す。
アンテナANTに接続され、送信回路TXと受信回路RXとの接続を切り替える高周波スイッチSWと、周波数f1の送信信号が通過する経路に、アンテナANTから順に、フィルタFIL2、増幅器PA、フィルタFIL1、バランBAL1が接続され、周波数f2の受信信号が通過する経路に、アンテナANTから順に、フィルタFIL4、ローノイズアンプLNA、フィルタFIL3、バランBAL2が接続される。
FIG. 13 is an example of a circuit block of a wireless communication device, and shows a high-frequency circuit unit of a wireless communication device for a wireless LAN (Local Area Network).
A filter FIL2, an amplifier PA, a filter FIL1, and a balun BAL1 are sequentially connected from the antenna ANT to a high-frequency switch SW that is connected to the antenna ANT and switches a connection between the transmission circuit TX and the reception circuit RX, and a path through which a transmission signal of the frequency f1 passes. Are connected in order from the antenna ANT to the path through which the reception signal of the frequency f2 passes. The filter FIL4, the low noise amplifier LNA, the filter FIL3, and the balun BAL2 are connected.
携帯電話等の無線通信装置の分野においては、無線通信装置自体の小型化が著しく、それに伴って、高周波回路部、及びそこに用いられる電子部品もまた小型化が急速に進んでいる。電子部品の小型化の一例として特許文献1には、多層基板に増幅器用半導体素子等の構成部品を搭載した混成集積回路装置が開示されている。
図14は混成集積回路装置1000(電子部品)の断面図である。増幅器用半導体素子1550は多層基板1120のキャビティ部の実装電極1050に搭載・半田付けされ、ボンディングワイヤ1600により多層基板1120の表層の端子電極1300と接続し、樹脂1540により封止されている。リアクタンス素子、抵抗などの実装部品1500,1510は多層基板1120の表面に搭載され、それらは金属キャップ2000で覆われている。
多層基板1120の内層には線路導体1200等が設けられ、表層に設けた実装部品1500,1510とビアホール1310や接続線路等を介して接続されている。そして増幅器用半導体素子1550の下部の略全体には複数のサーマルビア1010が設けられている。サーマルビア1010は 前記実装電極1050と、多層基板1120の下面側に設けられたグランド電極1100と接続される。
In the field of wireless communication devices such as cellular phones, the size of wireless communication devices themselves has been remarkably reduced, and accordingly, high-frequency circuit units and electronic components used therein have also been rapidly reduced in size. As an example of downsizing of electronic components,
FIG. 14 is a cross-sectional view of the hybrid integrated circuit device 1000 (electronic component). The
A
一般的に増幅器用半導体素子は消費電力が大きいので、発熱対策として多層基板にはサーマルビアが必須である。図14に示した様にサーマルビア1010は増幅器用半導体素子1550の下部の大半を占めるため、その領域には他の回路を設けることが出来ず、電子部品の小型化を阻害していた。
In general, amplifier semiconductor elements consume a large amount of power, so thermal vias are essential for multilayer substrates as a countermeasure against heat generation. As shown in FIG. 14, since the thermal via 1010 occupies most of the lower portion of the
この様な課題に対して、図14に示す引用文献2に開示された高周波モジュール(電子部品)1000では、多層基板1120の上面にパワーアンプIC(増幅器用半導体素子)1550を実装し、多層基板1120の内層に形成されたフィルタ1180をパワーアンプIC1550の略直下に配置し、フィルタ1180の多数のグランドビアホールをパワーアンプ用のサーマルビア1030として用いることが開示されている。この様な構成であれば、引用文献1のサーマルビアの様に、全ての層を貫通して上面の実装電極1050と下面側のグランド電極1100とを接続する必要が無く、ビアホールの総数も少なくすることができるので、高周波モジュールを小型化することが出来るとしている。
In response to such a problem, in the high frequency module (electronic component) 1000 disclosed in the cited
引用文献2に開示された電子部品の様に、増幅器用半導体素子の下部にフィルタやバランなどの他の回路ブロックを配置すれば電子部品を小型に構成することが可能である。しかしながら、従来の様なサーマルビアを使用せず、回路ブロックのビアホール、特にはグランドと接続するグランドビアを用いて放熱効果を得るには、多数のグランドビアが必要となる。
そのため回路ブロックの回路構成や回路素子を構成する導体パターンの形状や積層配置など著しく限定されてしまい、構成も複雑化すると言う課題がある。また高周波特性とともに放熱性能を考慮した回路と構成が必要となり、高周波回路の設計をより一層困難なものとしている。
Like the electronic component disclosed in the cited
Therefore, the circuit configuration of the circuit block, the shape of the conductor pattern constituting the circuit element, the lamination arrangement, and the like are significantly limited, and there is a problem that the configuration becomes complicated. In addition, a circuit and a configuration that take heat dissipation performance into consideration along with high-frequency characteristics are required, making the design of a high-frequency circuit even more difficult.
近年、増幅器用半導体素子の小型化が進み発熱量も増加している。半導体素子の小型化に伴って積層体上面の実装電極と面する面積が減少し、回路ブロックのグランドビアによる放熱では十分な効果が得られず、熱抵抗の増加が顕著になり、増幅器用半導体素子の効率が低下してしまうと言う問題もある。 In recent years, semiconductor devices for amplifiers have been miniaturized and the amount of heat generated has also increased. With the miniaturization of semiconductor elements, the area facing the mounting electrode on the top of the stack decreases, and heat dissipation by the ground via of the circuit block cannot provide a sufficient effect, and the increase in thermal resistance becomes noticeable. There is also a problem that the efficiency of the element is lowered.
また、高周波回路の送信経路の増幅器用半導体素子と、受信経路の増幅器用半導体素子(ローノイズアンプ用)とを一つの積層体の上面に近接して配置したり、高周波回路のマルチバンド化に伴って、異なる周波数帯の高周波信号を扱う増幅器用半導体素子を近接して配置したりする場合がある。
表面弾性波やバルク弾性波を利用した弾性波素子を増幅器用半導体素子と近接して配置し、フィルタやデュプレクサ、ダイプレクサとして用いる場合には、十分な放熱特性が確保されなければ弾性波素子のフィルタ特性が変化するといった問題もあった。
更に積層体に3つ以上の回路ブロックを構成する場合には、アイソレーションの問題についても考慮する必要があった。
そこで本発明では、小型でありながら増幅器用半導体素子による発熱の放熱性に優れ、電気的特性に優れる電子部品を提供することを目的とする
Also, the amplifier semiconductor element in the transmission path of the high-frequency circuit and the amplifier semiconductor element (for low-noise amplifier) in the reception path are arranged close to the upper surface of one stacked body, or the multi-band of the high-frequency circuit In some cases, amplifier semiconductor elements that handle high-frequency signals in different frequency bands are arranged close to each other.
When an acoustic wave element using surface acoustic waves or bulk acoustic waves is placed close to a semiconductor element for an amplifier and used as a filter, duplexer, or diplexer, a filter for the acoustic wave element is required unless sufficient heat dissipation characteristics are secured. There was also a problem that the characteristics changed.
Furthermore, when three or more circuit blocks are formed in the laminate, it is necessary to consider the problem of isolation.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an electronic component that is excellent in heat dissipation of heat generated by a semiconductor element for an amplifier and excellent in electrical characteristics while being small.
第1の発明は、絶縁体層と導体パターンとを含む積層体と、増幅器用半導体素子とを備えた電子部品であって、前記積層体は、その上層側の内層に形成された第1グランド電極と、下層側の内層に形成された第2グランド電極と、上面に前記第1グランド電極と複数のビアホールで接続された増幅器用半導体素子実装用の実装電極と、下面に前記第2グランド電極と複数のビアホールで接続された第3グランド電極を備え、更に前記積層体には、実装電極と第1グランド電極と第2グランド電極と第3グランド電極とを接続し、積層体の上下面にまで至る第1シールドと、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続する第2シールドを備え、第1及び第2シールドは、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成され、前記積層体の第1グランド電極と第2グランド電極との間は、前記第1及び第2シールドによって少なくとも3つの領域に区画され、第1及び第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画され、前記増幅器用半導体素子の下部に位置する第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、前記実装電極は前記第1の領域と前記第1シールドとに重なる部分に形成されており、前記第1シールドと前記第2シールドとを増幅器用半導体素子の放熱経路とし、前記増幅器用半導体素子への電源線路を、前記積層体の上面と第1グランド電極との間と、前記積層体の下面と第2グランド電極との間とに設けたことを特徴とする電子部品である。 According to a first aspect of the present invention, there is provided an electronic component comprising a multilayer body including an insulator layer and a conductor pattern, and an amplifier semiconductor element, wherein the multilayer body is formed in an inner layer on the upper layer side. electrode and a second ground electrode formed on the inner layer of the lower layer side, and a mounting electrode for connection to an amplifier semiconductor element mounting that in the first ground electrode and a plurality of via holes on the upper surface, the the lower surface second ground electrode And a third ground electrode connected by a plurality of via holes, and further, a mounting electrode, a first ground electrode, a second ground electrode, and a third ground electrode are connected to the stacked body, and the upper and lower surfaces of the stacked body are connected to each other. And a second shield connecting the first ground electrode and the second ground electrode, and the first and second shields are configured by cascading via hole groups including via holes that are continuous in the stacking direction. The first ground electrode and the second ground electrode of the laminate are partitioned into at least three regions by the first and second shields, and partitioned by the first and second shields and the first and second ground electrodes. In the first region located below the amplifier semiconductor element, a conductor pattern constituting a first circuit block is disposed, and the mounting electrode is disposed on a portion overlapping the first region and the first shield. The first shield and the second shield are used as a heat dissipation path of the amplifier semiconductor element, and a power supply line to the amplifier semiconductor element is provided between the upper surface of the stacked body and the first ground electrode. The electronic component is provided between the lower surface of the multilayer body and the second ground electrode .
増幅器用半導体素子の下方に位置する積層体内の第1の領域は、第1及び第2グランド電極と、第1及び第2シールドによって電磁気的な干渉から保護される。第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、例えばフィルタ、バラン、あるいはフィルタとバランが複合されたフィルタバラン等の回路の何れかが形成される。
本発明によれば、増幅器用半導体素子の下方の区画された領域を有効に利用することにより電子部品の小型化が可能であり、電気的特性に優れた設計も比較的容易である。よって、第1回路ブロックとして構成される電気回路の特性を劣化させることが無く、優れた電子部品を提供することが出来る。なお本発明においては、第1回路ブロックにグランドビアを設けることは妨げない。
The first region in the stack located below the amplifier semiconductor element is protected from electromagnetic interference by the first and second ground electrodes and the first and second shields. In the first region, a conductor pattern constituting the first circuit block is disposed, and for example, a circuit such as a filter, a balun, or a filter balun in which a filter and a balun are combined is formed.
According to the present invention, it is possible to reduce the size of an electronic component by effectively utilizing the partitioned region below the amplifier semiconductor element, and it is relatively easy to design with excellent electrical characteristics. Therefore, it is possible to provide an excellent electronic component without deteriorating the characteristics of the electric circuit configured as the first circuit block. In the present invention, it is not hindered to provide a ground via in the first circuit block.
本発明において増幅器用半導体素子による発熱は、第1シールドと第2シールドにより対策される。前記第1シールドは、増幅器用半導体素子を搭載する実装電極と積層体の下面の第3グランド電極とを繋ぐ、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成されており、主に回路基板側への熱伝導を担う経路となっている。第1シールドは増幅器用半導体素子の信号出力側に設けられている。放熱性を高めるのにビアホール群の列数を複数としても良いし、ビアホールの径を信号経路となるビアホールよりも大きくするなどしても良い。 In the present invention, heat generated by the semiconductor element for amplifier is countered by the first shield and the second shield. The first shield is configured by cascading via hole groups each including a via hole that is continuous in the stacking direction and connects the mounting electrode on which the amplifier semiconductor element is mounted and the third ground electrode on the lower surface of the stack. It is a path responsible for heat conduction to the substrate side. The first shield is provided on the signal output side of the amplifier semiconductor element. In order to improve heat dissipation, the number of via hole groups may be plural, or the diameter of the via holes may be larger than the via holes serving as signal paths.
本発明においては、第2シールドを副放熱経路として用いて放熱性を高めている。副放熱経路は、実装電極と第1グランド電極とを繋ぐ複数のビアホールと、第2グランド電極と第3グランド電極とを繋ぐ複数のビアホールと、第2シールドとで構成される。第2シールドは、積層方向に連なり、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続するビアホールでなるビアホール群を縦列して構成されている。このため、第1及び第2グランド電極間の副放熱経路として有効に機能させることが出来る。
第2シールドは増幅器用半導体素子とは積層方向に重ならない位置に配置され、第1の領域を大きく確保している。但し、増幅器用半導体素子から離れるに従い放熱への寄与が小さくなるので、その効果も考慮しながら配置位置を決定するのが好ましい。
In the present invention, heat dissipation is enhanced by using the second shield as a secondary heat dissipation path. The sub heat dissipation path is configured by a plurality of via holes that connect the mounting electrode and the first ground electrode, a plurality of via holes that connect the second ground electrode and the third ground electrode, and a second shield. The second shield is formed by cascading via hole groups each including a via hole that connects the first ground electrode and the second ground electrode, and is continuous in the stacking direction. For this reason, it can function effectively as a sub heat dissipation path between the first and second ground electrodes.
The second shield is disposed at a position that does not overlap the amplifier semiconductor element in the stacking direction, and ensures a large first region. However, since the contribution to heat dissipation becomes smaller as the distance from the amplifier semiconductor element increases, it is preferable to determine the arrangement position in consideration of the effect.
本発明においては、前記第1グランド電極と前記第2グランド電極との間に第4グランド電極を設けても良い。第4グランド電極は、第1グランド電極と第2グランド電極の様に絶縁体層の略全面に広がる形態でなくても良く、絶縁体層の一面の一部に設けたり、一面において分割して設けたりする場合もある。また、前記第1グランド電極と前記第2グランド電極との間に配置されるグランド電極の数は一層に限定されず、複数の絶縁体層に設けられる場合を含む。
更に、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置と、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置とを異ならせて、前記第2シールドを形成するのも好ましい。例えば、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置を増幅器用半導体素子の近傍とし、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置を相対的に遠方として異ならせれば、第2シールドの放熱効果の低下を防ぎながら、第1の領域の大きさを確保できる。
前記第1の領域において、第1グランド電極と第4グランド電極との間には、比較的、小さな平面領域でも形成可能なストリップ線路用又はインダクタンス用の導体パターンを配置し、第2グランド電極と第4グランド電極との間には、形成に比較的大きな平面領域が必要なキャパシタンス用の導体パターンを配置することで、第1の領域を有効に利用する事が出来る。
In the present invention, a fourth ground electrode may be provided between the first ground electrode and the second ground electrode. The fourth ground electrode does not have to have a form that extends over substantially the entire surface of the insulator layer like the first ground electrode and the second ground electrode, and is provided on a part of one surface of the insulator layer or divided on one surface. It may be provided. In addition, the number of ground electrodes disposed between the first ground electrode and the second ground electrode is not limited to one layer, and includes a case where the ground electrodes are provided on a plurality of insulator layers.
Further, the second shield is configured such that a column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is different from a column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode. It is also preferable to form For example, the column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is set near the amplifier semiconductor element, and the column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode is relatively set. If the distance is changed to be far away, the size of the first region can be secured while preventing the heat dissipation effect of the second shield from being lowered.
In the first region, between the first ground electrode and the fourth ground electrode, a strip line or inductance conductor pattern that can be formed even in a relatively small planar region is disposed, and the second ground electrode By arranging a conductor pattern for capacitance that requires a relatively large planar area for formation between the fourth ground electrode, the first area can be used effectively.
本発明においては、第1シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第2の領域に、第2回路ブロックを構成する導体パターンを配置するのが好ましい。第2回路ブロックはフィルタ、整合回路、方向性結合器、高周波スイッチなどの回路である。 また第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第3の領域には、第3回路ブロックを構成する導体パターンを配置するのが好ましい。第3回路ブロックはバラン、フィルタなどの回路である。 前記第1回路ブロックと前記第3回路ブロックとが接続されてなく、前記積層体の下面には複数の端子電極が形成されており、そのうちの一つに第1回路ブロックの入力ポートが接続され、他の一つに第3回路ブロックの出力ポートが接続される。 In the present invention, it is preferable to arrange a conductor pattern constituting the second circuit block in the second region partitioned by the first shield and the first and second ground electrodes. The second circuit block is a circuit such as a filter, a matching circuit, a directional coupler, and a high frequency switch. In addition, it is preferable to arrange a conductor pattern constituting the third circuit block in the third region defined by the second shield and the first and second ground electrodes. The third circuit block is a circuit such as a balun or a filter. The first circuit block and the third circuit block are not connected, and a plurality of terminal electrodes are formed on the lower surface of the laminate, and one of the input ports of the first circuit block is connected to one of them. The other one is connected to the output port of the third circuit block.
本発明においては、積層体の第2の領域、又は第3の領域と重なる上面に、弾性波素子を搭載するのも好ましい。弾性波素子は、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ、FBAR(film bulk acoustic resonator)型、SMR(solid mounted resonator)型などのBAW (bulk acoustic wave filter)フィルタを構成するものである。 In the present invention, it is also preferable to mount an acoustic wave element on the upper surface overlapping the second region or the third region of the laminate. The acoustic wave element is a SAW (Surface Acoustic Wave) filter, FBAR (Film Bulk Acoustic Resonator) type, SMR (Solid Mounted Resonator) type, or other BAW (bulk acoustic wave) filter.
本発明によれば、増幅器用半導体素子による発熱の放熱性を阻害することが無く、複数の回路ブロックを内蔵しても、小型でありながら電気的特性に優れる電子部品を提供することが出来る。 According to the present invention, it is possible to provide an electronic component that is small in size and excellent in electrical characteristics even if a plurality of circuit blocks are incorporated without hindering heat dissipation of heat generated by the amplifier semiconductor element.
本発明について以下図を用いて詳細に説明する。図1は本発明の一実施態様に係る電子部品の上面図であり、図2はその断面図であり、図3及び図4は電子部品を構成する積層体の内層構造の一例を示す部分平面図である。また、図5は電子部品の構成を示す回路ブロック図であり、図6はその等価回路図である。
本発明の電子部品は、絶縁体層と導体パターンとを含む積層体と、その面上に搭載された増幅器用半導体素子やチップ部品とで構成される。絶縁体層としては、誘電体セラミックス、樹脂、樹脂とセラミックとの複合材を用いることが可能である。積層体化は公知の工法を用いて行なわれ、例えば誘電体セラミックスを用いる場合にはLTCC(低温同時焼成セラミック)技術や、HTCC(高温同時焼成セラミック)技術により、樹脂等ではビルドアップ技術による。
The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a top view of an electronic component according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view thereof, and FIGS. 3 and 4 are partial plan views showing an example of an inner layer structure of a laminate constituting the electronic component. FIG. FIG. 5 is a circuit block diagram showing the configuration of the electronic component, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram thereof.
The electronic component of the present invention includes a laminated body including an insulator layer and a conductor pattern, and an amplifier semiconductor element and a chip component mounted on the surface. As the insulator layer, dielectric ceramics, resin, or a composite material of resin and ceramic can be used. Laminating is performed using a known method. For example, when dielectric ceramics are used, LTCC (low temperature co-fired ceramic) technology or HTCC (high temperature co-fired ceramic) technology is used.
LTCC技術であれば、積層体100は、例えば絶縁体層として、1000℃以下の低温で焼結可能なセラミック誘電体からなり、AgやCu等の導電ペーストを印刷して所定の導体パターンを形成した厚さ10〜200μmの複数のセラミックグリーンシートを用い、これを積層し、一体的に焼結することにより形成することができる。
低温で焼結可能なセラミック誘電体としては、例えばAl,Si及びSrを主成分として、Ti,Bi,Cu,Mn,Na,K等を副成分とするセラミックス、Al,Mg,Si及びGdを含むセラミックス、Al,Si,Zr及びMgを含むセラミックスが挙げられる。
In the case of LTCC technology, the laminate 100 is made of, for example, a ceramic dielectric that can be sintered at a low temperature of 1000 ° C. or less as an insulator layer, and a conductive paste such as Ag or Cu is printed to form a predetermined conductor pattern. The plurality of ceramic green sheets having a thickness of 10 to 200 μm are used, stacked, and sintered integrally.
Examples of ceramic dielectrics that can be sintered at low temperatures include ceramics having Al, Si, and Sr as main components and Ti, Bi, Cu, Mn, Na, K, etc. as auxiliary components, Al, Mg, Si, and Gd. And ceramics containing Al, Si, Zr and Mg.
積層体100は、増幅器用半導体素子やチップ部品を実装する上面と、端子電極等が形成された下面を有する。上面側(上層側とも呼ぶ)の内層に第1グランド電極10aが形成され、下面側(下層側とも呼ぶ)の内層には第2グランド電極10bが形成されている。
図1に示す様に、積層体100の上面には増幅器用半導体素子60やチップ部品90を搭載したり、ワイヤボンディングしたりするための端子電極が形成されている。増幅器用半導体素子60を実装するための実装電極11には、そのほぼ一面に複数のビアホール20が設けられている。なお図中、増幅器用半導体素子60を破線で、ボンディングワイヤBWを点線で示して透過し、その下側の実装電極11のビアホール20を、黒丸とXに丸とで示して配置を明確にしている。
一般にビアホールは電気的接続や放熱に利用され、その中には専ら金属導体が充填されている。金属導体は密に充填された状態が好ましいが、利用目的を阻害しない範囲であれば中空部分を有していても構わない。
The
As shown in FIG. 1, terminal electrodes for mounting the
Generally, a via hole is used for electrical connection and heat dissipation, and it is filled exclusively with a metal conductor. The metal conductor is preferably packed tightly, but may have a hollow portion as long as the purpose of use is not impaired.
第1及び第2グランド電極10a,10bは、絶縁体層の表面のほぼ全面を覆う導体パターンで形成され、第3グランド電極12は積層体100の下面の中央部を含む領域を広く覆う導体パターンで形成されている。
第3グランド電極12の周囲には、回路基板に実装するための端子電極95が形成されている。端子電極95は入出力ポートP1,P2+,P2−、グランドポート、電源ポートVcc1,Vcc2,Vatt,Vb,Vd等としての電気的機能も有する。
本実施態様では、入出力端子P1は不平衡端であり、入出力端子P2+、P2−は平衡端である。また下面の端子電極をLGA(Land Grid Array)としているが、BGA(Ball Grid Array)等も採用することが出来るし、積層体の側面に設けた端子構造であっても良い。
The first and
A
In this embodiment, the input / output terminal P1 is an unbalanced end, and the input / output terminals P2 + and P2- are balanced ends. Further, although the terminal electrode on the lower surface is LGA (Land Grid Array), BGA (Ball Grid Array) or the like can also be adopted, and a terminal structure provided on the side surface of the laminated body may be used.
図2のX−X’断面図に示す様に、実装電極11は第1グランド電極10aと複数のビアホール20で接続される。また積層体100の下面には回路基板に実装するための端子電極95、第3グランド電極12が形成され、第3グランド電極12は第2グランド電極10bと複数のビアホール20で接続される。第2グランド電極10bはビアホールでグランドポートとして機能する端子電極95と接続する。
ビアホール20の一部は、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を構成している。積層体の上下面にまで至る第1シールド30は、ビアホール群を縦列して、実装電極11と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bと第3グランド電極12とを接続し構成される。図1においては、他のビアホールよりも密に縦列配置され、3列に並んだ黒丸で示したビアホール20が第1シールド30を構成する。
第1シールド30は、増幅器用半導体素子60の信号出力側の下部にあり、実装電極11の面積の1/2を超えない領域に形成されている。増幅器用半導体素子60の信号出力側は他の部位よりも相対的に発熱を生じ易いため、その下部に第1シールド30を設けることで、回路基板への放熱効果を増している。
As shown in the XX ′ sectional view of FIG. 2, the mounting
A part of the via
The
本発明では、更に第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとを接続する第2シールド35を備えている。図3は第1グランド電極10aが形成された絶縁体層S1の一部を示す平面部分拡大図であり、図4は第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間に位置する絶縁体層S2の一部を示す平面部分拡大図である。
第2シールド35は第1シールド30と同様に、積層方向に連なるビアホール20でなるビアホール群を縦列して構成される。図3及び図4においては、第1シールド30を構成するビアホール20を黒丸、第2シールド35を構成するビアホール20を格子に丸、第1回路ブロックを構成する導体パターンと接続するビアホールを×に丸、高周波信号や半導体の制御信号の経路等となるビアホール21を白丸で示している。ビアホール21や、グランド電極を有さない層に構成されるビアホール20は、グランド電極を有する層のビアホール20と比較し、大径のビアホールとしている。
第2シールド35は第1シールド30とは所定の間隔をもって形成され、増幅器用半導体素子60とは積層方向に重ならない位置に設けられる。ここでは略並行に構成されるが特には限定されず、縦列も直線状で無くても構わない。
The present invention further includes a
Similar to the
The
第1シールド30及び第2シールド35と、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより、積層体100は、少なくとも3つの領域(第1の領域71、第2の領域51、第3の領域81)に区画される。
第1グランド電極10a及び第2グランド電極10bは、絶縁体層S2の表面をほぼ全面を覆う導体パターンで形成されるが、信号経路の層間の接続を担うビアホール21の周囲や、各領域に配置される導体パターンとの間で無用な寄生容量が生じる部分は、導体パターンが除かれて形成される。
The
The
第1シールド30と第2シールド35とに挟まれた第1の領域71は、実装電極11の下部に位置する。そこには高周波回路を構成する第1回路ブロック70を構成する導体パターンが配置される。第1シールド30と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより区画された第2の領域51には第2回路ブロック50を構成する導体パターンが配置される。また第2シールド35と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより区画された第3の領域81には第3回路ブロック80を構成する導体パターンが配置される。
The
本実施態様では、図5及び図6に示す様に、第1の領域71に構成する第1回路ブロック70をバンドパスフィルタとし、第2の領域51に構成する第2回路ブロック50をローパスフィルタとし、第3の領域81に構成する第3回路ブロック80をバランとしている。本発明においては、各領域に配置される回路ブロックは特に限定されないが、増幅器用半導体素子60の出力段側に接続される回路ブロックは、専らフィルタや整合回路であり、入力段側にはフィルタ、バラン、あるいはそれらの機能を複合したフィルタバランが配置される場合が多い。
In this embodiment, as shown in FIGS. 5 and 6, the
図2においては、各領域51,71,81と下面及び上面の端子電極を繋ぐ矢印で、回路ブロック間の接続を示している。回路ブロックは、図示していないビアホールや接続線路(導体パターン)などの接続手段を介して適宜接続される。
図中左下の端子電極95は第3回路ブロック80と接続する。そして第3回路ブロック80は、第1回路ブロック70と接続する。なお、第1及び第3回路ブロック間の接続は、積層体100に設けられた接続手段を用いる場合や、積層体100では接続せずに、回路基板に設けられたフィルタ等の他の回路ブロックを介して接続する場合もある。
第1回路ブロック70は上面の端子電極Bt1と接続し、ボンディングワイヤBWを介して増幅器用半導体素子60の入力端子P1aと接続する。増幅器用半導体素子60の出力端子P1bは複数のボンディングワイヤBWにて上面の端子電極M1と接続し、端子電極M1はビアホール、第2回路ブロック50を介して、右下の端子電極95と接続する。
In FIG. 2, the connection between the circuit blocks is indicated by arrows connecting the
The
The
各領域51、71、81は、第1及び第2シールド30,35、第1及び第2グランド電極10a,10bによって、電磁気的に区画される。また各電源端子Vcc1,Vcc2,Vatt,Vb,Vdと増幅器用半導体素子60やバラン80への電源線路は、第1グランド電極10aと積層体100の上面との間や、第2グランド電極10bと積層体100の下面との間の絶縁体層に形成されており、各領域に形成される回路ブロック間の干渉や、回路基板、搭載部品、電源線路との間の干渉を抑制する。
Each
増幅器用半導体素子60による熱エネルギーは、専ら第1シールド30を介して回路基板に放熱されるが、一部は実装電極11の下部に設けられた複数のビアホール20と、第1グランド電極10aと、第2シールド35と、第2グランド電極10bと、第2グランド電極10bと第3グランド電極との間に設けられた複数のビアホール20を介して回路基板に放熱される。第2シールド35は密に縦列配置されたビアホールで構成されるので、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間の熱伝導を効率的に行なうことが出来る。本発明では、第1シールド30を増幅器用半導体素子の主放熱経路とするとともに、第2シールド35を副放熱経路とすることで放熱性能を高めている。
Thermal energy from the
図7は他の実施態様の電子部品の断面図を示す。図2で示した電子部品とは、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間に、第4グランド電極10cを備える点で相違する。
通常、各領域に設けられる回路ブロックはリアクタンス素子によるLC回路として構成される。ストリップ線路やインダクタンス素子は電磁気的な干渉の影響を受け易く、キャパシタンス素子は、その電極パターンの形成にインダクタンス素子と比べて相対的に広い面積が必要となる。そこで、各領域を第4グランド電極10cによって分け、インダクタンス素子を構成する電極パターンと、キャパシタンス素子を構成する電極パターンを構成する電極パターンを分けて配置すれば、積層体内の限られた領域を有効に使いながら、より一層、電磁気的な干渉の影響を受け難い電子部品とすることが出来る。
FIG. 7 shows a cross-sectional view of an electronic component of another embodiment. 2 is different from the electronic component shown in FIG. 2 in that a
Usually, the circuit block provided in each region is configured as an LC circuit using reactance elements. The strip line and the inductance element are easily affected by electromagnetic interference, and the capacitance element requires a relatively large area compared to the inductance element to form the electrode pattern. Therefore, if each region is divided by the
図7では、第1の領域71において、図中上側にストリップ線路70a(インダクタンス素子)を構成する電極パターンを、下側の領域にはキャパシタンス素子70bを構成する電極パターンを構成した例を示した。第2シールド35を構成するビアホールの位置を、第1及び第4グランド電極10a,10c間と、第2及び第4グランド電極10b、10c間とで異ならせることで、ストリップ線路70aを構成する領域に無駄な部分を生じさせることが無く、またキャパシタンス素子70bを構成する平面領域を大きく確保することが出来る。第1及び第2グランド電極を繋ぐ第2シールド35の長さは長くなるが放熱性能は維持される。なお、第4グランド電極10cは、第1の領域71のみに形成しても構わない。
FIG. 7 shows an example in which, in the
図8は本発明の一実施例に係る電子部品の斜視図である。この電子部品1は、無線LAN用の無線通信装置の高周波送受信回路部に用いられるものであり、複数のフィルタとバランを備えるとともに、高周波増幅器、ローノイズアンプ、高周波スイッチを積層体に実装して一体化したものである。
FIG. 8 is a perspective view of an electronic component according to an embodiment of the present invention. The
図9は高周波部品の等価回路図である。アンテナポートANTには、整合回路45を介してSPDT(単極双投型)の高周波スイッチ40が配置されている。送信信号の経路にはバラン80、フィルタ70、高周波増幅器60、整合回路50、フィルタ54が設けられ、受信信号の経路にはバラン82、フィルタ72、ローノイズアンプ61、フィルタ52が設けられている。高周波スイッチ40、高周波増幅器60、ローノイズアンプ61を構成するそれぞれの半導体素子は積層体100に実装され、他の回路は導体パターンにより積層体100に内蔵されている。なお、DCカットコンデンサや高周波増幅器60、ローノイズアンプ61等の整合回路など一部の回路素子は、積層体100に実装されている。 高周波増幅器60、ローノイズアンプ61、高周波スイッチ40などに用いられる半導体素子や積層体100に内蔵できないキャパシタンス等のチップ部品が、積層体100上に実装され、樹脂120で封止されている。
FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the high-frequency component. An SPDT (single pole double throw type)
図10に電子部品の底面平面図を示す。下面側には複数の端子電極が形成されており、各端子電極に付与した符号は図12に示した電子部品の等価回路のポートと対応する。 FIG. 10 is a bottom plan view of the electronic component. A plurality of terminal electrodes are formed on the lower surface side, and the reference numerals given to the terminal electrodes correspond to the ports of the equivalent circuit of the electronic component shown in FIG.
下面中央の領域にはビアホールを通じて上層の第2グランド電極10b(GND4)と繋がる第3グランド電極12が設けられ、安定したグランド電位を与えるとともに、回路基板との接続強度を向上している。
各端子電極は、第3グランド電極12の周囲であって各側面側に形成されており、第1側面側にはグランドポートGNDとともに、アンテナポートANT、非接続ポートNCが形成されている。第1側面と隣り合う図下側の第2側面側には、電圧ポートVcc1,Vatt,Vb,Vcc2とともに、フィルタ70の入力ポートPa、バラン80の出力ポートPbが形成されている。第2側面と対向する図上側の第3側面側には、電圧供給端子Vcl,Vbl,Vr,Vtとともに、フィルタ72の出力ポートPc、バラン82の入力ポートPdが形成されている。そして第4側面側には、電圧供給端子Vd、グランドポートGNDとともに、バラン80の入力(平衡)ポートP2+、P2−、バラン82の出力(平衡)ポートP4+、P4−が形成されている。
A
Each terminal electrode is formed on each side surface around the
図11は、本発明の実施例に係る電子部品のフィルタ、バラン等回路の積層配置の概略を示す分解斜視図である。積層体100は18層で形成されるが、図面上は絶縁体層L4と絶縁体層L5との間、絶縁体層L5と絶縁体層L6との間の層を省略して示している。
本発明の電子部品1は、異なる絶縁体層L3,L7,L9,L11にグランド電極を備える構造である。第1グランド電極10a(GND1)と第2グランド電極10b(GND4)との間に、第4グランド電極10c(GND2,GND3)を備え、それらグランド電極GND1〜4を、電気的に接続する縦列配置された複数のビアホールで構成された複数のシールドによって接続し、積層体100の内部をA〜Gの7つの領域に区画している。図中ビアホールは、グランド電極GND1〜4と繋がるものを黒丸で示し、他の接続に用いられるものを白丸で示した。
FIG. 11 is an exploded perspective view showing an outline of a stacked arrangement of circuits such as filters and baluns of electronic components according to an embodiment of the present invention. Although the
The
積層体100の上面の領域Bの上側に位置する部分には、実装電極11が形成され、増幅器用半導体素子60が実装される。領域Bと領域Cとの間には積層体100の上面から下面の第3グランド電極12まで及ぶ第1シールド30が形成され、領域Aと領域B間には第2シールド35が形成されている。他の領域間にも第2シールド35と同様に、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとを繋ぐビアホール20により、シールドが形成されており、電磁気的な区画とともに、副放熱経路として機能する。
A mounting
領域Aにはバラン80、領域Bにはフィルタ70、領域Cにはフィルタ54と整合回路50の導体パターンが形成され、領域Dにはバラン82、領域Eにはフィルタ72、領域Fにはフィルタ52の導体パターンが形成され、領域Gには整合回路45の導体パターンが形成される。
A
増幅器等への電源線路は、第1及び第2グランド電極10a、10bよりも外側の絶縁体層L2,L12に形成している。この様に複数の電源線路の積層配置する位置を限定し、前記回路ブロックを構成する導体パターンと分離することで、それぞれがノイズを受け難い構成となっている。また電源線路間には干渉が低減されるように、グランド電極と繋がるビアホールが設けられている。
The power supply line to the amplifier or the like is formed in the insulator layers L2 and L12 outside the first and
図12は積層体の上面に形成された端子電極と実装部品の配置状態を示す平面図である。 符号は図12に示した等価回路のポートに付した符号に対応するが、主要なもののみ示し、他は省略している。
積層体内の導体パターンで形成されたフィルタ70のポートBt1、整合回路50のポートM1、M2、フィルタ54のポートLt1、Lt2、整合回路45のポートA1、フィルタ72のポートBr3、フィルタ52のポートBr1,Br2は、全て積層体100の上面に形成された端子電極と接続している。従って、各回路間の電気的な接続は、実装されたチップ部品や、増幅器やスイッチ等の半導体素子との接続に用いるボンディングワイヤBWで行なわれる。
FIG. 12 is a plan view showing an arrangement state of terminal electrodes and mounted components formed on the upper surface of the laminate. The reference numerals correspond to the reference numerals assigned to the ports of the equivalent circuit shown in FIG. 12, but only the main ones are shown and the others are omitted.
Port Bt1 of
本発明の電子部品1は、異なる積層位置にある複数のグランド電極と、それらグランド電極を電気的に接続するシールドによって、積層体の内部を電磁気的にシールドされた複数の領域として区画し、各回路ブロックを構成する導体パターンを異なる領域に配置している。各領域がシールドされた状態であるので、各回路ブロックは、それぞれ他の回路からのノイズを受け難い構成となっている。この様な構成によって、複数の回路ブロックを含む積層体100であっても小型化で、回路ブロック間等の干渉を防ぎ、かつ半導体の発熱を効率よく回路基板へ放熱するのを可能としている。
The
本発明によれば、増幅器用半導体素子による発熱の放熱性を阻害することが無く、複数の回路ブロックを内蔵しても、小型でありながら電気的特性に優れる電子部品を提供することが出来る。 According to the present invention, it is possible to provide an electronic component that is small in size and excellent in electrical characteristics even if a plurality of circuit blocks are incorporated without hindering heat dissipation of heat generated by the amplifier semiconductor element.
1 電子部品
10a 第1グランド電極
10b 第2グランド電極
10c 第4グランド電極
11 実装電極
12 第3グランド電極
20 ビアホール
30 第1シールド
35 第2シールド
Claims (6)
前記積層体は、その上層側の内層に形成された第1グランド電極と、下層側の内層に形成された第2グランド電極と、上面に前記第1グランド電極と複数のビアホールで接続された増幅器用半導体素子実装用の実装電極と、下面に前記第2グランド電極と複数のビアホールで接続された第3グランド電極を備え、
更に前記積層体には、実装電極と第1グランド電極と第2グランド電極と第3グランド電極とを接続し、積層体の上下面にまで至る第1シールドと、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続する第2シールドを備え、
第1及び第2シールドは、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成され、前記積層体の第1グランド電極と第2グランド電極との間は、前記第1及び第2シールドによって少なくとも3つの領域に区画され、
第1及び第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画され、前記増幅器用半導体素子の下部に位置する第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、
前記実装電極は前記第1の領域と前記第1シールドとに重なる部分に形成されており、
前記第1シールドと前記第2シールドとを増幅器用半導体素子の放熱経路とし、
前記増幅器用半導体素子への電源線路を、前記積層体の上面と第1グランド電極との間と、前記積層体の下面と第2グランド電極との間とに設けたことを特徴とする電子部品。 An electronic component comprising a laminate including an insulator layer and a conductor pattern, and a semiconductor element for an amplifier,
The laminated body includes a first ground electrode formed in an inner layer on the upper layer side, a second ground electrode formed in an inner layer on the lower layer side, and an amplifier connected to the first ground electrode and a plurality of via holes on the upper surface. A mounting electrode for mounting a semiconductor element, and a third ground electrode connected to the second ground electrode by a plurality of via holes on the lower surface,
Furthermore, the stacked body is connected to the mounting electrode, the first ground electrode, the second ground electrode, and the third ground electrode, and the first shield extending to the upper and lower surfaces of the stacked body, the first ground electrode, and the second ground. A second shield connecting the electrode;
The first and second shields are configured by cascading via hole groups formed of via holes that are continuous in the stacking direction, and the first and second shields are provided between the first ground electrode and the second ground electrode of the stacked body. Divided into at least three areas,
A conductor pattern constituting a first circuit block is disposed in a first region defined by the first and second shields and the first and second ground electrodes, and located under the amplifier semiconductor element ,
The mounting electrode is formed in a portion overlapping the first region and the first shield,
The first shield and the second shield serve as a heat dissipation path of the amplifier semiconductor element ,
An electronic component comprising a power supply line to the amplifier semiconductor element provided between an upper surface of the multilayer body and a first ground electrode, and between a lower surface of the multilayer body and a second ground electrode. .
前記第2シールドは、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置と、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置とを異ならせて、第1、第2及び第4グランド電極と、第1シールドと第2シールドとにより区画される領域が、その平面領域において大きさが異なるように形成され、
前記第1の領域においてフィルタを構成し、第1グランド電極と第4グランド電極との間の領域にインダクタンス素子を構成する電極パターンを形成し、前記インダクタンス素子を構成する領域よりも平面領域が大きな第2グランド電極と第4グランド電極との間の領域にキャパシタンス素子を構成する電極パターンを形成したことを特徴とする請求項1に記載の電子部品。 A fourth ground electrode is provided between the first ground electrode and the second ground electrode;
The second shield is configured such that a column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is different from a column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode , The regions defined by the first, second and fourth ground electrodes, the first shield and the second shield are formed so as to have different sizes in the planar region,
A filter is configured in the first region, an electrode pattern configuring an inductance element is formed in a region between the first ground electrode and the fourth ground electrode, and a planar region is larger than a region configuring the inductance element 2. The electronic component according to claim 1, wherein an electrode pattern constituting a capacitance element is formed in a region between the second ground electrode and the fourth ground electrode .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010233189A JP5630697B2 (en) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | Electronic components |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010233189A JP5630697B2 (en) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | Electronic components |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012089590A JP2012089590A (en) | 2012-05-10 |
JP5630697B2 true JP5630697B2 (en) | 2014-11-26 |
Family
ID=46260924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010233189A Active JP5630697B2 (en) | 2010-10-18 | 2010-10-18 | Electronic components |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5630697B2 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10056323B2 (en) | 2014-04-24 | 2018-08-21 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
JP6541528B2 (en) * | 2015-09-17 | 2019-07-10 | 富士通コンポーネント株式会社 | Optical receiving module and method of manufacturing optical receiving module |
JP6609633B2 (en) | 2015-10-15 | 2019-11-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Semiconductor device |
JP6710606B2 (en) | 2016-08-23 | 2020-06-17 | 株式会社村田製作所 | High frequency amplifier module |
JP6702083B2 (en) | 2016-08-23 | 2020-05-27 | 株式会社村田製作所 | High frequency amplifier module |
JP6934378B2 (en) * | 2017-09-22 | 2021-09-15 | ダイヤモンド電機株式会社 | Power supply board |
WO2023026848A1 (en) * | 2021-08-23 | 2023-03-02 | 株式会社村田製作所 | Antenna module |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07202477A (en) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Nec Corp | Printed board for improving electromagnetic wave interference |
JP2003273520A (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-26 | Tdk Corp | Laminate module |
JP2004128288A (en) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device and electronic apparatus |
JP2004297456A (en) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Kyocera Corp | High frequency module |
JP2005123909A (en) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Kyocera Corp | High-frequency module and communication equipment using the same |
JP2006049602A (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device and its manufacturing method |
JP4978265B2 (en) * | 2007-03-23 | 2012-07-18 | 三菱電機株式会社 | High frequency module |
US8179306B2 (en) * | 2007-04-13 | 2012-05-15 | Kyocera Corporation | High-frequency circuit board, high-frequency circuit module, and radar apparatus |
-
2010
- 2010-10-18 JP JP2010233189A patent/JP5630697B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012089590A (en) | 2012-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5799959B2 (en) | Electronic components | |
KR100880800B1 (en) | High frequency module | |
KR100463092B1 (en) | Multilayer ceramic device | |
JP5630697B2 (en) | Electronic components | |
US7978031B2 (en) | High frequency module provided with power amplifier | |
KR100643412B1 (en) | Front end module | |
US9287845B2 (en) | Bandpass filter, high-frequency device and communications apparatus | |
WO2013008435A1 (en) | Circuit module | |
JP5796579B2 (en) | Laminated electronic component with filter and balun | |
JP2001189605A (en) | Ceramic laminated rf device | |
JP5041285B2 (en) | High frequency components | |
JP2005268878A (en) | Antenna duplexer | |
JP2005102098A (en) | High-frequency module and radio communication device using the same | |
JP6620885B2 (en) | Circuit board with composite parts and composite parts | |
JP2007036315A (en) | High frequency electric component | |
JP2012222491A (en) | Module | |
JP4936119B2 (en) | Multilayer balun transformer and high frequency components | |
JP2005079885A (en) | High frequency module and radio communication equipment | |
JP2010087830A (en) | Multi-layered band pass filter and high frequency module | |
JP5084678B2 (en) | Power divider circuit, element thereof, and circuit board and circuit module provided with the circuit | |
JP5382507B2 (en) | Filter module and communication device | |
JP5267913B2 (en) | High frequency components | |
JP4396745B2 (en) | High frequency module | |
JP2013211605A (en) | High frequency module | |
JP2006211199A (en) | High frequency module and wireless communication apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130612 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140422 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140912 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140925 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5630697 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |