JP5630697B2 - Electronic components - Google Patents

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Description

本発明は無線通信装置に用いられる電子部品に関するものであり、特には増幅器用半導体素子とフィルタ等の高周波回路を小型に構成した電子部品に関する。   The present invention relates to an electronic component used in a wireless communication apparatus, and more particularly to an electronic component in which a high-frequency circuit such as an amplifier semiconductor element and a filter is configured in a small size.

図13は無線通信装置の回路ブロック例であって、無線LAN(Local Area Network)用の無線通信装置の高周波回路部を示す。
アンテナANTに接続され、送信回路TXと受信回路RXとの接続を切り替える高周波スイッチSWと、周波数f1の送信信号が通過する経路に、アンテナANTから順に、フィルタFIL2、増幅器PA、フィルタFIL1、バランBAL1が接続され、周波数f2の受信信号が通過する経路に、アンテナANTから順に、フィルタFIL4、ローノイズアンプLNA、フィルタFIL3、バランBAL2が接続される。
FIG. 13 is an example of a circuit block of a wireless communication device, and shows a high-frequency circuit unit of a wireless communication device for a wireless LAN (Local Area Network).
A filter FIL2, an amplifier PA, a filter FIL1, and a balun BAL1 are sequentially connected from the antenna ANT to a high-frequency switch SW that is connected to the antenna ANT and switches a connection between the transmission circuit TX and the reception circuit RX, and a path through which a transmission signal of the frequency f1 passes. Are connected in order from the antenna ANT to the path through which the reception signal of the frequency f2 passes. The filter FIL4, the low noise amplifier LNA, the filter FIL3, and the balun BAL2 are connected.

携帯電話等の無線通信装置の分野においては、無線通信装置自体の小型化が著しく、それに伴って、高周波回路部、及びそこに用いられる電子部品もまた小型化が急速に進んでいる。電子部品の小型化の一例として特許文献1には、多層基板に増幅器用半導体素子等の構成部品を搭載した混成集積回路装置が開示されている。
図14は混成集積回路装置1000(電子部品)の断面図である。増幅器用半導体素子1550は多層基板1120のキャビティ部の実装電極1050に搭載・半田付けされ、ボンディングワイヤ1600により多層基板1120の表層の端子電極1300と接続し、樹脂1540により封止されている。リアクタンス素子、抵抗などの実装部品1500,1510は多層基板1120の表面に搭載され、それらは金属キャップ2000で覆われている。
多層基板1120の内層には線路導体1200等が設けられ、表層に設けた実装部品1500,1510とビアホール1310や接続線路等を介して接続されている。そして増幅器用半導体素子1550の下部の略全体には複数のサーマルビア1010が設けられている。サーマルビア1010は 前記実装電極1050と、多層基板1120の下面側に設けられたグランド電極1100と接続される。
In the field of wireless communication devices such as cellular phones, the size of wireless communication devices themselves has been remarkably reduced, and accordingly, high-frequency circuit units and electronic components used therein have also been rapidly reduced in size. As an example of downsizing of electronic components, Patent Document 1 discloses a hybrid integrated circuit device in which components such as amplifier semiconductor elements are mounted on a multilayer substrate.
FIG. 14 is a cross-sectional view of the hybrid integrated circuit device 1000 (electronic component). The amplifier semiconductor element 1550 is mounted and soldered to the mounting electrode 1050 in the cavity portion of the multilayer substrate 1120, is connected to the terminal electrode 1300 on the surface layer of the multilayer substrate 1120 by a bonding wire 1600, and is sealed with a resin 1540. Mounting components 1500 and 1510 such as reactance elements and resistors are mounted on the surface of the multilayer substrate 1120, and are covered with a metal cap 2000.
A line conductor 1200 or the like is provided on the inner layer of the multilayer substrate 1120, and is connected to mounting components 1500 and 1510 provided on the surface layer via via holes 1310 or connection lines. A plurality of thermal vias 1010 are provided in substantially the entire lower portion of the amplifier semiconductor element 1550. The thermal via 1010 is connected to the mounting electrode 1050 and the ground electrode 1100 provided on the lower surface side of the multilayer substrate 1120.

一般的に増幅器用半導体素子は消費電力が大きいので、発熱対策として多層基板にはサーマルビアが必須である。図14に示した様にサーマルビア1010は増幅器用半導体素子1550の下部の大半を占めるため、その領域には他の回路を設けることが出来ず、電子部品の小型化を阻害していた。   In general, amplifier semiconductor elements consume a large amount of power, so thermal vias are essential for multilayer substrates as a countermeasure against heat generation. As shown in FIG. 14, since the thermal via 1010 occupies most of the lower portion of the amplifier semiconductor element 1550, no other circuit can be provided in that region, which hinders downsizing of electronic components.

この様な課題に対して、図14に示す引用文献2に開示された高周波モジュール(電子部品)1000では、多層基板1120の上面にパワーアンプIC(増幅器用半導体素子)1550を実装し、多層基板1120の内層に形成されたフィルタ1180をパワーアンプIC1550の略直下に配置し、フィルタ1180の多数のグランドビアホールをパワーアンプ用のサーマルビア1030として用いることが開示されている。この様な構成であれば、引用文献1のサーマルビアの様に、全ての層を貫通して上面の実装電極1050と下面側のグランド電極1100とを接続する必要が無く、ビアホールの総数も少なくすることができるので、高周波モジュールを小型化することが出来るとしている。   In response to such a problem, in the high frequency module (electronic component) 1000 disclosed in the cited document 2 shown in FIG. 14, a power amplifier IC (amplifier semiconductor element) 1550 is mounted on the upper surface of the multilayer substrate 1120, and the multilayer substrate It is disclosed that a filter 1180 formed in the inner layer of 1120 is disposed almost directly under a power amplifier IC 1550 and a number of ground via holes of the filter 1180 are used as thermal vias 1030 for the power amplifier. With such a configuration, unlike the thermal via of the cited document 1, it is not necessary to connect the upper mounting electrode 1050 and the lower ground electrode 1100 through all the layers, and the total number of via holes is small. Therefore, the high-frequency module can be reduced in size.

特開平09−116091号公報JP 09-116091 A 特開2009−182903号公報JP 2009-182903 A

引用文献2に開示された電子部品の様に、増幅器用半導体素子の下部にフィルタやバランなどの他の回路ブロックを配置すれば電子部品を小型に構成することが可能である。しかしながら、従来の様なサーマルビアを使用せず、回路ブロックのビアホール、特にはグランドと接続するグランドビアを用いて放熱効果を得るには、多数のグランドビアが必要となる。
そのため回路ブロックの回路構成や回路素子を構成する導体パターンの形状や積層配置など著しく限定されてしまい、構成も複雑化すると言う課題がある。また高周波特性とともに放熱性能を考慮した回路と構成が必要となり、高周波回路の設計をより一層困難なものとしている。
Like the electronic component disclosed in the cited document 2, if another circuit block such as a filter or a balun is disposed under the amplifier semiconductor element, the electronic component can be made compact. However, in order to obtain a heat radiation effect using a via hole of a circuit block, in particular, a ground via connected to the ground without using a conventional thermal via, a large number of ground vias are required.
Therefore, the circuit configuration of the circuit block, the shape of the conductor pattern constituting the circuit element, the lamination arrangement, and the like are significantly limited, and there is a problem that the configuration becomes complicated. In addition, a circuit and a configuration that take heat dissipation performance into consideration along with high-frequency characteristics are required, making the design of a high-frequency circuit even more difficult.

近年、増幅器用半導体素子の小型化が進み発熱量も増加している。半導体素子の小型化に伴って積層体上面の実装電極と面する面積が減少し、回路ブロックのグランドビアによる放熱では十分な効果が得られず、熱抵抗の増加が顕著になり、増幅器用半導体素子の効率が低下してしまうと言う問題もある。   In recent years, semiconductor devices for amplifiers have been miniaturized and the amount of heat generated has also increased. With the miniaturization of semiconductor elements, the area facing the mounting electrode on the top of the stack decreases, and heat dissipation by the ground via of the circuit block cannot provide a sufficient effect, and the increase in thermal resistance becomes noticeable. There is also a problem that the efficiency of the element is lowered.

また、高周波回路の送信経路の増幅器用半導体素子と、受信経路の増幅器用半導体素子(ローノイズアンプ用)とを一つの積層体の上面に近接して配置したり、高周波回路のマルチバンド化に伴って、異なる周波数帯の高周波信号を扱う増幅器用半導体素子を近接して配置したりする場合がある。
表面弾性波やバルク弾性波を利用した弾性波素子を増幅器用半導体素子と近接して配置し、フィルタやデュプレクサ、ダイプレクサとして用いる場合には、十分な放熱特性が確保されなければ弾性波素子のフィルタ特性が変化するといった問題もあった。
更に積層体に3つ以上の回路ブロックを構成する場合には、アイソレーションの問題についても考慮する必要があった。
そこで本発明では、小型でありながら増幅器用半導体素子による発熱の放熱性に優れ、電気的特性に優れる電子部品を提供することを目的とする
Also, the amplifier semiconductor element in the transmission path of the high-frequency circuit and the amplifier semiconductor element (for low-noise amplifier) in the reception path are arranged close to the upper surface of one stacked body, or the multi-band of the high-frequency circuit In some cases, amplifier semiconductor elements that handle high-frequency signals in different frequency bands are arranged close to each other.
When an acoustic wave element using surface acoustic waves or bulk acoustic waves is placed close to a semiconductor element for an amplifier and used as a filter, duplexer, or diplexer, a filter for the acoustic wave element is required unless sufficient heat dissipation characteristics are secured. There was also a problem that the characteristics changed.
Furthermore, when three or more circuit blocks are formed in the laminate, it is necessary to consider the problem of isolation.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an electronic component that is excellent in heat dissipation of heat generated by a semiconductor element for an amplifier and excellent in electrical characteristics while being small.

第1の発明は、絶縁体層と導体パターンとを含む積層体と、増幅器用半導体素子とを備えた電子部品であって、前記積層体は、その上層側の内層に形成された第1グランド電極と、下層側の内層に形成された第2グランド電極と、上面に前記第1グランド電極と複数のビアホールで接続された増幅器用半導体素子実装用の実装電極と、下面に前記第2グランド電極と複数のビアホールで接続された第3グランド電極を備え、更に前記積層体には、実装電極と第1グランド電極と第2グランド電極と第3グランド電極とを接続し、積層体の上下面にまで至る第1シールドと、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続する第2シールドを備え、第1及び第2シールドは、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成され、前記積層体の第1グランド電極と第2グランド電極との間は、前記第1及び第2シールドによって少なくとも3つの領域に区画され、第1及び第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画され、前記増幅器用半導体素子の下部に位置する第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、前記実装電極は前記第1の領域と前記第1シールドとに重なる部分に形成されており、前記第1シールドと前記第2シールドとを増幅器用半導体素子の放熱経路とし、前記増幅器用半導体素子への電源線路を、前記積層体の上面と第1グランド電極との間と、前記積層体の下面と第2グランド電極との間とに設けたことを特徴とする電子部品である。 According to a first aspect of the present invention, there is provided an electronic component comprising a multilayer body including an insulator layer and a conductor pattern, and an amplifier semiconductor element, wherein the multilayer body is formed in an inner layer on the upper layer side. electrode and a second ground electrode formed on the inner layer of the lower layer side, and a mounting electrode for connection to an amplifier semiconductor element mounting that in the first ground electrode and a plurality of via holes on the upper surface, the the lower surface second ground electrode And a third ground electrode connected by a plurality of via holes, and further, a mounting electrode, a first ground electrode, a second ground electrode, and a third ground electrode are connected to the stacked body, and the upper and lower surfaces of the stacked body are connected to each other. And a second shield connecting the first ground electrode and the second ground electrode, and the first and second shields are configured by cascading via hole groups including via holes that are continuous in the stacking direction. The first ground electrode and the second ground electrode of the laminate are partitioned into at least three regions by the first and second shields, and partitioned by the first and second shields and the first and second ground electrodes. In the first region located below the amplifier semiconductor element, a conductor pattern constituting a first circuit block is disposed, and the mounting electrode is disposed on a portion overlapping the first region and the first shield. The first shield and the second shield are used as a heat dissipation path of the amplifier semiconductor element, and a power supply line to the amplifier semiconductor element is provided between the upper surface of the stacked body and the first ground electrode. The electronic component is provided between the lower surface of the multilayer body and the second ground electrode .

増幅器用半導体素子の下方に位置する積層体内の第1の領域は、第1及び第2グランド電極と、第1及び第2シールドによって電磁気的な干渉から保護される。第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、例えばフィルタ、バラン、あるいはフィルタとバランが複合されたフィルタバラン等の回路の何れかが形成される。
本発明によれば、増幅器用半導体素子の下方の区画された領域を有効に利用することにより電子部品の小型化が可能であり、電気的特性に優れた設計も比較的容易である。よって、第1回路ブロックとして構成される電気回路の特性を劣化させることが無く、優れた電子部品を提供することが出来る。なお本発明においては、第1回路ブロックにグランドビアを設けることは妨げない。
The first region in the stack located below the amplifier semiconductor element is protected from electromagnetic interference by the first and second ground electrodes and the first and second shields. In the first region, a conductor pattern constituting the first circuit block is disposed, and for example, a circuit such as a filter, a balun, or a filter balun in which a filter and a balun are combined is formed.
According to the present invention, it is possible to reduce the size of an electronic component by effectively utilizing the partitioned region below the amplifier semiconductor element, and it is relatively easy to design with excellent electrical characteristics. Therefore, it is possible to provide an excellent electronic component without deteriorating the characteristics of the electric circuit configured as the first circuit block. In the present invention, it is not hindered to provide a ground via in the first circuit block.

本発明において増幅器用半導体素子による発熱は、第1シールドと第2シールドにより対策される。前記第1シールドは、増幅器用半導体素子を搭載する実装電極と積層体の下面の第3グランド電極とを繋ぐ、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成されており、主に回路基板側への熱伝導を担う経路となっている。第1シールドは増幅器用半導体素子の信号出力側に設けられている。放熱性を高めるのにビアホール群の列数を複数としても良いし、ビアホールの径を信号経路となるビアホールよりも大きくするなどしても良い。   In the present invention, heat generated by the semiconductor element for amplifier is countered by the first shield and the second shield. The first shield is configured by cascading via hole groups each including a via hole that is continuous in the stacking direction and connects the mounting electrode on which the amplifier semiconductor element is mounted and the third ground electrode on the lower surface of the stack. It is a path responsible for heat conduction to the substrate side. The first shield is provided on the signal output side of the amplifier semiconductor element. In order to improve heat dissipation, the number of via hole groups may be plural, or the diameter of the via holes may be larger than the via holes serving as signal paths.

本発明においては、第2シールドを副放熱経路として用いて放熱性を高めている。副放熱経路は、実装電極と第1グランド電極とを繋ぐ複数のビアホールと、第2グランド電極と第3グランド電極とを繋ぐ複数のビアホールと、第2シールドとで構成される。第2シールドは、積層方向に連なり、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続するビアホールでなるビアホール群を縦列して構成されている。このため、第1及び第2グランド電極間の副放熱経路として有効に機能させることが出来る。
第2シールドは増幅器用半導体素子とは積層方向に重ならない位置に配置され、第1の領域を大きく確保している。但し、増幅器用半導体素子から離れるに従い放熱への寄与が小さくなるので、その効果も考慮しながら配置位置を決定するのが好ましい。
In the present invention, heat dissipation is enhanced by using the second shield as a secondary heat dissipation path. The sub heat dissipation path is configured by a plurality of via holes that connect the mounting electrode and the first ground electrode, a plurality of via holes that connect the second ground electrode and the third ground electrode, and a second shield. The second shield is formed by cascading via hole groups each including a via hole that connects the first ground electrode and the second ground electrode, and is continuous in the stacking direction. For this reason, it can function effectively as a sub heat dissipation path between the first and second ground electrodes.
The second shield is disposed at a position that does not overlap the amplifier semiconductor element in the stacking direction, and ensures a large first region. However, since the contribution to heat dissipation becomes smaller as the distance from the amplifier semiconductor element increases, it is preferable to determine the arrangement position in consideration of the effect.

本発明においては、前記第1グランド電極と前記第2グランド電極との間に第4グランド電極を設けても良い。第4グランド電極は、第1グランド電極と第2グランド電極の様に絶縁体層の略全面に広がる形態でなくても良く、絶縁体層の一面の一部に設けたり、一面において分割して設けたりする場合もある。また、前記第1グランド電極と前記第2グランド電極との間に配置されるグランド電極の数は一層に限定されず、複数の絶縁体層に設けられる場合を含む。
更に、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置と、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置とを異ならせて、前記第2シールドを形成するのも好ましい。例えば、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置を増幅器用半導体素子の近傍とし、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置を相対的に遠方として異ならせれば、第2シールドの放熱効果の低下を防ぎながら、第1の領域の大きさを確保できる。
前記第1の領域において、第1グランド電極と第4グランド電極との間には、比較的、小さな平面領域でも形成可能なストリップ線路用又はインダクタンス用の導体パターンを配置し、第2グランド電極と第4グランド電極との間には、形成に比較的大きな平面領域が必要なキャパシタンス用の導体パターンを配置することで、第1の領域を有効に利用する事が出来る。
In the present invention, a fourth ground electrode may be provided between the first ground electrode and the second ground electrode. The fourth ground electrode does not have to have a form that extends over substantially the entire surface of the insulator layer like the first ground electrode and the second ground electrode, and is provided on a part of one surface of the insulator layer or divided on one surface. It may be provided. In addition, the number of ground electrodes disposed between the first ground electrode and the second ground electrode is not limited to one layer, and includes a case where the ground electrodes are provided on a plurality of insulator layers.
Further, the second shield is configured such that a column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is different from a column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode. It is also preferable to form For example, the column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is set near the amplifier semiconductor element, and the column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode is relatively set. If the distance is changed to be far away, the size of the first region can be secured while preventing the heat dissipation effect of the second shield from being lowered.
In the first region, between the first ground electrode and the fourth ground electrode, a strip line or inductance conductor pattern that can be formed even in a relatively small planar region is disposed, and the second ground electrode By arranging a conductor pattern for capacitance that requires a relatively large planar area for formation between the fourth ground electrode, the first area can be used effectively.

本発明においては、第1シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第2の領域に、第2回路ブロックを構成する導体パターンを配置するのが好ましい。第2回路ブロックはフィルタ、整合回路、方向性結合器、高周波スイッチなどの回路である。 また第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第3の領域には、第3回路ブロックを構成する導体パターンを配置するのが好ましい。第3回路ブロックはバラン、フィルタなどの回路である。 前記第1回路ブロックと前記第3回路ブロックとが接続されてなく、前記積層体の下面には複数の端子電極が形成されており、そのうちの一つに第1回路ブロックの入力ポートが接続され、他の一つに第3回路ブロックの出力ポートが接続される。 In the present invention, it is preferable to arrange a conductor pattern constituting the second circuit block in the second region partitioned by the first shield and the first and second ground electrodes. The second circuit block is a circuit such as a filter, a matching circuit, a directional coupler, and a high frequency switch. In addition, it is preferable to arrange a conductor pattern constituting the third circuit block in the third region defined by the second shield and the first and second ground electrodes. The third circuit block is a circuit such as a balun or a filter. The first circuit block and the third circuit block are not connected, and a plurality of terminal electrodes are formed on the lower surface of the laminate, and one of the input ports of the first circuit block is connected to one of them. The other one is connected to the output port of the third circuit block.

本発明においては、積層体の第2の領域、又は第3の領域と重なる上面に、弾性波素子を搭載するのも好ましい。弾性波素子は、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ、FBAR(film bulk acoustic resonator)型、SMR(solid mounted resonator)型などのBAW (bulk acoustic wave filter)フィルタを構成するものである。   In the present invention, it is also preferable to mount an acoustic wave element on the upper surface overlapping the second region or the third region of the laminate. The acoustic wave element is a SAW (Surface Acoustic Wave) filter, FBAR (Film Bulk Acoustic Resonator) type, SMR (Solid Mounted Resonator) type, or other BAW (bulk acoustic wave) filter.

本発明によれば、増幅器用半導体素子による発熱の放熱性を阻害することが無く、複数の回路ブロックを内蔵しても、小型でありながら電気的特性に優れる電子部品を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide an electronic component that is small in size and excellent in electrical characteristics even if a plurality of circuit blocks are incorporated without hindering heat dissipation of heat generated by the amplifier semiconductor element.

本発明の一実施態様に係る電子部品の上面図である。It is a top view of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施態様に係る電子部品のX−X’断面図である。It is X-X 'sectional drawing of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施態様に係る電子部品の内層構造を示す絶縁層の一部を拡大した平面図である。It is the top view which expanded a part of insulating layer which shows the inner layer structure of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施態様に係る電子部品の内層構造を示す絶縁層の一部を拡大した他の平面図である。It is the other top view which expanded a part of insulating layer which shows the inner layer structure of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施態様に係る電子部品の構成を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows the structure of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施態様に係る電子部品の構成を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the structure of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の断面図である。It is sectional drawing of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の構成を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the structure of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の下面側の平面図である。It is a top view of the lower surface side of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の内部構造を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the internal structure of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 本発明の他の実施態様に係る電子部品の上面側の平面図である。It is a top view of the upper surface side of the electronic component which concerns on the other embodiment of this invention. 無線通信装置の高周波回路部の構成例を示す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram which shows the structural example of the high frequency circuit part of a radio | wireless communication apparatus. 従来の電子部品の内部構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the internal structure of the conventional electronic component. 従来の電子部品の他の内部構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other internal structure of the conventional electronic component.

本発明について以下図を用いて詳細に説明する。図1は本発明の一実施態様に係る電子部品の上面図であり、図2はその断面図であり、図3及び図4は電子部品を構成する積層体の内層構造の一例を示す部分平面図である。また、図5は電子部品の構成を示す回路ブロック図であり、図6はその等価回路図である。
本発明の電子部品は、絶縁体層と導体パターンとを含む積層体と、その面上に搭載された増幅器用半導体素子やチップ部品とで構成される。絶縁体層としては、誘電体セラミックス、樹脂、樹脂とセラミックとの複合材を用いることが可能である。積層体化は公知の工法を用いて行なわれ、例えば誘電体セラミックスを用いる場合にはLTCC(低温同時焼成セラミック)技術や、HTCC(高温同時焼成セラミック)技術により、樹脂等ではビルドアップ技術による。
The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a top view of an electronic component according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view thereof, and FIGS. 3 and 4 are partial plan views showing an example of an inner layer structure of a laminate constituting the electronic component. FIG. FIG. 5 is a circuit block diagram showing the configuration of the electronic component, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram thereof.
The electronic component of the present invention includes a laminated body including an insulator layer and a conductor pattern, and an amplifier semiconductor element and a chip component mounted on the surface. As the insulator layer, dielectric ceramics, resin, or a composite material of resin and ceramic can be used. Laminating is performed using a known method. For example, when dielectric ceramics are used, LTCC (low temperature co-fired ceramic) technology or HTCC (high temperature co-fired ceramic) technology is used.

LTCC技術であれば、積層体100は、例えば絶縁体層として、1000℃以下の低温で焼結可能なセラミック誘電体からなり、AgやCu等の導電ペーストを印刷して所定の導体パターンを形成した厚さ10〜200μmの複数のセラミックグリーンシートを用い、これを積層し、一体的に焼結することにより形成することができる。
低温で焼結可能なセラミック誘電体としては、例えばAl,Si及びSrを主成分として、Ti,Bi,Cu,Mn,Na,K等を副成分とするセラミックス、Al,Mg,Si及びGdを含むセラミックス、Al,Si,Zr及びMgを含むセラミックスが挙げられる。
In the case of LTCC technology, the laminate 100 is made of, for example, a ceramic dielectric that can be sintered at a low temperature of 1000 ° C. or less as an insulator layer, and a conductive paste such as Ag or Cu is printed to form a predetermined conductor pattern. The plurality of ceramic green sheets having a thickness of 10 to 200 μm are used, stacked, and sintered integrally.
Examples of ceramic dielectrics that can be sintered at low temperatures include ceramics having Al, Si, and Sr as main components and Ti, Bi, Cu, Mn, Na, K, etc. as auxiliary components, Al, Mg, Si, and Gd. And ceramics containing Al, Si, Zr and Mg.

積層体100は、増幅器用半導体素子やチップ部品を実装する上面と、端子電極等が形成された下面を有する。上面側(上層側とも呼ぶ)の内層に第1グランド電極10aが形成され、下面側(下層側とも呼ぶ)の内層には第2グランド電極10bが形成されている。
図1に示す様に、積層体100の上面には増幅器用半導体素子60やチップ部品90を搭載したり、ワイヤボンディングしたりするための端子電極が形成されている。増幅器用半導体素子60を実装するための実装電極11には、そのほぼ一面に複数のビアホール20が設けられている。なお図中、増幅器用半導体素子60を破線で、ボンディングワイヤBWを点線で示して透過し、その下側の実装電極11のビアホール20を、黒丸とXに丸とで示して配置を明確にしている。
一般にビアホールは電気的接続や放熱に利用され、その中には専ら金属導体が充填されている。金属導体は密に充填された状態が好ましいが、利用目的を阻害しない範囲であれば中空部分を有していても構わない。
The laminated body 100 has an upper surface on which an amplifier semiconductor element and a chip component are mounted, and a lower surface on which terminal electrodes and the like are formed. A first ground electrode 10a is formed on the inner layer on the upper surface side (also referred to as the upper layer side), and a second ground electrode 10b is formed on the inner layer on the lower surface side (also referred to as the lower layer side).
As shown in FIG. 1, terminal electrodes for mounting the amplifier semiconductor element 60 and the chip component 90 and wire bonding are formed on the upper surface of the laminate 100. The mounting electrode 11 for mounting the amplifier semiconductor element 60 is provided with a plurality of via holes 20 on almost one surface thereof. In the figure, the amplifier semiconductor element 60 is indicated by a broken line, the bonding wire BW is indicated by a dotted line, and the via hole 20 of the lower mounting electrode 11 is indicated by a black circle and a circle in X to clarify the arrangement. Yes.
Generally, a via hole is used for electrical connection and heat dissipation, and it is filled exclusively with a metal conductor. The metal conductor is preferably packed tightly, but may have a hollow portion as long as the purpose of use is not impaired.

第1及び第2グランド電極10a,10bは、絶縁体層の表面のほぼ全面を覆う導体パターンで形成され、第3グランド電極12は積層体100の下面の中央部を含む領域を広く覆う導体パターンで形成されている。
第3グランド電極12の周囲には、回路基板に実装するための端子電極95が形成されている。端子電極95は入出力ポートP1,P2+,P2−、グランドポート、電源ポートVcc1,Vcc2,Vatt,Vb,Vd等としての電気的機能も有する。
本実施態様では、入出力端子P1は不平衡端であり、入出力端子P2+、P2−は平衡端である。また下面の端子電極をLGA(Land Grid Array)としているが、BGA(Ball Grid Array)等も採用することが出来るし、積層体の側面に設けた端子構造であっても良い。
The first and second ground electrodes 10a and 10b are formed in a conductor pattern that covers almost the entire surface of the insulator layer, and the third ground electrode 12 is a conductor pattern that covers a wide area including the central portion of the lower surface of the multilayer body 100. It is formed with.
A terminal electrode 95 for mounting on the circuit board is formed around the third ground electrode 12. The terminal electrode 95 also has electrical functions as input / output ports P1, P2 +, P2-, ground ports, power supply ports Vcc1, Vcc2, Vatt, Vb, Vd and the like.
In this embodiment, the input / output terminal P1 is an unbalanced end, and the input / output terminals P2 + and P2- are balanced ends. Further, although the terminal electrode on the lower surface is LGA (Land Grid Array), BGA (Ball Grid Array) or the like can also be adopted, and a terminal structure provided on the side surface of the laminated body may be used.

図2のX−X’断面図に示す様に、実装電極11は第1グランド電極10aと複数のビアホール20で接続される。また積層体100の下面には回路基板に実装するための端子電極95、第3グランド電極12が形成され、第3グランド電極12は第2グランド電極10bと複数のビアホール20で接続される。第2グランド電極10bはビアホールでグランドポートとして機能する端子電極95と接続する。
ビアホール20の一部は、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を構成している。積層体の上下面にまで至る第1シールド30は、ビアホール群を縦列して、実装電極11と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bと第3グランド電極12とを接続し構成される。図1においては、他のビアホールよりも密に縦列配置され、3列に並んだ黒丸で示したビアホール20が第1シールド30を構成する。
第1シールド30は、増幅器用半導体素子60の信号出力側の下部にあり、実装電極11の面積の1/2を超えない領域に形成されている。増幅器用半導体素子60の信号出力側は他の部位よりも相対的に発熱を生じ易いため、その下部に第1シールド30を設けることで、回路基板への放熱効果を増している。
As shown in the XX ′ sectional view of FIG. 2, the mounting electrode 11 is connected to the first ground electrode 10 a by a plurality of via holes 20. A terminal electrode 95 and a third ground electrode 12 for mounting on the circuit board are formed on the lower surface of the multilayer body 100, and the third ground electrode 12 is connected to the second ground electrode 10 b through a plurality of via holes 20. The second ground electrode 10b is connected to a terminal electrode 95 functioning as a ground port through a via hole.
A part of the via hole 20 constitutes a via hole group including via holes continuous in the stacking direction. The first shield 30 reaching the upper and lower surfaces of the multilayer body is configured by connecting the mounting electrode 11, the first ground electrode 10 a, the second ground electrode 10 b, and the third ground electrode 12 in cascade via hole groups. In FIG. 1, the via holes 20 shown in black circles arranged more closely in columns than other via holes and arranged in three rows constitute the first shield 30.
The first shield 30 is below the signal output side of the amplifier semiconductor element 60 and is formed in a region that does not exceed 1/2 of the area of the mounting electrode 11. Since the signal output side of the amplifier semiconductor element 60 is more likely to generate heat than other parts, the heat radiation effect to the circuit board is increased by providing the first shield 30 below the part.

本発明では、更に第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとを接続する第2シールド35を備えている。図3は第1グランド電極10aが形成された絶縁体層S1の一部を示す平面部分拡大図であり、図4は第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間に位置する絶縁体層S2の一部を示す平面部分拡大図である。
第2シールド35は第1シールド30と同様に、積層方向に連なるビアホール20でなるビアホール群を縦列して構成される。図3及び図4においては、第1シールド30を構成するビアホール20を黒丸、第2シールド35を構成するビアホール20を格子に丸、第1回路ブロックを構成する導体パターンと接続するビアホールを×に丸、高周波信号や半導体の制御信号の経路等となるビアホール21を白丸で示している。ビアホール21や、グランド電極を有さない層に構成されるビアホール20は、グランド電極を有する層のビアホール20と比較し、大径のビアホールとしている。
第2シールド35は第1シールド30とは所定の間隔をもって形成され、増幅器用半導体素子60とは積層方向に重ならない位置に設けられる。ここでは略並行に構成されるが特には限定されず、縦列も直線状で無くても構わない。
The present invention further includes a second shield 35 for connecting the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b. FIG. 3 is an enlarged partial plan view showing a part of the insulator layer S1 on which the first ground electrode 10a is formed, and FIG. 4 is an insulator located between the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b. It is a plane partial enlarged view showing a part of layer S2.
Similar to the first shield 30, the second shield 35 is configured by cascading via hole groups including the via holes 20 that are continuous in the stacking direction. 3 and 4, the via holes 20 constituting the first shield 30 are black circles, the via holes 20 constituting the second shield 35 are circled in a lattice, and the via holes connected to the conductor pattern constituting the first circuit block are ×. Circles, via holes 21 serving as paths for high-frequency signals and semiconductor control signals are indicated by white circles. The via hole 21 and the via hole 20 configured in a layer having no ground electrode are larger-diameter via holes than the via hole 20 having a layer having a ground electrode.
The second shield 35 is formed at a predetermined interval from the first shield 30 and is provided at a position that does not overlap with the amplifier semiconductor element 60 in the stacking direction. Here, it is configured substantially in parallel, but is not particularly limited, and the columns may not be linear.

第1シールド30及び第2シールド35と、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより、積層体100は、少なくとも3つの領域(第1の領域71、第2の領域51、第3の領域81)に区画される。
第1グランド電極10a及び第2グランド電極10bは、絶縁体層S2の表面をほぼ全面を覆う導体パターンで形成されるが、信号経路の層間の接続を担うビアホール21の周囲や、各領域に配置される導体パターンとの間で無用な寄生容量が生じる部分は、導体パターンが除かれて形成される。
The stacked body 100 includes at least three regions (a first region 71, a second region 51, and a third region) by the first shield 30 and the second shield 35, and the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b. An area 81) is partitioned.
The first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b are formed in a conductor pattern that covers almost the entire surface of the insulator layer S2, but are arranged around the via hole 21 that carries the connection between the layers of the signal path and in each region. A portion where unnecessary parasitic capacitance is generated between the conductive pattern and the conductive pattern is formed by removing the conductive pattern.

第1シールド30と第2シールド35とに挟まれた第1の領域71は、実装電極11の下部に位置する。そこには高周波回路を構成する第1回路ブロック70を構成する導体パターンが配置される。第1シールド30と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより区画された第2の領域51には第2回路ブロック50を構成する導体パターンが配置される。また第2シールド35と第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとにより区画された第3の領域81には第3回路ブロック80を構成する導体パターンが配置される。   The first region 71 sandwiched between the first shield 30 and the second shield 35 is located below the mounting electrode 11. The conductor pattern which comprises the 1st circuit block 70 which comprises a high frequency circuit is arrange | positioned there. A conductor pattern constituting the second circuit block 50 is arranged in the second region 51 defined by the first shield 30, the first ground electrode 10a, and the second ground electrode 10b. A conductor pattern constituting the third circuit block 80 is arranged in the third region 81 defined by the second shield 35, the first ground electrode 10a, and the second ground electrode 10b.

本実施態様では、図5及び図6に示す様に、第1の領域71に構成する第1回路ブロック70をバンドパスフィルタとし、第2の領域51に構成する第2回路ブロック50をローパスフィルタとし、第3の領域81に構成する第3回路ブロック80をバランとしている。本発明においては、各領域に配置される回路ブロックは特に限定されないが、増幅器用半導体素子60の出力段側に接続される回路ブロックは、専らフィルタや整合回路であり、入力段側にはフィルタ、バラン、あるいはそれらの機能を複合したフィルタバランが配置される場合が多い。   In this embodiment, as shown in FIGS. 5 and 6, the first circuit block 70 configured in the first region 71 is a band-pass filter, and the second circuit block 50 configured in the second region 51 is a low-pass filter. The third circuit block 80 configured in the third region 81 is a balun. In the present invention, the circuit block arranged in each region is not particularly limited. However, the circuit block connected to the output stage side of the amplifier semiconductor element 60 is exclusively a filter or a matching circuit, and the input stage side includes a filter. , Baluns, or filter baluns that combine these functions are often arranged.

図2においては、各領域51,71,81と下面及び上面の端子電極を繋ぐ矢印で、回路ブロック間の接続を示している。回路ブロックは、図示していないビアホールや接続線路(導体パターン)などの接続手段を介して適宜接続される。
図中左下の端子電極95は第3回路ブロック80と接続する。そして第3回路ブロック80は、第1回路ブロック70と接続する。なお、第1及び第3回路ブロック間の接続は、積層体100に設けられた接続手段を用いる場合や、積層体100では接続せずに、回路基板に設けられたフィルタ等の他の回路ブロックを介して接続する場合もある。
第1回路ブロック70は上面の端子電極Bt1と接続し、ボンディングワイヤBWを介して増幅器用半導体素子60の入力端子P1aと接続する。増幅器用半導体素子60の出力端子P1bは複数のボンディングワイヤBWにて上面の端子電極M1と接続し、端子電極M1はビアホール、第2回路ブロック50を介して、右下の端子電極95と接続する。
In FIG. 2, the connection between the circuit blocks is indicated by arrows connecting the regions 51, 71, 81 to the terminal electrodes on the lower surface and the upper surface. The circuit blocks are appropriately connected via connection means such as via holes and connection lines (conductor patterns) not shown.
The terminal electrode 95 at the lower left in the drawing is connected to the third circuit block 80. The third circuit block 80 is connected to the first circuit block 70. Note that the connection between the first and third circuit blocks is performed using connection means provided in the laminate 100, or other circuit blocks such as filters provided on the circuit board without being connected in the laminate 100. There is also a case of connecting via
The first circuit block 70 is connected to the terminal electrode Bt1 on the upper surface, and is connected to the input terminal P1a of the amplifier semiconductor element 60 via the bonding wire BW. The output terminal P1b of the amplifier semiconductor element 60 is connected to the terminal electrode M1 on the upper surface by a plurality of bonding wires BW, and the terminal electrode M1 is connected to the lower right terminal electrode 95 via the via hole and the second circuit block 50. .

各領域51、71、81は、第1及び第2シールド30,35、第1及び第2グランド電極10a,10bによって、電磁気的に区画される。また各電源端子Vcc1,Vcc2,Vatt,Vb,Vdと増幅器用半導体素子60やバラン80への電源線路は、第1グランド電極10aと積層体100の上面との間や、第2グランド電極10bと積層体100の下面との間の絶縁体層に形成されており、各領域に形成される回路ブロック間の干渉や、回路基板、搭載部品、電源線路との間の干渉を抑制する。   Each region 51, 71, 81 is electromagnetically partitioned by the first and second shields 30, 35, and the first and second ground electrodes 10a, 10b. Each power supply terminal Vcc1, Vcc2, Vatt, Vb, Vd and the power supply line to the amplifier semiconductor element 60 and the balun 80 are connected between the first ground electrode 10a and the upper surface of the laminated body 100, and the second ground electrode 10b. It is formed in an insulator layer between the lower surface of the multilayer body 100 and suppresses interference between circuit blocks formed in each region and interference between a circuit board, a mounted component, and a power line.

増幅器用半導体素子60による熱エネルギーは、専ら第1シールド30を介して回路基板に放熱されるが、一部は実装電極11の下部に設けられた複数のビアホール20と、第1グランド電極10aと、第2シールド35と、第2グランド電極10bと、第2グランド電極10bと第3グランド電極との間に設けられた複数のビアホール20を介して回路基板に放熱される。第2シールド35は密に縦列配置されたビアホールで構成されるので、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間の熱伝導を効率的に行なうことが出来る。本発明では、第1シールド30を増幅器用半導体素子の主放熱経路とするとともに、第2シールド35を副放熱経路とすることで放熱性能を高めている。   Thermal energy from the amplifier semiconductor element 60 is radiated to the circuit board exclusively through the first shield 30, but a part of the plurality of via holes 20 provided below the mounting electrode 11, the first ground electrode 10 a, The heat is radiated to the circuit board through the second shield 35, the second ground electrode 10b, and the plurality of via holes 20 provided between the second ground electrode 10b and the third ground electrode. Since the second shield 35 is formed of via holes arranged in a dense column, heat conduction between the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b can be efficiently performed. In the present invention, the first shield 30 is used as the main heat dissipation path of the semiconductor element for amplifier, and the second shield 35 is used as the sub heat dissipation path to improve the heat dissipation performance.

図7は他の実施態様の電子部品の断面図を示す。図2で示した電子部品とは、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとの間に、第4グランド電極10cを備える点で相違する。
通常、各領域に設けられる回路ブロックはリアクタンス素子によるLC回路として構成される。ストリップ線路やインダクタンス素子は電磁気的な干渉の影響を受け易く、キャパシタンス素子は、その電極パターンの形成にインダクタンス素子と比べて相対的に広い面積が必要となる。そこで、各領域を第4グランド電極10cによって分け、インダクタンス素子を構成する電極パターンと、キャパシタンス素子を構成する電極パターンを構成する電極パターンを分けて配置すれば、積層体内の限られた領域を有効に使いながら、より一層、電磁気的な干渉の影響を受け難い電子部品とすることが出来る。
FIG. 7 shows a cross-sectional view of an electronic component of another embodiment. 2 is different from the electronic component shown in FIG. 2 in that a fourth ground electrode 10c is provided between the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b.
Usually, the circuit block provided in each region is configured as an LC circuit using reactance elements. The strip line and the inductance element are easily affected by electromagnetic interference, and the capacitance element requires a relatively large area compared to the inductance element to form the electrode pattern. Therefore, if each region is divided by the fourth ground electrode 10c and the electrode pattern constituting the inductance element and the electrode pattern constituting the capacitance element are arranged separately, the limited region in the stacked body is effectively used. It is possible to make the electronic component less susceptible to the influence of electromagnetic interference.

図7では、第1の領域71において、図中上側にストリップ線路70a(インダクタンス素子)を構成する電極パターンを、下側の領域にはキャパシタンス素子70bを構成する電極パターンを構成した例を示した。第2シールド35を構成するビアホールの位置を、第1及び第4グランド電極10a,10c間と、第2及び第4グランド電極10b、10c間とで異ならせることで、ストリップ線路70aを構成する領域に無駄な部分を生じさせることが無く、またキャパシタンス素子70bを構成する平面領域を大きく確保することが出来る。第1及び第2グランド電極を繋ぐ第2シールド35の長さは長くなるが放熱性能は維持される。なお、第4グランド電極10cは、第1の領域71のみに形成しても構わない。   FIG. 7 shows an example in which, in the first region 71, an electrode pattern constituting the strip line 70a (inductance element) is formed on the upper side in the drawing, and an electrode pattern constituting the capacitance element 70b is formed on the lower region. . A region constituting the strip line 70a by making the position of the via hole constituting the second shield 35 different between the first and fourth ground electrodes 10a, 10c and between the second and fourth ground electrodes 10b, 10c. In this case, a large portion of the plane area constituting the capacitance element 70b can be secured. Although the length of the second shield 35 connecting the first and second ground electrodes is increased, the heat dissipation performance is maintained. Note that the fourth ground electrode 10 c may be formed only in the first region 71.

図8は本発明の一実施例に係る電子部品の斜視図である。この電子部品1は、無線LAN用の無線通信装置の高周波送受信回路部に用いられるものであり、複数のフィルタとバランを備えるとともに、高周波増幅器、ローノイズアンプ、高周波スイッチを積層体に実装して一体化したものである。   FIG. 8 is a perspective view of an electronic component according to an embodiment of the present invention. The electronic component 1 is used in a high frequency transmission / reception circuit unit of a wireless LAN wireless communication device, and includes a plurality of filters and a balun, and a high frequency amplifier, a low noise amplifier, and a high frequency switch are mounted on a laminate and integrated. It has become.

図9は高周波部品の等価回路図である。アンテナポートANTには、整合回路45を介してSPDT(単極双投型)の高周波スイッチ40が配置されている。送信信号の経路にはバラン80、フィルタ70、高周波増幅器60、整合回路50、フィルタ54が設けられ、受信信号の経路にはバラン82、フィルタ72、ローノイズアンプ61、フィルタ52が設けられている。高周波スイッチ40、高周波増幅器60、ローノイズアンプ61を構成するそれぞれの半導体素子は積層体100に実装され、他の回路は導体パターンにより積層体100に内蔵されている。なお、DCカットコンデンサや高周波増幅器60、ローノイズアンプ61等の整合回路など一部の回路素子は、積層体100に実装されている。 高周波増幅器60、ローノイズアンプ61、高周波スイッチ40などに用いられる半導体素子や積層体100に内蔵できないキャパシタンス等のチップ部品が、積層体100上に実装され、樹脂120で封止されている。   FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the high-frequency component. An SPDT (single pole double throw type) high frequency switch 40 is disposed in the antenna port ANT via a matching circuit 45. A balun 80, a filter 70, a high frequency amplifier 60, a matching circuit 50, and a filter 54 are provided in the path of the transmission signal, and a balun 82, a filter 72, a low noise amplifier 61, and a filter 52 are provided in the path of the reception signal. The respective semiconductor elements constituting the high-frequency switch 40, the high-frequency amplifier 60, and the low-noise amplifier 61 are mounted on the multilayer body 100, and other circuits are built in the multilayer body 100 by conductor patterns. Note that some circuit elements such as matching circuits such as a DC cut capacitor, a high frequency amplifier 60, and a low noise amplifier 61 are mounted on the laminate 100. Semiconductor elements used for the high-frequency amplifier 60, the low-noise amplifier 61, the high-frequency switch 40, and chip components such as capacitance that cannot be incorporated in the multilayer body 100 are mounted on the multilayer body 100 and sealed with a resin 120.

図10に電子部品の底面平面図を示す。下面側には複数の端子電極が形成されており、各端子電極に付与した符号は図12に示した電子部品の等価回路のポートと対応する。   FIG. 10 is a bottom plan view of the electronic component. A plurality of terminal electrodes are formed on the lower surface side, and the reference numerals given to the terminal electrodes correspond to the ports of the equivalent circuit of the electronic component shown in FIG.

下面中央の領域にはビアホールを通じて上層の第2グランド電極10b(GND4)と繋がる第3グランド電極12が設けられ、安定したグランド電位を与えるとともに、回路基板との接続強度を向上している。
各端子電極は、第3グランド電極12の周囲であって各側面側に形成されており、第1側面側にはグランドポートGNDとともに、アンテナポートANT、非接続ポートNCが形成されている。第1側面と隣り合う図下側の第2側面側には、電圧ポートVcc1,Vatt,Vb,Vcc2とともに、フィルタ70の入力ポートPa、バラン80の出力ポートPbが形成されている。第2側面と対向する図上側の第3側面側には、電圧供給端子Vcl,Vbl,Vr,Vtとともに、フィルタ72の出力ポートPc、バラン82の入力ポートPdが形成されている。そして第4側面側には、電圧供給端子Vd、グランドポートGNDとともに、バラン80の入力(平衡)ポートP2+、P2−、バラン82の出力(平衡)ポートP4+、P4−が形成されている。
A third ground electrode 12 connected to the upper second ground electrode 10b (GND4) through a via hole is provided in the center of the lower surface to provide a stable ground potential and improve the connection strength with the circuit board.
Each terminal electrode is formed on each side surface around the third ground electrode 12, and an antenna port ANT and an unconnected port NC are formed on the first side surface together with the ground port GND. The input port Pa of the filter 70 and the output port Pb of the balun 80 are formed along with the voltage ports Vcc1, Vatt, Vb, and Vcc2 on the second side surface on the lower side of the figure adjacent to the first side surface. An output port Pc of the filter 72 and an input port Pd of the balun 82 are formed along with the voltage supply terminals Vcl, Vbl, Vr, and Vt on the third side surface on the upper side in the figure facing the second side surface. On the fourth side surface, input (balanced) ports P2 + and P2- of the balun 80 and output (balanced) ports P4 + and P4- of the balun 82 are formed together with the voltage supply terminal Vd and the ground port GND.

図11は、本発明の実施例に係る電子部品のフィルタ、バラン等回路の積層配置の概略を示す分解斜視図である。積層体100は18層で形成されるが、図面上は絶縁体層L4と絶縁体層L5との間、絶縁体層L5と絶縁体層L6との間の層を省略して示している。
本発明の電子部品1は、異なる絶縁体層L3,L7,L9,L11にグランド電極を備える構造である。第1グランド電極10a(GND1)と第2グランド電極10b(GND4)との間に、第4グランド電極10c(GND2,GND3)を備え、それらグランド電極GND1〜4を、電気的に接続する縦列配置された複数のビアホールで構成された複数のシールドによって接続し、積層体100の内部をA〜Gの7つの領域に区画している。図中ビアホールは、グランド電極GND1〜4と繋がるものを黒丸で示し、他の接続に用いられるものを白丸で示した。
FIG. 11 is an exploded perspective view showing an outline of a stacked arrangement of circuits such as filters and baluns of electronic components according to an embodiment of the present invention. Although the stacked body 100 is formed of 18 layers, the layer between the insulator layer L4 and the insulator layer L5 and the layer between the insulator layer L5 and the insulator layer L6 are omitted in the drawing.
The electronic component 1 of the present invention has a structure including ground electrodes on different insulator layers L3, L7, L9, and L11. A fourth ground electrode 10c (GND2, GND3) is provided between the first ground electrode 10a (GND1) and the second ground electrode 10b (GND4), and the ground electrodes GND1 to GND4 are electrically connected to each other. The laminated body 100 is divided into seven regions A to G, which are connected by a plurality of shields configured by a plurality of via holes. In the figure, the via holes are connected to the ground electrodes GND1 to GND by black circles, and those used for other connections are indicated by white circles.

積層体100の上面の領域Bの上側に位置する部分には、実装電極11が形成され、増幅器用半導体素子60が実装される。領域Bと領域Cとの間には積層体100の上面から下面の第3グランド電極12まで及ぶ第1シールド30が形成され、領域Aと領域B間には第2シールド35が形成されている。他の領域間にも第2シールド35と同様に、第1グランド電極10aと第2グランド電極10bとを繋ぐビアホール20により、シールドが形成されており、電磁気的な区画とともに、副放熱経路として機能する。   A mounting electrode 11 is formed on a portion of the upper surface of the multilayer body 100 located above the region B, and the amplifier semiconductor element 60 is mounted thereon. A first shield 30 extending from the upper surface of the multilayer body 100 to the third ground electrode 12 on the lower surface is formed between the region B and the region C, and a second shield 35 is formed between the region A and the region B. . Similarly to the second shield 35, a shield is formed between the other regions by the via hole 20 that connects the first ground electrode 10a and the second ground electrode 10b, and functions as a secondary heat dissipation path together with the electromagnetic section. To do.

領域Aにはバラン80、領域Bにはフィルタ70、領域Cにはフィルタ54と整合回路50の導体パターンが形成され、領域Dにはバラン82、領域Eにはフィルタ72、領域Fにはフィルタ52の導体パターンが形成され、領域Gには整合回路45の導体パターンが形成される。   A balun 80 is formed in the region A, a filter 70 is formed in the region B, a conductor pattern of the filter 54 and the matching circuit 50 is formed in the region C, a balun 82 is formed in the region D, a filter 72 is formed in the region E, and a filter is formed in the region F. 52 conductor patterns are formed, and the conductor pattern of the matching circuit 45 is formed in the region G.

増幅器等への電源線路は、第1及び第2グランド電極10a、10bよりも外側の絶縁体層L2,L12に形成している。この様に複数の電源線路の積層配置する位置を限定し、前記回路ブロックを構成する導体パターンと分離することで、それぞれがノイズを受け難い構成となっている。また電源線路間には干渉が低減されるように、グランド電極と繋がるビアホールが設けられている。   The power supply line to the amplifier or the like is formed in the insulator layers L2 and L12 outside the first and second ground electrodes 10a and 10b. In this way, the positions where the plurality of power supply lines are stacked are limited and separated from the conductor pattern constituting the circuit block, so that each of them is less susceptible to noise. A via hole connected to the ground electrode is provided between the power lines so that interference is reduced.

図12は積層体の上面に形成された端子電極と実装部品の配置状態を示す平面図である。 符号は図12に示した等価回路のポートに付した符号に対応するが、主要なもののみ示し、他は省略している。
積層体内の導体パターンで形成されたフィルタ70のポートBt1、整合回路50のポートM1、M2、フィルタ54のポートLt1、Lt2、整合回路45のポートA1、フィルタ72のポートBr3、フィルタ52のポートBr1,Br2は、全て積層体100の上面に形成された端子電極と接続している。従って、各回路間の電気的な接続は、実装されたチップ部品や、増幅器やスイッチ等の半導体素子との接続に用いるボンディングワイヤBWで行なわれる。
FIG. 12 is a plan view showing an arrangement state of terminal electrodes and mounted components formed on the upper surface of the laminate. The reference numerals correspond to the reference numerals assigned to the ports of the equivalent circuit shown in FIG. 12, but only the main ones are shown and the others are omitted.
Port Bt1 of filter 70 formed by a conductor pattern in the multilayer body, ports M1 and M2 of matching circuit 50, ports Lt1 and Lt2 of filter 54, port A1 of matching circuit 45, port Br3 of filter 72, port Br1 of filter 52 , Br2 are all connected to a terminal electrode formed on the upper surface of the laminate 100. Therefore, the electrical connection between the circuits is performed by the bonding wire BW used for the connection with the mounted chip component or the semiconductor element such as an amplifier or a switch.

本発明の電子部品1は、異なる積層位置にある複数のグランド電極と、それらグランド電極を電気的に接続するシールドによって、積層体の内部を電磁気的にシールドされた複数の領域として区画し、各回路ブロックを構成する導体パターンを異なる領域に配置している。各領域がシールドされた状態であるので、各回路ブロックは、それぞれ他の回路からのノイズを受け難い構成となっている。この様な構成によって、複数の回路ブロックを含む積層体100であっても小型化で、回路ブロック間等の干渉を防ぎ、かつ半導体の発熱を効率よく回路基板へ放熱するのを可能としている。   The electronic component 1 according to the present invention divides the inside of the multilayer body as a plurality of electromagnetically shielded regions by a plurality of ground electrodes at different lamination positions and a shield that electrically connects the ground electrodes. The conductor patterns constituting the circuit block are arranged in different areas. Since each region is in a shielded state, each circuit block is configured to be less susceptible to noise from other circuits. With such a configuration, even the laminated body 100 including a plurality of circuit blocks is reduced in size, can prevent interference between circuit blocks and the like, and can efficiently dissipate heat generated by the semiconductor to the circuit board.

本発明によれば、増幅器用半導体素子による発熱の放熱性を阻害することが無く、複数の回路ブロックを内蔵しても、小型でありながら電気的特性に優れる電子部品を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide an electronic component that is small in size and excellent in electrical characteristics even if a plurality of circuit blocks are incorporated without hindering heat dissipation of heat generated by the amplifier semiconductor element.

1 電子部品
10a 第1グランド電極
10b 第2グランド電極
10c 第4グランド電極
11 実装電極
12 第3グランド電極
20 ビアホール
30 第1シールド
35 第2シールド
Reference Signs List 1 electronic component 10a first ground electrode 10b second ground electrode 10c fourth ground electrode 11 mounting electrode 12 third ground electrode 20 via hole 30 first shield 35 second shield

Claims (6)

絶縁体層と導体パターンとを含む積層体と、増幅器用半導体素子とを備えた電子部品であって、
前記積層体は、その上層側の内層に形成された第1グランド電極と、下層側の内層に形成された第2グランド電極と、上面に前記第1グランド電極と複数のビアホールで接続された増幅器用半導体素子実装用の実装電極と、下面に前記第2グランド電極と複数のビアホールで接続された第3グランド電極を備え、
更に前記積層体には、実装電極と第1グランド電極と第2グランド電極と第3グランド電極とを接続し、積層体の上下面にまで至る第1シールドと、第1グランド電極と第2グランド電極とを接続する第2シールドを備え、
第1及び第2シールドは、積層方向に連なるビアホールでなるビアホール群を縦列して構成され、前記積層体の第1グランド電極と第2グランド電極との間は、前記第1及び第2シールドによって少なくとも3つの領域に区画され、
第1及び第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画され、前記増幅器用半導体素子の下部に位置する第1の領域には第1回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、
前記実装電極は前記第1の領域と前記第1シールドとに重なる部分に形成されており、
前記第1シールドと前記第2シールドとを増幅器用半導体素子の放熱経路とし
前記増幅器用半導体素子への電源線路を、前記積層体の上面と第1グランド電極との間と、前記積層体の下面と第2グランド電極との間とに設けたことを特徴とする電子部品。
An electronic component comprising a laminate including an insulator layer and a conductor pattern, and a semiconductor element for an amplifier,
The laminated body includes a first ground electrode formed in an inner layer on the upper layer side, a second ground electrode formed in an inner layer on the lower layer side, and an amplifier connected to the first ground electrode and a plurality of via holes on the upper surface. A mounting electrode for mounting a semiconductor element, and a third ground electrode connected to the second ground electrode by a plurality of via holes on the lower surface,
Furthermore, the stacked body is connected to the mounting electrode, the first ground electrode, the second ground electrode, and the third ground electrode, and the first shield extending to the upper and lower surfaces of the stacked body, the first ground electrode, and the second ground. A second shield connecting the electrode;
The first and second shields are configured by cascading via hole groups formed of via holes that are continuous in the stacking direction, and the first and second shields are provided between the first ground electrode and the second ground electrode of the stacked body. Divided into at least three areas,
A conductor pattern constituting a first circuit block is disposed in a first region defined by the first and second shields and the first and second ground electrodes, and located under the amplifier semiconductor element ,
The mounting electrode is formed in a portion overlapping the first region and the first shield,
The first shield and the second shield serve as a heat dissipation path of the amplifier semiconductor element ,
An electronic component comprising a power supply line to the amplifier semiconductor element provided between an upper surface of the multilayer body and a first ground electrode, and between a lower surface of the multilayer body and a second ground electrode. .
前記第1グランド電極と前記第2グランド電極との間に第4グランド電極を備え、
前記第2シールドは、第1グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置と、第2グランド電極と第4グランド電極との間のビアホール群の縦列位置とを異ならせて、第1、第2及び第4グランド電極と、第1シールドと第2シールドとにより区画される領域が、その平面領域において大きさが異なるように形成され、
前記第1の領域においてフィルタを構成し、第1グランド電極と第4グランド電極との間の領域にインダクタンス素子を構成する電極パターンを形成し、前記インダクタンス素子を構成する領域よりも平面領域が大きな第2グランド電極と第4グランド電極との間の領域にキャパシタンス素子を構成する電極パターンを形成したことを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
A fourth ground electrode is provided between the first ground electrode and the second ground electrode;
The second shield is configured such that a column position of the via hole group between the first ground electrode and the fourth ground electrode is different from a column position of the via hole group between the second ground electrode and the fourth ground electrode , The regions defined by the first, second and fourth ground electrodes, the first shield and the second shield are formed so as to have different sizes in the planar region,
A filter is configured in the first region, an electrode pattern configuring an inductance element is formed in a region between the first ground electrode and the fourth ground electrode, and a planar region is larger than a region configuring the inductance element 2. The electronic component according to claim 1, wherein an electrode pattern constituting a capacitance element is formed in a region between the second ground electrode and the fourth ground electrode .
前記第2シールドは、前記増幅器用半導体素子実装用の実装電極と積層方向に重ならない位置に設けられたことを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品。 The second shield, the electronic component according to claim 1 or 2, characterized in that provided in a position that does not cover the mounting electrode and the stacking direction for the amplifier semiconductor element mounting. 第1シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第2の領域には第2回路ブロックを構成する導体パターンが配置されたことを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の電子部品。   The conductor pattern which comprises a 2nd circuit block is arrange | positioned in the 2nd area | region divided by the 1st shield and the 1st and 2nd ground electrode, The Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. Electronic components. 第2シールドと第1及び第2グランド電極により区画された第3の領域には第3回路ブロックを構成する導体パターンが配置され、前記第1回路ブロックと前記第3回路ブロックとが接続されてなく、前記積層体の下面に形成された複数の端子電極のうちの一つに第1回路ブロックの入力ポートが接続され、他の一つに第3回路ブロックの出力ポートが接続されたことを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の電子部品。 A conductor pattern constituting a third circuit block is disposed in a third region defined by the second shield and the first and second ground electrodes, and the first circuit block and the third circuit block are connected to each other. The input port of the first circuit block is connected to one of the plurality of terminal electrodes formed on the lower surface of the laminate, and the output port of the third circuit block is connected to the other one. The electronic component according to any one of claims 1 to 4, wherein 前記積層体の第2の領域、又は第3の領域と重なる上面に、弾性表面波素子を搭載することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein a surface acoustic wave element is mounted on an upper surface overlapping the second region or the third region of the laminate.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10056323B2 (en) 2014-04-24 2018-08-21 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP6541528B2 (en) * 2015-09-17 2019-07-10 富士通コンポーネント株式会社 Optical receiving module and method of manufacturing optical receiving module
JP6609633B2 (en) 2015-10-15 2019-11-20 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor device
JP6710606B2 (en) 2016-08-23 2020-06-17 株式会社村田製作所 High frequency amplifier module
JP6702083B2 (en) 2016-08-23 2020-05-27 株式会社村田製作所 High frequency amplifier module
JP6934378B2 (en) * 2017-09-22 2021-09-15 ダイヤモンド電機株式会社 Power supply board
WO2023026848A1 (en) * 2021-08-23 2023-03-02 株式会社村田製作所 Antenna module

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202477A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Nec Corp Printed board for improving electromagnetic wave interference
JP2003273520A (en) * 2002-03-14 2003-09-26 Tdk Corp Laminate module
JP2004128288A (en) * 2002-10-04 2004-04-22 Renesas Technology Corp Semiconductor device and electronic apparatus
JP2004297456A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Kyocera Corp High frequency module
JP2005123909A (en) * 2003-10-16 2005-05-12 Kyocera Corp High-frequency module and communication equipment using the same
JP2006049602A (en) * 2004-08-05 2006-02-16 Renesas Technology Corp Semiconductor device and its manufacturing method
JP4978265B2 (en) * 2007-03-23 2012-07-18 三菱電機株式会社 High frequency module
US8179306B2 (en) * 2007-04-13 2012-05-15 Kyocera Corporation High-frequency circuit board, high-frequency circuit module, and radar apparatus

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