JP5597211B2 - 撹拌装置 - Google Patents
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Description
図3に示すように、ロッド3を矢印αで示すように上から下に下ろした時、羽根5の中央真下領域(A領域)では、撹拌槽2内の液(増粘剤と水との混合液)は、羽根5と撹拌槽2の底面部とで挟まれて強い圧力が加えられるため、液の大半は、矢印a1で示すように貫通孔11を通過して渦を発生させるが、液の一部は、矢印a2で示すように羽根円周側真下領域(B領域)へ移動する。B領域に移動した液は、羽根5の下方側のエッジ部10に衝突し、衝突した液の流れは、エッジ部10の傾斜部により、旋回流を発生させる。発生した旋回流は、矢印bで示すように羽根5と撹拌槽2との間の隙間12から流れる。エッジ部10に衝突しない液であっても、既に生じている旋回流と一体となって、矢印bで示すように羽根5と撹拌槽2との間の隙間12から流れるが、大半は、矢印a1で示すように貫通孔11を通過して、渦を発生させる。このように、貫通孔11で多数の渦を発生させることができるため、増粘剤の水への分散性を向上させることができる。また、貫通孔11による多数の渦に加え、エッジ部10で旋回流を発生させることができるため、増粘剤と水とが接触する回数が増加して、水中における増粘剤の偏りが解消されることから、増粘剤の水への分散性の向上に貢献することができる。
図4に示すように、ロッド3を矢印βで示すように下から上に上げた時、羽根中央上部領域(D領域)では、液は、羽根5の上部が解放されていることから圧力がほとんど加えられないため、一部は矢印d1で示すように貫通孔11を通過して渦を発生させるが、大半は矢印d2で示すように羽根円周側真上領域(E領域)へ移動する。E領域に移動した液は、羽根5の上方側のエッジ部10に衝突し、衝突した液の流れは、エッジ部10の傾斜により旋回流を発生させる。発生した旋回流は、矢印eで示すように、羽根5と撹拌槽2との間の隙間12から流れる。エッジ部10に衝突しない液であっても、既に生じている旋回流と一体となって、矢印eで示すように、羽根5と撹拌槽2との間の隙間12を通過する。
図5に示すように、図3および図4に示すようなロッド3の上下動を繰り返して液の撹拌を進めると、液は増粘して、貫通孔11を通過し難くなる。そのため、羽根真上領域(G領域)および羽根真下領域(I領域)の液の大部分は、矢印g、iで示すように撹拌槽2の内壁面側へ移動して、矢印hで示すように、撹拌槽2と羽根5との間の隙間領域(H領域)を通過する。ここで、羽根5と撹拌槽2の内壁は、液内物(ダマ)の微細化可能に、隙間12を介して近接させているので、増粘した液は、領域Hにおいて、羽根5と撹拌槽2の内壁面との間で、ダマのすり潰しや引き伸ばしがなされてダマが微細化される。この結果、増粘剤の水への分散が効率よく行われる。なお、図5では、H領域をわかりやすくするために、撹拌槽2内の構造を図3、4よりも拡大して示している。
2 撹拌槽
3 ロッド
4 駆動部
4A 側面部
5 羽根
5A 中心孔
6 支持台
6A 上面部
6B 鉛直方向フレーム
7 回転バー
8 動力伝達軸
9 支持部材
10 エッジ
11 貫通孔
12 隙間
Claims (6)
- 撹拌槽と、
該撹拌槽内に、上下動可能かつ垂直方向に配設されたロッドと、
該ロッドを上下に駆動する駆動部と、
該ロッドに固定され、前記ロッドの軸心に対して垂直な面上に形成されるディスパー羽根と
を備える撹拌装置であって、
前記ディスパー羽根が、
前記ディスパー羽根の外周に沿って、前記ディスパー羽根の上方および/または下方に向かって突出し、前記ロッドの上下動により、羽根真上領域および羽根中央真下領域において前記ロッド周りに旋回流を発生させる傾斜部を有したエッジ部を有し、
前記ディスパー羽根に、上下方向に貫通し、前記ロッドの上下動により、前記ロッドの移動方向に生じる、前記旋回流に衝突する渦を発生させる複数の貫通孔が形成され、前記ロッドの上下動のみにより、前記旋回流と渦とを衝突させることが可能であることを特徴とする
撹拌装置。 - 前記エッジ部は、上下交互に形成されている請求項1記載の撹拌装置。
- 前記複数の貫通孔の開口面積の合計が、前記ディスパー羽根の面積に対して、2.2〜8.6%である請求項1または2記載の撹拌装置。
- 前記複数の貫通孔は、前記ディスパー羽根の中心から等しい距離にある仮想円上に等間隔に配置されている請求項1〜3のいずれかに記載の撹拌装置。
- 前記複数の貫通孔は、前記ディスパー羽根の中心からの距離が異なる複数の仮想円上に配置されている請求項4記載の撹拌装置。
- 前記ディスパー羽根のエッジ部が、前記ディスパー羽根の外周に沿った仮想円の接線に対して、15〜30°傾斜して配設されてなる請求項1〜5のいずれかに記載の撹拌装置。
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