JP5615152B2 - ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法およびシステム - Google Patents

ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法およびシステム Download PDF

Info

Publication number
JP5615152B2
JP5615152B2 JP2010275531A JP2010275531A JP5615152B2 JP 5615152 B2 JP5615152 B2 JP 5615152B2 JP 2010275531 A JP2010275531 A JP 2010275531A JP 2010275531 A JP2010275531 A JP 2010275531A JP 5615152 B2 JP5615152 B2 JP 5615152B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass container
curve
glass
image
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010275531A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011121861A5 (ja
JP2011121861A (ja
Inventor
マーク・エドウィン・ホルトカンプ
テウニス・レネ・ブルメルマン
Original Assignee
エムハート・グラス・ソシエテ・アノニム
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エムハート・グラス・ソシエテ・アノニム filed Critical エムハート・グラス・ソシエテ・アノニム
Publication of JP2011121861A publication Critical patent/JP2011121861A/ja
Publication of JP2011121861A5 publication Critical patent/JP2011121861A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5615152B2 publication Critical patent/JP5615152B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00—Automatic controllers
    • G05B11/01—Automatic controllers electric
    • G05B11/011—Automatic controllers electric details of the correcting means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B9/00—Blowing glass; Production of hollow glass articles
    • C03B9/30—Details of blowing glass; Use of materials for the moulds
    • C03B9/40—Gearing or controlling mechanisms specially adapted for glass-blowing machines
    • C03B9/41—Electric or electronic systems
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/0003—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiant heat transfer of samples, e.g. emittance meter
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/025—Interfacing a pyrometer to an external device or network; User interface
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0846—Optical arrangements having multiple detectors for performing different types of detection, e.g. using radiometry and reflectometry channels
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/10—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry using electric radiation detectors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N25/00—Investigating or analyzing materials by the use of thermal means
    • G01N25/72—Investigating presence of flaws
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/38—Concrete; Lime; Mortar; Gypsum; Bricks; Ceramics; Glass
    • G01N33/386—Glass
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B21/00—Systems involving sampling of the variable controlled
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J2005/0077—Imaging
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N2021/845—Objects on a conveyor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/90—Investigating the presence of flaws or contamination in a container or its contents
    • G01N2021/9063—Hot-end container inspection

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Containers Having Bodies Formed In One Piece (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

関連出願の相互参照
[0001]本特許出願は、２００９年１２月１０日に欧州特許庁に出願した欧州特許出願第ＥＰ０９０７５５４５．５号からの、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．§１１９（ａ）下の優先権の利益を主張するものであり、その特許出願全体が参照により本明細書に援用される。
[0002]本発明は、概して、ガラス容器の成形プロセスをモニタリングおよび制御するための方法およびシステムに関する。
[0003]本発明は、ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御するための方法およびシステムに関する。成形プロセスは成形機によって実現され、その成形機は、独立した複数の区画を含むことができ、各区画は少なくとも１つの成形ステーションから構成される。その方法は、各高温ガラス容器によって放出される放射を成形機のすぐ後ろで測定するステップを含む。これらの測定値に基づいて、ガラス容器の品質を改善し、改善することで不良のガラス容器の生産数を減らすために、ガラス容器成形プロセスを調節するように情報および制御信号を生成することができる。
[0004]こうしたタイプのシステムは、Ｄａｌｓｔｒａに譲受された欧州特許第ＥＰ１５２５４６９Ｂ１号に開示されており、その特許には、ガラス製品の生産プロセスを分析およびモニタリングするシステムが記載されている。そのシステムは、近赤外（「ＮＩＲ」）帯域の放射にのみ感応し、高温ガラス製品のＮＩＲ放射を測定し、少なくとも２つの測定帯域の平均放射強度を求め、この平均強度を基準値と比較し、測定帯域間の偏差を比較し、こうした比較に基づいて、必要なときにエラー信号を生成する。さらに、冷却曲線を計算し、冷却時間が異なることによるガラス製品の放射量の差を補償するために基準として使用する。
[0005]しかし、そのシステムは、成形プロセスの変更ではなく、とりわけ周囲温度、周囲湿度、生産速度、冷却空気の温度、冷却空気の湿度、ガラス材料の組成、カメラの設定、空気中のばい煙およびちり、構成部品の汚染、ならびにガラス容器の重量など、様々な条件およびパラメータの変更によって引き起こされる赤外線量の変化がある場合でも、エラー信号を生成することがある。
[0006]したがって、これらの条件およびパラメータは、例えば、システムが動作するのは昼か夜か、季節の違い、生産地、および／または成形機に応じて、測定した赤外線強度を大きく変える虞がある。
[0007]その結果、絶えず変化する条件およびパラメータを補償するために、測定結果および生成したエラー信号を注意深くモニタリングし、条件およびパラメータをチェックし、基準値を調節するために、常に、操作者が存在すべきである。人件費が比較的高くなり、ガラス容器の成形プロセスが、労働条件が非常に好ましくない、極めて高温で騒々しい環境で行われるので、これは実用上の観点から非常に望ましくないことである。
[0008]そのシステムの別の不利点は、以前に生産したガラス容器の生産を開始したときに、上記で言及した条件およびパラメータが変更されていることがあり、その場合は、以前の生産に使用した基準値および／または冷却曲線は、現在の生産には有用でない場合があることである。このような場合は、毎回、新規の基準および／または冷却曲線が必要となり、それにより、起動時間が非常に長くなり、したがって望ましくない。
[0009]上記で言及した条件およびパラメータとは関係なく、高品質かつ安定した品質のガラス容器をそれにより生産できる、ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法を提供することが望ましい。
[0010]特有の基準を設けることも望ましく、その基準は、各成形ステーションでその基準で示すのと同じ品質のガラス容器を生産し、成形プロセスを起動するのに必要な時間を短縮するために、生産する容器のタイプの品質基準としての役割を果たす。こうした特有の基準を格納および使用して、異なる位置で同じ特定のガラス容器のタイプを生産する、同じ成形機または別の成形機をモニタリングおよび制御することができる。
[0011]操作者の代わりに成形機を自動的に制御することによって、プロセスを常にモニタリングする操作者を有する必要性を無くすことも有益である。
欧州特許出願第０９０７５５４５．５号 欧州特許第１５２５４６９Ｂ１号
[0012]上記で言及した目的を達成するために、本発明は、ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法に関する。その方法は、高温ガラス容器によって放出される赤外線放射に感応するカメラで、高温ガラス容器によって放出される赤外線放射を成形機のすぐ後ろで測定する。カメラによって生成されるガラス容器の画像は、有限数の画像ラインで構成され、各画像ラインが有限数の画素を有し、
各成形ステーションから測定した各ガラス容器ごとに、
ａ．こうしたガラス容器に関するすべての画像ラインのすべての画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、
ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、
ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとのライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求めるステップとを実行する。
[0013]それにより、条件およびパラメータが変わる上記で言及した問題は、ライン放射測定値を放射測定値の和で除算することによって補償される。これを以下で説明することができる。例えば、高温ガラス容器の放射が空気中のいくらかのばい煙によって部分的に吸収されると、ガラス容器のライン放射測定値が低くなり、ガラス容器の合計測定値が低くなる。しかし、ガラス容器のライン放射測定値をガラス容器の放射測定値の和で除算することによって、ライン放射測定値は、事実上、ガラス容器間の放射測定値の和の差を補償するように正規化される（したがって、測定値の比の曲線は、ガラス容器間の放射測定値の和の差に影響を受けない正規化された曲線である）。これは、明らかに、従来技術のようにガラス容器に関する放射測定の絶対値を正規化することなしに使用する事例ではない。（測定値の比の曲線が、実際に次元値ではなく無次元の曲線であることに留意されたい。）
[0014]測定装置に近い成形ステーションから作られるガラス容器は、測定装置から遠い成形ステーションによるガラス容器と比較すると、測定装置までの移動距離が短く、これは時間があまりかからない。したがって、あまり冷却されず、その結果、温度がより高くなる（それに応じて合計の放射がより高くなる）。従来技術では、冷却曲線を使用して、このように異なる冷却時間を補償していた。しかし、この冷却曲線は、絶対測定値に基づいており、したがって、上記で言及した条件およびパラメータの変化に左右されやすい。本発明によれば、高温ガラス容器の測定値の比の曲線は、ガラス容器の温度を補償および正規化する。遠くに位置する成形ステーションからの（したがって、温度がより低い）ガラス容器が、測定装置により近い成形ステーションからの（したがって、温度がより高い）ガラス容器と同じガラス分布を有するときは、両方のガラス容器からの測定値の比の曲線は、従来技術の教示のように著しく異なるのではなく、同じになる。
[0015]高温ガラス容器の測定値の比の曲線を、さらに基準曲線と比較することができる。その基準曲線は、特定のガラス容器の各タイプごとに特有であり、したがって、特定のガラス容器の各タイプごとの品質の尺度として働く。こうした特有の基準曲線を取得するためには、好ましい実施形態の方法は、
ｄ．所定の数の高温ガラス容器に対する複数の測定値の比の曲線に基づいて、基準曲線を求める追加のステップを実行することができる。
[0016]いくつかの高温ガラス容器に対する測定値の比の曲線を平均することは、いくつかのガラス容器の測定値の比の曲線を合計し、その和をガラス容器の数で除算することを含むことができる。ガラス容器の測定値の比の曲線は、ある期間にわたって、１つまたは複数の選択したステーションから、いくつかの生産サイクルにわたってまたは１つの生産サイクルのみにわたって平均することができる。
[0017]成形機の設定が異なる様々な基準曲線を獲得することができ、それらの基準曲線のうち、最も品質の高いガラス容器を生産する、最も優れた基準曲線を選択することができる。その基準曲線を、同じ成形機または異なる成形機で同じ容器のタイプを後で生産するときに使用するために保存することができる。現在の生産性能を分析し、過去の生産と比較することもできる。所望の場合は、基準曲線を連続して更新することができ、その結果、同じ容器でさらなる高品質を実現することができる。
[0018]本発明による別の好ましい実施形態の方法は、
ｅ．こうした高温ガラス容器の測定値の比の曲線から基準曲線を減算し、その結果を基準曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップを含む。
[0019]相対差曲線は、ガラス容器の測定値の比の曲線が基準曲線からはずれる程度および位置を簡単に示す。成形ステーションで生産されるガラス容器の品質を示すために、各成形ステーションごとに相対差曲線を表示することができる。生産されるガラス容器の品質が高いときは、相対差曲線はゼロに近くなる。すべてのステーションからのすべての容器の相対差曲線がゼロに近いときは、成形機によって生産されるすべての容器の品質が高くほぼ等しくなる。
[0020]本発明による別の好ましい実施形態の方法は、
ｆ．相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、
ｇ．相対差曲線が少なくとも１つの点で公差曲線を超える場合に警告信号を生成するステップとを含む。
[0021]相対差曲線を公差曲線と比較し、相対差曲線が公差曲線を超える場合に警告信号を生成することによって、成形ステーションによって生産されるガラス容器の品質が許容できるか、または容器が低品質のものであり、したがって許容できない程度まで低下しているかを簡単に判定することができる。
[0022]公差曲線は一定でよく、そのため前記容器どの位置でも同じ量の偏差を許容可能である。しかし、公差曲線の値は、前記容器上の位置に応じて変わってもよい。したがって、例えば、公差（例えば、ガラスの厚さの公差）が重要である、容器の１つまたは複数の領域に関して、基準曲線からの偏差をあまり許容しないことが可能である。さらに、公差の値は正でも負でもよい。
[0023]制御装置は、いくつかのプロセスパラメータによって各成形ステーションの成形プロセスを制御する。成形プロセスを自動的に制御するために、本発明による別の好ましい実施形態の方法が、
ｈ．成形プロセスを自動的に制御するために、各高温ガラス容器の相対差曲線を制御装置に送信するステップを含む。
[0024]ガラス容器の相対差曲線を各成形ステーションから制御装置に送信することによって、成形プロセスの変化およびエラーの検出後すぐに自動的にプロセスを調節することができる。調節は、相対差曲線が実質的にゼロに近づくようにして行う。
[0025]高温ガラス容器が放射を放出するどの波長でも測定を実行することができる。しかし、容器ガラスからの３．０ミクロン未満の波長の放射が、ガラスの温度およびガラスの厚さの両方を示すので、特に、比較的厚いガラス容器を分析するときに、３．０ミクロン未満の波長でより正確な測定値を得ることができる。したがって、本発明による好ましい実施形態の方法は、前記測定が０．７と３．０ミクロンの間の波長で行われることである。
[0026]本発明は、ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する分析システムにも関する。そのシステムは、各高温ガラス容器によって放出される放射を成形機のすぐ後ろで測定するために少なくとも１つの測定装置を備える。その測定装置は、高温ガラス容器によって放出される放射に感応するライン走査またはエリアカメラを備えることができる。カメラによって生成されるガラス容器の画像は、有限数の画像ラインで構成され、各画像ラインが有限数の画素を有する。処理装置が、計算し、比較し、他の装置と連絡し、その処理装置はさらに、
ａ．こうしたガラス容器に関するすべての画像ラインのすべての画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、
ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、
ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとのライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求めるステップとを実行するようにプログラムされる。
[0027]放射の測定値が、環境、プロセス、および測定設備のパラメータおよび条件の変更と関係ないだけではなく、成形ステーション中の高温ガラス容器が作られる位置と関係ないようにするために、処理装置は上記で言及した動作を実行するようにプログラムされる。
[0028]本発明によるさらなる好ましい実施形態の分析システムは、処理装置がさらに、
ｄ．すべてのまたは選択した数の成形ステーションから作られる所定の数の高温ガラス容器に対して測定値の比の曲線を平均することによって、基準曲線を求めるステップを実行するようにプログラムされることである。
[0029]いくつかの高温ガラス容器の測定値の比の曲線を合計し、その和を容器の数で除算することによって、特定のタイプのガラス容器に関して特有の平均測定値の比の曲線を取得する。平均測定値の比の曲線は、その特定のタイプのガラス容器の質に関する基準としての役割を果たす。それは、同じ品質要件の同じタイプのガラス容器を生産するときに、異なる位置の別の成形機に関して利用することもできる。
[0030]本発明による別の好ましい実施形態の分析システムは、処理装置がさらに、
ｅ．各高温ガラス容器の測定値の比の曲線から基準曲線を減算し、その結果を基準曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップを実行するようにプログラムされることである。
[0031]相対差曲線を求めることによって、高温ガラス容器の品質を分析することができ、成形プロセスの不具合の、可能性のある原因を示すことができる。そのようにして、高温ガラス容器の測定値の比の曲線が基準曲線からはずれる程度および位置を簡単に理解することができる。生産されるガラス容器の品質を示し、成形プロセスの性能を示すために、各成形ステーションごとに相対差曲線を表示することができる。生産されるガラス容器の品質が高いときは、相対差曲線はゼロになるかまたは無視できるほど小さい。
[0032]本発明による分析システムの別の好ましい実施形態は、処理装置がさらに、
ｆ．各高温ガラス容器の相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、
ｇ．相対差曲線が少なくとも１つの点で公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップとを実行するようにプログラムされることである。
[0033]このようにして、成形ステーションで生産されるガラス容器の品質が許容できるか否かを簡単に判定することができる。例えば、許容できない品質のガラス容器を不合格にするために警告信号を使用することができる。公差曲線は一定でもよく、ガラス容器上の位置に応じて変更してもよい。
[0034]本発明による分析システムのさらに別の好ましい実施形態は、処理装置がさらに、
ｈ．成形プロセスを自動的に制御するために、各高温ガラス容器の相対差曲線を成形制御装置に送信するステップを実行するようにプログラムされることである。
[0035]処理装置は、各ガラス容器の相対差曲線を成形制御装置に送信し、その成形制御装置は、必要なときに１つまたは複数のプロセスパラメータを調節する。このようにして、プロセスパラメータの自動的な調節が、エラーまたは検出可能な不具合の検出後すぐに実現可能である。
[0036]その測定装置は、高温ガラス容器が放射する波長に感応することができる。しかし、容器ガラスからの３．０ミクロン未満の波長の放射が、ガラスの温度およびガラスの厚さの両方を示すので、特に、比較的厚いガラス容器を分析するときに、３．０ミクロン未満の波長でより正確な測定値を得ることができる。したがって、本発明による分析システムの好ましい実施形態は、測定装置が０．７と３．０ミクロンの間の波長に感応することである。より具体的には、測定装置は、短波長赤外線（「ＳＷＩＲ」）カメラ、例えば５１２または１０２４画素のライン走査またはエリアＳＷＩＲカメラを使用する。
[0037]本発明のこれらの利点および他の利点は、図面を参照すると最も良く理解される。
本発明は、以下の態様に関し得る。
（態様１）ガラス容器成形プロセスをモニタリングする方法であって、前記成形プロセスが、成形機によって実現され、前記成形機が複数の独立した区画を含み、前記各区画が、ガラス容器がそこで形成される少なくとも１つの成形ステーションを有し、この方法が、前記高温ガラス容器によって放出される放射に感応する測定装置で、前記成形機のすぐ後ろで高温ガラス容器によって放出される放射に比例するデジタル値を判定するステップを含み、前記測定装置が、各高温ガラス容器のデジタル画像を生成し、前記デジタル画像が、有限数の画像ラインで構成され、各画像ラインが有限数の画素を有し、各画素がデジタル値を有する方法において、各成形ステーションから測定した各ガラス容器ごとに、ａ．こうしたガラス容器に関するすべての前記画像ラインのすべての前記画素の前記デジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての前記画素の前記デジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとの前記ライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する前記放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求めるステップとをさらに含むことを特徴とする方法。
（態様２）ｄ．所定の数の前記ガラス容器に対する前記複数の測定値の比の曲線に基づいて、基準曲線を求めるステップをさらに含む、態様１の方法。
（態様３）ｅ．各ガラス容器に関する前記測定値の比の曲線から前記基準曲線を減算し、その結果を前記基準曲線で除算することによって、各ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップをさらに含む、態様２の方法。
（態様４）ｆ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、ｇ．前記相対差曲線が少なくとも１つの点で前記公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップとをさらに含む、態様３の方法。
（態様５）前記成形機が制御装置によって動作され、ｈ．前記成形プロセスを自動的に制御するために、各高温ガラス容器の前記相対差曲線を前記制御装置に送信するステップをさらに含む、態様３の方法。
（態様６）前記測定装置が、０．７ミクロンと３．０ミクロンの間の放射波長に感応する、態様１の方法。
（態様７）ガラス容器成形プロセスをモニタリングするシステムであって、前記成形プロセスが、成形機によって実現され、前記成形機が、制御装置によって制御され、複数の独立した区画を含み、前記各区画が、ガラス容器がそこで形成される少なくとも１つの成形ステーションを有し、このシステムが、前記高温ガラス容器によって放出される放射に感応し、前記成形機のすぐ後ろで各高温ガラス容器の画像を生成する少なくとも１つの測定装置であって、前記画像が有限数の画像ラインで構成され、各画像ラインが有限数の画素を有する、測定装置と、計算し、比較し、他の装置と連絡する処理装置とを備えるシステムにおいて、前記処理装置がさらに、各成形ステーションから測定した各ガラス容器ごとに、ａ．こうしたガラス容器に関するすべての前記画像ラインのすべての前記画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての前記画素の前記デジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとの前記ライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する前記放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求めるステップとを実行するようにプログラムされることを特徴とするシステム。
（態様８）前記処理装置がさらに、ｄ．すべてまたは選択した数の成形ステーションから作られる所定の数の前記容器に対する前記測定値の比の曲線を平均することによって、基準曲線を求めるステップを実行するようにプログラムされる、態様７のシステム。
（態様９）前記処理装置がさらに、ｅ．各高温ガラス容器に関する前記測定値の比の曲線から前記基準曲線を減算し、その結果を前記基準曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップを実行するようにプログラムされる、態様８のシステム。
（態様１０）前記処理装置がさらに、ｆ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、ｇ．前記相対差曲線が少なくとも１つの点で前記公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップとを実行するようにプログラムされる、態様９のシステム。
（態様１１）各高温ガラス容器の前記相対差曲線が、前記成形プロセスを自動的に制御するように前記制御装置に送信される、態様９のシステム。
（態様１２）前記処理装置がさらに、ｈ．前記成形プロセスを自動的に制御するために、各高温ガラス容器の前記相対差曲線を前記制御装置に送信するステップを実行するようにプログラムされる、態様７のシステム。
（態様１３）前記測定装置が、０．７ミクロンと３．０ミクロンの間の放射波長に感応する、態様７のシステム。
（態様１４）前記測定装置が、短波長赤外線（ＳＷＩＲ）カメラを備える、態様１２のシステム。
（態様１５）Ｉ．Ｓ．機で形成された高温ガラス容器によって放出される放射を使用してガラス容器成形プロセスをモニタリングする方法であって、前記ガラス容器の形成後すぐかつ冷却前に、各高温ガラス容器によって放出される放射を測定するステップと、前記測定ステップに基づいて、各高温ガラス容器ごとにライン放射測定値曲線ならびに放射測定値の和を求めるステップと、前記ライン放射測定値曲線を前記放射測定値の和で除算することによって、各成形ステーションから各容器ごとに測定値の比の曲線を求めるステップとを含む、方法。
（態様１６）複数の容器に関する前記測定値の比の曲線に基づいて基準測定値の比の曲線を求めるステップをさらに含む、態様１５の方法。
（態様１７）前記各高温ガラス容器の測定値の比の曲線から前記基準測定値の比の曲線を減算し、その結果を前記基準測定値の比の曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップをさらに含む、態様１６の方法。
（態様１８）各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップをさらに含む、態様１７の方法。
（態様１９）前記相対差曲線が少なくとも１つの点で前記公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップをさらに含む、態様１８の方法。
（態様２０）前記成形プロセスを自動的に制御するために、各高温ガラス容器の相対差曲線を使用するステップをさらに含む、態様１７の方法。
（態様２１）前記放射測定ステップが、０．７ミクロンと３．０ミクロンの間の放射波長に感応する、態様１５の方法。
（態様２２）Ｉ．Ｓ．機で形成された高温ガラス容器によって放出される放射を使用してガラス容器成形プロセスをモニタリングするシステムであって、前記ガラス容器の形成後すぐかつ冷却前に、各高温ガラス容器によって放出される放射を測定する測定装置と、前記測定値に基づいて、各高温ガラス容器ごとのライン放射測定値の曲線ならびに放射測定値の和を求める処理装置とを備え、前記処理装置がさらに、前記ライン放射測定値の曲線を前記放射測定値の和で除算することによって、各成形ステーションからの各容器ごとに測定値の比の曲線も求める、システム。
（態様２３）前記処理装置がさらに、複数の容器に関する前記測定値の比の曲線に基づいて基準測定値の比の曲線を求める、態様２２のシステム。
（態様２４）前記処理装置がさらに、各高温ガラス容器の前記測定値の比の曲線から前記基準測定値の比の曲線を減算し、その結果を前記基準測定値の比の曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求める、態様２３のシステム。
（態様２５）前記処理装置がさらに、各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較する、態様２４のシステム。
（態様２６）前記相対差曲線が少なくとも１つの点において前記公差曲線を超える場合に、前記処理装置がさらに、警告信号を生成する、態様２５のシステム。
（態様２７）各高温ガラス容器の前記相対差曲線が、前記成形プロセスを自動的に制御するために使用される、態様２４のシステム。
（態様２８）前記測定装置が、短波長赤外線（ＳＷＩＲ）カメラを備える、態様２２のシステム。
[0038]成形機および分析システムの実施形態の概略図を示す図である。 [0039]ガラス容器の画像を示す図である。 [0040]図２に示すガラス容器に関するライン放射測定値を示す図である。 [0041]図２に示すガラス容器に関する測定値の比の曲線を示す図である。 [0042]図２に示すガラス容器に関する基準曲線を示す図である。 [0043]図２に示すガラス容器に関する測定値の比の曲線と併せた基準曲線を示す図である。 [0044]図２に示すガラス容器に関する相対差曲線を示す図である。
[0045]図１に、ガラス容器成形機２０が６つの独立した区画Ｓ１、Ｓ２、．．．Ｓ６を含み、各区画がそれぞれ２つの成形ステーション２２および２４を含むシステムの実施形態を示す。１つの生産サイクルで、成形機２０は１２個のガラス容器３０を生産する。２つの溶融ガラスのゴブ３２および３４が、供給装置３６によって同時に形成され、いわゆる粗型２２および２４に充填される。この実施形態の成形機２０の各区画Ｓ１、Ｓ２、．．．Ｓ６は、２つの粗型２２および２４を含み、それらの粗型２２および２４中では、加工のタイプ（プレスブローまたはブローブロー）に応じてプレス成形または吹込み成形することによって、容器の前段階のもの、すなわちパリソンが形成される。形成したパリソンは、いわゆるブロー成形型２６および２８に移され、それらのブロー成形型２６および２８で、パリソンが吹込み成形されて、最終形状のガラス容器３０になる。成形機２０および供給装置３６の機構は、それぞれライン５２および５４を通して制御装置３８によって制御される。ガラス容器３０は、コンベヤベルト５０によって測定装置４２を通って搬送され、その測定装置４２は、高温ガラス容器３０の画像を撮り、それらの画像をライン４６を通して処理装置４４に送信する。この実施形態では１つの測定装置４２が使用されるが、測定装置４２の数は、状況および実現する精度に応じて増やすことができる。しかし、１つの測定装置でも、実現される精度は相当高い。
[0046]この実施形態の測定装置４２、すなわちエリアカメラは、好ましくは短波長赤外線（「ＳＷＩＲ」）放射に感応する。図２に示す高温ガラス容器３０のカメラによって撮られた画像は、例えば、５１２の画像ラインを含み、各画像ラインは、例えば２００画素を含むことができる。
[0047]処理装置４４は、各ガラス容器３０について、ガラス容器の画像中のすべての画素のデジタル値を合計することによって合計放射測定値を求める。図２に示すガラス容器の合計放射測定値は５５３である。次に、処理装置４４は、各画像ラインについて２００画素すべてのデジタル値を合計することによってライン放射測定値を求める。図２のガラス容器の画像に属するライン放射測定値を図３に示す。次に、処理装置４４は、ライン放射測定値を合計放射測定値で除算することによって、本明細書で以下に示す測定値の比の曲線を求める。
Ｉｔｏｔ，ｓ＝ΣＩｘ，ｙ，ｓ（ｘ＝１、２、．．．２００、ｙ＝１、２、．．．、５１２）
Ｉｙ，ｓ＝ΣＩｘ，ｙ，ｓ（ｘ＝１、２、．．．２００）
Ｉｒａｔｉｏ，ｙ，ｓ＝（Ｉｙ，ｓ／Ｉｔｏｔ，ｓ）×１００％
ここで、
Ｉｔｏｔ，ｓは、ステーションｓから作られるガラス容器の画像の放射測定値の合計であり、
Ｉｘ，ｙ，ｓは、ステーションｓから作られるガラス容器の画像の画素ｘ、ｙのデジタル値であり、ｙは２００のｘ画素を含む画像ラインを示し、ｘ＝１．．．２００、ｙ＝１．．．５１２、ｓ＝１．．．１２であり、
Ｉｙ，ｓは、ステーションｓから作られるガラス容器の画像の画像ライン（ｙ）に関するライン放射測定値であり、
Ｉｒａｔｉｏ，ｙ，ｓは、ステーションｓから作られるガラス容器の画像の画像ラインｙに関する測定値の比の値である。
[0048]測定値の比の値は、簡単にするために百分率で表す。図４に示す測定値の比の曲線は、図２に示すガラス容器に属する。これらのステップを行う順番は、同じ結果に達する限り変えることができる。例えば、周囲のパラメータ（例えば空気中のばい煙）によって生じる、ガラス容器３０から受ける放射の減衰量が、測定値の比の曲線に影響を及ぼさないことを容易に理解することができる。
Ｉｒａｔｉｏ，ｙ，ｓ＝（αＩｙ，ｓ／αＩｔｏｔ，ｓ）×１００％＝（Ｉｙ，ｓ／Ｉｔｏｔ，ｓ）×１００％
[0049]次に、処理装置４４は、すべてのまたは選択した特定の成形ステーションによる、いくつかのガラス容器３０からの測定値の比の曲線を平均することによって基準曲線を求める。この基準曲線は、生産するガラス容器のタイプに特有である。
[0050]基準曲線の値は、以下に示すように導かれる。
ここで、
Ｉｒｅｆｅｒｅｎｃｅ，ｙは、ライン（ｙ）に関する基準曲線の値であり、
Ｎは、考慮するガラス容器３０の数である。
[0051]同じまたは別の成形機で特定のガラス容器３０の生産を開始するのに必要な時間を短縮するために、基準曲線を格納し、後で利用することができる。この例のガラス容器のタイプに属する基準曲線を図５に示す。図６に、図４の測定値の比の曲線と一緒にして基準曲線を示す。
[0052]次に、処理装置４４は、測定値の比の曲線から基準曲線を減算し、その差を基準曲線で除算することによって、相対差曲線を求める。これを以下に示す。
ΔＩｓ，ｙ＝（（Ｉｒａｔｉｏ，ｓ−Ｉｒｅｆｅｒｅｎｃｅ，ｙ）／Ｉｒｅｆｅｒｅｎｃｅ，ｙ）×１００％
ここで、
ΔＩｓ，ｙは、ステーションｓから作られるガラス容器の画像のラインｙにおける相対差の値である。
[0053]相対差曲線は、ガラス容器の測定値の比の曲線が基準曲線からはずれる程度および位置を示す。処理装置４４は、成形ステーションで生産されたガラス容器の品質を示すために、接続したモニタ（図示せず）上に各成形ステーションについて相対差曲線を表示することができる。図７に、図２のガラス容器に関する、図４に示す対応する測定値の比の曲線との相対差曲線を示す。
[0054]こうした特有の例では、図７の相対差曲線は、ガラス容器の上側の部分で正の偏差を、ガラス容器の下側の部分で負の偏差を示し、これは、ガラス容器の上側の部分ではガラスが多過ぎ、ガラス容器の下側の部分ではガラスが少な過ぎることを示す。品質の高いガラス容器の場合は相対差曲線がすべての点でゼロに近くなる。
[0055]続いて、処理装置４４は、相対差曲線を所定の公差曲線と比較し、相対差の値が対応する公差の値を超える場合に警告信号を生成する。これを以下に示す。
ΔＩｓ，ｙ＜ＩＴ−，ｙまたはΔＩｓ，ｙ＞ＩＴ＋，ｙの場合に警告し、
ここで、
ＩＴ−，ｙは、ラインｙに関する負の公差値であり、
ＩＴ＋，ｙは、ラインｙに関する正の公差値である。
[0056]例えば、図１のライン５６上で許容できない品質のガラス容器を不合格にするために警告信号を用いることができる。図７では、負の公差値が−３０％に設定され、正の公差値が＋３０％に設定される。図７では、ライン３００からライン３８０に関して相対差の値が正の公差値を超えるので、警告信号が生成される。
[0057]成形プロセスを自動的に調節するために、処理装置４４は、相対差曲線を各成形ステーションからライン４８を越えて制御装置３８に送信することができる。制御装置３８は、各成形ステーションについて相対差曲線がゼロに近くなるまで、適切なプロセスパラメータを調節する。次いで、これは、操作者がプロセスを連続してモニタリングする必要なしに実現される。
[0058]処理装置４４は、各ガラス容器３０がどの成形ステーションから作られるか分かるように成形機２０およびコンベヤベルト５０と同期される。
[0059]上記で説明した実施形態は、単なる例としての役割を果たすものであり、決して本発明を限定するものではない。本発明の知識を与えられた当業者は、他の実施形態をすぐに実現できるであろう。したがって、本明細書で説明していない実施形態を実現する主題および方法論のどんな改変も、本発明の範囲に包含されると見なされる。
[0060]本発明の前述の説明を、特定の実施形態およびその適用例に関して示し説明してきたが、例示および説明のために示しており、網羅的ではなく、特定の実施形態および開示した適用例に限定するものでもない。本明細書で説明したように、本発明に対するいくつかの変更、修正、改変、または改造を行うことができ、それらはどれも本発明の精神および範囲から逸脱しないことが当業者には明らかであろう。本発明の原理および実用的な適用例を最も良く示すために特定の実施形態および適用例を選択し説明した。それにより、当業者は様々な実施形態で、企図される特定の使用に合うような様々な修正形態と共に本発明を利用することができる。したがって、すべてのこうした変更形態、修正形態、改変形態、および改造形態は、添付の請求項が公平に、法的に、平等に付与される範囲に従って解釈されるときに、それらの請求項によって決定される本発明の範囲内に包含されるものと解釈すべきである。
２０ ガラス容器成形機
２２、２４ 成形ステーション、粗型
２６、２８ ブロー成形型
３０ 高温ガラス容器
３２、３４ ゴブ
３６ 供給装置
３８ 制御装置
４２ 測定装置
４４ 処理装置
４６、４８、５２、５４、５６ ライン
５０ コンベヤベルト
Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５、Ｓ６ 区画

Claims (13)

  1. ガラス容器成形プロセスをモニタリングする方法であって、前記成形プロセスが、成形機によって実現され、前記成形機が複数の独立した区画を含み、前記区画の各々が、ガラス容器がそこで形成される少なくとも１つの成形ステーションを有し、この方法が、前記高温ガラス容器によって放出される放射に感応する測定装置で、前記成形機のすぐ後ろで高温ガラス容器によって放出される放射を測定するステップを含み、前記測定装置が、各高温ガラス容器の画像を生成し、前記画像が、有限数の画像ラインにより画定される関連する画像の領域内に構成され、各画像ラインが有限数の画素を有する方法において、
    各成形ステーションから測定した各ガラス容器ごとに、
    ａ．こうしたガラス容器に関するすべての前記画像ラインのすべての前記画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、
    ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての前記画素の前記デジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、
    ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとの前記ライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する前記放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求め、これにより、前記ガラス容器がそれらの成形ステーションから前記測定装置へ移動するときの前記ガラス容器がさらされる状況及びパラメータの変化から結果として生じる、前記ガラス容器によって放出される放射の量の変化を補償するステップとをさらに含むことを特徴とする方法。
  2. 前記方法は、各成形ステーションからの前記ガラス容器が比較される、形成された容器の種類に特有の基準を生成するために、
    ｄ．すべて又は選択された数の成形ステーションから作られる所定の数の前記ガラス容器に対する前記測定値の比の曲線の対応する点を平均することにより、基準曲線を求めるステップ
    をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  3. 前記基準曲線とともに前記成形ステーションにおいて生成されたガラス容器間の差に関する情報を生じるために、
    ｅ．前記測定値の比の曲線から前記基準曲線を減算し、その結果を前記基準曲線で除算することによって、各成形ステーションからの各ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップ
    をさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載の方法。
  4. ｆ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、
    ｇ．前記相対差曲線が少なくとも１つの点で前記公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップと
    をさらに含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
  5. 前記成形プロセスを自動で制御するため、
    ｈ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を成形プロセス制御装置に送信するステップ
    をさらに含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
  6. 前記測定が、０．７マイクロメートルと３．０マイクロメートルの間の放射波長に対して行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  7. ガラス容器成形プロセスをモニタリングするシステムであって、前記成形プロセスが、成形機によって実現され、前記成形機が、制御装置によって制御され、複数の独立した区画を含み、前記区画がそれぞれ、ガラス容器が形成される少なくとも１つの成形ステーションを有し、このシステムが、前記成形機のすぐ後ろで前記成形ステーションからの前記高温ガラス容器によって放出される放射に感応し、各高温ガラス容器の画像を生成する少なくとも１つの測定装置であって、前記画像が有限数の画像ライン内に構成され、各画像ラインが有限数の画素を有する、測定装置と、計算し、比較し、他の装置と連絡する処理装置と、を備えるシステムにおいて、
    前記処理装置がさらに、各成形ステーションから測定した各ガラス容器ごとに、
    ａ．こうしたガラス容器に関するすべての前記画像ラインのすべての前記画素のデジタル値を合計することによって、各ガラス容器ごとに放射測定値の和を求めるステップと、
    ｂ．こうしたガラス容器に関するこのような画像ラインのすべての前記画素の前記デジタル値を合計することによって、各ガラス容器について各画像ラインごとにライン放射測定値を求めるステップと、
    ｃ．こうしたガラス容器の各画像ラインごとの前記ライン放射測定値を、こうしたガラス容器に関する前記放射測定値の和で除算することによって、各ガラス容器ごとに測定値の比の曲線を求め、これにより、前記ガラス容器がそれらの成形ステーションから前記測定装置へ移動するときの前記ガラス容器がさらされる状況及びパラメータの変化から結果として生じる、前記ガラス容器によって放出される放射の量の変化を補償するステップと
    を実行するようにプログラムされることを特徴とするシステム。
  8. 前記処理装置がさらに、
    ｄ．すべてまたは選択した数の成形ステーションから作られる所定の数の前記容器に対する前記測定値の比の曲線の対応する点を平均することによって、基準曲線を求めるステップ
    を実行するようにプログラムされることを特徴とする、請求項７に記載のシステム。
  9. 前記処理装置がさらに、
    ｅ．各高温ガラス容器に関する前記測定値の比の曲線から前記基準曲線を減算し、その結果を前記基準曲線で除算することによって、各高温ガラス容器ごとに相対差曲線を求めるステップ
    を実行するようにプログラムされることを特徴とする、請求項８に記載のシステム。
  10. 前記処理装置がさらに、
    ｆ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を所定の公差曲線と比較するステップと、
    ｇ．前記相対差曲線が少なくとも１つの点で前記公差曲線を超える場合に、警告信号を生成するステップと
    を実行するようにプログラムされることを特徴とする、請求項９に記載のシステム。
  11. 前記成形プロセスを制御するため、前記処理装置がさらに、
    ｈ．各高温ガラス容器の前記相対差曲線を前記制御装置に送信するステップ
    を実行するようにプログラムされることを特徴とする、請求項７に記載のシステム。
  12. 前記測定装置が、０．７マイクロメートルと３．０マイクロメートルの間の放射波長に感応することを特徴とする、請求項７に記載のシステム。
  13. 前記測定装置が、
    短波長赤外線（ＳＷＩＲ）カメラを備えることを特徴とする、請求項１２に記載のシステム。
JP2010275531A 2009-12-10 2010-12-10 ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法およびシステム Expired - Fee Related JP5615152B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09075545.5A EP2336740B1 (en) 2009-12-10 2009-12-10 Method and system for monitoring a glass container forming process
EP09075545.5 2009-12-10

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011121861A JP2011121861A (ja) 2011-06-23
JP2011121861A5 JP2011121861A5 (ja) 2014-01-30
JP5615152B2 true JP5615152B2 (ja) 2014-10-29

Family

ID=42124570

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010275531A Expired - Fee Related JP5615152B2 (ja) 2009-12-10 2010-12-10 ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法およびシステム
JP2010275551A Expired - Fee Related JP5662784B2 (ja) 2009-12-10 2010-12-10 高温ガラス容器の品質を向上させ、成形プロセスを制御するために、高温ガラス容器をモニタリングするシステムおよび方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010275551A Expired - Fee Related JP5662784B2 (ja) 2009-12-10 2010-12-10 高温ガラス容器の品質を向上させ、成形プロセスを制御するために、高温ガラス容器をモニタリングするシステムおよび方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US8462203B2 (ja)
EP (2) EP2336740B1 (ja)
JP (2) JP5615152B2 (ja)
ES (2) ES2446546T3 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8857213B2 (en) * 2011-01-12 2014-10-14 Emhart Glass S.A. Vertical glass distribution habituating control system and method
US9233868B2 (en) 2011-02-23 2016-01-12 Emhart Glass S.A. System and method for controlling pusher parameters to adjust the placement of glass containers on the conveyor
US9523980B2 (en) 2011-03-03 2016-12-20 Emhart Glass S.A. Closed loop cyclic timing optimizer control system and method
FR2988846B1 (fr) * 2012-03-27 2014-04-11 Msc & Sgcc Procede et installation de mesure de la repartition de verre dans des recipients
DE102012111770A1 (de) * 2012-12-04 2014-06-05 Krones Ag Inspektionsverfahren und Inspektionsvorrichtung für Behältnisse
NL2009980C2 (en) * 2012-12-13 2014-06-16 Ct Voor Tech Informatica B V A method of producing glass products from glass product material and an assembly for performing said method.
FR3000193B1 (fr) * 2012-12-20 2015-01-16 Msc & Sgcc Procede et dispositif de mesure de la verticalite sur un recipient
US9785132B2 (en) 2013-11-07 2017-10-10 Emhart Glass S.A. Target signature closed loop control system and method
US9458043B2 (en) 2013-11-15 2016-10-04 Emhart Glass S.A. Utilization of wall thickness measurement in combination with thermal imaging of containers
US9322787B1 (en) * 2014-10-18 2016-04-26 Emhart Glass S.A. Glass container inspection machine with a graphic user interface
JP6483427B2 (ja) * 2014-12-12 2019-03-13 アンリツインフィビス株式会社 Ｘ線検査装置
EP3585741B1 (en) * 2017-03-24 2024-02-28 Corning Incorporated Systems and methods for measuring the temperature of glass during tube conversion
FR3074907B1 (fr) * 2017-12-08 2019-12-27 Tiama Methode et machine pour controler un procede de formage
US11795093B2 (en) 2018-03-29 2023-10-24 Emhart Glass S.A. Multivariable vertical glass distribution control using soft sensor and methods
US10798315B2 (en) * 2019-03-01 2020-10-06 Owens-Brockway Glass Container Inc. Removal of interference of absorbers from intensity data
DE102019005487B3 (de) 2019-08-06 2020-07-09 Heye International Gmbh Verfahren zur Wandstärkenmessung eines Hohlglasartikels
DE102019132655A1 (de) * 2019-12-02 2021-06-02 Krones Aktiengesellschaft Verfahren zum Überprüfen einer Wandstärke eines Behälters aus einem zumindest teilweise transparenten Material
CN113916911B (zh) * 2020-06-23 2023-03-24 同方威视技术股份有限公司 物品的安全检查方法和系统
RU2744294C1 (ru) * 2020-09-22 2021-03-04 Общество с ограниченной ответственностью "Сибирь Телематика" Система и способ контроля параметров производства продукции из стекла
WO2022103267A1 (en) * 2020-11-11 2022-05-19 Centrum Voor Technische Informatica B.V. Method for inspecting hollow glass products of glass product material
NL2028216B1 (nl) * 2020-11-11 2022-06-28 Centrum Voor Technische Informatica B V Werkwijze voor het inspecteren van holle glasproducten van glasproductmateriaal
US12060295B2 (en) 2021-05-24 2024-08-13 Corning Incorporated Converter systems and methods for controlling operation of glass tube converting processes
CH719104A1 (de) 2021-11-01 2023-05-15 Cerrion Ag Überwachungssystem für eine Behälterglasformmaschine.

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3968368A (en) * 1975-03-10 1976-07-06 Owens-Illinois, Inc. Inspection apparatus and method for hot glass containers
US4064534A (en) 1976-04-20 1977-12-20 Leone International Sales Corporation System for monitoring the production of items which are initially difficult to physically inspect
US4492476A (en) * 1981-02-20 1985-01-08 Kirin Beer Kabushiki Kaisha Defect detecting method and apparatus
GB2149910B (en) 1983-11-16 1986-10-08 Emhart Ind Detecting the temperature of moulds of a glassware forming machine of the individual section type
JPH0315986A (ja) * 1989-03-28 1991-01-24 Furuno Electric Co Ltd 面温度表示装置
US5032727A (en) * 1990-09-14 1991-07-16 Digital Equipment Corporation Product defect detection using thermal ratio analysis
JP2533424B2 (ja) * 1991-11-19 1996-09-11 石塚硝子株式会社 ガラス壜のホットエンド検査方法
US5345389A (en) 1992-04-21 1994-09-06 Vhc, Ltd. Electronic controller for a glassware forming machine
US6584805B1 (en) 1993-08-24 2003-07-01 Coors Brewing Company Hot bottle inspection apparatus
NL9301568A (nl) 1993-09-09 1995-04-03 Tce Consultancy & Eng Analyse-systeem voor het analyseren, bewaken, diagnostiseren en/of sturen van een produktieproces waarin produkten worden gevormd die een temperatuurbehandeling ondergaan, produktieproces met een analysesysteem en een werkwijze daarvoor.
JP3290028B2 (ja) * 1994-04-15 2002-06-10 松下電工株式会社 成形品検査方法及び成形制御方法
GB9408446D0 (en) 1994-04-28 1994-06-22 Electronic Automation Ltd Apparatus and method for inspecting hot glass containers
AU6640396A (en) 1995-07-31 1997-02-26 Coors Brewing Company Hot bottle inspection apparatus and method
NL1003434C2 (nl) 1996-06-26 1998-01-07 Schelde Maritiem B V Differentieelaandrijving voor een schip met twee scheepsschroeven.
US6188079B1 (en) 1999-01-12 2001-02-13 Owens-Brockway Glass Container Inc. Measurement of hot container wall thickness
WO2000056673A1 (en) 1999-03-24 2000-09-28 Libbey Glass Inc. Temperature control system for a glassware machine
US6639166B1 (en) * 2000-01-31 2003-10-28 Owens-Brockway Glass Container Inc. Method and apparatus for inspection of hot glass containers
JP2001272209A (ja) * 2000-03-23 2001-10-05 Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd 発熱移動体の配列位置検出装置
US6364216B1 (en) 2001-02-20 2002-04-02 G&W Electric Co. Universal power connector for joining flexible cables to rigid devices in any of many configurations
JP2002296430A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Shizuki Electric Co Inc 画像表示装置
DE10140271A1 (de) 2001-08-16 2003-03-06 Hermann Heye I I Elektronische Steuerung für Glasformmaschinen
JP2003083718A (ja) * 2001-09-14 2003-03-19 Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd 高速移動体の外観検査システム
NL1021182C2 (nl) * 2002-07-30 2004-02-03 Xpar Vision B V Analysesysteem en werkwijze voor het analyseren en controleren van een productieproces voor glasproducten.
FR2854460B1 (fr) 2003-04-30 2005-09-30 Bsn Glasspack Procede et dispositif pour l'inspection a chaud d'objets creux translucides ou transparents
US6945662B2 (en) 2003-06-30 2005-09-20 Emhart Glass S.A. Container inspection machine
JP4354866B2 (ja) * 2004-04-27 2009-10-28 三菱電機ビルテクノサービス株式会社 冷熱遠隔監視システム
US7006937B2 (en) 2004-06-01 2006-02-28 American Quality Assurance Corporation System and method for inspecting articles of manufacture
JP4974489B2 (ja) * 2005-07-27 2012-07-11 トヨタ自動車株式会社 組付け精度計測システム
US7256389B2 (en) * 2005-11-07 2007-08-14 Emhart Glass Sa Glass bottle inspection machine
EP2482078B1 (en) 2006-05-01 2016-02-03 Critical Care Diagnostics, Inc. Diagnosis of cardiovascular disease
US7436509B2 (en) * 2006-10-23 2008-10-14 Emhart Glass S.A. Machine for inspecting glass containers

Also Published As

Publication number Publication date
EP2333502A3 (en) 2011-11-09
EP2336740B1 (en) 2014-02-12
EP2333502B1 (en) 2014-08-13
JP5662784B2 (ja) 2015-02-04
EP2333502A2 (en) 2011-06-15
ES2523872T3 (es) 2014-12-02
EP2336740A1 (en) 2011-06-22
US9036023B2 (en) 2015-05-19
JP2011123072A (ja) 2011-06-23
ES2446546T3 (es) 2014-03-10
US20110141264A1 (en) 2011-06-16
US8462203B2 (en) 2013-06-11
US20130269391A1 (en) 2013-10-17
JP2011121861A (ja) 2011-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5615152B2 (ja) ガラス容器成形プロセスをモニタリングおよび制御する方法およびシステム
EP1525469B1 (en) Analytical system and method for measuring and controlling a production process
US9803974B2 (en) Method and installation for measuring the glass distribution in containers
JP2011121861A5 (ja)
EP0643297B1 (en) Analytical system for analyzing, monitoring, diagnosing and/or controlling a process for manufacturing packaging glass products in which the analysis takes place directly after the glass-shaping process
US9671357B2 (en) System and method for monitoring hot glass containers to enhance their quality and control the forming process
JP6415928B2 (ja) コンテナの熱イメージングと組み合わせた壁厚測定のためのシステム及び方法
JP2004025838A (ja) ブロー成形プラスチック容器の肉厚を監視する方法及び装置
JP7464689B2 (ja) 複数のガラス容器の壁の厚さを測定するための設備及び方法
WO1997004887A1 (en) Hot bottle inspection apparatus and method
US6025910A (en) Object inspection method utilizing a corrected image to find unknown characteristic
US5734467A (en) Inspection apparatus for high temperature environments
US9403709B2 (en) Method for controlling the process parameters of a glass forming machine
US20240013367A1 (en) Method for inspecting hollow glass products of glass product material
US20240029231A1 (en) A method for inspecting hollow glass products of glass product material
NL2028215B1 (nl) Werkwijze voor het inspecteren van holle glasproducten van glasproductmateriaal
US12123710B2 (en) Method for measuring the wall thickness of a hollow glass article
WO2020201759A1 (en) Temperature mapping apparatus and method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131209

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140710

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140811

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140909

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5615152

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees