JP2014008612A - Mold releasability imparting composition and method for manufacturing molded body - Google Patents

Mold releasability imparting composition and method for manufacturing molded body Download PDF

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崇至 鹿毛
Isao Higuchi
勲夫 樋口
Takashi Fukuda
崇志 福田
Hidefumi Yasui
秀文 保井
Takeharu Morita
健晴 森田
Takashi Watanabe
貴志 渡邉
Hide Nakamura
秀 中村
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold releasability imparting composition capable of effectively increase releasability when molding a molding material to obtain a molded body.SOLUTION: A mold releasability imparting composition 23 is used for imparting releasability on a surface of a metal mold 21 before molding a molding material 24 to obtain a molded body. The mold releasability imparting composition 23 includes: a thermosetting component; an inorganic filler; and a release agent. The release agent includes both fatty acid ester wax and oxidized or non-oxidized polyolefin wax.

Description

本発明は、成形材料を成形して成形体を得る前に、金型の表面に離型性を付与するために用いられる金型離型性付与組成物に関する。また、本発明は、該金型離型性付与組成物を用いた成形体の製造方法に関する。   The present invention relates to a mold releasability imparting composition used for imparting releasability to the surface of a mold before molding a molding material to obtain a molded body. Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the molded object using this mold release property provision composition.

エポキシ化合物、ポリエステル化合物、フェノール化合物及びポリイミド化合物等の熱硬化性化合物の硬化物は、接着性、電気特性、機械特性、耐熱性及び耐薬品性等に優れている。このため、上記熱硬化性化合物は、接着剤、積層材、機構部品、構造材料及び塗料などの分野で用いられている。特に、エポキシ化合物に充填材を配合した成形材料は、特性が良好であることから、電子部品、電気機器、事務機器、封止材料、絶縁材料及び構造機構部品等に用いられる成形体を得るために広く用いられている。   A cured product of a thermosetting compound such as an epoxy compound, a polyester compound, a phenol compound, or a polyimide compound is excellent in adhesiveness, electrical characteristics, mechanical characteristics, heat resistance, chemical resistance, and the like. For this reason, the said thermosetting compound is used in field | areas, such as an adhesive agent, a laminated material, a mechanism component, a structural material, and a coating material. In particular, a molding material in which a filler is blended with an epoxy compound has good characteristics, so that a molding used for electronic parts, electrical equipment, office equipment, sealing materials, insulating materials, structural mechanism parts, etc. is obtained. Widely used in

上記成形材料を成形して成形体を得る際には、通常、金型を用いて、圧縮成形法、トランスファー成形法又は射出成形法などによって、加熱加圧下で連続的に成形する。成形材料を連続成形する場合、成形体の金型からの離型性が、生産性に著しい影響を及ぼす。このため、金型の表面に離型性を付与するために、金型離型性付与組成物が用いられている。   When a molding is obtained by molding the molding material, it is usually molded continuously under heat and pressure by a compression molding method, a transfer molding method or an injection molding method using a mold. When the molding material is continuously molded, the releasability of the molded body from the mold significantly affects the productivity. For this reason, a mold releasability imparting composition is used to impart releasability to the surface of the mold.

上記金型離型性付与組成物の一例として、下記の特許文献1には、(a)エポキシ樹脂、(b)硬化剤、(c)硬化促進剤、(d)充填剤、(e)離型剤及び(f)酸化防止剤を含む金型表面離型処理用樹脂組成物が開示されている。該金型表面離型処理用樹脂組成物では、(e)離型剤成分が組成物全体に対して0.3〜5重量%及び(f)酸化防止剤成分が組成物全体に対して0.3〜5重量%の範囲で配合されている。また、特許文献1では、好ましい離型剤が、モンタン酸系ワックス、モンタン酸エステル系ワックス、部分ケン化モンタン酸エステル系ワックス、酸化又は非酸化ポリエチレン系ワックス、酸化又は非酸化ポリプロピレン系ワックス、パラフィン系ワックス及びカルナバワックスからなる群から選ばれる少なくとも一種であることが記載されている。   As an example of the above-mentioned mold releasability imparting composition, the following Patent Document 1 includes (a) an epoxy resin, (b) a curing agent, (c) a curing accelerator, (d) a filler, (e) a release agent. A resin composition for mold surface release treatment containing a mold agent and (f) an antioxidant is disclosed. In the resin composition for mold surface release treatment, (e) a release agent component is 0.3 to 5% by weight with respect to the whole composition, and (f) an antioxidant component is 0 with respect to the whole composition. It is blended in the range of 3 to 5% by weight. In Patent Document 1, preferable release agents are montanic acid wax, montanic acid ester wax, partially saponified montanic acid ester wax, oxidized or nonoxidized polyethylene wax, oxidized or nonoxidized polypropylene wax, paraffin. It is described that it is at least one selected from the group consisting of system waxes and carnauba waxes.

特許文献1に記載の金型表面離型処理用樹脂組成物を用いる場合には、成形材料の成形前に、金型表面離型処理用樹脂組成物をダミー成形する。このダミー成形によって、金型の表面に離型性を付与する。次に、離型性が付与された金型を用いて、成形材料を成形して成形体を得る。   In the case of using the resin composition for mold surface release treatment described in Patent Document 1, the resin composition for mold surface release treatment is dummy-molded before molding of the molding material. By this dummy molding, mold release properties are imparted to the surface of the mold. Next, a molding material is obtained by molding a molding material using a mold provided with releasability.

また、光半導体装置に用いられている発光素子である光半導体素子(例えばLED)が大気と直接触れると、大気中の水分又は浮遊するごみ等により、光半導体素子の発光特性が急速に低下する。このため、上記光半導体素子は、通常、光半導体装置用封止剤により封止されている。また、該封止剤を充填するために、上記光半導体素子が搭載されるリードフレーム上に、枠部を有する成形体が配置されている。該枠部を有する成形体の内側に、上記封止剤が充填されている。上記成形体は、リフレクター、ケース材又はハウジングと呼ばれることがある。このような成形体を備える光半導体装置は、例えば下記の特許文献2に開示されている。   In addition, when an optical semiconductor element (for example, an LED), which is a light emitting element used in an optical semiconductor device, is in direct contact with the atmosphere, the light emission characteristics of the optical semiconductor element rapidly deteriorate due to moisture in the atmosphere or floating dust. . For this reason, the said optical semiconductor element is normally sealed with the sealing compound for optical semiconductor devices. In order to fill the sealant, a molded body having a frame portion is disposed on a lead frame on which the optical semiconductor element is mounted. The sealing agent is filled inside the molded body having the frame portion. The said molded object may be called a reflector, a case material, or a housing. An optical semiconductor device including such a molded body is disclosed in, for example, Patent Document 2 below.

特開平07−309998号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-309998 特開2006−156704号公報JP 2006-156704 A

特許文献1では、離型剤に関しては、数多くの離型剤が挙げられているにすぎず、実施例では、ポリエチレン系ワックス1種のみ、又はモンタン酸エステル1種のみが用いられているにすぎない。   In Patent Document 1, only a number of mold release agents are listed regarding the mold release agent. In the examples, only one type of polyethylene wax or only one type of montanic acid ester is used. Absent.

特許文献1に記載のような離型剤を用いたとしても、金型の表面の離型性が十分に高くならないことがある。   Even when a release agent as described in Patent Document 1 is used, the mold release property of the mold surface may not be sufficiently high.

また、特許文献1では、半導体封止用のエポキシ樹脂系封止剤を成形して、半導体素子を封止する封止剤を形成した実施例のみが記載されているにすぎない。封止剤を成形する場合には、金型の離型性はある程度高いことが求められるものの、封止剤の形状から、また封止剤と金型との接触面積が比較的小さいことから、金型の離型性がかなり高くなくても、封止剤を良好に成形することが可能である。   Patent Document 1 only describes an example in which an epoxy resin-based sealant for semiconductor sealing is molded to form a sealant for sealing a semiconductor element. When molding the sealant, the mold releasability is required to be somewhat high, but from the shape of the sealant and because the contact area between the sealant and the mold is relatively small, Even if the mold releasability is not very high, the sealant can be molded well.

これに対して、枠部を有し、かつ該枠部内に封止剤が充填される成形体を成形する場合には、従来の成形体の製造方法では、特許文献1に記載のような金型離型性付与組成物は用いられていない。従来の成形体の製造方法では、上記枠部を有する成形体を良好に成形することが困難なことがある。また、従来の成形体の製造方法では、上記枠部を有する成形体と金型との接触面積が比較的大きいことから、上記枠部を有する成形体を良好に成形することが困難である。特に、枠部を有する成形体を数多くの連続して成形しようとした場合に、早期に成形が不可能になることがある。   On the other hand, in the case of forming a molded body having a frame portion and filled with a sealant in the frame portion, a conventional method for manufacturing a molded body is a metal as described in Patent Document 1. No mold releasability imparting composition is used. In a conventional method for producing a molded body, it may be difficult to form a molded body having the frame portion satisfactorily. Moreover, in the conventional manufacturing method of a molded object, since the contact area of the molded object which has the said frame part, and a metal mold | die is comparatively large, it is difficult to shape | mold a molded object which has the said frame part favorably. In particular, when a large number of molded articles having a frame portion are to be molded continuously, the molding may be impossible at an early stage.

また、従来の成形体の製造方法によって、枠部を有する成形体を得て、次に該成形体を用いて光半導体装置を作製した場合に、該光半導体装置が高温下又は高湿下に晒されると、封止剤が、枠部を有する成形体から剥離することがある。さらに、上記光半導体装置が高温高湿下で通電して使用されると、光半導体装置から取り出される光の明るさが低下することがある。   Further, when a molded body having a frame portion is obtained by a conventional method of manufacturing a molded body, and then an optical semiconductor device is manufactured using the molded body, the optical semiconductor device is kept under high temperature or high humidity. When exposed, the sealant may peel from the molded body having the frame portion. Furthermore, when the optical semiconductor device is used while being energized at high temperature and high humidity, the brightness of light extracted from the optical semiconductor device may be reduced.

本発明の目的は、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性を効果的に高めることができる金型離型性付与組成物、並びに該金型離型性付与組成物を用いた成形体の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a mold releasability imparting composition capable of effectively enhancing mold releasability when molding a molding material to obtain a molded product, and the mold releasability imparting composition. It is providing the manufacturing method of the used molded object.

本発明の限定的な目的は、枠部を有し、かつ該枠部内に封止剤が充填されている成形体を備える光半導体装置を得た場合に、該光半導体装置が高温下又は高湿下に晒されても、封止剤の枠部を有する成形体からの剥離を抑えることができる金型離型性付与組成物、並びに該金型離型性付与組成物を用いた成形体の製造方法を提供することである。   A limited object of the present invention is to obtain an optical semiconductor device having a frame part and having a molded body filled with a sealing agent in the frame part, and the optical semiconductor device is at a high temperature or high temperature. Mold releasability imparting composition capable of suppressing delamination from molded article having sealing agent frame even when exposed to moisture, and molded article using the mold releasability imparting composition It is to provide a manufacturing method.

本発明の限定的な目的は、枠部を有し、かつ該枠部内に封止剤が充填されている成形体を備える光半導体装置を得た場合に、該光半導体装置が高温高湿下で通電して使用されても、光度を低下し難くすることができる金型離型性付与組成物、並びに該金型離型性付与組成物を用いた成形体の製造方法を提供することである。   A limited object of the present invention is to obtain an optical semiconductor device having a frame portion and having a molded body filled with a sealing agent in the frame portion, and the optical semiconductor device is subjected to high temperature and high humidity. By providing a mold releasability-imparting composition that can make it difficult to lower the luminous intensity even if it is used by energizing with, and a method for producing a molded body using the mold releasability-imparting composition is there.

本発明の広い局面によれば、成形材料を成形して成形体を得る前に、金型の表面に離型性を付与するために用いられる金型離型性付与組成物であって、熱硬化性成分と、無機充填材と、離型剤とを含み、前記離型剤が、脂肪酸エステル系ワックスと、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックスとの双方を含有する、金型離型性付与組成物が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a mold releasability imparting composition used for imparting releasability to the surface of a mold before molding a molding material to obtain a molded body, A mold releasability imparting composition comprising a curable component, an inorganic filler, and a release agent, wherein the release agent contains both a fatty acid ester wax and an oxidized or non-oxidized polyolefin wax. Things are provided.

本発明に係る金型離型性付与組成物100重量%中、前記脂肪酸エステル系ワックスの含有量が0.5重量%以上、3重量%以下であり、かつ前記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックスの含有量が1重量%以上、9重量%以下であることが好ましい。   In 100% by weight of the mold releasability imparting composition according to the present invention, the content of the fatty acid ester wax is 0.5% by weight to 3% by weight, and the oxidized or non-oxidized polyolefin wax The content is preferably 1% by weight or more and 9% by weight or less.

前記無機充填材がシリカであることが好ましい。前記無機充填材が、球状充填材と、破砕充填材との双方を含有することが好ましい。前記熱硬化性成分が、エポキシ化合物と、硬化剤とを含有することが好ましい。前記熱硬化性成分が、硬化促進剤を含有することが好ましい。前記熱硬化性成分が、ビスフェノールA型エポキシ化合物と、ノボラック型エポキシ化合物との双方を含有することが好ましい。   The inorganic filler is preferably silica. It is preferable that the inorganic filler contains both a spherical filler and a crushed filler. It is preferable that the thermosetting component contains an epoxy compound and a curing agent. It is preferable that the thermosetting component contains a curing accelerator. It is preferable that the thermosetting component contains both a bisphenol A type epoxy compound and a novolac type epoxy compound.

本発明に係る金型離型性付与組成物のある特定の局面では、該金型離型性付与組成物は、トランスファー成形により、成形材料を成形して成形体を得る前に用いられる。   In a specific aspect of the mold releasability imparting composition according to the present invention, the mold releasability imparting composition is used before forming a molding material by molding a molding material by transfer molding.

本発明に係る金型離型性付与組成物のある特定の局面では、該金型離型性付与組成物は、光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得る前に用いられる。   In a specific aspect of the mold releasability imparting composition according to the present invention, the mold releasability imparting composition is a molded part having a frame portion disposed on the side of an optical semiconductor element in an optical semiconductor device. Used before getting the body.

本発明に係る金型離型性付与組成物のある特定の局面では、該金型離型性付与組成物は、白色の成形材料を成形して白色の成形体を得る前に用いられる。   In a specific aspect of the mold releasability imparting composition according to the present invention, the mold releasability imparting composition is used before a white molding material is obtained by molding a white molding material.

本発明の広い局面によれば、上述した金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後、成形材料を成形して成形体を得る、成形体の製造方法が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a mold release property is imparted to the surface of a mold using the mold release property-imparting composition described above, and then a molding material is molded to obtain a molded article. A manufacturing method is provided.

本発明に係る成形体の製造方法のある特定の局面では、トランスファー成形により、前記成形材料を成形して成形体を得る。   On the specific situation with the manufacturing method of the molded object which concerns on this invention, the said molding material is shape | molded by transfer molding and a molded object is obtained.

本発明に係る成形体の製造方法のある特定の局面では、光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得る。   On the specific situation with the manufacturing method of the molded object which concerns on this invention, in an optical semiconductor device, the molded object which has a frame part arrange | positioned at the side of an optical semiconductor element is obtained.

本発明に係る成形体の製造方法のある特定の局面では、白色の成形材料を成形して白色の成形体を得る。   In a specific aspect of the method for producing a molded body according to the present invention, a white molded body is obtained by molding a white molding material.

本発明に係る金型離型性付与組成物は、熱硬化性成分と無機充填材と離型剤とを含み、上記離型剤が、脂肪酸エステル系ワックスと酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックスとの双方を含有するので、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性を効果的に高めることができる。   The mold releasability imparting composition according to the present invention includes a thermosetting component, an inorganic filler, and a release agent, and the release agent comprises a fatty acid ester wax and an oxidized or non-oxidized polyolefin wax. Since both are contained, the mold release property can be effectively enhanced when the molding material is molded to obtain a molded body.

図1(a)〜(e)は、本発明の一実施形態に係る金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与し、成形材料を成形して成形体を得る各工程の一例を説明するための模式的な断面図である。1 (a) to 1 (e) show molding using a mold releasability imparting composition according to an embodiment of the present invention, imparting releasability to a mold surface, and molding a molding material. It is typical sectional drawing for demonstrating an example of each process of obtaining a body. 図2(a)及び(b)は、本発明の一実施形態に係る金型離型性付与組成物を用いて、成形材料を成形して得られる成形体を備える光半導体装置の一例を模式的に示す断面図及び斜視図である。2 (a) and 2 (b) schematically illustrate an example of an optical semiconductor device including a molded body obtained by molding a molding material using a mold release property imparting composition according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing and a perspective view shown in figure. 図3は、図2に示す光半導体装置の変形例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a modification of the optical semiconductor device shown in FIG.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に係る金型離型性付与組成物は、成形材料を成形して成形体を得る前に、金型の表面に離型性を付与するために用いられる。本発明に係る金型離型性付与組成物は、熱硬化性成分(A)と、無機充填材(B)と、離型剤(C)とを含む。上記離型剤(C)は、脂肪酸エステル系ワックス(C1)と酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との双方を含有する。   The mold releasability imparting composition according to the present invention is used to impart releasability to the surface of a mold before molding a molding material to obtain a molded product. The mold releasability imparting composition according to the present invention includes a thermosetting component (A), an inorganic filler (B), and a release agent (C). The mold release agent (C) contains both a fatty acid ester wax (C1) and an oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2).

本発明に係る金型離型性付与組成物における上述した組成の採用によって、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性を効果的に高めることができる。また、金型の表面から、成形体を容易に剥離して取り出すことができ、連続成形性を高めることができる。さらに、金型から取り出された成形体の形状を良好にすることができる。例えば、成形体の角部の欠けの発生などを抑えることができる。   By adopting the above-described composition in the mold releasability imparting composition according to the present invention, the releasability can be effectively enhanced when a molding material is molded to obtain a molded body. Moreover, a molded object can be easily peeled and taken out from the surface of the mold, and the continuous moldability can be improved. Furthermore, the shape of the molded body taken out from the mold can be improved. For example, the occurrence of chipping at the corners of the molded body can be suppressed.

さらに、本発明に係る金型離型性付与組成物における上述した組成の採用によって、本発明に係る金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後に、枠部を有し、かつ該枠部内に封止剤が充填されている成形体を備える光半導体装置を得た場合に、該光半導体装置が高温下又は高湿下に晒されても、封止剤が枠部を有する成形体から剥離し難くなる。   Further, by adopting the above-described composition in the mold releasability imparting composition according to the present invention, the mold releasability imparting composition according to the present invention is used to impart releasability to the surface of the mold. In addition, when an optical semiconductor device having a frame portion and having a molded body filled with a sealing agent in the frame portion is obtained, even if the optical semiconductor device is exposed to high temperature or high humidity, It becomes difficult for the sealant to peel from the molded body having the frame portion.

さらに、本発明に係る金型離型性付与組成物における上述した組成の採用によって、本発明に係る金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後に、枠部を有し、かつ該枠部内に封止剤が充填されている成形体を備える光半導体装置を得た場合に、該光半導体装置が高温高湿下で通電して使用されても、光度が低下し難くなる。   Further, by adopting the above-described composition in the mold releasability imparting composition according to the present invention, the mold releasability imparting composition according to the present invention is used to impart releasability to the surface of the mold. In addition, when an optical semiconductor device having a frame portion and having a molded body in which the sealant is filled in the frame portion is obtained, the optical semiconductor device may be used while being energized at high temperature and high humidity. , The light intensity is difficult to decrease.

(金型離型性付与組成物及び成形材料の詳細)
上記金型離型性付与組成物は、熱硬化性成分(A)と、無機充填材(B)と、離型剤(C)とを含む。上記金型離型性付与組成物に含まれる上記離型剤(C)は、脂肪酸エステル系ワックス(C1)と酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との双方を含有する。上記成形材料は、熱硬化性成分(A)を含むことが好ましい。上記成形材料は、無機充填材(B)を含むことが好ましい。上記成形材料に含まれる上記無機充填材(B)は白色の無機充填材であることが好ましく、酸化チタンであることがより好ましい。
(Details of mold releasability imparting composition and molding material)
The mold releasability imparting composition includes a thermosetting component (A), an inorganic filler (B), and a release agent (C). The release agent (C) contained in the mold releasability imparting composition contains both a fatty acid ester wax (C1) and an oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2). The molding material preferably contains a thermosetting component (A). The molding material preferably contains an inorganic filler (B). The inorganic filler (B) contained in the molding material is preferably a white inorganic filler, and more preferably titanium oxide.

上記金型離型性付与組成物に含まれる熱硬化性成分(A)と上記成形材料に含まれる熱硬化性成分(A)とは同一であってもよく、異なっていてもよい。上記金型離型性付与組成物に含まれる無機充填材(B)と上記成形材料に含まれる無機充填材(B)とは同一であってもよく、異なっていてもよい。   The thermosetting component (A) contained in the mold releasability imparting composition and the thermosetting component (A) contained in the molding material may be the same or different. The inorganic filler (B) contained in the mold releasability imparting composition and the inorganic filler (B) contained in the molding material may be the same or different.

以下、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料に用いられる各成分を具体的に説明する。   Hereinafter, each component used for the said mold release property provision composition and the said molding material is demonstrated concretely.

[熱硬化性成分(A)]
上記金型離型性付与組成物は、熱硬化性成分(A)を含む。上記成形材料は、熱硬化性成分(A)を含むことが好ましい。上記熱硬化性成分(A)は、熱の付与により硬化可能である。上記熱硬化性成分(A)は、熱硬化性化合物(A1)と硬化剤(A2)とを含有することが好ましい。熱硬化性をより一層高めるために、上記熱硬化性成分(A)は、硬化促進剤(A3)を含有することが好ましい。
[Thermosetting component (A)]
The mold releasability imparting composition contains a thermosetting component (A). The molding material preferably contains a thermosetting component (A). The thermosetting component (A) can be cured by applying heat. The thermosetting component (A) preferably contains a thermosetting compound (A1) and a curing agent (A2). In order to further enhance the thermosetting property, the thermosetting component (A) preferably contains a curing accelerator (A3).

上記熱硬化性化合物(A1)としては、エポキシ化合物、シリコーン化合物、ポリエステル化合物、フェノール化合物及びポリイミド化合物等が挙げられる。上記熱硬化性化合物(A1)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   As said thermosetting compound (A1), an epoxy compound, a silicone compound, a polyester compound, a phenol compound, a polyimide compound, etc. are mentioned. As for the said thermosetting compound (A1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記金型離型性付与組成物に含まれる上記熱硬化性化合物(A1)は、エポキシ化合物であることが好ましい。上記成形材料に含まれる上記熱硬化性化合物(A1)は、エポキシ化合物又はシリコーン化合物であることが好ましく、エポキシ化合物であることが好ましい。上記成形材料に含まれる上記熱硬化性化合物(A1)は、エポキシ基を2つ以上有するエポキシ化合物又はシリコーン化合物であることが好ましく、エポキシ基を2つ以上有するエポキシ化合物であることが好ましい。上記エポキシ化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The thermosetting compound (A1) contained in the mold releasability imparting composition is preferably an epoxy compound. The thermosetting compound (A1) contained in the molding material is preferably an epoxy compound or a silicone compound, and is preferably an epoxy compound. The thermosetting compound (A1) contained in the molding material is preferably an epoxy compound or a silicone compound having two or more epoxy groups, and is preferably an epoxy compound having two or more epoxy groups. As for the said epoxy compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記エポキシ化合物はエポキシ基を有する。上記金型離型性付与組成物に含まれる上記熱硬化性化合物(A1)として上記エポキシ化合物を用いることにより、金型離型性付与組成物の成形が容易になる。   The epoxy compound has an epoxy group. By using the epoxy compound as the thermosetting compound (A1) contained in the mold releasability imparting composition, the mold releasability imparting composition can be easily molded.

上記エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、多塩素酸化合物とエピクロロヒドリンとを反応させて得られるグリシジルエステル型エポキシ化合物、ポリアミン化合物とエピクロロヒドリンとを反応させて得られるグリシジルアミン型エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、水添型芳香族エポキシ化合物、脂環式骨格を有するエポキシ化合物、トリグリシジルイソシアヌレートなどの複素環式エポキシ化合物等が挙げられる。上記多塩素酸化合物としては、フタル酸及びダイマー酸等が挙げられる。上記ポリアミン化合物としては、ジアミノジフェニルメタン及びイソシアヌル酸等が挙げられる。上記ノボラック型エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型エポキシ化合物及びクレゾールノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound include a bisphenol type epoxy compound, a novolac type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound obtained by reacting a polychloric acid compound and epichlorohydrin, a polyamine compound and epichlorohydrin. Glycidylamine type epoxy compounds, glycidyl ether type epoxy compounds, aliphatic epoxy compounds, hydrogenated aromatic epoxy compounds, epoxy compounds having an alicyclic skeleton, and heterocyclic epoxy compounds such as triglycidyl isocyanurate obtained by reaction Etc. Examples of the polychloric acid compound include phthalic acid and dimer acid. Examples of the polyamine compound include diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid. Examples of the novolac type epoxy compound include a phenol novolac type epoxy compound and a cresol novolac type epoxy compound.

成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性をより一層高くし、連続成形性をより一層高める観点からは、上記熱硬化性成分(A)及び上記エポキシ化合物はそれぞれ、ビスフェノールA型エポキシ化合物及びノボラック型エポキシ化合物の内の少なくとも1種を含有することが好ましく、ビスフェノールA型エポキシ化合物を含有することがより好ましく、ノボラック型エポキシ化合物を含有することがより好ましい。上記エポキシ化合物は、ビスフェノール骨格又はノボラック骨格を有することが好ましい。成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性を更に一層高くし、連続成形性を更に一層高める観点からは、上記熱硬化性成分(A)及び上記エポキシ化合物はそれぞれ、ビスフェノールA型エポキシ化合物と、ノボラック型エポキシ化合物との双方を含有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving mold release properties and further improving continuous moldability when molding a molding material to obtain a molded body, the thermosetting component (A) and the epoxy compound are each bisphenol A. It is preferable to contain at least one of a type epoxy compound and a novolac type epoxy compound, more preferably a bisphenol A type epoxy compound, and more preferably a novolac type epoxy compound. The epoxy compound preferably has a bisphenol skeleton or a novolak skeleton. When the molding material is molded to obtain a molded body, the thermosetting component (A) and the epoxy compound are each bisphenol A from the viewpoint of further improving the mold release property and further improving the continuous moldability. It is preferable to contain both a type epoxy compound and a novolac type epoxy compound.

上記ノボラック型エポキシ化合物は、フェノールノボラック型エポキシ化合物又はクレゾールノボラック型エポキシ化合物であることが好ましい。   The novolac epoxy compound is preferably a phenol novolac epoxy compound or a cresol novolac epoxy compound.

上記熱硬化性化合物(A1)の熱硬化性官能基当量は、好ましくは100以上、好ましくは3000以下である。上記熱硬化性官能基当量が100以上であると、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性がより一層良好になる。上記熱硬化性官能基当量が3000以下であると、成形体の強度がより一層高くなる。上記熱硬化性化合物(A1)が上記エポキシ化合物である場合に、上記熱硬化性官能基当量は、エポキシ当量を意味する。   The thermosetting functional group equivalent of the thermosetting compound (A1) is preferably 100 or more, and preferably 3000 or less. When the thermosetting functional group equivalent is 100 or more, the mold releasability imparting composition and the moldability of the molding material are further improved. The intensity | strength of a molded object becomes it still higher that the said thermosetting functional group equivalent is 3000 or less. When the thermosetting compound (A1) is the epoxy compound, the thermosetting functional group equivalent means an epoxy equivalent.

上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の配合量は、熱の付与により適度に硬化するように適宜調整され、特に限定されない。   The compounding quantity of the said thermosetting compound (A1) and the said epoxy compound is suitably adjusted so that it may harden | cure moderately by provision of heat, and is not specifically limited.

上記金型離型性付与組成物100重量%中、上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の含有量はそれぞれ、好ましくは3重量%以上、より好ましくは5重量%以上、更に好ましくは10重量%以上、好ましくは99重量%以下、より好ましくは95重量%以下、更に好ましくは80重量%以下である。上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の含有量が上記下限以上であると、加熱により金型離型性付与組成物がより一層効果的に硬化する。上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の含有量が上記上限以下であると、成形体の耐熱性がより一層高くなる。   The content of the thermosetting compound (A1) and the epoxy compound in 100% by weight of the mold releasability imparting composition is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, and still more preferably. It is 10% by weight or more, preferably 99% by weight or less, more preferably 95% by weight or less, and still more preferably 80% by weight or less. When the contents of the thermosetting compound (A1) and the epoxy compound are equal to or higher than the lower limit, the mold releasability imparting composition is more effectively cured by heating. The heat resistance of a molded object becomes it still higher that content of the said thermosetting compound (A1) and the said epoxy compound is below the said upper limit.

上記成形材料100重量%中、上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物又は上記シリコーン化合物の含有量はそれぞれ、好ましくは3重量%以上、より好ましくは5重量%以上、更に好ましくは10重量%以上、好ましくは99重量%以下、より好ましくは95重量%以下、更に好ましくは80重量%以下である。上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の含有量が上記下限以上であると、加熱により成形材料がより一層効果的に硬化する。上記熱硬化性化合物(A1)及び上記エポキシ化合物の含有量が上記上限以下であると、成形体の耐熱性がより一層高くなる。   The content of the thermosetting compound (A1) and the epoxy compound or the silicone compound is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, and still more preferably 10% by weight in 100% by weight of the molding material. % Or more, preferably 99% by weight or less, more preferably 95% by weight or less, and still more preferably 80% by weight or less. When the content of the thermosetting compound (A1) and the epoxy compound is not less than the lower limit, the molding material is more effectively cured by heating. The heat resistance of a molded object becomes it still higher that content of the said thermosetting compound (A1) and the said epoxy compound is below the said upper limit.

ビスフェノールA型エポキシ化合物とノボラック型エポキシ化合物とを併用する場合には、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料では、ビスフェノールA型エポキシ化合物の含有量のノボラック型エポキシ化合物の含有量に対する重量比(ビスフェノールA型エポキシ化合物/ノボラック型エポキシ化合物)が、0.01以上、100以下であることが好ましく、0.03以上、30以下であることがより好ましく、0.07以上、15以下であることが更に好ましい。ビスフェノールA型エポキシ化合物の含有量及びノボラック型エポキシ化合物の含有量は、上記金型離型性付与組成物100重量%中及び上記成形材料100重量%中での含有量を示す。すなわち、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料はそれぞれ、ビスフェノールA型エポキシ化合物とノボラック型エポキシ化合物とを重量比(ビスフェノールA型エポキシ化合物:ノボラック型エポキシ化合物)で、1:100〜100:1で含むことが好ましく、1:30〜30:1で含むことがより好ましく、1:15〜15:1で含むことが更に好ましい。   In the case of using a bisphenol A type epoxy compound and a novolac type epoxy compound in combination, in the mold release property-imparting composition and the molding material, the content of the bisphenol A type epoxy compound with respect to the content of the novolac type epoxy compound The weight ratio (bisphenol A type epoxy compound / novolak type epoxy compound) is preferably 0.01 or more and 100 or less, more preferably 0.03 or more and 30 or less, and more preferably 0.07 or more and 15 or less. More preferably. The content of the bisphenol A type epoxy compound and the content of the novolak type epoxy compound indicate the content in 100% by weight of the mold releasability imparting composition and 100% by weight of the molding material. That is, the mold releasability imparting composition and the molding material are each in a weight ratio of bisphenol A type epoxy compound and novolac type epoxy compound (bisphenol A type epoxy compound: novolak type epoxy compound), from 1: 100 to It is preferably included at 100: 1, more preferably at 1:30 to 30: 1, and still more preferably at 1:15 to 15: 1.

熱の付与によって効率的に硬化可能であるように、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料に含まれる上記熱硬化性成分(A)は、上記硬化剤(A2)を含有することが好ましい。なお、上記硬化剤(A2)には、シリコーン化合物を硬化させるための硬化触媒が含まれる。また、上記硬化剤(A2)がシリコーン化合物である場合に、上記硬化剤(A2)を必ずしも用いなくてもよい。上記硬化剤(A2)は、上記熱硬化性化合物(A1)を硬化させる。上記硬化剤(A2)として、熱硬化性化合物の硬化剤として使用される公知の硬化剤が使用可能である。上記硬化剤(A2)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The thermosetting component (A) contained in the mold releasability imparting composition and the molding material contains the curing agent (A2) so that it can be efficiently cured by application of heat. Is preferred. The curing agent (A2) includes a curing catalyst for curing the silicone compound. Further, when the curing agent (A2) is a silicone compound, the curing agent (A2) is not necessarily used. The curing agent (A2) cures the thermosetting compound (A1). As said hardening | curing agent (A2), the well-known hardening | curing agent used as a hardening | curing agent of a thermosetting compound can be used. As for the said hardening | curing agent (A2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化剤(A2)としては、酸無水物、ジシアンジアミド、フェノール化合物、ヒドラジド化合物、イミダゾール化合物、トリアジン環を有する化合物、メチル(メタ)アクリレート樹脂又はスチレン樹脂等により形成されたシェルにより、トリフェニルホスフィン(硬化剤)が被覆されている潜在性硬化剤(例えば、日本化薬社製「EPCAT−P」及び「EPCAT−PS」)、ポリウレア系重合体又はラジカル重合体により形成されたシェルにより、アミンなどの硬化剤が被覆されている潜在性硬化剤、変性イミダゾールなどの硬化剤をエポキシ樹脂中に分散させて閉じ込め、粉砕することにより得られた潜在性硬化剤(旭化成イーマテリアルズ社製「ノバキュアHXA3792」及び「HXA3932HP」)、熱可塑性高分子内に硬化剤を分散させ、含有させた潜在性硬化剤、並びにテトラキスフェノール類化合物などにより被覆されたイミダゾール潜在性硬化剤(例えば、日本曹達社製「TEP−2E4MZ」及び「HIPA−2E4MZ」)等が挙げられる。これら以外の硬化剤(A2)を用いてもよい。なかでも、酸無水物又はフェノール化合物が好ましく、フェノール化合物がより好ましい。硬化剤(A2)は、酸無水物硬化剤又はフェノール硬化剤であることが好ましく、フェノール硬化剤であることがより好ましい。   As the curing agent (A2), triphenylphosphine is formed by a shell formed of an acid anhydride, dicyandiamide, a phenol compound, a hydrazide compound, an imidazole compound, a compound having a triazine ring, a methyl (meth) acrylate resin, a styrene resin, or the like. A latent curing agent (for example, “EPCAT-P” and “EPCAT-PS” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), a polyurea polymer or a radical polymer formed by a shell formed with a (curing agent) is coated with an amine. A latent curing agent coated with a curing agent such as, a curing agent such as modified imidazole dispersed in an epoxy resin, confined and pulverized (“Novacure” manufactured by Asahi Kasei E-Materials) HXA3792 "and" HXA3932HP "), in thermoplastic polymers A latent curing agent in which a curing agent is dispersed and contained, and an imidazole latent curing agent coated with a tetrakisphenol compound (for example, “TEP-2E4MZ” and “HIPA-2E4MZ” manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) Can be mentioned. A curing agent (A2) other than these may be used. Especially, an acid anhydride or a phenol compound is preferable, and a phenol compound is more preferable. The curing agent (A2) is preferably an acid anhydride curing agent or a phenol curing agent, and more preferably a phenol curing agent.

成形体と接触している封止剤及びリードフレームなどの部材との密着性をより一層高める観点からは、上記成形材料に含まれる上記硬化剤(A2)は、酸無水物硬化剤であることがより好ましい。上記成形材料に含まれる上記熱硬化性成分(A)は、酸無水物硬化剤を含有することが好ましい。酸無水物硬化剤の使用により、硬化性を高く維持して、成形体の成形むらをより一層抑制できる。上記金型離型性付与組成物は、上記成形材料に含まれる上記エポキシ化合物が2つ以上のエポキシ基を有し、エポキシ基を2つ以上有するエポキシ化合物と酸無水物硬化剤とを含む成形材料を成形する前に用いられることが好ましい。   From the viewpoint of further improving the adhesion with a member such as a sealant and a lead frame in contact with the molded body, the curing agent (A2) contained in the molding material is an acid anhydride curing agent. Is more preferable. The thermosetting component (A) contained in the molding material preferably contains an acid anhydride curing agent. By using an acid anhydride curing agent, it is possible to maintain high curability and further suppress molding unevenness of the molded body. The mold releasability imparting composition is a molding in which the epoxy compound contained in the molding material has two or more epoxy groups, and an epoxy compound having two or more epoxy groups and an acid anhydride curing agent. It is preferably used before molding the material.

上記酸無水物硬化剤としては、芳香族骨格を有する酸無水物及び脂環式骨格を有する酸無水物の内のいずれも使用可能である。   As the acid anhydride curing agent, any of an acid anhydride having an aromatic skeleton and an acid anhydride having an alicyclic skeleton can be used.

好ましい上記酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   Preferred examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride. And methylhexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride.

上記酸無水物硬化剤は、二重結合を有さないことが好ましい。二重結合を有さない好ましい酸無水物硬化剤としては、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。   The acid anhydride curing agent preferably does not have a double bond. Preferable acid anhydride curing agents having no double bond include hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride.

上記熱硬化性化合物(A1)と上記硬化剤(A2)との配合比率は特に限定されない。上記熱硬化性化合物(A1)100重量部に対して、上記硬化剤(A2)の含有量は、好ましくは0.5重量部以上、より好ましくは1重量部以上、更に好ましくは2重量部以上、特に好ましくは3重量部以上、好ましくは500重量部以下、より好ましくは300重量部以下、更に好ましくは100重量部以下である。   The compounding ratio of the thermosetting compound (A1) and the curing agent (A2) is not particularly limited. The content of the curing agent (A2) is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, further preferably 2 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound (A1). The amount is particularly preferably 3 parts by weight or more, preferably 500 parts by weight or less, more preferably 300 parts by weight or less, and still more preferably 100 parts by weight or less.

また、上記金型離型性付与組成物中及び上記成形材料中で、上記熱硬化性化合物(A1)全体の熱硬化性官能基当量と上記硬化剤(A2)全体の硬化剤当量との当量比(熱硬化性官能基当量:硬化剤当量)は、0.3:1〜2:1であることが好ましく、0.5:1〜1.5:1であることがより好ましい。   Moreover, in the said mold release property provision composition and the said molding material, the equivalent of the thermosetting functional group equivalent of the whole said thermosetting compound (A1), and the hardening | curing agent equivalent of the said whole hardening | curing agent (A2). The ratio (thermosetting functional group equivalent: curing agent equivalent) is preferably 0.3: 1 to 2: 1, and more preferably 0.5: 1 to 1.5: 1.

上記熱硬化性化合物(A1)と上記硬化剤(A2)との反応を促進するために、上記金型離型性付与組成物に含まれる上記熱硬化性成分(A)は、硬化促進剤(A3)を含有することが好ましく、上記成形材料に含まれる上記熱硬化性成分(A)は、硬化促進剤(A3)を含有することが好ましい。上記硬化促進剤(A3)の使用により、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の硬化性がより一層高くなり、更に成形体の耐熱性がより一層高くなる。上記硬化促進剤(A3)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   In order to accelerate the reaction between the thermosetting compound (A1) and the curing agent (A2), the thermosetting component (A) contained in the mold release property-imparting composition is a curing accelerator ( A3) is preferably contained, and the thermosetting component (A) contained in the molding material preferably contains a curing accelerator (A3). By using the curing accelerator (A3), the mold releasability imparting composition and the molding material are further improved in curability, and further, the heat resistance of the molded body is further enhanced. As for the said hardening accelerator (A3), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記成形材料に含まれる上記硬化促進剤(A3)は、塩基性を有する硬化促進剤を含有することが好ましい。塩基性を有する硬化促進剤の使用により、成形材料の硬化性がより一層良好になる。   It is preferable that the said hardening accelerator (A3) contained in the said molding material contains the hardening accelerator which has basicity. By using a curing accelerator having basicity, the curability of the molding material is further improved.

なお、上記硬化促進剤(A3)が塩基性を有するか否かは、硬化促進剤1gをアセトン5gと純水5gとを含む液10g中に入れ、80℃で1時間撹拌しながら加熱し、次に加熱後の液中の不溶成分をろ過によって除去して抽出液を得たときに、該抽出液のpHが塩基性であることにより判断される。   Whether the curing accelerator (A3) has basicity is determined by putting 1 g of the curing accelerator in 10 g of a liquid containing 5 g of acetone and 5 g of pure water, and heating with stirring at 80 ° C. for 1 hour. Next, when an insoluble component in the liquid after heating is removed by filtration to obtain an extract, it is judged that the pH of the extract is basic.

上記硬化促進剤(A3)としては、例えば、ウレア化合物、オニウム塩化合物、イミダゾール化合物、リン化合物、アミン化合物及び有機金属化合物等が挙げられる。   Examples of the curing accelerator (A3) include urea compounds, onium salt compounds, imidazole compounds, phosphorus compounds, amine compounds, and organometallic compounds.

上記ウレア化合物としては、ウレア、脂肪族ウレア化合物及び芳香族ウレア化合物等が挙げられる。上記ウレア化合物の具体例としては、ウレア、メチルウレア、1,1−ジメチルウレア、1,3−ジメチルウレア、1,1,3,3−テトラメチルウレア、1,3−ジフェニルウレア及びトリ−n−ブチルチオウレア等が挙げられる。これら以外のウレア化合物を用いてもよい。   Examples of the urea compound include urea, aliphatic urea compounds, and aromatic urea compounds. Specific examples of the urea compound include urea, methylurea, 1,1-dimethylurea, 1,3-dimethylurea, 1,1,3,3-tetramethylurea, 1,3-diphenylurea, and tri-n-. Examples include butylthiourea. Urea compounds other than these may be used.

上記オニウム塩化合物としては、アンモニウム塩、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩化合物等が挙げられる。   Examples of the onium salt compounds include ammonium salts, phosphonium salts, and sulfonium salt compounds.

上記イミダゾール化合物としては、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール及び2−フェニル−4−メチル−5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole compound include 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-un Decylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2 ′ -Methyl Midazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 [2′-Ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole Can be mentioned.

上記リン化合物は、リンを含有し、リン含有化合物である。上記リン化合物としては、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、及びテトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレート等が挙げられる。これら以外のリン化合物を用いてもよい。   The phosphorus compound contains phosphorus and is a phosphorus-containing compound. Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, and tetra-n-. Examples thereof include butylphosphonium-tetraphenylborate. Phosphorus compounds other than these may be used.

上記アミン化合物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジエチレンテトラミン、トリエチレンテトラミン、4,4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロアルカン、ジアザビシクロアルケン、第4級アンモニウム塩、トリエチレンジアミン、及びトリ−2,4,6−ジメチルアミノメチルフェノールが挙げられる。これらの化合物の塩を用いてもよい。フェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレートが挙げられる。   Examples of the amine compound include diethylamine, triethylamine, diethylenetetramine, triethylenetetramine, 4,4-dimethylaminopyridine, diazabicycloalkane, diazabicycloalkene, quaternary ammonium salt, triethylenediamine, and tri-2,4. , 6-dimethylaminomethylphenol. You may use the salt of these compounds. Phenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium-tetraphenylborate It is done.

上記有機金属化合物としては、アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物等が挙げられる。上記有機金属化合物の具体例としては、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)及びトリスアセチルアセトナートコバルト(III)等が挙げられる。   Examples of the organometallic compound include alkali metal compounds and alkaline earth metal compounds. Specific examples of the organometallic compound include zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, bisacetylacetonate cobalt (II), and trisacetylacetonate cobalt (III).

上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の硬化性をより一層高める観点からは、上記硬化促進剤(A3)は、ウレア化合物、オニウム塩化合物又はリン化合物であることが好ましい。上記硬化促進剤(A3)は、ウレア化合物であることが好ましく、オニウム塩化合物であることも好ましく、リン化合物であることも好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the curability of the mold releasability imparting composition and the molding material, the curing accelerator (A3) is preferably a urea compound, an onium salt compound or a phosphorus compound. The curing accelerator (A3) is preferably a urea compound, preferably an onium salt compound, and preferably a phosphorus compound.

上記熱硬化性化合物(A1)と上記硬化促進剤(A3)との配合比率は特に限定されない。上記熱硬化性化合物(A1)100重量部に対して、上記硬化促進剤(A3)の含有量は、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上、好ましくは100重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5重量部以下である。   The compounding ratio of the thermosetting compound (A1) and the curing accelerator (A3) is not particularly limited. The content of the curing accelerator (A3) is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight or more, preferably 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound (A1). Parts or less, more preferably 10 parts by weight or less, still more preferably 5 parts by weight or less.

上記熱硬化性化合物(A1)100重量部に対して、上記塩基性を有する硬化促進剤の含有量は、好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.1重量部以上、好ましくは100重量部以下、より好ましくは10重量部以下、更に好ましくは5重量部以下である。塩基性を有する硬化促進剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化性組成物の硬化性がより一層高くなり、成形体の成形むらがより一層生じ難くなる。   The content of the basic curing accelerator is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.1 parts by weight or more, preferably 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the thermosetting compound (A1). The amount is not more than parts by weight, more preferably not more than 10 parts by weight, still more preferably not more than 5 parts by weight. When the content of the curing accelerator having basicity is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the curability of the curable composition is further increased, and the molding unevenness of the molded body is more unlikely to occur.

[無機充填材(B)]
上記金型離型性付与組成物は、無機充填材(B)を含む。上記成形材料は、無機充填材(B)を含むことが好ましい。上記無機充填材(B)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Inorganic filler (B)]
The mold releasability imparting composition contains an inorganic filler (B). The molding material preferably contains an inorganic filler (B). As for the said inorganic filler (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記無機充填材(B)の具体例としては、シリカ、アルミナ、マイカ、ベリリア、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、ホウ酸アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク及び炭化ケイ素等が挙げられる。   Specific examples of the inorganic filler (B) include silica, alumina, mica, beryllia, potassium titanate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, zirconium oxide, antimony oxide, aluminum borate, and aluminum hydroxide. , Magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, aluminum carbonate, calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, calcium sulfate, barium sulfate, silicon nitride, boron nitride, clays such as calcined clay, talc and silicon carbide Is mentioned.

上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性をより一層良好にする観点からは、上記無機充填材(B)はシリカであることが好ましい。さらに、光半導体装置が高温下又は高湿下に晒された場合に、封止剤を成形体から剥離し難くし、耐リフロー性をより一層高める観点からは、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料に含まれる上記無機充填材(B)はシリカであることが好ましい。上記成形材料に含まれる上記無機充填材(B)はシリカを含有することが好ましい。シリカは線膨張率が低いために、シリカの使用により成形体の耐リフロー性がより一層高くなる。   From the viewpoint of further improving the moldability of the mold releasability imparting composition and the molding material, the inorganic filler (B) is preferably silica. Furthermore, when the optical semiconductor device is exposed to high temperature or high humidity, it is difficult to peel off the sealing agent from the molded body, and from the viewpoint of further improving the reflow resistance, the above mold release property imparting composition The inorganic filler (B) contained in the product and the molding material is preferably silica. The inorganic filler (B) contained in the molding material preferably contains silica. Since silica has a low linear expansion coefficient, the reflow resistance of the molded product is further enhanced by using silica.

成形体の反射率をより一層高くする観点からは、上記成形材料に含まれる上記無機充填材(B)は、白色の無機充填材を含有することが好ましく、酸化チタンを含有することがより好ましい。白色の無機充填材の使用により、光の反射率が高い成形体が得られる。上記酸化チタンの使用によって、酸化チタンとは異なる充填材のみを用いた場合と比較して、光の反射率が高い成形体が得られる。   From the viewpoint of further increasing the reflectance of the molded body, the inorganic filler (B) contained in the molding material preferably contains a white inorganic filler, and more preferably contains titanium oxide. . By using a white inorganic filler, a molded article having high light reflectance can be obtained. By using the titanium oxide, it is possible to obtain a molded article having a high light reflectance as compared with a case where only a filler different from titanium oxide is used.

上記白色の無機充填材としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛及び硫酸バリウム等が挙げられる。   Examples of the white inorganic filler include titanium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, and barium sulfate.

上記酸化チタンは、ルチル型酸化チタン又はアナターゼ型酸化チタンであることが好ましい。ルチル型酸化チタンの使用により、耐熱性により一層優れた成形体が得られ、光半導体装置が過酷な環境下で使用されても品質が低下し難くなる。上記アナターゼ型酸化チタンは、ルチル型酸化チタンよりも、硬度が低い。このため、アナターゼ型酸化チタンの使用により、上記硬化性組成物の成形性がより一層高くなる。   The titanium oxide is preferably rutile titanium oxide or anatase titanium oxide. By using rutile-type titanium oxide, a molded article having further excellent heat resistance can be obtained, and the quality is hardly lowered even when the optical semiconductor device is used in a harsh environment. The anatase type titanium oxide has a lower hardness than the rutile type titanium oxide. For this reason, the moldability of the said curable composition becomes still higher by use of anatase type titanium oxide.

上記酸化チタンは、アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンを含むことが好ましい。上記成形材料に含まれる上記無機充填材(B)100重量%中、上記アルミニウム酸化物より表面処理されたルチル型酸化チタンの含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、100重量%以下である。上記酸化チタンの全量が、上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンであってもよい。上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンの使用により、成形体の耐熱性がより一層高くなる。   The titanium oxide preferably includes rutile type titanium oxide surface-treated with aluminum oxide. In 100% by weight of the inorganic filler (B) contained in the molding material, the content of rutile titanium oxide surface-treated from the aluminum oxide is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more. 100% by weight or less. The total amount of the titanium oxide may be rutile titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide. Use of the rutile type titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide further increases the heat resistance of the molded body.

上記アルミニウム酸化物により表面処理されたルチル型酸化チタンとしては、例えば、ルチル塩素法酸化チタンである石原産業社製の品番:CR−58や、ルチル硫酸法酸化チタンである石原産業社製の品番:R−630等が挙げられる。   Examples of the rutile-type titanium oxide surface-treated with the aluminum oxide include, for example, a product number manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., which is rutile chlorine method titanium oxide, and a product number manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., which is rutile sulfuric acid method titanium oxide. : R-630 and the like.

上記無機充填材(B)は、球状充填材(B1)を含むことが好ましい。上記無機充填材(B)は、破砕充填材(B2)を含むことが好ましい。上記無機充填材(B)は、上記球状充填材(B1)と上記破砕充填材(B2)との双方を含むことが好ましい。また、上記球状充填材(B1)と上記破砕充填材(B2)との併用により、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性がより一層高くなる。上記球状充填材(B1)は、球状シリカであることが好ましい。上記破砕充填材(B2)は、破砕シリカであることが好ましい。   The inorganic filler (B) preferably includes a spherical filler (B1). The inorganic filler (B) preferably includes a crushed filler (B2). The inorganic filler (B) preferably includes both the spherical filler (B1) and the crushed filler (B2). Moreover, the moldability of the said mold release property provision composition and the said molding material becomes still higher by combined use with the said spherical filler (B1) and the said crushing filler (B2). The spherical filler (B1) is preferably spherical silica. The crushed filler (B2) is preferably crushed silica.

上記球状充填材(B1)は球状である。上記球状充填材(B1)はアスペクト比が2以下である充填材をいう。上記球状充填材(B1)は、真球状であってもよく、球を扁平にした楕円球状であってもよく、又はこれらに類似した形状であってもよい。   The spherical filler (B1) is spherical. The spherical filler (B1) refers to a filler having an aspect ratio of 2 or less. The spherical filler (B1) may be a true sphere, an elliptical sphere obtained by flattening a sphere, or a shape similar to these.

上記破砕充填材(B2)は、破砕された充填材である。上記破砕充填材(B2)のアスペクト比は、特に限定されない。上記破砕充填材(B2)のアスペクト比は好ましくは1.5以上、好ましくは20以下である。アスペクト比が1.5未満である破砕充填材は、比較的高価である。従って、金型離型性付与組成物のコストが高くなる。上記アスペクト比が20以下であると、上記破砕充填材(B2)の充填が容易である。   The crushed filler (B2) is a crushed filler. The aspect ratio of the crushed filler (B2) is not particularly limited. The aspect ratio of the crushed filler (B2) is preferably 1.5 or more, and preferably 20 or less. A crushing filler having an aspect ratio of less than 1.5 is relatively expensive. Accordingly, the cost of the mold releasability imparting composition is increased. When the aspect ratio is 20 or less, the crushing filler (B2) can be easily filled.

上記破砕充填材(B2)のアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(商品名:FPA、日本ルフト社製)を用いて、上記破砕充填材(B2)の破砕面を測定することにより求めることができる。   The aspect ratio of the crushing filler (B2) is measured, for example, by using a digital image analysis type particle size distribution measuring device (trade name: FPA, manufactured by Nippon Luft Co., Ltd.). Can be obtained.

上記球状充填材(B1)の好ましい例としては、シリカ、アルミナ、チタン酸カリウム、酸化ジルコニウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム及び硫酸カルシウム等が挙げられる。上記球状充填材(B1)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Preferred examples of the spherical filler (B1) include silica, alumina, potassium titanate, zirconium oxide, strontium titanate, aluminum borate, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium phosphate and Examples thereof include calcium sulfate. As for the said spherical filler (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記破砕充填材(B2)の好ましい例としては、シリカ、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、アルミナ、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、ホウ酸アルミニウム及び炭化ケイ素等が挙げられる。上記破砕充填材(B2)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Preferred examples of the crushed filler (B2) include silica, antimony oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, alumina, mica, beryllia, barium titanate, titanate. Potassium, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, calcined clay, etc., talc, aluminum borate, silicon carbide, etc. Can be mentioned. As for the said crushing filler (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

成形性を高め、かつ熱伝導性及び光反射特性に優れた成形体を得る観点からは、上記破砕充填材(B2)は、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム又は水酸化マグネシウムであることが好ましい。   From the viewpoint of improving the moldability and obtaining a molded body excellent in thermal conductivity and light reflection characteristics, the crushed filler (B2) is composed of silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide or Magnesium hydroxide is preferred.

上記無機充填材(B)の平均粒径、上記球状充填材(B1)の平均粒径及び上記破砕充填材(B2)の平均粒径はそれぞれ、好ましくは0.1μm以上、好ましくは100μm以下である。該平均粒径が上記下限以上であると、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性がより一層良好になる。上記平均粒径が上記上限以下であると、成形体の外観不良がより一層生じ難くなる。   The average particle size of the inorganic filler (B), the average particle size of the spherical filler (B1), and the average particle size of the crushed filler (B2) are each preferably 0.1 μm or more, preferably 100 μm or less. is there. When the average particle size is not less than the above lower limit, the mold releasability imparting composition and the moldability of the molding material are further improved. When the average particle size is less than or equal to the above upper limit, the appearance defect of the molded body is more difficult to occur.

上記無機充填材(B)における平均粒径、上記球状充填材(B1)における平均粒径及び上記破砕充填材(B2)における平均粒径とは、体積基準粒度分布曲線において積算値が50%のときの粒径値である。該平均粒径は、例えばレーザ光式粒度分布計を用いて測定可能である。該レーザ光式粒度分布計の市販品としては、Beckman Coulter社製「LS 13 320」等が挙げられる。   The average particle diameter in the inorganic filler (B), the average particle diameter in the spherical filler (B1), and the average particle diameter in the crushed filler (B2) are 50% integrated value in the volume-based particle size distribution curve. Is the particle size value at the time. The average particle size can be measured using, for example, a laser beam type particle size distribution meter. As a commercial product of the laser beam type particle size distribution analyzer, “LS 13 320” manufactured by Beckman Coulter, Inc. can be cited.

上記金型離型性付与組成物100重量%中及び上記成形材料100重量%中、上記無機充填材(B)の含有量は、好ましくは5重量%以上、より好ましくは10重量%以上、更に好ましくは20重量%以上、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下、更に好ましくは85重量%以下である。上記無機充填材(B)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the mold releasability imparting composition and 100% by weight of the molding material, the content of the inorganic filler (B) is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more. Preferably it is 20 weight% or more, Preferably it is 95 weight% or less, More preferably, it is 90 weight% or less, More preferably, it is 85 weight% or less. When the content of the inorganic filler (B) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the mold releasability imparting composition and the moldability of the molding material are further enhanced.

上記球状充填材(B1)と上記破砕充填材(B2)とを併用する場合には、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料では、上記球状充填材(B1)の含有量の上記破砕充填材(B2)の含有量に対する重量比(球状充填材(B1)/破砕充填材(B2))が、0.03以上、30以下であることが好ましく、0.07以上、15以下であることがより好ましい。上記球状充填材(B1)の含有量及び上記破砕充填材(B2)の含有量は、上記金型離型性付与組成物100重量%中及び上記成形材料100重量%中での含有量を示す。すなわち、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料はそれぞれ、上記球状充填材(B1)と上記破砕充填材(B2)とを重量比(球状充填材(B1):破砕充填材(B2))で、1:30〜30:1で含むことが好ましく、1:15〜15:1で含むことがより好ましい。上記重量比(球状充填材(B1):破砕充填材(B2))を満足すると、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料の成形性がより一層高くなる。また、上記球状充填材(B1)の含有量が相対的に多くなると、成形体が脆くなり難く、成形体の加工性がより一層高くなって、成形体にクラック及び欠けがより一層生じ難くなる。上記破砕充填材(B2)の含有量が相対的に多くなると、成形体の強度がより一層高くなる。   When the spherical filler (B1) and the crushed filler (B2) are used in combination, in the mold releasability imparting composition and the molding material, the content of the spherical filler (B1) is the above. The weight ratio to the content of the crushed filler (B2) (spherical filler (B1) / crushed filler (B2)) is preferably 0.03 or more and 30 or less, and is 0.07 or more and 15 or less. More preferably. Content of the said spherical filler (B1) and content of the said crushing filler (B2) show content in 100 weight% of the said mold release property provision composition and 100 weight% of the said molding materials. . That is, the mold releasability imparting composition and the molding material are respectively in a weight ratio of the spherical filler (B1) and the crushed filler (B2) (spherical filler (B1): crushed filler (B2). )), It is preferably included at 1:30 to 30: 1, and more preferably at 1:15 to 15: 1. When the weight ratio (spherical filler (B1): crushed filler (B2)) is satisfied, the mold releasability imparting composition and the moldability of the molding material are further enhanced. Further, when the content of the spherical filler (B1) is relatively increased, the molded body is less likely to be brittle, the processability of the molded body is further enhanced, and cracks and chips are less likely to occur in the molded body. . When the content of the crushed filler (B2) is relatively increased, the strength of the molded body is further increased.

[離型剤(C)]
上記金型離型性付与組成物は、離型剤(C)を含む。上記離型剤(C)は、脂肪酸エステル系ワックス(C1)と、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との双方を含有する。この特定の離型剤(C)の併用は、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性を高めることに大きく寄与する。
[Release agent (C)]
The mold releasability imparting composition contains a release agent (C). The release agent (C) contains both the fatty acid ester wax (C1) and the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2). The combined use of this specific mold release agent (C) greatly contributes to enhancing mold release properties when a molding material is molded to obtain a molded body.

なお、上述した特開平07−309998号公報では、好ましい離型剤が、モンタン酸系ワックス、モンタン酸エステル系ワックス、部分ケン化モンタン酸エステル系ワックス、酸化又は非酸化ポリエチレン系ワックス、酸化又は非酸化ポリプロピレン系ワックス、パラフィン系ワックス及びカルナバワックスからなる群から選ばれる少なくとも一種であることは記載されている。しかしながら、ここでは、離型剤に関しては、数多くの離型剤が挙げられているにすぎず、実施例では、ポリエチレン系ワックス1種のみ、又はモンタン酸エステル1種のみが用いられているにすぎない。ここでは、脂肪酸エステル系ワックス(C1)と酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との2種を組み合わせて用いるという構成を選択することに関する記載は一切ない。脂肪酸エステル系ワックス(C1)1種のみを用いたり、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)1種のみを用いたりした場合と比べて、肪酸エステル系ワックス(C1)と、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との双方を用いた場合には、離型性を十分に高めることができ、連続成形性を効果的に高めることができる。   In JP-A-07-309998 described above, preferable release agents are montanic acid wax, montanic acid ester wax, partially saponified montanic acid ester wax, oxidized or non-oxidized polyethylene wax, oxidized or non-oxidized It is described that it is at least one selected from the group consisting of oxidized polypropylene wax, paraffin wax and carnauba wax. However, here, regarding the release agent, only a number of release agents are listed, and in the examples, only one type of polyethylene wax or only one type of montanic acid ester is used. Absent. Here, there is no description regarding selecting a configuration in which two types of fatty acid ester wax (C1) and oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) are used in combination. Compared to the case where only one fatty acid ester wax (C1) is used or only one kind of oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) is used, the fatty acid ester wax (C1) is oxidized or non-oxidized. When both the polyolefin wax (C2) is used, the releasability can be sufficiently enhanced, and the continuous moldability can be effectively enhanced.

上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)の具体例としては、飽和又は不飽和脂肪酸のグリセリンエステル、ポリグリセリンエステル又はソルビトールエステル等が挙げられる。一価の飽和又は不飽和脂肪酸としては、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、べヘン酸及びモンタン酸等が挙げられる。二価の飽和又は不飽和脂肪酸としては、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸及びエルカ酸等が挙げられる。   Specific examples of the fatty acid ester wax (C1) include saturated or unsaturated fatty acid glycerin ester, polyglycerin ester or sorbitol ester. Examples of monovalent saturated or unsaturated fatty acids include capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, and montanic acid. Examples of the divalent saturated or unsaturated fatty acid include oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid and erucic acid.

上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)の具体例としては、酸化又は非酸化ポリエチレンワックス、酸化又は非酸化ポリプロピレンワックス及び酸化又は非酸化オレフィン共重合体ワックス等が挙げられる。上記酸化又は非酸化オレフィン共重合体ワックスとしては、酸化又は非酸化エチレン共重合体ワックス及び酸化又は非酸化ポリプロピレンワックス等が挙げられる。   Specific examples of the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) include oxidized or non-oxidized polyethylene wax, oxidized or non-oxidized polypropylene wax and oxidized or non-oxidized olefin copolymer wax. Examples of the oxidized or non-oxidized olefin copolymer wax include oxidized or non-oxidized ethylene copolymer wax and oxidized or non-oxidized polypropylene wax.

上記金型離型性付与組成物100重量%中、上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、更に好ましくは0.5重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下、更に好ましくは3重量%以下である。上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the mold releasability imparting composition, the content of the fatty acid ester wax (C1) is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and still more preferably 0.8%. It is 5% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, and further preferably 3% by weight or less. When the content of the fatty acid ester wax (C1) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the mold releasability is further enhanced when the molding material is molded to obtain a molded body.

上記金型離型性付与組成物100重量%中、上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、更に好ましくは1重量%以上、好ましくは30重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは9重量%以下である。上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性がより一層高くなる。   The content of the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and still more preferably in 100% by weight of the mold releasability imparting composition. Is 1% by weight or more, preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, and still more preferably 9% by weight or less. When the content of the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the releasability is further enhanced when the molding material is molded to obtain a molded body.

上記金型離型性付与組成物100重量%中、上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)の含有量が0.5重量%以上、3重量%以下であることが好ましく、上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)の含有量が1重量%以上、9重量%以下であることが好ましく、上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)の含有量が0.5重量%以上、3重量%以下であり、かつ上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)の含有量が1重量%以上、9重量%以下であることがより好ましい。   In 100% by weight of the mold releasability imparting composition, the content of the fatty acid ester wax (C1) is preferably 0.5% by weight or more and 3% by weight or less. The content of the wax (C2) is preferably 1% by weight or more and 9% by weight or less, the content of the fatty acid ester wax (C1) is 0.5% by weight or more and 3% by weight or less, and The content of the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) is more preferably 1 wt% or more and 9 wt% or less.

上記金型離型性付与組成物100重量%中、上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)と上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との合計の含有量は、好ましくは0.02重量%以上、より好ましくは0.2重量%以上、更に好ましくは1.5重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは30重量%以下、更に好ましくは20重量%以下、特に好ましくは12重量%以下である。上記脂肪酸エステル系ワックス(C1)と上記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2)との合計の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、成形材料を成形して成形体を得る際に、離型性がより一層高くなる。   The total content of the fatty acid ester wax (C1) and the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) in 100% by weight of the mold releasability imparting composition is preferably 0.02% by weight or more. More preferably 0.2% by weight or more, further preferably 1.5% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, still more preferably 20% by weight or less, particularly preferably 12% by weight. It is as follows. When the total content of the fatty acid ester wax (C1) and the oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2) is not less than the lower limit and not more than the upper limit, a molding material is molded to obtain a molded body. , The releasability is further enhanced.

[酸化防止剤(D)]
上記金型離型性付与組成物は、酸化防止剤(D)を含むことが好ましい。上記成形材料は、酸化防止剤(D)を含むことが好ましい。上記酸化防止剤(D)としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤等が挙げられる。上記酸化防止剤(D)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Antioxidant (D)]
The mold releasability imparting composition preferably contains an antioxidant (D). The molding material preferably contains an antioxidant (D). As said antioxidant (D), a phenolic antioxidant, phosphorus antioxidant, an amine antioxidant, etc. are mentioned. As for the said antioxidant (D), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記フェノール系酸化防止剤の市販品としては、IRGANOX 1010、IRGANOX 1035、IRGANOX 1076、IRGANOX 1135、IRGANOX 245、IRGANOX 259、及びIRGANOX 295(以上、いずれもBASF社製)、アデカスタブ AO−30、アデカスタブ AO−40、アデカスタブ AO−50、アデカスタブ AO−60、アデカスタブ AO−70、アデカスタブ AO−80、アデカスタブ AO−90、及びアデカスタブ AO−330(以上、いずれもADEKA社製)、Sumilizer GA−80、Sumilizer MDP−S、Sumilizer BBM−S、Sumilizer GM、Sumilizer GS(F)、及びSumilizer GP(以上、いずれも住友化学工業社製)、HOSTANOX O10、HOSTANOX O16、HOSTANOX O14、及びHOSTANOX O3(以上、いずれもクラリアント社製)、アンテージ BHT、アンテージ W−300、アンテージ W−400、及びアンテージ W500(以上、いずれも川口化学工業社製)、並びにSEENOX 224M、及びSEENOX 326M(以上、いずれもシプロ化成社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available phenolic antioxidants include IRGANOX 1010, IRGANOX 1035, IRGANOX 1076, IRGANOX 1135, IRGANOX 245, IRGANOX 259, and IRGANOX 295 (all of which are manufactured by BASF), ADK STAB AO-30, and ADK STAB AO. -40, ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-70, ADK STAB AO-80, ADK STAB AO-90, and ADK STAB AO-330 (all of which are manufactured by ADEKA), Sumilizer GA-80, and Sumizer MDP -S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), and Sumilizer G (All are manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), HOSTANOX O10, HOSTANOX O16, HOSTANOX O14, and HOSTANOX O3 (all are manufactured by Clariant), Antage BHT, Antage W-300, Antage W-400, and Antage W500 (All as described above, manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.), SEENOX 224M, and SEENOX 326M (all as described above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.).

上記リン系酸化防止剤としては、シクロヘキシルフォスフィン及びトリフェニルフォスフィン等が挙げられる。上記リン系酸化防止剤の市販品としては、アデアスタブ PEP−4C、アデアスタブ PEP−8、アデアスタブ PEP−24G、アデアスタブ PEP−36、アデアスタブ HP−10、アデアスタブ 2112、アデアスタブ 260、アデアスタブ 522A、アデアスタブ 1178、アデアスタブ 1500、アデアスタブ C、アデアスタブ 135A、アデアスタブ 3010、及びアデアスタブ TPP(以上、いずれもADEKA社製)、サンドスタブ P−EPQ、及びホスタノックス PAR24(以上、いずれもクラリアント社製)、並びにJP−312L、JP−318−0、JPM−308、JPM−313、JPP−613M、JPP−31、JPP−2000PT、及びJPH−3800(以上、いずれも城北化学工業社製)等が挙げられる。   Examples of the phosphorus antioxidant include cyclohexylphosphine and triphenylphosphine. Commercially available products of the above phosphorus antioxidants include Adeastab PEP-4C, Adeastab PEP-8, Adeastab PEP-24G, Adeastab PEP-36, Adeastab HP-10, Adeastab 2112, Adeastab 260, Adeastab 522A, Adeastab 1178, Adeastab 1500, Adeastab C, Adeastab 135A, Adeastab 3010, and Adeastab TPP (all of which are manufactured by ADEKA), Sandstub P-EPQ, and Hostanox PAR24 (all of which are manufactured by Clariant), and JP-312L, JP -318-0, JPM-308, JPM-313, JPP-613M, JPP-31, JPP-2000PT, and JPH-3800 (all of which are Johoku Manabu Kogyo Co., Ltd.), and the like.

上記アミン系酸化防止剤としては、トリエチルアミン、メラミン、エチルジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−トリル−S−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−キシリル−S−トリアジン及び第四級アンモニウム塩誘導体等が挙げられる。   Examples of the amine-based antioxidant include triethylamine, melamine, ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-tolyl-S-triazine, and 2,4-diamino- Examples include 6-xylyl-S-triazine and quaternary ammonium salt derivatives.

上記熱硬化性化合物(A1)100重量部に対して、上記酸化防止剤(D)の含有量は好ましくは0.1重量部以上、より好ましくは5重量部以上、好ましくは50重量部以下、より好ましくは30重量部以下である。上記酸化防止剤(D)の含有量が上記下限以上及び上限以下であると、光半導体装置において封止剤の変色がより一層抑えられ、光半導体装置から発せられる光度の低下がより一層抑えられる。さらに、上記酸化防止剤(D)の含有量が上記下限以上及び上限以下であると、耐熱性により一層優れた成形体が得られる。   The content of the antioxidant (D) is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound (A1). More preferably, it is 30 parts by weight or less. When the content of the antioxidant (D) is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, discoloration of the sealing agent is further suppressed in the optical semiconductor device, and a decrease in luminous intensity emitted from the optical semiconductor device is further suppressed. . Furthermore, when the content of the antioxidant (D) is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, a molded body that is more excellent in heat resistance can be obtained.

[他の成分]
上記金型離型性付与組成物は、必要に応じて、カップリング剤、(C)成分以外の離型剤、樹脂改質剤、着色剤、希釈剤、表面処理剤、難燃剤、粘度調節剤、分散剤、分散助剤、表面改質剤、可塑剤、抗菌剤、防黴剤、レベリング剤、安定剤、タレ防止剤又は蛍光体等を含んでいてもよい。上記希釈剤は、反応性希釈剤であってもよく、非反応性希釈剤であってもよい。
[Other ingredients]
The mold releasability-imparting composition includes a coupling agent, a mold release agent other than the component (C), a resin modifier, a colorant, a diluent, a surface treatment agent, a flame retardant, and a viscosity adjustment, as necessary. An agent, a dispersant, a dispersion aid, a surface modifier, a plasticizer, an antibacterial agent, an antifungal agent, a leveling agent, a stabilizer, an anti-sagging agent or a phosphor may be included. The diluent may be a reactive diluent or a non-reactive diluent.

上記カップリング剤としては特に限定されず、シランカップリング剤及びチタネート系カップリング剤が挙げられる。   It does not specifically limit as said coupling agent, A silane coupling agent and a titanate coupling agent are mentioned.

上記着色剤としては特に限定されず、フタロシアニン、アゾ化合物、ジスアゾ化合物、キナクリドン、アントラキノン、フラバントロン、ペリノン、ペリレン、ジオキサジン、縮合アゾ化合物、アゾメチン化合物、赤外吸収材及び紫外線吸収剤などの各種有機系色素、並びに硫酸鉛、クロムエロー、ジンクエロー、クロムバーミリオン、弁殻、コバルト紫、紺青、群青、カーボンブラック、クロムグリーン、酸化クロム及びコバルトグリーン等の無機顔料等が挙げられる。   The colorant is not particularly limited, and various organic materials such as phthalocyanine, azo compound, disazo compound, quinacridone, anthraquinone, flavantron, perinone, perylene, dioxazine, condensed azo compound, azomethine compound, infrared absorber and ultraviolet absorber. And inorganic pigments such as lead sulfate, chromium yellow, zinc yellow, chromium vermillion, valve shell, cobalt purple, bitumen, ultramarine, carbon black, chromium green, chromium oxide and cobalt green.

(金型離型性付与組成物の他の詳細、成形材料の他の詳細、成形体及び成形体の製造方法)
上記金型離型性付与組成物は、熱硬化性成分(A)と無機充填材(B)と離型剤(C)と必要に応じて配合される他の成分とを、従来公知の方法で混合することにより得られる。上記成形材料は、必要に応じて配合される成分を、従来公知の方法で混合することにより得られる。
(Other details of the mold releasability imparting composition, other details of the molding material, molded product, and method for producing the molded product)
The mold releasability imparting composition comprises a conventionally known method comprising a thermosetting component (A), an inorganic filler (B), a release agent (C), and other components blended as necessary. Obtained by mixing with. The said molding material is obtained by mixing the component mix | blended as needed by a conventionally well-known method.

上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料を作製する一般的な方法としては、各成分を押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等によって混練した後、混練物を冷却し、粉砕する方法が挙げられる。分散性を向上する観点からは、各成分の混練は、溶融状態で行うことが好ましい。混練の条件は、各成分の種類及び配合量により適宜決定される。15〜150℃で5〜120分間混練することが好ましく、15〜150℃で5〜100分間混練することがより好ましく、20〜100℃で5〜60分間混練することが更に好ましい。   A general method for producing the mold releasability imparting composition and the molding material is a method of kneading each component with an extruder, kneader, roll, extruder, etc., and then cooling and pulverizing the kneaded product. Is mentioned. From the viewpoint of improving dispersibility, the kneading of each component is preferably performed in a molten state. The kneading conditions are appropriately determined depending on the type and amount of each component. Kneading is preferably performed at 15 to 150 ° C. for 5 to 120 minutes, more preferably 15 to 150 ° C. for 5 to 100 minutes, further preferably 20 to 100 ° C. for 5 to 60 minutes.

本発明に係る金型離型性付与組成物は、成形材料を成形して成形体を得る前に、金型の表面に離型性を付与するために用いられる。本発明に係る金型離型性付与組成物は、成形材料を成形する前に、成形(ダミー成形)されることが好ましい。金型を用いて、金型離型性付与組成物をダミー成形した後、ダミーの成形体を取り除くことで、金型離型性付与組成物に由来する金型離型性付与成分が金型の表面に付着して、後の工程で成形材料が成形された成形体の離型性が高くなる。   The mold releasability imparting composition according to the present invention is used to impart releasability to the surface of a mold before molding a molding material to obtain a molded product. The mold releasability imparting composition according to the present invention is preferably molded (dummy molding) before molding the molding material. Using a mold, the mold releasability imparting composition is dummy-molded, and then the mold releasability imparting component derived from the mold releasability imparting composition is removed by removing the dummy molded body. The mold release property of the molded article that is attached to the surface of the molded article and in which the molding material is molded in a later process becomes high.

本発明に係る金型離型性付与組成物は、光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得る際に用いられる。該枠部が、光半導体素子の側方に配置される。光半導体素子と枠部とは距離を隔てていることが好ましい。上記枠部は、内側に封止剤が充填される枠部であることが好ましい。上記枠部は、光半導体素子を封止している封止剤を取り囲む枠部であることが好ましい。上記枠部は環状であることが好ましい。   The mold releasability imparting composition according to the present invention is used in an optical semiconductor device to obtain a molded body having a frame portion disposed on the side of the optical semiconductor element. The frame is disposed on the side of the optical semiconductor element. It is preferable that the optical semiconductor element and the frame part are separated from each other. The frame part is preferably a frame part filled with a sealant on the inside. The frame portion is preferably a frame portion surrounding a sealant that seals the optical semiconductor element. The frame portion is preferably annular.

本発明に係る金型離型性付与組成物は、白色の成形材料を成形して白色の成形体を得る際に好適に用いられる。白色の無機充填材の使用により、白色の成形材料が得られる。   The mold releasability imparting composition according to the present invention is suitably used when a white molding material is obtained by molding a white molding material. By using a white inorganic filler, a white molding material is obtained.

上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料はそれぞれ、タブレットであることが好ましい。   The mold releasability imparting composition and the molding material are each preferably a tablet.

本発明に係る成形体の製造方法では、上述した金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後、成形材料を成形して成形体を得る。   In the manufacturing method of the molded object which concerns on this invention, after giving mold release property to the surface of a metal mold | die using the mold release property provision composition mentioned above, a molding material is shape | molded and a molded object is obtained.

本発明に係る成形体の製造方法では、金型内に、上記金型離型性付与組成物を充填して成形した後、上記金型離型性付与組成物が成形された成形体を取り出すことで、上記金型の表面に離型性を付与することが好ましい。   In the method for producing a molded article according to the present invention, after the mold releasability imparting composition is filled in a mold and molded, the molded article molded with the mold releasability imparting composition is taken out. Thus, it is preferable to impart releasability to the surface of the mold.

本発明に係る成形体の製造方法では、光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得ることが好ましい。本発明に係る成形体の製造方法では、白色の成形材料を成形して白色の成形体を得ることが好ましい。   In the method for producing a molded body according to the present invention, in the optical semiconductor device, it is preferable to obtain a molded body having a frame portion disposed on the side of the optical semiconductor element. In the manufacturing method of the molded object which concerns on this invention, it is preferable to shape | mold a white molding material and to obtain a white molded object.

上記成形材料が成形された成形体における枠部は、光半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上に配置されることが好ましい。上記リードフレームは、例えば、光半導体素子を支持しかつ固定し、光半導体素子の電極と外部配線との電気的な接続を果たすための部品である。上記成形体は、光半導体装置用成形体であり、光半導体素子搭載用基板であることが好ましい。   In the optical semiconductor device, the frame portion in the molded body in which the molding material is molded is preferably disposed on a lead frame on which the optical semiconductor element is mounted. The lead frame is, for example, a component for supporting and fixing the optical semiconductor element and achieving electrical connection between the electrode of the optical semiconductor element and external wiring. The molded body is a molded body for an optical semiconductor device, and is preferably an optical semiconductor element mounting substrate.

上記成形材料が成形された成形体における枠部は、半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上にかつ上記光半導体素子の側方に配置され、上記光半導体素子から発せられた光を反射する光反射部であることが好ましい。   In the semiconductor device, the frame portion in the molded body in which the molding material is molded is disposed on the lead frame on which the optical semiconductor element is mounted and on the side of the optical semiconductor element, and light emitted from the optical semiconductor element. It is preferable that the light reflecting portion reflects the light.

上記成形材料が成形された成形体における枠部は、半導体装置において、光半導体素子が搭載されるリードフレーム上にかつ上記光半導体素子を取り囲むように配置され、上記光半導体素子から発せられた光を反射する内面を有することが好ましい。上記成形体における枠部は、上記光半導体素子を取り囲む枠部であることが好ましい。上記成形体は、光半導体装置において、光半導体素子を接合(ダイボンディング)するためのダイボンド材とは異なることが好ましい。上記成形体は、上記ダイボンド材を含まないことが好ましい。   In the semiconductor device, the frame portion in the molded body in which the molding material is molded is disposed on the lead frame on which the optical semiconductor element is mounted so as to surround the optical semiconductor element, and the light emitted from the optical semiconductor element It is preferable to have an inner surface that reflects light. The frame part in the molded body is preferably a frame part surrounding the optical semiconductor element. The molded body is preferably different from a die bond material for bonding (die bonding) an optical semiconductor element in an optical semiconductor device. It is preferable that the molded body does not include the die bond material.

上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料を成形して成形体を得る方法は、圧縮成形法、トランスファー成形法、積層成形法、射出成形法、押出成形法及びブロー成形法等が挙げられる。上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料を成形して成形体を得る方法は、圧縮成形法、トランスファー成形法、積層成形法、射出成形法、押出成形法又はブロー成形法であることが好ましい。なかでも、トランスファー成形法が好ましい。本発明に係る金型離型性付与組成物は、トランスファー成形されることが好ましい。本発明に係る金型離型性付与組成物は、トランスファー成形により、成形材料を成形して成形体を得る前に好適に用いられる。本発明に係る成形体の製造方法では、トランスファー成形より、上記成形材料を成形して成形体を得ることが好ましい。   Examples of the method for obtaining a molded product by molding the mold releasability imparting composition and the molding material include compression molding, transfer molding, lamination molding, injection molding, extrusion molding, and blow molding. It is done. The method for obtaining the molded product by molding the mold releasability imparting composition and the molding material is a compression molding method, a transfer molding method, a layer molding method, an injection molding method, an extrusion molding method or a blow molding method. Is preferred. Of these, transfer molding is preferred. The mold releasability imparting composition according to the present invention is preferably transferred. The mold releasability imparting composition according to the present invention is suitably used before forming a molding material by molding a molding material by transfer molding. In the method for producing a molded body according to the present invention, it is preferable to obtain the molded body by molding the molding material by transfer molding.

トランスファー成形法では、例えば、成形温度100〜200℃、成形圧力5〜20MPa及び成形時間60〜300秒の条件で、上記金型離型性付与組成物及び上記成形材料をトランスファー成形することにより、成形体が得られる。   In the transfer molding method, for example, by molding the mold releasability imparting composition and the molding material under the conditions of a molding temperature of 100 to 200 ° C., a molding pressure of 5 to 20 MPa, and a molding time of 60 to 300 seconds, A molded body is obtained.

離型性が付与された上記金型内に、成形材料を充填しかつリードフレームを入れて、リードフレームを有する成形体を、上記成形材料を成形して得ることが好ましい。このような成形体は光半導体装置に好適に用いることができる。   It is preferable to obtain a molded body having a lead frame by filling a molding material and putting a lead frame into the mold provided with releasability, and molding the molding material. Such a molded body can be suitably used for an optical semiconductor device.

上記成形体は、具体的には、以下のようにして得ることができる。   Specifically, the molded body can be obtained as follows.

図1(a)〜(e)は、本発明の一実施形態に係る金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与し、成形材料を成形して成形体を得る各工程の一例を説明するための模式的な断面図である。   1 (a) to 1 (e) show molding using a mold releasability imparting composition according to an embodiment of the present invention, imparting releasability to a mold surface, and molding a molding material. It is typical sectional drawing for demonstrating an example of each process of obtaining a body.

先ず、金型21内に、リードフレーム22を配置する。また、金型21内に金型離型性付与組成物23を充填する(図1(a))。金型離型性付与組成物23は、熱硬化性成分(A)と無機充填材(B)と離型剤(C)とを含む。ここでは、金型離型性付与組成物23として、タブレットを用いている。   First, the lead frame 22 is placed in the mold 21. Moreover, the mold releasability imparting composition 23 is filled in the mold 21 (FIG. 1A). The mold releasability imparting composition 23 includes a thermosetting component (A), an inorganic filler (B), and a release agent (C). Here, a tablet is used as the mold releasability imparting composition 23.

次に、金型離型性付与組成物23を成形する(図1(b))。成形後に、金型離型性付与組成物23が成形された成形体を取り出す(図1(c))。金型離型性付与組成物23が成形された成形体を取り出した後に、金型21の表面に、金型離型性付与組成物23に含まれる離型性付与成分23Aが残存している。このため、金型21の表面に離型性が付与される。なお、図1(c)〜(e)では、図示の便宜上、残存している離型性付与成分23Aの厚みが、実際の厚みよりも厚く示されている。   Next, the mold releasability imparting composition 23 is molded (FIG. 1B). After the molding, the molded body in which the mold releasability imparting composition 23 is molded is taken out (FIG. 1 (c)). After taking out the molded body in which the mold releasability imparting composition 23 is formed, the releasability imparting component 23 </ b> A contained in the mold releasability imparting composition 23 remains on the surface of the mold 21. . For this reason, releasability is imparted to the surface of the mold 21. In FIGS. 1C to 1E, the thickness of the remaining releasability-imparting component 23A is shown to be thicker than the actual thickness for convenience of illustration.

次に、金型21内に成形材料24を充填しかつリードフレーム22を入れる(図1(d))。ここでは、成形材料24として、タブレットを用いている。次に、成形材料24を成形する(図1(e))。   Next, the mold 21 is filled with the molding material 24 and the lead frame 22 is inserted (FIG. 1D). Here, a tablet is used as the molding material 24. Next, the molding material 24 is molded (FIG. 1 (e)).

その後、成形材料24が成形された成形体をリードフレーム22とともに、金型21から取り出す。また、必要に応じて、所定の形状にリードフレーム22などを切断する。成形材料24が成形された成形体は、光半導体装置において光半導体素子の側方に配置される枠部を有する。成形材料24が成形された成形体は、底部を有する。また、成形材料24が成形された成形体の内側に封止剤を充填することで、光半導体装置を得ることができる。上記封止剤は、成形材料24が成形された成形体における枠部の内側に充填される。   Thereafter, the molded body in which the molding material 24 is molded is taken out from the mold 21 together with the lead frame 22. Further, the lead frame 22 and the like are cut into a predetermined shape as necessary. The molded body in which the molding material 24 is molded has a frame portion that is disposed on the side of the optical semiconductor element in the optical semiconductor device. The molded body in which the molding material 24 is molded has a bottom. Moreover, an optical semiconductor device can be obtained by filling the inside of the molded body in which the molding material 24 is molded with a sealant. The sealing agent is filled inside the frame portion of the molded body in which the molding material 24 is molded.

(光半導体装置の詳細及び光半導体装置の実施形態)
本発明に係る金型離型性付与組成物は、光半導体装置を得るために好適に用いられる。光半導体装置は、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を備えることが好ましい。光半導体装置は、リードフレームと、該リードフレーム上に搭載された光半導体素子と、上記リードフレーム上に配置された枠部を有する成形体とを備え、該成形体が、上記成形材料が成形された成形体であることが好ましい。
(Details of optical semiconductor device and embodiment of optical semiconductor device)
The mold releasability imparting composition according to the present invention is suitably used for obtaining an optical semiconductor device. The optical semiconductor device preferably includes a molded body having a frame portion disposed on the side of the optical semiconductor element. An optical semiconductor device includes a lead frame, an optical semiconductor element mounted on the lead frame, and a molded body having a frame portion disposed on the lead frame, and the molded body is molded from the molding material. It is preferable that the molded body is made.

上記光半導体装置では、上記成形体における枠部は、上記光半導体素子の側方に配置されていることが好ましい。さらに、上記光半導体装置では、上記成形体における枠部は、上記光半導体素子の側方に配置されており、上記成形体の内面が上記光半導体素子から発せられた光を反射する光反射部であることが好ましい。   In the said optical semiconductor device, it is preferable that the frame part in the said molded object is arrange | positioned at the side of the said optical semiconductor element. Further, in the optical semiconductor device, the frame portion of the molded body is disposed on the side of the optical semiconductor element, and the inner surface of the molded body reflects the light emitted from the optical semiconductor element. It is preferable that

本発明に係る金型離型性付与組成物を用いて成形体を得る際には、枠部と底部とを有し、上記枠部と上記底部とで凹部が形成されている成形体を得ることが好ましい。上記底部は、上記枠部の下方に配置されていることが好ましい。上記枠部は、光半導体素子を封止している封止剤を取り囲む枠部であることが好ましい。上記枠部は環状であることが好ましい。   When a molded body is obtained using the mold releasability imparting composition according to the present invention, a molded body having a frame portion and a bottom portion and having a recess formed between the frame portion and the bottom portion is obtained. It is preferable. It is preferable that the bottom portion is disposed below the frame portion. The frame portion is preferably a frame portion surrounding a sealant that seals the optical semiconductor element. The frame portion is preferably annular.

上記枠部の内面が、下端から上端にかけて側方に向かって傾斜していることが好ましい。上記枠部の内面は、底部側から底部とは反対側にかけて側方に向かって傾斜していることが好ましい。上記底部側が下端側である。上記底部とは反対側が上端側である。上記成形体では、上記枠部の内面の開口面積が、開口端(上端)に向かって大きくなっていることが好ましい。   It is preferable that the inner surface of the frame portion is inclined toward the side from the lower end to the upper end. It is preferable that the inner surface of the frame portion is inclined toward the side from the bottom side to the side opposite to the bottom portion. The bottom side is the lower end side. The side opposite to the bottom is the upper end side. In the molded body, it is preferable that the opening area of the inner surface of the frame portion increases toward the opening end (upper end).

本発明に係る金型離型性付与組成物を用いることで、上記成形材料を連続して成形し、成形体を得ることができる。すなわち、成形材料を成形した後、金型の表面に離型性を再度付与しなくても、繰り返して、成形材料を成形することができる。連続成形可能回数は好ましくは100回以上、より好ましくは150回以上、より一層好ましくは200回以上、更に好ましくは225回以上、更に一層好ましくは250回以上、特に好ましくは275回以上、最も好ましくは300回以上である。本発明に係る成形体の製造方法では、100回以上連続成形することが好ましい。この連続成形する回数は、より好ましくは150回以上、より一層好ましくは200回以上、更に好ましくは225回以上、更に一層好ましくは250回以上、特に好ましくは275回以上、最も好ましくは300回以上である。連続成形する回数が多いほど、成形体の製造効率を高めることができる。   By using the mold releasability imparting composition according to the present invention, the molding material can be continuously molded to obtain a molded body. That is, after molding the molding material, the molding material can be molded repeatedly without re-releasing the mold surface. The number of continuous moldings is preferably 100 times or more, more preferably 150 times or more, still more preferably 200 times or more, still more preferably 225 times or more, still more preferably 250 times or more, particularly preferably 275 times or more, and most preferably Is 300 times or more. In the method for producing a molded body according to the present invention, it is preferable to continuously mold 100 times or more. The number of times of continuous molding is more preferably 150 times or more, still more preferably 200 times or more, still more preferably 225 times or more, still more preferably 250 times or more, particularly preferably 275 times or more, and most preferably 300 times or more. It is. The greater the number of times of continuous molding, the higher the manufacturing efficiency of the molded body.

図2(a)及び(b)に、本発明の一実施形態に係る金型離型性付与組成物を用いて、成形材料を成形して得られる成形体を備える光半導体装置の一例を模式的に断面図及び斜視図で示す。   2A and 2B schematically show an example of an optical semiconductor device including a molded body obtained by molding a molding material using the mold releasability imparting composition according to one embodiment of the present invention. Specifically, a cross-sectional view and a perspective view are shown.

光半導体装置1は、リードフレーム2と光半導体素子3と成形体4とを有する。光半導体素子3は発光ダイオード(LED)であることが好ましい。成形体4は、枠部4aと、枠部4aの下方に底部4bとを有する。枠部4aは外壁部である。枠部4aは環状である。   The optical semiconductor device 1 includes a lead frame 2, an optical semiconductor element 3, and a molded body 4. The optical semiconductor element 3 is preferably a light emitting diode (LED). The molded body 4 has a frame portion 4a and a bottom portion 4b below the frame portion 4a. The frame part 4a is an outer wall part. The frame part 4a is annular.

なお、本発明に係る金型離型性付与組成物を用いて成形体を製造する際には、底部を有さない成形体を得てもよい。枠部を有する成形体を成形し、該枠部を有する成形体と、他の底部材とを組み合わせて用いてもよい。上記枠部を有する成形体は、枠部のみの枠状の成形体であってもよい。上記底部材は成形体であってもよい。   In addition, when manufacturing a molded object using the mold release property provision composition which concerns on this invention, you may obtain the molded object which does not have a bottom part. A molded body having a frame part may be molded, and the molded body having the frame part may be used in combination with another bottom member. The molded body having the frame portion may be a frame-shaped molded body having only the frame portion. The bottom member may be a molded body.

リードフレーム2上に、光半導体素子3が搭載され、配置されている。また、リードフレーム2上に、枠部4aが配置されている。また、複数のリードフレーム2間とリードフレーム2の下方とには、底部4bが配置されている。枠部4aの内側に光半導体素子3が配置されている。光半導体素子3の側方に枠部4aが配置されている。光半導体素子3を取り囲むように枠部4aが配置されている。枠部4aと底部4bとを有する成形体4は、上記金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後に、上記成形材料を成形することにより得られている。成形体4は、硬化物であり、成形材料を硬化させることにより得られている。   An optical semiconductor element 3 is mounted and arranged on the lead frame 2. A frame portion 4 a is disposed on the lead frame 2. Further, a bottom portion 4 b is disposed between the plurality of lead frames 2 and below the lead frames 2. The optical semiconductor element 3 is disposed inside the frame portion 4a. A frame portion 4 a is disposed on the side of the optical semiconductor element 3. A frame portion 4 a is arranged so as to surround the optical semiconductor element 3. The molded body 4 having the frame portion 4a and the bottom portion 4b is obtained by molding the molding material after imparting mold release properties to the mold surface using the mold mold release property-imparting composition. ing. The molded body 4 is a cured product and is obtained by curing a molding material.

枠部4aの内面は、光反射性を有する。枠部4aは枠状の光反射部である。従って、光半導体素子3の周囲は、成形体4の光反射性を有する枠部4aの内面により囲まれている。   The inner surface of the frame part 4a has light reflectivity. The frame part 4a is a frame-shaped light reflecting part. Therefore, the periphery of the optical semiconductor element 3 is surrounded by the inner surface of the frame portion 4 a having the light reflectivity of the molded body 4.

枠部4aの両側の端部を上下方向に配置した状態で、枠部4aの内面が、下端(一端)から上端(他端)にかけて側方に向かって傾斜している。従って、光半導体素子3から発せられた光のうち、枠部4aの内面に到達した矢印Bで示す光が内面により反射され、光半導体素子3の前方側に進行する。成形体において、枠部4aの上記上端は、開口している。   With the end portions on both sides of the frame portion 4a being arranged in the vertical direction, the inner surface of the frame portion 4a is inclined from the lower end (one end) to the upper end (the other end) toward the side. Accordingly, of the light emitted from the optical semiconductor element 3, the light indicated by the arrow B reaching the inner surface of the frame portion 4 a is reflected by the inner surface and travels forward of the optical semiconductor element 3. In the molded body, the upper end of the frame portion 4a is open.

光半導体素子3は、リードフレーム2上に、ダイボンド材5を用いて接続されている。ダイボンド材5は、導電性を有する。光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2とが、ボンディングワイヤー6により電気的に接続されている。光半導体素子3及びボンディングワイヤー6を封止するように、成形体4の枠部4aの内面で囲まれた領域内には、封止剤7が充填されている。枠部4aと封止剤7とは接している。   The optical semiconductor element 3 is connected to the lead frame 2 using a die bond material 5. The die bond material 5 has conductivity. A bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and the lead frame 2 are electrically connected by a bonding wire 6. A sealing agent 7 is filled in a region surrounded by the inner surface of the frame portion 4 a of the molded body 4 so as to seal the optical semiconductor element 3 and the bonding wire 6. The frame part 4a and the sealing agent 7 are in contact.

光半導体装置1では、光半導体素子3を駆動すると、破線Aで示すように光が発せられる。光半導体装置1では、光半導体素子3からリードフレーム2の上面とは反対側すなわち上方に照射される光だけでなく、枠部4aの内面に到達した光が矢印Bで示すように反射される光も存在する。従って、光半導体装置1から取り出される光の明るさは明るい。   In the optical semiconductor device 1, when the optical semiconductor element 3 is driven, light is emitted as indicated by a broken line A. In the optical semiconductor device 1, not only the light irradiated from the optical semiconductor element 3 to the side opposite to the upper surface of the lead frame 2, that is, the upper side, but also the light reaching the inner surface of the frame portion 4 a is reflected as indicated by an arrow B. There is also light. Therefore, the brightness of the light extracted from the optical semiconductor device 1 is bright.

図3に、図2に示す光半導体装置1の変形例を示す。図2に示す光半導体装置1と図3に示す光半導体装置11とでは、ダイボンド材5,12及びボンディングワイヤー6,13による電気的な接続構造のみが異なる。光半導体装置1におけるダイボンド材5は導電性を有する。これに対し、光半導体装置11はダイボンド材12を有し、ダイボンド材12は導電性を有さない。光半導体装置1では、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図2(a)において右側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー6により電気的に接続されている。光半導体装置11は、ボンディングワイヤー6に加えて、ボンディングワイヤー13を有する。光半導体体装置11では、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図3において右側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー6により電気的に接続されており、更に、光半導体素子3に設けられたボンディングパッド(図示せず)とリードフレーム2(図3において左側に位置するリードフレーム)とが、ボンディングワイヤー13により電気的に接続されている。   FIG. 3 shows a modification of the optical semiconductor device 1 shown in FIG. The optical semiconductor device 1 shown in FIG. 2 and the optical semiconductor device 11 shown in FIG. 3 differ only in the electrical connection structure using the die bonding materials 5 and 12 and the bonding wires 6 and 13. The die bond material 5 in the optical semiconductor device 1 has conductivity. On the other hand, the optical semiconductor device 11 has a die bond material 12, and the die bond material 12 does not have conductivity. In the optical semiconductor device 1, a bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and a lead frame 2 (a lead frame located on the right side in FIG. 2A) are electrically connected by a bonding wire 6. Has been. The optical semiconductor device 11 includes a bonding wire 13 in addition to the bonding wire 6. In the optical semiconductor device 11, a bonding pad (not shown) provided in the optical semiconductor element 3 and a lead frame 2 (lead frame located on the right side in FIG. 3) are electrically connected by a bonding wire 6. Further, a bonding pad (not shown) provided on the optical semiconductor element 3 and the lead frame 2 (lead frame located on the left side in FIG. 3) are electrically connected by a bonding wire 13.

なお、図2,3に示す構造は、光半導体装置の一例にすぎず、成形体の構造及び光半導体素子の実装構造等は適宜変形され得る。   The structures shown in FIGS. 2 and 3 are merely examples of the optical semiconductor device, and the structure of the molded body and the mounting structure of the optical semiconductor element can be appropriately modified.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下の材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(熱硬化性化合物(A1))
1)YD−011(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量470、新日鐵化学社製)
2)YD−012(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量650、新日鐵化学社製)
3)YDCN−704(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量210、新日鐵化学社製)
4)YDPN−638(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量180、新日鐵化学社製)
(Thermosetting compound (A1))
1) YD-011 (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 470, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
2) YD-012 (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 650, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
3) YDCN-704 (cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 210, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
4) YDPN-638 (phenol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 180, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)

(硬化剤(A2))
1)HF−1M(フェノールノボラック硬化剤、硬化剤当量105、明和化成社製)
2)HF−4M(フェノールノボラック硬化剤、硬化剤当量105、明和化成社製)
(Curing agent (A2))
1) HF-1M (phenol novolac curing agent, curing agent equivalent 105, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)
2) HF-4M (phenol novolac curing agent, curing agent equivalent 105, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)

(硬化促進剤(A3))
1)TPP(トリフェニルホスフィン、和光純薬工業社製)
(Curing accelerator (A3))
1) TPP (triphenylphosphine, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(球状充填材(B1))
1)MSR−3500(球状シリカ、平均粒径30μm、龍森社製)
(Spherical filler (B1))
1) MSR-3500 (spherical silica, average particle size 30 μm, manufactured by Tatsumori)

(破砕充填材(B2))
1)3K−S(破砕シリカ、平均粒径35μm、龍森社製)
2)NX−7(破砕シリカ、平均粒径13μm、龍森社製)
(Fracture filler (B2))
1) 3K-S (crushed silica, average particle size 35 μm, manufactured by Tatsumori)
2) NX-7 (crushed silica, average particle size 13 μm, manufactured by Tatsumori)

(脂肪酸エステル系ワックス(C1))
1)リコワックスE(モンタン酸エステル、クラリアント社製)
2)M−9676(ステアリン酸エステル、日油社製)
(Fatty acid ester wax (C1))
1) Lycowax E (Montanic acid ester, manufactured by Clariant)
2) M-9676 (stearic acid ester, manufactured by NOF Corporation)

(酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックス(C2))
1)リコワックスPED191(酸化ポリエチレンワックス、クラリアント社製)
2)リコワックスPE520(ポリエチレンワックス、クラリアント社製)
3)NP055(ポリプロピレンワックス、三井化学社製)
(Oxidized or non-oxidized polyolefin wax (C2))
1) Rico wax PED191 (polyethylene oxide wax, manufactured by Clariant)
2) Rico wax PE520 (polyethylene wax, manufactured by Clariant)
3) NP055 (polypropylene wax, manufactured by Mitsui Chemicals)

(他の離型剤)
1)ダイヤミッド200(モノアマイド、日本化成社製)
2)スリパックスZHS(ビスアマイド、日本化成社製)
3)GF−200(金属石鹸、日油社製)
(Other mold release agents)
1) Diamond 200 (Monoamide, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
2) SLIPAX ZHS (Bisamide, Nippon Kasei Co., Ltd.)
3) GF-200 (metal soap, NOF Corporation)

(酸化防止剤(D))
1)Irganox1035(フェノール系酸化防止剤、BASF社製)
(Antioxidant (D))
1) Irganox 1035 (phenolic antioxidant, manufactured by BASF)

(実施例1〜22及び比較例1〜9)
下記表1〜3に示す各成分を下記表1〜3に示す配合量で配合(配合単位は重量部)し、混合機(ラボプラストミルR−60、東洋精機製作所社製)にて80℃で10分間混練して混練物を得た。得られた混練物を粉砕した後、タブレット化して、金型離型性付与組成物を得た。
(Examples 1-22 and Comparative Examples 1-9)
Each component shown in the following Tables 1 to 3 is blended in the blending amounts shown in the following Tables 1 to 3 (the blending unit is parts by weight), and is 80 ° C. with a mixer (Laboplast Mill R-60, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). And kneaded for 10 minutes to obtain a kneaded product. The obtained kneaded product was pulverized and then tableted to obtain a mold releasability imparting composition.

(評価)
(1)連続成形回数(離型性)
成形材料の調製:
セロキサイド2021P(3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、エポキシ当量126、ダイセル社製)30重量部と、EHPE3150(脂環式骨格を有するエポキシ樹脂、エポキシ当量177、ダイセル社製)70重量部と、リカシッドMH−700(ヘキサヒドロ無水フタル酸とメチルヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、新日本理化社製)82重量部と、CR−90(ルチル型酸化チタン、Al,Siにより表面処理されている、石原産業社製)300重量部と、MSR−3512(球状シリカ、平均粒径30μm、龍森社製)600重量部と、CMC−12(破砕シリカ、平均粒径5μm、アスペクト比2〜5、龍森社製)100重量部とを配合し、混合機(ラボプラストミルR−60、東洋精機製作所社製)にて15分間混合し、成形材料を得た。
(Evaluation)
(1) Number of continuous moldings (release properties)
Molding material preparation:
30 parts by weight of Celoxide 2021P (3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, epoxy equivalent 126, manufactured by Daicel) and EHPE3150 (epoxy resin having an alicyclic skeleton, epoxy equivalent 177) 70 parts by weight of Daicel), 82 parts by weight of Ricacid MH-700 (a mixture of hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Rika), CR-90 (rutile titanium oxide, 300 parts by weight of surface treated with Al and Si, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., MSR-3512 (spherical silica, average particle size 30 μm, manufactured by Tatsumori Co., Ltd.) 600 parts by weight, CMC-12 (crushed silica, average Blended with 100 parts by weight of 5 μm particle size, 2-5 aspect ratio, manufactured by Tatsumori Co., Ltd. Mill R-60, were mixed Toyo Seiki Seisakusho) for 15 minutes to obtain a molding material.

連続成形:
銅素材(TAMAC 194)にエッチングにより回路を形成した後、銀めっきを施し、厚み0.2mmのリードフレームを得た。トランスファー成形装置として、TOWA社製「YPS−MP」)を用いた。型として、縦15個×横10個のマトリックス状に配置された150個の凹部(光半導体素子搭載部)を有する一括成形用金型を用いた。
Continuous molding:
A circuit was formed on a copper material (TAMAC 194) by etching and then silver plating was performed to obtain a lead frame having a thickness of 0.2 mm. As a transfer molding apparatus, “YPS-MP” manufactured by TOWA was used. As a mold, a collective molding die having 150 concave portions (optical semiconductor element mounting portions) arranged in a matrix of 15 vertical × 10 horizontal was used.

先ず、金型表面をクリーニングするためのメラミン樹脂クリーニング材(住友ベークライト社製「EMEC3」)を用いて、3回成形を行い、金型の表面のクリーニングを行った。   First, using a melamine resin cleaning material (“EMEC3” manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) for cleaning the mold surface, molding was performed three times to clean the mold surface.

次に、得られた金型離型性付与組成物を用いて3回成形を行い、金型の離型処理を行い、金型に離型性を付与した。   Next, molding was performed three times using the obtained mold releasability imparting composition, a mold release treatment was performed, and mold releasability was imparted to the mold.

続いて、成形温度170℃、注入圧力7MPa、成形時間3分の条件で、得られた成形材料を用いて、上記リードフレーム上にトランスファー成形により光半導体装置用搭載基板を繰り返し成形し、成形体が金型に付着するまでのショット数(連続成形回数)を調べた。   Subsequently, using the obtained molding material under conditions of a molding temperature of 170 ° C., an injection pressure of 7 MPa, and a molding time of 3 minutes, a mounting substrate for an optical semiconductor device is repeatedly molded on the lead frame by transfer molding. The number of shots (the number of continuous moldings) until was attached to the mold was examined.

(2)耐リフロー性
上記(1)連続成形回数の評価で得られた光半導体装置用搭載基板を用意した。この光半導体装置用搭載基板を170℃で2時間アフターキュアした。アフターキュア後の成形体において、バリがある場合には、AX−930(リックス社製)を用いてバリを除去した。
(2) Reflow resistance The mounting substrate for optical semiconductor devices obtained by the evaluation of the above (1) continuous molding was prepared. This mounting substrate for an optical semiconductor device was after-cured at 170 ° C. for 2 hours. In the molded article after the after-curing, when there was a burr, the burr was removed using AX-930 (manufactured by Rix Corporation).

次に、アフターキュア後の成形体上に、InGaNを発光層とするサファイヤ基板の青色発光の発光素子を、シリコーン樹脂接着剤を用いて載せた。発光素子とリードフレームとを直径30μmの金線ワイヤーを用いて電気的に接続した。発光素子が底面に載せられた成形体の凹部にそれぞれ封止剤を滴下した。封止剤は、シリコーン樹脂100重量部とYAG蛍光体30重量部とを含む。滴下後に、150℃で3時間封止剤を硬化させた。最後にリードフレームより切り出しを行い、白色発光の光半導体装置を得た。   Next, a blue light-emitting element of a sapphire substrate having InGaN as a light-emitting layer was placed on the molded body after the after-curing using a silicone resin adhesive. The light emitting element and the lead frame were electrically connected using a gold wire having a diameter of 30 μm. A sealing agent was dropped into each of the concave portions of the molded body on which the light emitting element was placed on the bottom surface. The sealant contains 100 parts by weight of silicone resin and 30 parts by weight of YAG phosphor. After the dropping, the sealant was cured at 150 ° C. for 3 hours. Finally, it was cut out from the lead frame to obtain an optical semiconductor device emitting white light.

得られた白色発光の光半導体装置を、温度85℃及び湿度85%の条件下に24時間放置した後、大気雰囲気下でのリフロー試験を実施した。リフロー炉としてSMIC社製「SNR−825GT」を用いた。リフローの上限温度は260℃に設定した。封止剤の成形体からの剥離の有無を観察して、耐リフロー性を下記の基準で判定した。   The obtained white light emitting optical semiconductor device was allowed to stand for 24 hours under conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, and then a reflow test was performed in an air atmosphere. “SNR-825GT” manufactured by SMIC was used as the reflow furnace. The upper limit temperature of reflow was set to 260 ° C. The presence or absence of peeling of the sealant from the molded product was observed, and the reflow resistance was determined according to the following criteria.

[耐リフロー性の判断基準]
○○○:リフロー試験を3回繰り返しても、剥離が見られない
○○:2回目までのリフロー試験では剥離が見られないが、3回目のリフロー試験で剥離が見られる
○:1回目のリフロー試験では剥離が見られないが、2回目のリフロー試験で剥離が見られる
×:1回目のリフロー試験で剥離が見られる
[Judgment criteria for reflow resistance]
XX: No peeling is observed even if the reflow test is repeated three times. XX: No peeling is observed in the second reflow test, but peeling is observed in the third reflow test. No peeling is seen in the reflow test, but peeling is seen in the second reflow test. X: peeling is seen in the first reflow test.

(3)光度保持
上記(2)耐リフロー性の評価で得られた白色発光の光半導体装置(リフロー試験前)を用意した。この光半導体装置の光度(通電試験前の光度)を、OL770(オプトロニックラボラトリーズ社製)を用いて測定した。その後、温度85℃及び湿度85%の条件で、電流120mAで500時間通電した後に、光半導体装置の光度(通電試験後の光度)を測定した。通電試験前後の光度から光度保持率を求めた。光度保持率を下記の基準で判定した。
(3) Luminance retention A white light-emitting optical semiconductor device (before reflow test) obtained by (2) evaluation of reflow resistance was prepared. The light intensity (light intensity before energization test) of this optical semiconductor device was measured using OL770 (manufactured by Optronic Laboratories). Then, after energizing for 500 hours at a current of 120 mA under the conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, the light intensity of the optical semiconductor device (light intensity after energization test) was measured. The luminous intensity retention was determined from the luminous intensity before and after the energization test. The luminous intensity retention was determined according to the following criteria.

上記光度保持率は下記式で表される。   The luminous intensity retention is represented by the following formula.

光度保持率(%)=(通電試験後の光度)/(通電試験前の光度)×100
[光度保持率の判定基準]
○:光度保持率が90%以上
×:光度保持率が90%未満
Luminance retention rate (%) = (Luminance after energization test) / (Luminance before energization test) × 100
[Criteria for luminous intensity retention]
○: Luminance retention rate is 90% or more ×: Luminance retention rate is less than 90%

結果を下記の表1〜3に示す。下記の表1〜3において、(C1)及び(C2)の含有量は、金型離型性付与組成物100重量%中での含有量を示す。なお、比較例1では、成形不可能であったことから、(2)耐リフロー性及び(3)光度保持を評価しなかった。   The results are shown in Tables 1 to 3 below. In the following Tables 1 to 3, the contents of (C1) and (C2) indicate the contents in 100% by weight of the mold releasability imparting composition. In Comparative Example 1, since molding was impossible, (2) reflow resistance and (3) light intensity retention were not evaluated.

Figure 2014008612
Figure 2014008612

Figure 2014008612
Figure 2014008612

Figure 2014008612
Figure 2014008612

1…光半導体装置
2…リードフレーム
3…光半導体素子
4…成形体
4a…枠部
4b…底部
5…ダイボンド材
6…ボンディングワイヤー
7…封止剤
11…光半導体装置
12…ダイボンド材
13…ボンディングワイヤー
21…金型
22…リードフレーム
23…金型離型性付与組成物
23A…離型性付与成分
24…成形材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical semiconductor device 2 ... Lead frame 3 ... Optical semiconductor element 4 ... Molding body 4a ... Frame part 4b ... Bottom part 5 ... Die bond material 6 ... Bonding wire 7 ... Sealant 11 ... Optical semiconductor device 12 ... Die bond material 13 ... Bonding Wire 21 ... Mold 22 ... Lead frame 23 ... Mold mold release imparting composition 23A ... Mold release imparting component 24 ... Molding material

Claims (14)

成形材料を成形して成形体を得る前に、金型の表面に離型性を付与するために用いられる金型離型性付与組成物であって、
熱硬化性成分と、無機充填材と、離型剤とを含み、
前記離型剤が、脂肪酸エステル系ワックスと、酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックスとの双方を含有する、金型離型性付与組成物。
A mold releasability imparting composition used to impart releasability to the surface of a mold before molding a molding material to obtain a molded body,
Including a thermosetting component, an inorganic filler, and a release agent;
A mold releasability imparting composition, wherein the release agent contains both a fatty acid ester wax and an oxidized or non-oxidized polyolefin wax.
金型離型性付与組成物100重量%中、前記脂肪酸エステル系ワックスの含有量が0.5重量%以上、3重量%以下であり、かつ前記酸化又は非酸化ポリオレフィン系ワックスの含有量が1重量%以上、9重量%以下である、請求項1に記載の金型離型性付与組成物。   In 100% by weight of the mold releasability imparting composition, the content of the fatty acid ester wax is 0.5% by weight or more and 3% by weight or less, and the content of the oxidized or non-oxidized polyolefin wax is 1. The mold releasability imparting composition according to claim 1, wherein the composition is at least 9% by weight and not more than 9% by weight. 前記無機充填材がシリカである、請求項1又は2に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler is silica. 前記無機充填材が、球状充填材と、破砕充填材との双方を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic filler contains both a spherical filler and a crushed filler. 前記熱硬化性成分が、エポキシ化合物と、硬化剤とを含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermosetting component contains an epoxy compound and a curing agent. 前記熱硬化性成分が、硬化促進剤を含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermosetting component contains a curing accelerator. 前記熱硬化性成分が、ビスフェノールA型エポキシ化合物と、ノボラック型エポキシ化合物との双方を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the thermosetting component contains both a bisphenol A type epoxy compound and a novolac type epoxy compound. トランスファー成形により、成形材料を成形して成形体を得る前に用いられる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 7, which is used before forming a molding material by transfer molding to obtain a molded body. 光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得る際に用いられる、請求項1〜8のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 8, which is used in an optical semiconductor device to obtain a molded body having a frame portion disposed on a side of an optical semiconductor element. 白色の成形材料を成形して白色の成形体を得る前に用いられる、請求項1〜9のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物。   The mold releasability imparting composition according to any one of claims 1 to 9, which is used before a white molding material is molded to obtain a white molded body. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の金型離型性付与組成物を用いて、金型の表面に離型性を付与した後に、成形材料を成形して成形体を得る、成形体の製造方法。   Molding, wherein a mold release property is imparted to the surface of the mold using the mold release property imparting composition according to any one of claims 1 to 10, and then a molding material is molded to obtain a molded body. Body manufacturing method. トランスファー成形により、前記成形材料を成形して成形体を得る、請求項11に記載の成形体の製造方法。   The manufacturing method of the molded object of Claim 11 which shape | molds the said molding material by transfer molding and obtains a molded object. 光半導体装置において、光半導体素子の側方に配置される枠部を有する成形体を得る、請求項11又は12に記載の成形体の製造方法。   The manufacturing method of the molded object of Claim 11 or 12 which obtains the molded object which has a frame part arrange | positioned in the optical semiconductor device at the side of an optical semiconductor element. 白色の成形材料を成形して白色の成形体を得る、請求項11〜13のいずれか1項に記載の成形体の製造方法。   The manufacturing method of the molded object of any one of Claims 11-13 which shape | molds a white molding material and obtains a white molded object.
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