JP5613308B2 - White curable composition for optical semiconductor device, molded article for optical semiconductor device, and optical semiconductor device - Google Patents

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本発明は、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得るために用いられる光半導体装置用白色硬化性組成物に関する。また、本発明は、上記光半導体装置用白色硬化性組成物を用いた光半導体装置用成形体及び光半導体装置に関する。   The present invention relates to a white curable composition for an optical semiconductor device that is used to obtain a molded body having a frame portion that is disposed on the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device. Moreover, this invention relates to the molded object for optical semiconductor devices and optical semiconductor device which used the said white curable composition for optical semiconductor devices.

発光ダイオード(LED)装置などの光半導体装置の消費電力は低く、かつ寿命は長い。また、光半導体装置は、過酷な環境下でも使用され得る。従って、光半導体装置は、携帯電話用バックライト、液晶テレビ用バックライト、自動車用ランプ、照明器具及び看板などの幅広い用途で使用されている。   An optical semiconductor device such as a light emitting diode (LED) device has low power consumption and long life. Moreover, the optical semiconductor device can be used even in a harsh environment. Accordingly, optical semiconductor devices are used in a wide range of applications such as mobile phone backlights, liquid crystal television backlights, automobile lamps, lighting fixtures, and signboards.

光半導体装置に用いられている発光素子である光半導体素子(例えばLED)が大気と直接触れると、大気中の水分又は浮遊するごみ等により、光半導体素子の発光特性が急速に低下する。このため、上記光半導体素子は、通常、光半導体装置用封止剤により封止されている。また、該封止剤を充填するために、上記光半導体素子が搭載されるリードフレーム上に、枠部を有する成形体が配置されている。該枠部を有する成形体の内側に、上記封止剤が充填されている。該成形体は、リフレクター、ケース材又はハウジングと呼ばれることがある。   When an optical semiconductor element (for example, an LED), which is a light emitting element used in an optical semiconductor device, is in direct contact with the atmosphere, the light emission characteristics of the optical semiconductor element rapidly deteriorate due to moisture in the atmosphere or floating dust. For this reason, the said optical semiconductor element is normally sealed with the sealing compound for optical semiconductor devices. In order to fill the sealant, a molded body having a frame portion is disposed on a lead frame on which the optical semiconductor element is mounted. The sealing agent is filled inside the molded body having the frame portion. The molded body may be called a reflector, a case material, or a housing.

また、成形材料を成形して上記成形体を得る際には、通常、金型を用いて、圧縮成形法、トランスファー成形法又は射出成形法などによって、加熱加圧下で連続的に成形する。成形材料を連続成形する場合、得られた成形体の金型からの離型性が、生産性に著しい影響を及ぼす。従来、成形体の金型からの離型性を高めるために、成形材料に離型剤が用いられることが多い。   When the molding material is molded to obtain the molded body, it is usually molded continuously under heat and pressure by a compression molding method, a transfer molding method or an injection molding method using a mold. When the molding material is continuously molded, the releasability of the obtained molded body from the mold significantly affects the productivity. Conventionally, a mold release agent is often used as a molding material in order to improve mold release properties from a mold.

下記の特許文献1には、(A)トリアジン誘導体エポキシ樹脂と酸無水物との特定の反応物と、(B)特定のグリセリン型の内部離型剤と、(C)反射部材と、(D)無機充填材とを含む成形材料が開示されている。   In the following Patent Document 1, (A) a specific reaction product of a triazine derivative epoxy resin and an acid anhydride, (B) a specific glycerin-type internal mold release agent, (C) a reflecting member, and (D ) A molding material containing an inorganic filler is disclosed.

下記の特許文献2には、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)硬化触媒と、(D)無機充填材と、(E)白色顔料と、(F)添加剤と、(G)離型剤とを含む成形材料が開示されている。この成形材料では、トランスファー成形法による連続成形可能ショット数が100回以上である。   Patent Document 2 below includes (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing catalyst, (D) an inorganic filler, (E) a white pigment, and (F) an additive. , (G) a molding material containing a release agent is disclosed. In this molding material, the number of shots that can be continuously molded by the transfer molding method is 100 times or more.

特開2008−192888号公報JP 2008-192888 A 特開2009−097005号公報JP 2009-097005 A

特許文献1,2に記載のような従来の成形材料を連続成形する場合には、上記成形材料に含まれる離型剤によって、成形体の金型からの離型性が高くなり、連続成形性は高くなる。しかし、上記成形材料に含まれる離型剤が成形体にも含まれる結果、成形体の密着対象物に対する密着性が悪くなる。特に、リードフレーム上に成形体を配置したときに、成形体とリードフレームとの密着性が悪くなり、成形体とリードフレームとの剥離が生じやすいという問題がある。   When the conventional molding materials as described in Patent Documents 1 and 2 are continuously molded, the mold release agent contained in the molding material increases the mold releasability from the mold, and the continuous moldability. Becomes higher. However, as a result of the mold release agent contained in the molding material being also contained in the molded body, the adhesion of the molded body to the contact object is deteriorated. In particular, when the molded body is disposed on the lead frame, there is a problem that the adhesion between the molded body and the lead frame is deteriorated, and the molded body and the lead frame are easily peeled off.

本発明の目的は、リードフレームなどの密着対象物に対する成形体の密着性を高めることができる光半導体装置用白色硬化性組成物、並びに該光半導体装置用白色硬化性組成物を用いた光半導体装置用成形体及び光半導体装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a white curable composition for an optical semiconductor device capable of enhancing the adhesion of a molded body to an adhesion target such as a lead frame, and an optical semiconductor using the white curable composition for an optical semiconductor device. It is providing the molded object for apparatuses and an optical semiconductor device.

本発明の広い局面によれば、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得るために用いられ、かつ白色である光半導体装置用白色硬化性組成物であって、エポキシ化合物と、酸無水物硬化剤と、白色顔料と、白色顔料以外の充填材と、硬化促進剤とを含み、示差走査熱量測定において、硬化開始から硬化完了までの発熱量が20J/g以上、100J/g以下である、光半導体装置用白色硬化性組成物が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a white curable composition for an optical semiconductor device, which is used to obtain a molded body having a frame portion disposed on a side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device and is white. And includes an epoxy compound, an acid anhydride curing agent, a white pigment, a filler other than the white pigment, and a curing accelerator. In differential scanning calorimetry, the calorific value from the start of curing to the completion of curing is 20 J. / G or more and 100 J / g or less The white curable composition for optical semiconductor devices is provided.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物のある特定の局面では、180℃での溶融粘度が100Pa・s未満である。   In a specific aspect of the white curable composition for an optical semiconductor device according to the present invention, the melt viscosity at 180 ° C. is less than 100 Pa · s.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物のある特定の局面では、前記エポキシ化合物のエポキシ当量が300以下である。   On the specific situation with the white curable composition for optical semiconductor devices which concerns on this invention, the epoxy equivalent of the said epoxy compound is 300 or less.

前記白色顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛又は酸化ジルコニウムであることが好ましい。前記充填材がシリカを含むことが好ましい。前記白色顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛又は酸化ジルコニウムであり、かつ、前記充填材がシリカを含むことが好ましい。   The white pigment is preferably titanium oxide, zinc oxide or zirconium oxide. It is preferable that the filler contains silica. It is preferable that the white pigment is titanium oxide, zinc oxide, or zirconium oxide, and the filler contains silica.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物のある特定の局面では、該光半導体装置用白色硬化性組成物は、離型剤を含まないか、又は離型剤をさらに含みかつ光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中の前記離型剤の含有量が2重量%以下である。   On the specific situation of the white curable composition for optical semiconductor devices which concerns on this invention, this white curable composition for optical semiconductor devices does not contain a mold release agent, or further contains a mold release agent, and is an optical semiconductor. Content of the said mold release agent in 100 weight% of white curable compositions for apparatuses is 2 weight% or less.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物のある特定の局面では、該光半導体装置用白色硬化性組成物は、離型剤をさらに含む。   On the specific situation with the white curable composition for optical semiconductor devices which concerns on this invention, this white curable composition for optical semiconductor devices further contains a mold release agent.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体装置において光半導体素子が搭載されたリードフレーム上に配置される成形体を得るために好適に用いられる。   The white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention is suitably used for obtaining a molded body disposed on a lead frame on which an optical semiconductor element is mounted in an optical semiconductor device.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、複数の成形体が連なった分割前成形体を得た後、前記分割前成形体を分割して個々の成形体を得るために好適に用いられる。   The white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention is suitable for obtaining individual molded bodies by dividing the pre-divided molded body after obtaining a molded body before division in which a plurality of molded bodies are continuous. Used.

本発明の広い局面によれば、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体であって、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる、光半導体装置用成形体が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a molded body having a frame portion disposed on the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device, which is obtained by curing the above-described white curable composition for an optical semiconductor device. An optical semiconductor device molded body is provided.

本発明の広い局面によれば、リードフレームと、前記リードフレーム上に搭載された光半導体素子と、前記リードフレーム上に配置されており、かつ前記光半導体素子の側方に配置されている枠部を有する成形体とを備え、前記成形体が、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる、光半導体装置が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a lead frame, an optical semiconductor element mounted on the lead frame, and a frame disposed on the lead frame and disposed on a side of the optical semiconductor element. There is provided an optical semiconductor device that is obtained by curing the white curable composition for an optical semiconductor device described above.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、エポキシ化合物と、酸無水物硬化剤と、白色顔料と、白色顔料以外の充填材と、硬化促進剤とを含み、更に示差走査熱量測定において、硬化開始から硬化完了までの発熱量が20J/g以上、100J/g以下であるので、リードフレームなどの密着対象物に対する成形体の密着性を高めることができる。   The white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention includes an epoxy compound, an acid anhydride curing agent, a white pigment, a filler other than the white pigment, and a curing accelerator, and further includes differential scanning calorimetry. , Since the amount of heat generated from the start of curing to the completion of curing is 20 J / g or more and 100 J / g or less, it is possible to improve the adhesion of the molded body to a close object such as a lead frame.

図1(a)及び(b)は、本発明の一実施形態に係る光半導体装置用白色硬化性組成物を用いた成形体を備える光半導体装置の一例を模式的に示す断面図及び斜視図である。1A and 1B are a cross-sectional view and a perspective view schematically showing an example of an optical semiconductor device including a molded body using a white curable composition for an optical semiconductor device according to an embodiment of the present invention. It is. 図2は、図1に示す光半導体装置の変形例を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a modification of the optical semiconductor device shown in FIG. 図3は、本発明の一実施形態に係る光半導体装置用白色硬化性組成物を用いた複数の成形体が連なった分割前成形体を含む分割前光半導体装置用部品の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 schematically illustrates an example of a pre-division optical semiconductor device component including a pre-division molded body in which a plurality of molded bodies using a white curable composition for an optical semiconductor device according to an embodiment of the present invention are connected. It is sectional drawing shown. 図4は、本発明の一実施形態に係る光半導体装置用白色硬化性組成物を用いた複数の成形体が連なった分割前成形体を含む分割前光半導体装置の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a pre-division optical semiconductor device including a pre-division molded body in which a plurality of molded bodies using a white curable composition for an optical semiconductor device according to an embodiment of the present invention are connected. FIG.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(光半導体装置用白色硬化性組成物)
本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得るために用いられる。本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、白色である。本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物は、エポキシ化合物(A)と、硬化剤(B)と、白色顔料(C)と、白色顔料以外の充填材(D)と、硬化促進剤(E)とを含む。本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物では、硬化剤(B)は、酸無水物硬化剤である。
(White curable composition for optical semiconductor devices)
The white curable composition for optical semiconductor devices which concerns on this invention is used in order to obtain the molded object which has a frame part arrange | positioned at the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device. The white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention is white. The white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention includes an epoxy compound (A), a curing agent (B), a white pigment (C), a filler (D) other than a white pigment, and a curing accelerator. (E). In the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention, the curing agent (B) is an acid anhydride curing agent.

さらに、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物では、示差走査熱量測定において、硬化開始から硬化完了までの発熱量が20J/g以上、100J/g以下である。   Furthermore, in the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention, in the differential scanning calorimetry, the calorific value from the start of curing to the completion of curing is 20 J / g or more and 100 J / g or less.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物における上記組成を採用することで、更に硬化開始から硬化完了までの発熱量が上記下限以上であることで、リードフレームなどの密着対象物に対する成形体の密着性を高めることができる。特に、銀めっき及び銅の表面を有する密着対象物に対する成形体の密着性が高くなる。また、例えば、リードフレーム上に、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物を成形した成形体を配置したときに、リードフレームと成形体の密着性が高くなる。この結果、リードフレームと成形体との剥離を抑えることができる。さらに、成形体を所定の形状に成形することができ、成形体の意図しない変形を抑えることができる。例えば、成形体の湾曲を抑えることができる。   By adopting the above composition in the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention, the amount of heat generated from the start of curing to the completion of curing is equal to or more than the above lower limit, so that molding on an adhesion target object such as a lead frame is performed. The adhesion of the body can be improved. In particular, the adhesiveness of the molded body with respect to the adhesion target object which has the surface of silver plating and copper becomes high. Further, for example, when a molded body obtained by molding the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention is disposed on the lead frame, the adhesion between the lead frame and the molded body is increased. As a result, peeling between the lead frame and the molded body can be suppressed. Furthermore, the molded body can be molded into a predetermined shape, and unintended deformation of the molded body can be suppressed. For example, the bending of the molded body can be suppressed.

なお、上記発熱量は100J/gを超えても、リードフレームなどの密着対象物に対する成形体の密着性を高めることはできるが、硬化収縮による成形体の変形を抑える観点から、上記発熱量は100J/g以下である。   In addition, even if the said calorific value exceeds 100 J / g, although the adhesiveness of the molded object with respect to close_contact | adherence objects, such as a lead frame, can be improved, from the viewpoint of suppressing the deformation | transformation of the molded object by hardening shrinkage, the said calorific value is 100 J / g or less.

また、複数の光半導体装置を得るために、後に複数のリードフレームに分割される分割前リードフレーム上に、成形体を配置した後、分割前リードフレームを分割して、複数の光半導体装置を得ることがある。さらに、複数の光半導体装置を得るために、リードフレーム上に、後に複数の成形体に分割される分割前成形体を配置した後、分割前成形体を分割して、複数の光半導体装置を得ることがある。   Further, in order to obtain a plurality of optical semiconductor devices, a molded body is disposed on a pre-division lead frame that is later divided into a plurality of lead frames, and then the pre-division lead frame is divided to obtain a plurality of optical semiconductor devices. May get. Furthermore, in order to obtain a plurality of optical semiconductor devices, a pre-division molded body that is later divided into a plurality of molded bodies is arranged on a lead frame, and then the pre-division molded body is divided to obtain a plurality of optical semiconductor devices. May get.

本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物の使用により、分割前リードフレーム及び分割前成形体を分割する際に、リードフレームからの成形体の剥離を効果的に抑制することができる。また、本発明では、例えば、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物を成形した後、ランナー部分から、成形された成形体を含むLEDパッケージを分離する際に、成形体がリードフレーム等から剥離し難くなる。   By using the white curable composition for an optical semiconductor device according to the present invention, when the lead frame before division and the molded body before division are divided, it is possible to effectively suppress peeling of the molded body from the lead frame. In the present invention, for example, after molding the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention, when the LED package including the molded body is separated from the runner portion, the molded body is the lead frame. It becomes difficult to peel off from etc.

また、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物の使用により、リードフレーム以外の密着対象物に関しても、成形体の密着対象物に対する密着性を高めることができる。上記リードフレーム以外の密着対象物としては、封止剤等が挙げられる。   Further, by using the white curable composition for an optical semiconductor device according to the present invention, the adhesion of the molded body to the adhesion target object can be enhanced with respect to the adhesion target object other than the lead frame. Examples of the contact object other than the lead frame include a sealant.

さらに、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物の使用により、複数の成形体を連続して成形する際に、連続成形性を高めることができる。すなわち、複数の成形体を連続して成形したとしても、成形体に欠けが生じ難く、ウェルドなどの成形異常が生じ難くなる。   Furthermore, by using the white curable composition for optical semiconductor devices according to the present invention, the continuous moldability can be improved when a plurality of molded articles are continuously molded. That is, even if a plurality of molded bodies are continuously molded, the molded body is hardly chipped and molding abnormalities such as welds are less likely to occur.

上記発熱量は、DSC(示差走査熱量測定)により、上記光半導体装置用白色硬化性組成物の硬化開始から硬化完了までの発熱量を測定することにより求めることができる。上記DSCを行う際に、例えば、エイアイアイ・ナノテクノロジー社製「EXSTAR DSC7020」等が用いられる。上記硬化開始温度は一般に50℃以上の温度である。従って、上記DSCでは、室温(23℃)から昇温速度10℃/分で硬化が完了するまでの発熱量(総発熱量)を測定することにより求めることができる。上記DSCにおいて、温度と熱流とをプロットしたときに、ベースラインから熱流が上昇し始めたときを硬化開始と判断し、熱流が下降してベースラインに至ったときを硬化完了と判断する。   The calorific value can be determined by measuring the calorific value from the start of curing to the completion of curing of the white curable composition for optical semiconductor devices by DSC (differential scanning calorimetry). When performing the DSC, for example, “EXSTAR DSC7020” manufactured by AI Nano Technology, etc. is used. The curing start temperature is generally 50 ° C. or higher. Therefore, in the DSC, it can be obtained by measuring the heat generation amount (total heat generation amount) from room temperature (23 ° C.) until the curing is completed at a heating rate of 10 ° C./min. In the DSC, when the temperature and the heat flow are plotted, it is determined that the curing starts when the heat flow starts to rise from the baseline, and when the heat flow decreases and reaches the baseline, it is determined that the curing is completed.

上記発熱量を制御する方法としては、上記エポキシ化合物(A)と上記硬化剤(B)との当量比を制御する方法、上記白色顔料(C)の配合量を制御する方法、上記白色顔料以外の充填材(D)の配合量を制御する方法、並びに上記硬化促進剤(E)の配合量を制御する方法等が挙げられる。   As a method for controlling the calorific value, a method for controlling the equivalent ratio of the epoxy compound (A) and the curing agent (B), a method for controlling the amount of the white pigment (C), and other than the white pigment And a method for controlling the blending amount of the filler (D) and a method for controlling the blending amount of the curing accelerator (E).

成形性をより一層高める観点からは、上記光半導体装置用白色硬化性組成物の180℃での溶融粘度は、好ましくは200Pa・s以下、より好ましくは100Pa・s未満である。上記溶融粘度の下限は特に限定されない。過度の流動を抑える観点からは、上記光半導体装置用白色硬化性組成物の180℃での溶融粘度は、好ましくは3Pa・s以上、より好ましくは5Pa・s以上である。   From the viewpoint of further improving the moldability, the melt viscosity at 180 ° C. of the white curable composition for optical semiconductor devices is preferably 200 Pa · s or less, more preferably less than 100 Pa · s. The lower limit of the melt viscosity is not particularly limited. From the viewpoint of suppressing excessive flow, the melt viscosity at 180 ° C. of the white curable composition for optical semiconductor devices is preferably 3 Pa · s or more, more preferably 5 Pa · s or more.

上記溶融粘度の測定には、例えば、島津製作所社製の高化式フローテスター等が用いられる。測定条件は、温度180℃、荷重20kgf、ダイ穴径1mm及びダイ長さ1mmの条件である。   For example, an elevated flow tester manufactured by Shimadzu Corporation is used for the measurement of the melt viscosity. The measurement conditions are a temperature of 180 ° C., a load of 20 kgf, a die hole diameter of 1 mm, and a die length of 1 mm.

以下、本発明に係る光半導体装置用白色硬化性組成物に含まれている各成分の詳細を説明する。   Hereinafter, the detail of each component contained in the white curable composition for optical semiconductor devices which concerns on this invention is demonstrated.

[エポキシ化合物(A)]
上記硬化性組成物は、熱の付与によって硬化可能であるように、上記エポキシ化合物(A)を含む。上記エポキシ化合物(A)はエポキシ基を有する。熱硬化性化合物として上記エポキシ化合物(A)を用いることにより、成形体の耐熱性及び絶縁信頼性が高くなる。上記エポキシ化合物(A)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Epoxy compound (A)]
The said curable composition contains the said epoxy compound (A) so that it can harden | cure by provision of a heat | fever. The epoxy compound (A) has an epoxy group. By using the said epoxy compound (A) as a thermosetting compound, the heat resistance and insulation reliability of a molded object become high. As for the said epoxy compound (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシ化合物(A)の具体例としては、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、多塩素酸化合物とエピクロロヒドリンとを反応させて得られるグリシジルエステル型エポキシ化合物、ポリアミン化合物とエピクロロヒドリンとを反応させて得られるグリシジルアミン型エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、水添型芳香族エポキシ化合物、脂環式骨格を有するエポキシ化合物、及び複素環式エポキシ化合物等が挙げられる。上記多塩素酸化合物としては、フタル酸及びダイマー酸等が挙げられる。上記ポリアミン化合物としては、ジアミノジフェニルメタン及びイソシアヌル酸等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound (A) include bisphenol type epoxy compounds, novolak type epoxy compounds, glycidyl ester type epoxy compounds obtained by reacting polychloric acid compounds with epichlorohydrin, polyamine compounds and epichlorohydrides. Glycidylamine type epoxy compounds, glycidyl ether type epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, hydrogenated aromatic epoxy compounds, epoxy compounds having an alicyclic skeleton, and heterocyclic epoxy compounds obtained by reacting with phosphorus Can be mentioned. Examples of the polychloric acid compound include phthalic acid and dimer acid. Examples of the polyamine compound include diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid.

上記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、及びアルキル置換ビスフェノールなどのジグリシジルエーテル等が挙げられる。上記ノボラック型エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ化合物、及びオルソクレゾールノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。上記複素環式エポキシ化合物としては、ジグリシジルイソシアヌレート及びトリグリシジルイソシアヌレート等が挙げられる。   Examples of the bisphenol type epoxy compound include bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, bisphenol S type epoxy compounds, and diglycidyl ethers such as alkyl-substituted bisphenols. As said novolak-type epoxy compound, a phenol novolak-type epoxy compound, an ortho cresol novolak-type epoxy compound, etc. are mentioned. Examples of the heterocyclic epoxy compound include diglycidyl isocyanurate and triglycidyl isocyanurate.

上記エポキシ化合物(A)は無色であるか、又は無色に近い色であることが好ましい。このため、上記エポキシ化合物(A)は、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ジグリシジルイソシアヌレート又はトリグリシジルイソシアヌレートであることが好ましい。   The epoxy compound (A) is preferably colorless or has a color close to colorless. Therefore, the epoxy compound (A) is preferably a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, diglycidyl isocyanurate or triglycidyl isocyanurate.

過酷な環境下での使用による光半導体装置の品質の低下をより一層抑える観点からは、上記エポキシ化合物(A)は、芳香族骨格を有さないエポキシ化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of further suppressing deterioration of the quality of the optical semiconductor device due to use in a harsh environment, the epoxy compound (A) is preferably an epoxy compound having no aromatic skeleton.

上記エポキシ化合物(A)のエポキシ当量は、好ましくは50以上、より好ましくは100以上、好ましくは500以下、より好ましくは300以下である。上記エポキシ化合物(A)のエポキシ当量は、300以下であることが特に好ましい。上記エポキシ当量が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記硬化性組成物の連続成形性、及び成形体の密着対象物に対する密着性がより一層高くなる。   The epoxy equivalent of the epoxy compound (A) is preferably 50 or more, more preferably 100 or more, preferably 500 or less, more preferably 300 or less. The epoxy equivalent of the epoxy compound (A) is particularly preferably 300 or less. When the epoxy equivalent is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the continuous moldability of the curable composition and the adhesion of the molded body to the adhesion target are further enhanced.

上記エポキシ化合物(A)の配合量は、熱の付与により適度に硬化するように適宜調整され、特に限定されない。上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中、上記エポキシ化合物(A)の含有量は好ましくは1重量%以上、より好ましくは3重量%以上、更に好ましくは5重量%以上、好ましくは99重量%以下、より好ましくは95重量%以下、更に好ましくは80重量%以下である。上記エポキシ化合物(A)の含有量が上記下限以上であると、加熱により硬化性組成物がより一層効果的に硬化する。上記エポキシ化合物(A)の含有量が上記上限以下であると、成形体の耐熱性がより一層高くなる。   The compounding quantity of the said epoxy compound (A) is suitably adjusted so that it may harden | cure moderately by provision of heat, and is not specifically limited. In 100% by weight of the white curable composition for optical semiconductor devices, the content of the epoxy compound (A) is preferably 1% by weight or more, more preferably 3% by weight or more, still more preferably 5% by weight or more, preferably It is 99 weight% or less, More preferably, it is 95 weight% or less, More preferably, it is 80 weight% or less. When the content of the epoxy compound (A) is not less than the above lower limit, the curable composition is more effectively cured by heating. When the content of the epoxy compound (A) is not more than the above upper limit, the heat resistance of the molded product is further increased.

[硬化剤(B)]
上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、熱の付与によって効率的に硬化可能であるように、上記硬化剤(B)を含む。上記硬化剤(B)は、上記エポキシ化合物(A)を硬化させる。上記硬化剤(B)は酸無水物硬化剤である。該酸無水物硬化剤の使用によって、成形体と接触している封止剤やリードフレームなどの部材との密着性が高くなる。また、上記酸無水物硬化剤の使用により、硬化性を高く維持して、成形体の成形むらをより一層抑制できる。上記酸無水物硬化剤として、上記エポキシ化合物(A)の硬化剤として使用される公知の酸無水物硬化剤が使用可能である。上記硬化剤(B)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Curing agent (B)]
The said white curable composition for optical semiconductor devices contains the said hardening | curing agent (B) so that it can harden | cure efficiently by provision of heat. The curing agent (B) cures the epoxy compound (A). The curing agent (B) is an acid anhydride curing agent. By using the acid anhydride curing agent, adhesion with a member such as a sealant or a lead frame that is in contact with the molded body is increased. Further, by using the acid anhydride curing agent, it is possible to maintain high curability and further suppress the molding unevenness of the molded body. As the acid anhydride curing agent, a known acid anhydride curing agent used as a curing agent for the epoxy compound (A) can be used. As for the said hardening | curing agent (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記酸無水物硬化剤としては、芳香族骨格を有する酸無水物及び脂環式骨格を有する酸無水物の内のいずれも使用可能である。   As the acid anhydride curing agent, any of an acid anhydride having an aromatic skeleton and an acid anhydride having an alicyclic skeleton can be used.

好ましい上記酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   Preferred examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride. And methylhexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride.

上記酸無水物硬化剤は、二重結合を有さないことが好ましい。二重結合を有さない好ましい酸無水物硬化剤としては、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   The acid anhydride curing agent preferably does not have a double bond. Preferable acid anhydride curing agents having no double bond include hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride.

上記エポキシ化合物(A)と上記硬化剤(B)との配合比率は特に限定されない。上記エポキシ化合物(A)100重量部に対して、上記硬化剤(B)(酸無水物硬化剤)の含有量は、好ましくは0.5重量部以上、より好ましくは1重量部以上、更に好ましくは2重量部以上、特に好ましくは3重量部以上、好ましくは500重量部以下、より好ましくは300重量部以下、更に好ましくは200重量部以下、特に好ましくは100重量部以下である。   The mixing ratio of the epoxy compound (A) and the curing agent (B) is not particularly limited. The content of the curing agent (B) (acid anhydride curing agent) with respect to 100 parts by weight of the epoxy compound (A) is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, and still more preferably. Is 2 parts by weight or more, particularly preferably 3 parts by weight or more, preferably 500 parts by weight or less, more preferably 300 parts by weight or less, still more preferably 200 parts by weight or less, particularly preferably 100 parts by weight or less.

また、上記光半導体装置用白色硬化性組成物中で、上記エポキシ化合物(A)全体のエポキシ当量と上記硬化剤(B)(酸無水物硬化剤)の硬化剤当量との当量比(エポキシ当量:硬化剤当量)は、0.3:1〜3:1であることが好ましく、1.3:1〜2:1であることがより好ましい。上記当量比(エポキシ当量:硬化剤当量)が上記範囲を満足すると、成形体の耐熱性及び耐候性がより一層高くなる。   Moreover, in the said white curable composition for optical semiconductor devices, the equivalent ratio (epoxy equivalent) of the epoxy equivalent of the said epoxy compound (A) whole and the hardening | curing agent equivalent of the said hardening | curing agent (B) (acid anhydride hardening | curing agent). : Curing agent equivalent) is preferably 0.3: 1 to 3: 1 and more preferably 1.3: 1 to 2: 1. When the equivalent ratio (epoxy equivalent: curing agent equivalent) satisfies the above range, the heat resistance and weather resistance of the molded article are further enhanced.

[白色顔料(C)]
上記光半導体装置用白色硬化性組成物は上記白色顔料(C)を含むので、光の反射率が高い成形体を得ることができる。また、上記白色顔料(C)の使用によって、上記白色顔料(C)以外の充填材のみを用いた場合と比較して、光の反射率が高い成形体が得られる。上記白色顔料(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[White pigment (C)]
Since the said white curable composition for optical semiconductor devices contains the said white pigment (C), a molded object with a high reflectance of light can be obtained. Further, by using the white pigment (C), a molded article having a high light reflectance can be obtained as compared with the case where only the filler other than the white pigment (C) is used. As for the said white pigment (C), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記白色顔料(C)は特に限定されない。上記白色顔料(C)として従来公知の白色顔料を使用可能である。   The white pigment (C) is not particularly limited. A conventionally known white pigment can be used as the white pigment (C).

上記白色顔料(C)としては、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン及び酸化マグネシウム等が挙げられる。   Examples of the white pigment (C) include alumina, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, antimony oxide and magnesium oxide.

成形体の光の反射率をより一層高める観点からは、上記白色顔料(C)は、酸化チタン、酸化亜鉛又は酸化ジルコニウムであることが好ましい。この好ましい白色顔料を用いる場合に、酸化チタン、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムの中で、1種又は2種以上の白色顔料を用いることができる。上記白色顔料(C)は、酸化チタン又は酸化亜鉛であることが好ましく、酸化チタンであることが好ましく、酸化亜鉛であることが好ましい。上記白色顔料(C)は、酸化ジルコニウムであってもよい。   From the viewpoint of further increasing the light reflectance of the molded product, the white pigment (C) is preferably titanium oxide, zinc oxide or zirconium oxide. When this preferred white pigment is used, one or more white pigments can be used among titanium oxide, zinc oxide and zirconium oxide. The white pigment (C) is preferably titanium oxide or zinc oxide, preferably titanium oxide, and preferably zinc oxide. The white pigment (C) may be zirconium oxide.

上記酸化チタンは、ルチル型酸化チタンであることが好ましい。ルチル型酸化チタンの使用により、成形体の耐熱性がより一層高くなり、光半導体装置が過酷な環境下で使用されても、品質が低下し難くなる。   The titanium oxide is preferably rutile titanium oxide. By using rutile type titanium oxide, the heat resistance of the molded body is further increased, and even if the optical semiconductor device is used in a harsh environment, the quality is hardly lowered.

上記酸化チタンは、アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンであることが好ましい。上記白色顔料(C)100重量%中、上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンの含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、100重量%以下である。上記白色顔料(C)の全量が、上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンであってもよい。上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンの使用により、成形体の耐熱性がより一層高くなる。   The titanium oxide is preferably rutile type titanium oxide surface-treated with aluminum oxide. In 100% by weight of the white pigment (C), the content of rutile titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more and 100% by weight or less. The total amount of the white pigment (C) may be rutile titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide. Use of the rutile type titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide further increases the heat resistance of the molded body.

上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンとしては、例えば、ルチル塩素法酸化チタンである石原産業社製「CR−58」、並びにルチル硫酸法酸化チタンである石原産業社製「R−630」等が挙げられる。   Examples of the rutile-type titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide include, for example, “CR-58” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., which is a rutile chlorine method titanium oxide, and “R-” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., which is a rutile sulfuric acid method titanium oxide. 630 "etc. are mentioned.

上記酸化亜鉛は、表面処理された酸化亜鉛であることが好ましい。成形体の加工性及び成形体の光の反射率をより一層高める観点からは、上記酸化亜鉛は、珪素、アルミニウム又はジルコニアを含む材料により表面処理されていることが好ましく、珪素を含む材料により表面処理されていることがより好ましい。上記珪素を含む材料は、シリコーン化合物であることが好ましい。   The zinc oxide is preferably surface-treated zinc oxide. From the viewpoint of further improving the workability of the molded body and the light reflectance of the molded body, the zinc oxide is preferably surface-treated with a material containing silicon, aluminum, or zirconia, and the surface is made of a material containing silicon. More preferably, it has been treated. The material containing silicon is preferably a silicone compound.

上記酸化ジルコニウムは、表面処理された酸化ジルコニウムであることが好ましい。成形体の加工性及び成形体の光の反射率をより一層高める観点からは、上記酸化ジルコニウムは、珪素、アルミニウム又はジルコニアを含む材料により表面処理されていることが好ましく、珪素を含む材料により表面処理されていることがより好ましい。上記珪素を含む材料は、シリコーン化合物であることが好ましい。   The zirconium oxide is preferably surface-treated zirconium oxide. From the viewpoint of further improving the workability of the molded body and the light reflectance of the molded body, the zirconium oxide is preferably surface-treated with a material containing silicon, aluminum or zirconia, and the surface is treated with a material containing silicon. More preferably, it has been treated. The material containing silicon is preferably a silicone compound.

上記表面処理の方法は特に限定されない。表面処理の方法として、乾式法、湿式法、インテグラルブレンド法、並びに他の公知慣用の表面処理方法を用いることができる。   The surface treatment method is not particularly limited. As a surface treatment method, a dry method, a wet method, an integral blend method, and other known and commonly used surface treatment methods can be used.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中、上記白色顔料(C)の含有量は、好ましくは3重量%以上、より好ましくは5重量%以上、更に好ましくは7重量%以上、特に好ましくは10重量%以上、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下、更に好ましくは85重量%以下である。上記白色顔料(C)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、成形体の光の反射率がより一層高くなり、上記硬化性組成物の成形体がより一層高くなる。   In 100% by weight of the white curable composition for an optical semiconductor device, the content of the white pigment (C) is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, and further preferably 7% by weight or more. Preferably it is 10 weight% or more, Preferably it is 95 weight% or less, More preferably, it is 90 weight% or less, More preferably, it is 85 weight% or less. When the content of the white pigment (C) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the light reflectance of the molded body is further increased, and the molded body of the curable composition is further increased.

(充填材(D))
上記充填材(D)は、白色顔料(C)以外の充填材である。上記充填材(D)は、白色顔料(C)とは異なる。上記充填材(D)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Filler (D))
The filler (D) is a filler other than the white pigment (C). The filler (D) is different from the white pigment (C). As for the said filler (D), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記充填材(D)として、無機充填材及び有機充填材の内のいずれも用いることができる。上記充填材(D)の具体例としては、シリカ、マイカ、ベリリア、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、酸化アンチモン、ホウ酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、炭化ケイ素、架橋アクリルの樹脂粒子及びシリコーン粒子等が挙げられる。上記充填材(D)は、無機充填材であることが好ましい。上記充填材(D)は、白色顔料である酸化チタンではなく、白色顔料である酸化亜鉛ではなく、白色顔料である酸化ジルコニウムではない。   Any of an inorganic filler and an organic filler can be used as the filler (D). Specific examples of the filler (D) include silica, mica, beryllia, potassium titanate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, antimony oxide, aluminum borate, aluminum hydroxide, magnesium oxide, calcium carbonate. , Magnesium carbonate, aluminum carbonate, calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, calcium sulfate, barium sulfate, silicon nitride, boron nitride, calcined clay clay, talc, silicon carbide, crosslinked acrylic resin particles and Examples thereof include silicone particles. The filler (D) is preferably an inorganic filler. The filler (D) is not titanium oxide, which is a white pigment, is not zinc oxide, which is a white pigment, and is not zirconium oxide, which is a white pigment.

上記硬化性組成物の成形性、並びに成形体と密着対象物との密着性をより一層良好にする観点からは、上記充填材(D)はシリカを含むことが好ましい。   From the viewpoint of further improving the moldability of the curable composition and the adhesion between the molded body and the object to be adhered, the filler (D) preferably contains silica.

上記充填材(D)の平均粒径は、好ましくは0.1μm以上、好ましくは100μm以下である。上記平均粒径が上記下限以上であると、上記硬化性組成物の成形性がより一層良好になる。上記平均粒径が上記上限以下であると、成形体の外観不良がより一層生じ難くなる。   The average particle diameter of the filler (D) is preferably 0.1 μm or more, and preferably 100 μm or less. The moldability of the said curable composition becomes still better that the said average particle diameter is more than the said minimum. When the average particle size is less than or equal to the above upper limit, the appearance defect of the molded body is more difficult to occur.

上記充填材(D)における平均粒径は、体積基準粒度分布曲線において積算値が50%のときの粒径値である。該平均粒径は、例えばレーザ光式粒度分布計を用いて測定可能である。該レーザ光式粒度分布計の市販品としては、Beckman Coulter社製「LS 13 320」等が挙げられる。   The average particle size in the filler (D) is a particle size value when the integrated value is 50% in the volume-based particle size distribution curve. The average particle size can be measured using, for example, a laser beam type particle size distribution meter. As a commercial product of the laser beam type particle size distribution analyzer, “LS 13 320” manufactured by Beckman Coulter, Inc. can be cited.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中、上記充填材(D)及び上記シリカの含有量はそれぞれ、好ましくは5重量%以上、より好ましくは10重量%以上、更に好ましくは20重量%以上、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下、更に好ましくは85重量%以下である。上記充填材(D)及び上記シリカの含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化性組成物の成形性がより一層高くなる。上記充填材(D)の含有量が上記上限以下であると、成形体の光の反射率がより一層高くなる。   The content of the filler (D) and the silica is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, and further preferably 20% by weight in 100% by weight of the white curable composition for optical semiconductor devices. % Or more, preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, and still more preferably 85% by weight or less. When the content of the filler (D) and the silica is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the moldability of the curable composition is further enhanced. When the content of the filler (D) is not more than the above upper limit, the light reflectance of the molded body is further increased.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中、上記白色顔料(C)と上記充填材(D)との合計の含有量は、好ましくは20重量%以上、より好ましくは50重量%以上、更に好ましくは60重量%以上、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下、更に好ましくは85重量%以下である。上記白色顔料(C)と上記充填材(D)との合計の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化性組成物の成形性及び成形体の光の反射率がより一層高くなり、上記硬化性組成物の流動性がより一層適度になる。また、上記白色顔料(C)と上記充填材(D)との合計の含有量が50重量%以上であると、成形体の強度がより一層高くなり、上記硬化性組成物の流動性がより一層適度になる。   In 100% by weight of the white curable composition for optical semiconductor devices, the total content of the white pigment (C) and the filler (D) is preferably 20% by weight or more, more preferably 50% by weight or more. More preferably, it is 60% by weight or more, preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less, and still more preferably 85% by weight or less. When the total content of the white pigment (C) and the filler (D) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the moldability of the curable composition and the light reflectance of the molded body are even higher. Thus, the fluidity of the curable composition becomes even more appropriate. Further, when the total content of the white pigment (C) and the filler (D) is 50% by weight or more, the strength of the molded body is further increased, and the fluidity of the curable composition is further increased. It becomes more moderate.

(硬化促進剤(E))
上記エポキシ化合物(A)と上記硬化剤(B)との反応を促進するために、上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、上記硬化促進剤(E)を含む。硬化促進剤(E)の使用により、硬化性組成物の硬化性が高くなり、更に成形体の耐熱性が高くなる。上記硬化促進剤(E)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curing accelerator (E))
In order to accelerate the reaction between the epoxy compound (A) and the curing agent (B), the white curable composition for optical semiconductor devices includes the curing accelerator (E). Use of the curing accelerator (E) increases the curability of the curable composition and further increases the heat resistance of the molded body. As for the said hardening accelerator (E), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化促進剤(E)としては、ウレア化合物、オニウム塩化合物、イミダゾール化合物、リン化合物、アミン化合物及び有機金属化合物等が挙げられる。   Examples of the curing accelerator (E) include urea compounds, onium salt compounds, imidazole compounds, phosphorus compounds, amine compounds, and organometallic compounds.

上記ウレア化合物としては、ウレア、脂肪族ウレア化合物及び芳香族ウレア化合物等が挙げられる。上記ウレア化合物の具体例としては、ウレア、メチルウレア、1,1−ジメチルウレア、1,3−ジメチルウレア、1,1,3,3−テトラメチルウレア、1,3−ジフェニルウレア及びトリ−n−ブチルチオウレア等が挙げられる。これら以外のウレア化合物を用いてもよい。   Examples of the urea compound include urea, aliphatic urea compounds, and aromatic urea compounds. Specific examples of the urea compound include urea, methylurea, 1,1-dimethylurea, 1,3-dimethylurea, 1,1,3,3-tetramethylurea, 1,3-diphenylurea, and tri-n-. Examples include butylthiourea. Urea compounds other than these may be used.

上記オニウム塩化合物としては、アンモニウム塩、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩化合物等が挙げられる。   Examples of the onium salt compounds include ammonium salts, phosphonium salts, and sulfonium salt compounds.

上記イミダゾール化合物としては、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール及び2−フェニル−4−メチル−5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole compound include 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-un Decylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2 ′ -Methyl Midazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 [2′-Ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole Can be mentioned.

上記リン化合物は、リンを含有し、リン含有化合物である。上記リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、及びテトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレート等が挙げられる。これら以外のリン化合物を用いてもよい。   The phosphorus compound contains phosphorus and is a phosphorus-containing compound. Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, and tetra-n-. Examples thereof include butylphosphonium-tetraphenylborate. Phosphorus compounds other than these may be used.

上記アミン化合物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジエチレンテトラミン、トリエチレンテトラミン、4,4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロアルカン、ジアザビシクロアルケン、第4級アンモニウム塩、トリエチレンジアミン、及びトリ−2,4,6−ジメチルアミノメチルフェノールが挙げられる。これらの化合物の塩を用いてもよい。フェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレートが挙げられる。   Examples of the amine compound include diethylamine, triethylamine, diethylenetetramine, triethylenetetramine, 4,4-dimethylaminopyridine, diazabicycloalkane, diazabicycloalkene, quaternary ammonium salt, triethylenediamine, and tri-2,4. , 6-dimethylaminomethylphenol. You may use the salt of these compounds. Phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium-tetraphenylborate It is done.

上記有機金属化合物としては、アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物等が挙げられる。上記有機金属化合物の具体例としては、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)及びトリスアセチルアセトナートコバルト(III)等が挙げられる。   Examples of the organometallic compound include alkali metal compounds and alkaline earth metal compounds. Specific examples of the organometallic compound include zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, bisacetylacetonate cobalt (II), and trisacetylacetonate cobalt (III).

上記硬化性組成物の硬化性をより一層高め、更に成形体の耐熱性をより一層高める観点からは、上記硬化促進剤(E)は、ウレア化合物、オニウム塩化合物又はリン化合物であることが好ましい。上記硬化促進剤(E)は、ウレア化合物であることが好ましく、オニウム塩化合物であることも好ましく、リン化合物であることも好ましい。   From the viewpoint of further improving the curability of the curable composition and further improving the heat resistance of the molded article, the curing accelerator (E) is preferably a urea compound, an onium salt compound or a phosphorus compound. . The curing accelerator (E) is preferably a urea compound, preferably an onium salt compound, and preferably a phosphorus compound.

上記エポキシ化合物(A)と上記硬化促進剤(E)との配合比率は特に限定されない。上記エポキシ化合物(A)100重量部に対して、上記硬化促進剤(E)の含有量は、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上、好ましくは100重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5重量部以下である。   The mixing ratio of the epoxy compound (A) and the curing accelerator (E) is not particularly limited. The content of the curing accelerator (E) with respect to 100 parts by weight of the epoxy compound (A) is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight or more, preferably 100 parts by weight or less. More preferably, it is 10 parts by weight or less, and still more preferably 5 parts by weight or less.

(離型剤(F))
本発明では、離型剤(F)を用いなくても、また離型剤(F)を用いる場合に離型剤(F)の含有量が少なくても、成形体の密着対象物に対する密着性が高くなり、かつ連続成形性が高くなる。但し、連続成形性をより一層高める観点からは、上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、離型剤(F)を含んでいてもよい。離型剤(F)を用いる場合であっても、本発明の構成を備える場合には、本発明の構成を備えていない場合と比べて、連続成形性を高く維持しつつ、成形体の密着対象物に対する密着性を高めることができる。上記離型剤(F)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Release agent (F))
In the present invention, even if the release agent (F) is not used, and when the release agent (F) is used, even if the content of the release agent (F) is small, the adhesion of the molded product to the adhesion target object. And the continuous formability becomes high. However, from the viewpoint of further improving the continuous moldability, the white curable composition for optical semiconductor devices may contain a release agent (F). Even when the mold release agent (F) is used, when the structure of the present invention is provided, the adhesion of the molded body is maintained while maintaining high continuous moldability as compared with the case where the structure of the present invention is not provided. The adhesion to the object can be increased. As for the said mold release agent (F), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記離型剤(F)は特に限定されない。上記離型剤(F)として、従来公知の離型剤を使用可能である。上記離型剤(F)としては、脂肪酸エステル系ワックス、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス、パラフィン系ワックス、カルナバワックス及びシリコーン化合物等が挙げられる。上記シリコーン化合物としては、シリコーンオイル及び変性シリコーンオイル等が挙げられる。   The release agent (F) is not particularly limited. As the release agent (F), a conventionally known release agent can be used. Examples of the release agent (F) include fatty acid ester waxes, oxidized or non-oxidized polyolefin waxes, paraffin waxes, carnauba waxes, and silicone compounds. Examples of the silicone compound include silicone oil and modified silicone oil.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中、上記離型剤(F)の含有量は0重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは5重量%以下、より好ましくは3重量%以下である。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、上記離型剤(F)を含んでいなくてもよい。上記離型剤(F)の含有量が上記下限以上であると、連続成形性がより一層高くなる。上記離型剤(F)の含有量が上記上限以下であると、密着対象物と成形体との密着性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the white curable composition for optical semiconductor devices, the content of the release agent (F) is 0% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, Preferably it is 5 weight% or less, More preferably, it is 3 weight% or less. The said white curable composition for optical semiconductor devices does not need to contain the said mold release agent (F). When the content of the release agent (F) is not less than the above lower limit, the continuous moldability is further enhanced. When the content of the release agent (F) is not more than the above upper limit, the adhesion between the adhesion target and the molded body is further enhanced.

密着対象物と成形体との密着性をより一層高める観点からは、上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、上記離型剤(F)を含まないか、又は上記離型剤(F)をさらに含みかつ上記光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中の上記離型剤(F)の含有量が2重量%以下であることが特に好ましい。   From the viewpoint of further improving the adhesion between the object to be adhered and the molded body, the white curable composition for optical semiconductor devices does not contain the release agent (F) or the release agent (F). It is particularly preferable that the content of the release agent (F) in 100% by weight of the white curable composition for an optical semiconductor device is 2% by weight or less.

(他の成分)
上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、必要に応じて、カップリング剤、酸化防止剤、樹脂改質剤、着色剤、希釈剤、表面処理剤、難燃剤、粘度調節剤、分散剤、分散助剤、表面改質剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、安定剤、タレ防止剤又は蛍光体等を含んでいてもよい。上記希釈剤は、反応性希釈剤であってもよく、非反応性希釈剤であってもよい。
(Other ingredients)
The white curable composition for an optical semiconductor device includes a coupling agent, an antioxidant, a resin modifier, a colorant, a diluent, a surface treatment agent, a flame retardant, a viscosity modifier, a dispersant, as necessary. It may contain a dispersion aid, a surface modifier, a plasticizer, an antibacterial agent, an antifungal agent, a leveling agent, a stabilizer, an anti-sagging agent or a phosphor. The diluent may be a reactive diluent or a non-reactive diluent.

上記カップリング剤としては特に限定されず、シランカップリング剤及びチタネート系カップリング剤が挙げられる。   It does not specifically limit as said coupling agent, A silane coupling agent and a titanate coupling agent are mentioned.

上記酸化防止剤としては特に限定されず、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤等が挙げられる。   It does not specifically limit as said antioxidant, A phenolic antioxidant, phosphorus antioxidant, an amine antioxidant, etc. are mentioned.

上記着色剤としては特に限定されず、フタロシアニン、アゾ化合物、ジスアゾ化合物、キナクリドン、アントラキノン、フラバントロン、ペリノン、ペリレン、ジオキサジン、縮合アゾ化合物、アゾメチン化合物、赤外吸収材及び紫外線吸収剤などの各種有機系色素、並びに硫酸鉛、クロムエロー、ジンクエロー、クロムバーミリオン、弁殻、コバルト紫、紺青、群青、カーボンブラック、クロムグリーン、酸化クロム及びコバルトグリーン等の無機顔料等が挙げられる。   The colorant is not particularly limited, and various organic materials such as phthalocyanine, azo compound, disazo compound, quinacridone, anthraquinone, flavantron, perinone, perylene, dioxazine, condensed azo compound, azomethine compound, infrared absorber and ultraviolet absorber. And inorganic pigments such as lead sulfate, chromium yellow, zinc yellow, chromium vermillion, valve shell, cobalt purple, bitumen, ultramarine, carbon black, chromium green, chromium oxide and cobalt green.

(光半導体装置用白色硬化性組成物の他の詳細及び光半導体装置用成形体)
上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得るために用いられる。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、金型を用いて成形体を得るために用いられることが好ましい。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置され、枠部を有し、かつ該枠部の内面で囲まれた領域内に上記光半導体素子を封止するように封止剤が充填されて用いられる成形体を得るために用いられることが好ましい。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体素子から発せられた光が外部に取り出される開口を有する成形体を得るために用いられることが好ましい。
(Other details of white curable composition for optical semiconductor device and molded body for optical semiconductor device)
The said white curable composition for optical semiconductor devices is used in order to obtain the molded object which has a frame part arrange | positioned at the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device. It is preferable that the said white curable composition for optical semiconductor devices is used in order to obtain a molded object using a metal mold | die. The white curable composition for an optical semiconductor device is disposed on a side of the optical semiconductor element in the optical semiconductor device, has a frame portion, and the optical semiconductor element is disposed in a region surrounded by the inner surface of the frame portion. It is preferably used for obtaining a molded body that is used by being filled with a sealing agent so as to be sealed. The white curable composition for an optical semiconductor device is preferably used for obtaining a molded body having an opening through which light emitted from the optical semiconductor element is extracted.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、光半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上に配置される成形体を得るために用いられる光半導体装置用白色硬化性組成物であることが好ましい。上記リードフレームは、例えば、光半導体素子を支持しかつ固定し、光半導体素子の電極と外部配線との電気的な接続を果たすための部品である。上記成形体は、光半導体装置用成形体であり、光半導体素子搭載用基板であることが好ましい。   The said white curable composition for optical semiconductor devices is a white curable composition for optical semiconductor devices used in an optical semiconductor device, in order to obtain the molded object arrange | positioned on the lead frame in which an optical semiconductor element is mounted. It is preferable. The lead frame is, for example, a component for supporting and fixing the optical semiconductor element and achieving electrical connection between the electrode of the optical semiconductor element and external wiring. The molded body is a molded body for an optical semiconductor device, and is preferably an optical semiconductor element mounting substrate.

光の反射率が高い成形体が得られるので、上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上にかつ上記光半導体素子の側方に配置され、上記光半導体素子から発せられた光を反射する光反射部を有する成形体を得るために用いられる光半導体装置用白色硬化性組成物であることが好ましい。   Since a molded article having a high light reflectance is obtained, the white curable composition for optical semiconductor devices is disposed on the lead frame on which the optical semiconductor element is mounted and on the side of the optical semiconductor element in the semiconductor device. The white curable composition for optical semiconductor devices used for obtaining a molded body having a light reflecting portion that reflects light emitted from the optical semiconductor element is preferable.

光の反射率が高い成形体が得られるので、上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上にかつ上記光半導体素子を取り囲むように配置され、上記光半導体素子から発せられた光を反射する光反射部を内面に有する成形体を得るために用いられる光半導体装置用白色硬化性組成物であることが好ましい。上記成形体は、上記光半導体素子を取り囲む枠部を有することが好ましく、上記光半導体素子を取り囲む外壁部材であることが好ましい。上記成形体は、枠状部材であることが好ましい。なお、上記成形体は、光半導体装置において、光半導体素子を接合(ダイボンディング)するためのダイボンド材とは異なることが好ましい。上記成形体は、上記ダイボンド材を含まないことが好ましい。   Since a molded article having high light reflectance is obtained, the white curable composition for optical semiconductor devices is arranged on a lead frame on which the optical semiconductor element is mounted and surrounding the optical semiconductor element in the semiconductor device. It is preferable that the white curable composition for optical semiconductor devices is used for obtaining a molded body having a light reflecting portion for reflecting light emitted from the optical semiconductor element on the inner surface. The molded body preferably has a frame portion surrounding the optical semiconductor element, and is preferably an outer wall member surrounding the optical semiconductor element. The molded body is preferably a frame-shaped member. In addition, it is preferable that the said molded object differs from the die-bonding material for joining an optical semiconductor element (die bonding) in an optical semiconductor device. It is preferable that the molded body does not include the die bond material.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、複数の成形体が連なった分割前成形体を得た後に、該分割前成形体を分割して個々の成形体を得るために用いられることが好ましい。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、複数の成形体がリードフレームを介して連なった分割前成形体を得た後に、上記リードフレームを切断して上記分割前成形体を分割して個々の成形体を得るために用いられることが好ましい。   The white curable composition for an optical semiconductor device is preferably used for obtaining individual molded bodies by dividing the pre-divided molded body after obtaining a molded body before division in which a plurality of molded bodies are continuous. . The white curable composition for an optical semiconductor device is obtained by obtaining a pre-division molded body in which a plurality of molded bodies are connected via a lead frame, and then cutting the lead frame to divide the pre-division molded body. It is preferable to be used in order to obtain a molded article.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物は、エポキシ化合物(A)と硬化剤(B)(酸無水物硬化剤)と白色顔料(C)と白色顔料以外の充填材(D)と硬化促進剤(E)と必要に応じて配合される他の成分とを、従来公知の方法で混合することにより得られる。上記硬化性組成物を作製する一般的な方法としては、各成分を押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等によって混練した後、混練物を冷却し、粉砕する方法が挙げられる。分散性を向上する観点からは、各成分の混練は、溶融状態で行うことが好ましい。混練の条件は、各成分の種類及び配合量により適宜決定される。15〜150℃で5〜100分間混練することが好ましく、15〜150℃で5〜60分間混練することがより好ましく、5〜150℃で5〜40分間混練することが更に好ましく、20〜100℃で10〜30分間混練することが特に好ましい。   The white curable composition for an optical semiconductor device includes an epoxy compound (A), a curing agent (B) (an acid anhydride curing agent), a white pigment (C), a filler (D) other than a white pigment, and a curing accelerator. It can be obtained by mixing (E) and other components blended as necessary by a conventionally known method. A general method for producing the curable composition includes a method in which each component is kneaded by an extruder, a kneader, a roll, an extruder, etc., and then the kneaded product is cooled and pulverized. From the viewpoint of improving dispersibility, the kneading of each component is preferably performed in a molten state. The kneading conditions are appropriately determined depending on the type and amount of each component. Kneading is preferably performed at 15 to 150 ° C for 5 to 100 minutes, more preferably 15 to 150 ° C for 5 to 60 minutes, further preferably 5 to 150 ° C for 5 to 40 minutes, and further preferably 20 to 100. It is particularly preferable to knead at 10 ° C. for 10 to 30 minutes.

本発明に係る光半導体装置用成形体は、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる。上記光半導体装置用白色硬化性組成物は所定の形状に成形される。上記光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる成形体は、光半導体装置において、光半導体素子から発せられた光を反射するために好適に用いられる。   The molded object for optical semiconductor devices which concerns on this invention is obtained by hardening the white curable composition for optical semiconductor devices mentioned above. The white curable composition for optical semiconductor devices is formed into a predetermined shape. The molded body obtained by curing the white curable composition for optical semiconductor devices is suitably used for reflecting light emitted from the optical semiconductor element in the optical semiconductor device.

上記光半導体装置用白色硬化性組成物を用いて上記光半導体装置用成形体を得る方法としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、積層成形法、射出成形法、押出成形法及びブロー成形法等が挙げられる。なかでも、トランスファー成形法が好ましい。   Examples of a method for obtaining the molded article for an optical semiconductor device using the white curable composition for an optical semiconductor device include a compression molding method, a transfer molding method, a laminate molding method, an injection molding method, an extrusion molding method, and a blow molding method. Is mentioned. Of these, transfer molding is preferred.

トランスファー成形法では、例えば、成形温度100〜200℃、成形圧力5〜20MPa及び成形時間60〜300秒の条件で、上記光半導体装置用白色硬化性組成物をトランスファー成形することにより、成形体が得られる。   In the transfer molding method, for example, the molded product is formed by transfer molding the white curable composition for an optical semiconductor device under the conditions of a molding temperature of 100 to 200 ° C., a molding pressure of 5 to 20 MPa, and a molding time of 60 to 300 seconds. can get.

(光半導体装置の詳細及び光半導体装置の実施形態)
本発明に係る光半導体装置は、リードフレームと、該リードフレーム上に搭載された光半導体素子と、上記リードフレーム上に配置されており、かつ上記光半導体素子の側方に配置されている枠部を有する成形体とを備える。上記光半導体装置における上記成形体が、上記光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる。
(Details of optical semiconductor device and embodiment of optical semiconductor device)
An optical semiconductor device according to the present invention includes a lead frame, an optical semiconductor element mounted on the lead frame, and a frame disposed on the lead frame and disposed on a side of the optical semiconductor element. A molded body having a portion. The said molded object in the said optical semiconductor device is obtained by hardening the said white curable composition for optical semiconductor devices.

本発明に係る光半導体装置では、上記成形体の内面が上記光半導体素子から発せられた光を反射する光反射部であることが好ましい。   In the optical semiconductor device according to the present invention, it is preferable that the inner surface of the molded body is a light reflecting portion that reflects the light emitted from the optical semiconductor element.

図1(a)及び(b)に、本発明の一実施形態に係る光半導体装置の一例を模式的に断面図及び斜視図で示す。   1A and 1B schematically show an example of an optical semiconductor device according to an embodiment of the present invention in a cross-sectional view and a perspective view.

本実施形態の光半導体装置1は、リードフレーム2と光半導体素子3と第1の成形体4と第2の成形体5とを有する。光半導体素子3は発光ダイオード(LED)であることが好ましい。第1の成形体4と第2の成形体5とは一体的に形成されておらず、別の2つの部材である。第1の成形体4と第2の成形体5とは一体的に形成されていてもよい。第1の成形体4は、枠部である。第2の成形体5は、底部である。光半導体装置1では、成形体は、枠部(第1の成形体4)と、底部(第2の成形体5)とを有する。第1の成形体4である枠部は、外壁部である。第1の成形体4である枠部は、環状である。   The optical semiconductor device 1 according to this embodiment includes a lead frame 2, an optical semiconductor element 3, a first molded body 4, and a second molded body 5. The optical semiconductor element 3 is preferably a light emitting diode (LED). The first molded body 4 and the second molded body 5 are not formed integrally, but are two other members. The first molded body 4 and the second molded body 5 may be integrally formed. The first molded body 4 is a frame portion. The 2nd molded object 5 is a bottom part. In the optical semiconductor device 1, the molded body has a frame portion (first molded body 4) and a bottom portion (second molded body 5). The frame part which is the 1st molded object 4 is an outer wall part. The frame part which is the 1st molded object 4 is cyclic | annular.

なお、成形体は、底部を有さない成形体であってもよい。上記硬化性組成物を硬化させることにより得られる枠部を有する成形体と、他の底部材とを組み合わせて用いてもよい。上記成形体は、枠部のみの枠状の成形体であってもよい。上記底部材は、成形体であってもよい。   Note that the molded body may be a molded body having no bottom. You may use combining the molded object which has a frame part obtained by hardening the said curable composition, and another bottom member. The molded body may be a frame-shaped molded body having only a frame portion. The bottom member may be a molded body.

リードフレーム2上に、光半導体素子3が搭載され、配置されている。また、リードフレーム2上に、第1の成形体4(枠部)が配置されている。また、複数のリードフレーム2間とリードフレーム2の下方とには、第2の成形体5(底部)が配置されている。なお、リードフレームの下方に、成形体又は底部材が配置されておらず、リードフレームが露出していてもよい。第1の成形体4の内側に光半導体素子3が配置されている。光半導体素子3の側方に第1の成形体4が配置されており、光半導体素子3を取り囲むように第1の成形体4が配置されている。第1,第2の成形体4,5(枠部及び底部を有する成形体)は、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物の硬化物であり、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる。従って、第1の成形体4は、光反射性を有し、内面4aに光反射部を有する。すなわち、第1の成形体4の内面4aは光反射部である。従って、光半導体素子3の周囲は、第1の成形体4の光反射性を有する内面4aにより囲まれている。第1の成形体4のみが、上述した光半導体装置用白色硬化性組成物の硬化物であってもよい。   An optical semiconductor element 3 is mounted and arranged on the lead frame 2. A first molded body 4 (frame portion) is disposed on the lead frame 2. A second molded body 5 (bottom part) is disposed between the plurality of lead frames 2 and below the lead frames 2. Note that the molded body or the bottom member may not be disposed below the lead frame, and the lead frame may be exposed. The optical semiconductor element 3 is disposed inside the first molded body 4. A first molded body 4 is disposed on the side of the optical semiconductor element 3, and the first molded body 4 is disposed so as to surround the optical semiconductor element 3. The first and second molded bodies 4 and 5 (molded bodies having a frame portion and a bottom portion) are cured products of the above-described white curable composition for optical semiconductor devices, and the above-described white curable composition for optical semiconductor devices. It is obtained by curing the product. Therefore, the 1st molded object 4 has light reflectivity, and has a light reflection part in the inner surface 4a. That is, the inner surface 4a of the first molded body 4 is a light reflecting portion. Therefore, the periphery of the optical semiconductor element 3 is surrounded by the inner surface 4 a having the light reflectivity of the first molded body 4. Only the 1st molded object 4 may be the hardened | cured material of the white curable composition for optical semiconductor devices mentioned above.

第1の成形体4(枠部)は、光半導体素子3から発せられた光が外部に取り出される開口を有する。第1,第2の成形体4,5は、白色である。第1の成形体4の内面4aは、内面4aの径が開口端に向かうにつれて大きくなるように形成されている。従って、光半導体素子3から発せられた光のうち、内面4aに到達した矢印Bで示す光が内面4aにより反射され、光半導体素子3の前方側に進行する。   The first molded body 4 (frame part) has an opening through which light emitted from the optical semiconductor element 3 is extracted. The first and second molded bodies 4 and 5 are white. The inner surface 4a of the first molded body 4 is formed such that the diameter of the inner surface 4a increases as it goes toward the opening end. Therefore, of the light emitted from the optical semiconductor element 3, the light indicated by the arrow B reaching the inner surface 4 a is reflected by the inner surface 4 a and travels forward of the optical semiconductor element 3.

光半導体素子3は、リードフレーム2上に、ダイボンド材6を用いて接続されている。ダイボンド材6は、導電性を有する。光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2とが、ボンディングワイヤー7により電気的に接続されている。光半導体素子3及びボンディングワイヤー7を封止するように、第1の成形体4の内面4aで囲まれた領域内には、封止剤8が充填されている。   The optical semiconductor element 3 is connected to the lead frame 2 using a die bond material 6. The die bond material 6 has conductivity. A bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and the lead frame 2 are electrically connected by a bonding wire 7. A sealing agent 8 is filled in the region surrounded by the inner surface 4 a of the first molded body 4 so as to seal the optical semiconductor element 3 and the bonding wire 7.

光半導体装置1では、光半導体素子3を駆動すると、破線Aで示すように光が発せられる。光半導体装置1では、光半導体素子3からリードフレーム2の上面とは反対側すなわち上方に照射される光だけでなく、第1の成形体4の内面4aに到達した光が矢印Bで示すように反射される光も存在する。従って、光半導体装置1から取り出される光の明るさは明るい。   In the optical semiconductor device 1, when the optical semiconductor element 3 is driven, light is emitted as indicated by a broken line A. In the optical semiconductor device 1, not only the light irradiated from the optical semiconductor element 3 to the side opposite to the upper surface of the lead frame 2, that is, the upper side, but also the light reaching the inner surface 4 a of the first molded body 4 is indicated by an arrow B. There is also light that is reflected by the light. Therefore, the brightness of the light extracted from the optical semiconductor device 1 is bright.

図2に、図1に示す光半導体装置1の変形例を示す。図1に示す光半導体装置1と図2に示す光半導体装置21とでは、ダイボンド材6,22及びボンディングワイヤー7,23による電気的な接続構造のみが異なる。光半導体装置1におけるダイボンド材6は導電性を有する。これに対し、光半導体装置21はダイボンド材22を有し、ダイボンド材22は導電性を有さない。光半導体装置1では、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図1(a)において右側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー7により電気的に接続されている。光半導体装置21は、ボンディングワイヤー7に加えて、ボンディングワイヤー23を有する。光半導体装置21では、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図2において右側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー7により電気的に接続されており、更に、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図2において左側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー23により電気的に接続されている。   FIG. 2 shows a modification of the optical semiconductor device 1 shown in FIG. The optical semiconductor device 1 shown in FIG. 1 differs from the optical semiconductor device 21 shown in FIG. 2 only in the electrical connection structure using the die bonding materials 6 and 22 and the bonding wires 7 and 23. The die bond material 6 in the optical semiconductor device 1 has conductivity. On the other hand, the optical semiconductor device 21 has a die bond material 22, and the die bond material 22 does not have conductivity. In the optical semiconductor device 1, a bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and a lead frame 2 (lead frame located on the right side in FIG. 1A) are electrically connected by a bonding wire 7. Has been. The optical semiconductor device 21 has a bonding wire 23 in addition to the bonding wire 7. In the optical semiconductor device 21, a bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and a lead frame 2 (a lead frame located on the right side in FIG. 2) are electrically connected by a bonding wire 7. Further, a bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and the lead frame 2 (lead frame located on the left side in FIG. 2) are electrically connected by a bonding wire 23.

なお、図1,2に示す構造は、本発明に係る光半導体装置の一例にすぎず、成形体の構造及び光半導体素子の実装構造等には適宜変形され得る。   The structures shown in FIGS. 1 and 2 are merely examples of the optical semiconductor device according to the present invention, and can be appropriately modified to a structure of a molded body, a mounting structure of an optical semiconductor element, and the like.

また、図3に示すように、複数の光半導体装置用部品が連なった分割前光半導体装置用部品11を用意して、分割前光半導体装置用部品11を破線Xで示す部分で切断して、個々の光半導体装置用部品を得てもよい。分割前光半導体装置用部品11は、分割前リードフレーム2Aと、分割前第1の成形体4Aと、分割前第2の成形体5Aとを有する。個々の光半導体装置用部品得た後、光半導体素子3を搭載し、該光半導体素子3を封止剤8により封止して、光半導体装置1を得てもよい。分割前リードフレーム2Aを破線Xで示す部分で切断すると、リードフレーム2が得られる。分割前第1の成形体4Aを破線Xで示す部分で切断すると、第1の成形体4が得られる。分割前第2の成形体5Aを破線Xで示す部分で切断すると、第2の成形体5が得られる。   Further, as shown in FIG. 3, a pre-division optical semiconductor device component 11 in which a plurality of optical semiconductor device components are connected is prepared, and the pre-division optical semiconductor device component 11 is cut at a portion indicated by a broken line X. Individual optical semiconductor device components may be obtained. The pre-division optical semiconductor device component 11 includes a pre-division lead frame 2A, a pre-division first molded body 4A, and a pre-division second molded body 5A. After obtaining individual components for an optical semiconductor device, the optical semiconductor device 3 may be mounted, and the optical semiconductor device 3 may be sealed with a sealant 8 to obtain the optical semiconductor device 1. When the pre-division lead frame 2A is cut at a portion indicated by a broken line X, the lead frame 2 is obtained. When the first molded body 4A before division is cut at a portion indicated by a broken line X, the first molded body 4 is obtained. When the second molded body 5A before division is cut at a portion indicated by a broken line X, the second molded body 5 is obtained.

さらに、図4に示すように、複数の分割前光半導体装置が連なった分割前光半導体装置12を用意して、分割前光半導体装置12を破線Xで示す部分で切断して、個々の光半導体装置を得てもよい。分割前光半導体装置12は、分割前リードフレーム2Aと、分割前第1の成形体4Aと、分割前第2の成形体5Aとを有する。また、図1,2に示す光半導体装置1と同様に、分割前光半導体装置12では、分割前リードフレーム2A上に、光半導体素子3が搭載され、配置されている。なお、図3,4では、分割前光半導体装置用部品及び分割前光半導体装置では、複数の成形体が連なって分割前成形体が形成されているが、複数の成形体が連なっていない分割前光半導体装置用部品及び分割前光半導体装置を分割して、光半導体装置用部品及び光半導体装置を得てもよい。   Further, as shown in FIG. 4, a pre-division optical semiconductor device 12 in which a plurality of pre-division optical semiconductor devices are connected is prepared, and the pre-division optical semiconductor device 12 is cut at a portion indicated by a broken line X. A semiconductor device may be obtained. The pre-division optical semiconductor device 12 includes a pre-division lead frame 2A, a pre-division first molded body 4A, and a pre-division second molded body 5A. As in the optical semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 and 2, in the pre-division optical semiconductor device 12, the optical semiconductor element 3 is mounted and arranged on the pre-division lead frame 2A. 3 and 4, in the pre-division optical semiconductor device component and the pre-division optical semiconductor device, a plurality of molded bodies are connected to form a pre-division molded body, but a plurality of molded bodies are not connected to each other. The front optical semiconductor device component and the pre-division optical semiconductor device may be divided to obtain the optical semiconductor device component and the optical semiconductor device.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下の材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(エポキシ化合物(A))
1)EHPE3150(脂環式骨格を有するエポキシ樹脂、エポキシ当量177、ダイセル社製)
2)TEPIC(トリグリシジルイソシアヌレート、エポキシ当量100、日産化学社製)

3)YD−011(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量450、新日鉄住金化学社製)
(Epoxy compound (A))
1) EHPE3150 (epoxy resin having an alicyclic skeleton, epoxy equivalent 177, manufactured by Daicel)
2) TEPIC (triglycidyl isocyanurate, epoxy equivalent 100, manufactured by Nissan Chemical Industries)

3) YD-011 (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 450, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.)

(硬化剤(B))
1)リカシッドTH(テトラヒドロ無水フタル酸、新日本理化社製)
2)リカシッドMH(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、新日本理化社製)
3)リカシッドHH(ヘキサヒドロ無水フタル酸、新日本理化社製)
(Curing agent (B))
1) Ricacid TH (tetrahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)
2) Ricacid MH (4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)
3) Ricacid HH (Hexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.)

(白色顔料(C))
1)CR−58(酸化チタン、ルチル型、Alにより表面処理されている、平均粒径0.25μm、石原産業社製)
2)UT771(酸化チタン、ルチル型、Al、Zrにより表面処理されている、平均粒径0.25μm、有機処理されている、石原産業社製)
3)酸化亜鉛I種(平均粒径1μm、堺化学工業社製)
4)UEP(酸化ジルコニウム、平均粒径0.5μm、第一稀元素化学工業社製)
(White pigment (C))
1) CR-58 (titanium oxide, rutile type, surface-treated with Al, average particle size 0.25 μm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
2) UT771 (Titanium oxide, rutile type, surface treated with Al, Zr, average particle size 0.25 μm, organically treated, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
3) Zinc oxide type I (average particle size 1 μm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)
4) UEP (zirconium oxide, average particle size 0.5 μm, manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Industries, Ltd.)

(充填材(D))
1)MSR−3512(球状シリカ、平均粒径30μm、龍森社製)
2)AA(破砕シリカ、平均粒径6μm、龍森社製)
3)B−55(破砕充填材である硫酸バリウム、平均粒径1.2μm、堺化学工業社製)
(Filler (D))
1) MSR-3512 (spherical silica, average particle size 30 μm, manufactured by Tatsumori)
2) AA (crushed silica, average particle size 6 μm, manufactured by Tatsumori)
3) B-55 (barium sulfate which is a crushing filler, average particle size 1.2 μm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)

(硬化促進剤(E))
1)SA102(DBU−オクチル酸塩、サンアプロ社製)
2)PX−4ET(テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオネート、日本化学工業社製)
3)PX−4PB(テトラブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、日本化学工業社製)
4)C11Z−CN(1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、四国化成工業社製)
(Curing accelerator (E))
1) SA102 (DBU-octylate, manufactured by San Apro)
2) PX-4ET (tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithionate, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
3) PX-4PB (tetrabutylphosphonium tetraphenylborate, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
4) C11Z-CN (1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

(離型剤(F))
1)セリダスト3715(ポリエチレンワックス、クラリアントジャパン社製)
2)M−9676(ステアリン酸ステアリル、日油社製)
(Release agent (F))
1) Seridust 3715 (polyethylene wax, manufactured by Clariant Japan)
2) M-9676 (stearyl stearate, manufactured by NOF Corporation)

(実施例1〜21及び比較例1〜6)
下記表1〜4に示す各成分を下記表1〜4に示す配合量で配合(配合単位は重量部)し、混合機(東洋精機製作所社製「ラボプラストミルR−60」)にて70℃で10分間混合し、溶融混練物を得た。溶融混練物が常温で固体である場合には、該溶融混練物を常温で粉砕した。次に、50℃のオーブン内で下記の表1〜4に示す時間でエイジングを行った後、又はエイジングを行わなかった後(エイジング時間:0時間)、打錠して、白色硬化性組成物を得た。なお、溶融混練物が液体である場合には、液状のままで白色硬化性組成物として用いた。
(Examples 1-21 and Comparative Examples 1-6)
Each component shown in the following Tables 1 to 4 is blended in the blending amounts shown in the following Tables 1 to 4 (the blending unit is parts by weight), and 70 in a mixer (“Lab Plast Mill R-60” manufactured by Toyo Seiki Seisakusho) The mixture was mixed at 10 ° C. for 10 minutes to obtain a melt-kneaded product. When the melt-kneaded material was solid at room temperature, the melt-kneaded material was pulverized at room temperature. Next, after aging in the time shown in the following Tables 1 to 4 in an oven at 50 ° C. or after aging was not performed (aging time: 0 hour), tableting was performed to obtain a white curable composition. Got. In addition, when the melt-kneaded material was a liquid, it was used as a white curable composition in a liquid state.

(測定)
(1)硬化開始から硬化完了までの発熱量
得られた白色硬化性組成物50mgを、アルミパンに秤量し、示差走査熱量測定(DSC)を行った。
(Measurement)
(1) Calorific value from start of curing to completion of curing 50 mg of the obtained white curable composition was weighed into an aluminum pan and subjected to differential scanning calorimetry (DSC).

上記DSCを行うために、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製「EXSTAR DSC7020」を用いた。測定条件は、室温(23℃)から昇温速度10℃/分で加熱する条件とした。上記硬化性組成物の熱硬化に伴う発熱量を測定した。   In order to perform the above-mentioned DSC, “EXSTAR DSC7020” manufactured by SII Nanotechnology Inc. was used. The measurement conditions were such that heating was performed from room temperature (23 ° C.) at a rate of temperature increase of 10 ° C./min. The calorific value accompanying thermosetting of the curable composition was measured.

(2)溶融粘度
島津製作所社製の高化式フローテスターを用いて、温度180℃、荷重20kgf、ダイ穴径1mm及びダイ長さ1mmの条件で、得られた白色硬化性組成物の180℃における溶融粘度を測定した。
(2) Melt viscosity 180 ° C of the obtained white curable composition under the conditions of a temperature of 180 ° C, a load of 20 kgf, a die hole diameter of 1 mm and a die length of 1 mm, using an elevated flow tester manufactured by Shimadzu Corporation. The melt viscosity was measured.

(評価)
(1)連続成形性
銅素材(TAMAC 194)にエッチングにより回路を形成した後、銀めっきを施し、リードフレーム(銀めっき表面、厚み0.2mm)を得た。
(Evaluation)
(1) Continuous formability After forming a circuit by etching on a copper material (TAMAC 194), silver plating was applied to obtain a lead frame (silver plating surface, thickness 0.2 mm).

金型として、縦15個×横10個のマトリックス状に配置された150個の凹部(光半導体素子搭載部)を有する一括成形用金型を用意した。キャビティサイズは、1個当たり4mm×2mm、深さ1mmとした。金型クリーニング材(日本カーバイド社製「ニカレットRCC」)を用いて、上記金型を3回クリーニングした後、金型離型回復材(日本カーバイド社製「ニカレットECR−C KU」)を用いて、金型に離型性を付与した。   As a mold, a batch molding mold having 150 concave portions (optical semiconductor element mounting portions) arranged in a matrix of 15 vertical × 10 horizontal was prepared. The cavity size was 4 mm × 2 mm per piece and the depth was 1 mm. Using a mold cleaning material (“Nicaret RCC” manufactured by Nippon Carbide), the mold was cleaned three times, and then a mold release recovery material (“Nicaret ECR-C KU” manufactured by Nippon Carbide) was used. The mold was given releasability.

離型性が付与された金型を用いて、得られた白色硬化性組成物のトランスファー成形を繰り返し行い、金型に成形後の上記硬化性組成物に由来する物質が付着して、成形が不可能になるまでの成形回数を測定した。   Using a mold provided with releasability, transfer molding of the obtained white curable composition is repeated, and a substance derived from the curable composition after molding adheres to the mold, and molding is performed. The number of moldings until it became impossible was measured.

(2)成形性
上記(1)連続成形性の評価と同じ条件で、得られた白色硬化性組成物のトランスファー成形を行い、光半導体装置搭載用基板を得た。得られた光半導体装置搭載用基板を目視により検査し、成形性を下記の基準で判定した。
(2) Formability Under the same conditions as in the evaluation of (1) continuous formability, transfer molding of the obtained white curable composition was performed to obtain a substrate for mounting an optical semiconductor device. The obtained substrate for mounting an optical semiconductor device was visually inspected, and formability was determined according to the following criteria.

[成形性の判定基準]
○:成形体に充填不良による欠け及びウェルドなどの外観異常がない
×:成形体に充填不良による欠け及びウェルドなどの外観異常が1つ以上ある
[Criteria for moldability]
○: There is no appearance abnormality such as chipping and weld due to poor filling in the molded body ×: There is one or more appearance abnormality such as chipping and welding due to poor filling in the molded body

(3)成形体と銀めっきとの密着性
上記(1)連続成形性の評価と同じ条件で、得られた白色硬化性組成物のトランスファー成形を行い、光半導体装置搭載用基板を得た。得られた光半導体装置搭載用基板を、150℃2時間の条件でアフターキュアを行った。アフターキュア後の成形体において、リックス社製「AX−930」を用いてバリを除去した。バリを除去する条件は、電解電流4A、電解時間90秒及び洗浄圧力10MPaの条件とした。
(3) Adhesiveness between molded body and silver plating Transfer molding of the obtained white curable composition was performed under the same conditions as in the evaluation of (1) continuous moldability to obtain a substrate for mounting an optical semiconductor device. The obtained substrate for mounting an optical semiconductor device was after-cured at 150 ° C. for 2 hours. In the molded body after the after cure, burrs were removed using “AX-930” manufactured by Rix Corporation. The conditions for removing burrs were as follows: electrolytic current 4A, electrolysis time 90 seconds, and cleaning pressure 10 MPa.

バリを除去した後の成形体のキャビティ部(150箇所)に、キャビティからこぼれないように赤インクを滴下し、24時間放置した。24時間後に目視により、成形体と銀めっきとの密着性を以下の基準で判定した   Red ink was dropped into the cavity (150 locations) of the molded body after removing the burrs so as not to spill from the cavity, and left for 24 hours. After 24 hours, the adhesion between the molded product and the silver plating was visually determined according to the following criteria.

[成形体と銀めっきとの密着性の判定基準]
○○:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中0箇所
○:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中1箇所以上、3箇所以下
×:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中3箇所を超える
[Judgment criteria for adhesion between molded body and silver plating]
○○: 0 points out of 150 locations where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame ○: 1 location out of 150 locations where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame Not less than 3 and not more than 3 ×: Location where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame exceeds 3 out of 150

(4)成形体と銅との密着性
リードフレームに銀めっきを施さなかったリードフレーム(銅表面、厚み0.2mm)を用意した。このリードフレームを用いたこと以外は、上記(1)連続成形性の評価と同じ条件で、得られた白色硬化性組成物のトランスファー成形を行い、光半導体装置搭載用基板を得た。得られた光半導体装置搭載用基板を、150℃2時間の条件でアフターキュアを行った。アフターキュア後の成形体において、リックス社製「AX−930」を用いてバリを除去した。バリを除去する条件は、電解電流4A、電解時間90秒及び洗浄圧力10MPaの条件とした。
(4) Adhesiveness between molded body and copper A lead frame (copper surface, thickness 0.2 mm) in which the lead frame was not subjected to silver plating was prepared. Except for using this lead frame, transfer molding of the obtained white curable composition was performed under the same conditions as in the evaluation of (1) continuous moldability to obtain a substrate for mounting an optical semiconductor device. The obtained substrate for mounting an optical semiconductor device was after-cured at 150 ° C. for 2 hours. In the molded body after the after cure, burrs were removed using “AX-930” manufactured by Rix Corporation. The conditions for removing burrs were as follows: electrolytic current 4A, electrolysis time 90 seconds, and cleaning pressure 10 MPa.

バリを除去した後の成形体のキャビティ部(150箇所)に、キャビティからこぼれないように赤インクを滴下し、24時間放置した。24時間後に目視により、成形体と銅との密着性を以下の基準で判定した。   Red ink was dropped into the cavity (150 locations) of the molded body after removing the burrs so as not to spill from the cavity, and left for 24 hours. After 24 hours, the adhesion between the molded body and copper was visually determined based on the following criteria.

[成形体と銅との密着性の判定基準]
○○:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中0箇所
○:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中1箇所以上、3箇所以下
×:成形体とリードフレームとの界面からインクが漏れ出している箇所が、150箇所中3箇所を超える
[Judgment criteria for adhesion between molded body and copper]
○○: 0 points out of 150 locations where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame ○: 1 location out of 150 locations where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame Not less than 3 and not more than 3 ×: Location where ink leaks from the interface between the molded body and the lead frame exceeds 3 out of 150

(5)成形体の変形
銅素材(TAMAC 194)にエッチングにより回路を形成した後、銀めっきを施し、寸法が75mm×250mmのリードフレーム(銀めっき表面、厚み0.2mm)を得た。
(5) Deformation of molded body After a circuit was formed on a copper material (TAMAC 194) by etching, silver plating was applied to obtain a lead frame (silver plated surface, thickness 0.2 mm) having dimensions of 75 mm × 250 mm.

金型として、縦25個×横12個のマトリックス状に配置された300個の凹部(光半導体素子搭載部)を4ブロック有する一括成形用金型を用意した。キャビティサイズは、1個当たり4mm×2mm、深さ0.5mmとした。金型クリーニング材(日本カーバイド社製「ニカレットRCC」)を用いて、上記金型を3回クリーニングした後、金型離型回復材(日本カーバイド社製「ニカレットECR−C KU」)を用いて、金型に離型性を付与した。   As a mold, a collective mold having 4 blocks of 300 concave portions (optical semiconductor element mounting portions) arranged in a matrix of 25 vertical × 12 horizontal was prepared. The cavity size was 4 mm × 2 mm per piece and the depth was 0.5 mm. Using a mold cleaning material (“Nicaret RCC” manufactured by Nippon Carbide), the mold was cleaned three times, and then a mold release recovery material (“Nicaret ECR-C KU” manufactured by Nippon Carbide) was used. The mold was given releasability.

離型性が付与された金型を用いて、得られた白色硬化性組成物のトランスファー成形を行い、170℃で2時間の条件でアフターキュアを実施した。   The obtained white curable composition was transfer molded using a mold imparted with releasability, and after-curing was performed at 170 ° C. for 2 hours.

アフターキュア後の成形体を水平な平面上に置き、平面からの成形体の垂直方向の変形量を測定した。成形体の変形を以下の基準で判定した。   The molded body after the after-curing was placed on a horizontal plane, and the amount of deformation of the molded body in the vertical direction from the plane was measured. The deformation of the molded body was determined according to the following criteria.

[成形体の変形の判定基準]
○:成形体の垂直方向の変形量が1mm未満
×:成形体の垂直方向の変形量が1mm以上
[Criteria for deformation of molded body]
○: Deformation amount in the vertical direction of the compact is less than 1 mm ×: Deformation amount in the vertical direction of the compact is 1 mm or more

結果を下記の表1〜4に示す。なお、比較例6では、成形体の変形が生じたため、(3)成形体と銀めっきとの密着性、及び(4)成形体と銅との密着性については評価を行わなかった。   The results are shown in Tables 1 to 4 below. In Comparative Example 6, since the molded body was deformed, no evaluation was performed on (3) adhesion between the molded body and silver plating and (4) adhesion between the molded body and copper.

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1…光半導体装置
2…リードフレーム
2A…分割前リードフレーム
3…光半導体素子
4…第1の成形体
4A…分割前第1の成形体
4a…内面
5…第2の成形体
5A…分割前第2の成形体
6…ダイボンド材
7…ボンディングワイヤー
8…封止剤
11…分割前光半導体装置用部品
12…分割前光半導体装置
21…光半導体装置
22…ダイボンド材
23…ボンディングワイヤー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical semiconductor device 2 ... Lead frame 2A ... Lead frame before division 3 ... Optical semiconductor element 4 ... 1st molded object 4A ... 1st molded object 4a before division | segmentation 5 ... 2nd molded object 5A ... Before division | segmentation 2nd molded object 6 ... Die bond material 7 ... Bonding wire 8 ... Sealing agent 11 ... Parts for optical semiconductor devices before division 12 ... Optical semiconductor device before division 21 ... Optical semiconductor device 22 ... Die bonding material 23 ... Bonding wire

Claims (9)

光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得るために用いられ、かつ白色である光半導体装置用白色硬化性組成物であって、
エポキシ化合物と、酸無水物硬化剤と、白色顔料と、白色顔料以外の充填材と、硬化促進剤とを含み、
前記白色顔料が、酸化チタン、酸化亜鉛又は酸化ジルコニウムであり、
前記白色顔料以外の充填材がシリカを含み、
前記エポキシ化合物の全体のエポキシ当量と前記酸無水物硬化剤の全体の硬化剤当量との当量比が、0.3:1〜3:1であり、
前記白色顔料の含有量が3重量%以上、95重量%以下であり、
前記白色顔料以外の充填材の含有量が5重量%以上、95重量%以下であり、
前記エポキシ化合物100重量部に対して、前記硬化促進剤の含有量が0.01重量部以上、10重量部以下であり、
示差走査熱量測定において、硬化開始から硬化完了までの発熱量が20J/g以上、100J/g以下である、光半導体装置用白色硬化性組成物。
A white curable composition for an optical semiconductor device, which is used to obtain a molded body having a frame portion disposed on the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device, and is white,
An epoxy compound, an acid anhydride curing agent, a white pigment, a filler other than the white pigment, and a curing accelerator,
The white pigment is titanium oxide, zinc oxide or zirconium oxide;
The filler other than the white pigment contains silica,
The equivalent ratio of the total epoxy equivalent of the epoxy compound to the total curing agent equivalent of the acid anhydride curing agent is 0.3: 1 to 3: 1,
The content of the white pigment is 3% by weight or more and 95% by weight or less,
The content of the filler other than the white pigment is 5 wt% or more and 95 wt% or less,
The content of the curing accelerator is 0.01 parts by weight or more and 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the epoxy compound,
A white curable composition for an optical semiconductor device, wherein the amount of heat generated from the start of curing to the completion of curing is 20 J / g or more and 100 J / g or less in differential scanning calorimetry.
180℃での溶融粘度が100Pa・s未満である、請求項1に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。   The white curable composition for optical semiconductor devices of Claim 1 whose melt viscosity in 180 degreeC is less than 100 Pa * s. 前記エポキシ化合物のエポキシ当量が300以下である、請求項1又は2に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。   The white curable composition for optical semiconductor devices of Claim 1 or 2 whose epoxy equivalent of the said epoxy compound is 300 or less. 離型剤を含まないか、又は離型剤をさらに含みかつ光半導体装置用白色硬化性組成物100重量%中の前記離型剤の含有量が2重量%以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。 Does not contain a release agent, or the content of the release agent in the release agent further comprises and optical semiconductor device for white curable composition 100% by weight is less than 2 wt%, claim 1-3 The white curable composition for optical semiconductor devices of any one of these. 離型剤をさらに含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。 The white curable composition for optical semiconductor devices of any one of Claims 1-4 which further contains a mold release agent. 光半導体装置において光半導体素子が搭載されたリードフレーム上に配置される成形体を得るために用いられる、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。 The white curable composition for optical semiconductor devices according to any one of claims 1 to 5 , which is used for obtaining a molded body disposed on a lead frame on which an optical semiconductor element is mounted in an optical semiconductor device. 複数の成形体が連なった分割前成形体を得た後、前記分割前成形体を分割して個々の成形体を得るために用いられる、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物。 The light according to any one of claims 1 to 6 , which is used to obtain an individual molded body by dividing the pre-division molded body after obtaining a molded body before division in which a plurality of molded bodies are connected. White curable composition for semiconductor devices. 光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体であって、 請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる、光半導体装置用成形体。 A molded article having a frame portion disposed on the side of the optical semiconductor element in the optical semiconductor device, curing the optical semiconductor device for white curable composition according to any one of claims 1-7 The molded object for optical semiconductor devices obtained by these. リードフレームと、
前記リードフレーム上に搭載された光半導体素子と、
前記リードフレーム上に配置されており、かつ前記光半導体素子の側方に配置されている枠部を有する成形体とを備え、
前記成形体が、請求項1〜のいずれか1項に記載の光半導体装置用白色硬化性組成物を硬化させることにより得られる、光半導体装置。
A lead frame;
An optical semiconductor element mounted on the lead frame;
A molded body disposed on the lead frame and having a frame portion disposed on a side of the optical semiconductor element;
The molded body obtained by curing the optical semiconductor device for white curable composition according to any one of claims 1 to 7 the optical semiconductor device.
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