JP5597119B2 - 電鋳型の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る電鋳型は、基板と、前記基板上に形成された第1の金属膜及びフォトレジスト層と、を備える電鋳型であって、前記基板は、紫外線に対して透過性を有し、前記フォトレジスト層は、前記基板上から前記第1の金属膜上の一部まで形成されるとともに、前記フォトレジスト層の前記基板上に形成された部分の厚さは、前記第1の金属膜と前記フォトレジスト層の前記第1の金属膜上に形成された部分との厚さの合計より厚く形成され、前記フォトレジスト層の前記第1の金属膜上に形成された部分の前記第1の金属膜に接する面と反対の面上に第2の金属膜が形成され、前記基板と前記第1の金属膜及び前記フォトレジスト層との間に、導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜が形成されることを特徴とする。
図1は、本発明に係る電鋳型により作製される機械式腕時計部品の一つであるアンクルを示す図であり、図1(a)は上面図であり、図1(b)は図1(a)に示すAA線の断面方向から見たアンクルを示す図である。
図2において、電鋳型23は、紫外線に対して透過性を有する基板5と、基板5上に形成された第1の金属膜9及びフォトレジスト層22と、を備えている。また、基板5と第1の金属膜6及びフォトレジスト層22との間には、導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜6が形成されている。また、フォトレジスト層22は、導電膜6上から第1の金属膜9上の一部まで形成されている。また、フォトレジスト22の第1の金属膜9上に形成された部分の第1の金属膜に接する面と反対の面上には、第2の金属膜15が形成されている。第2の金属膜15は、当該面上の一部又は全部に形成されていてもよい。
図3は、導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜6を、紫外線を透過する基板5上に形成する導電膜形成工程と、導電膜6の基板5に接する面と反対の面上の一部に第1の金属膜9を形成する第1の金属膜形成工程とを示す図である。
図3(c)は、フォトリソグラフィー法により所望とするパターンとなるようにポジ型フォトレジスト7に開口部8を形成する工程を示す図である。図3(c)において、ポジ型フォトレジスト層7を上方におかれた第1のパターンを有するフォトマスクを介して露光し、その後、現像することにより、所望とするパターンとなるように開口部8を形成する。
図8(a)に示すように、導電膜6を通じて、外部より電力が供給され、電鋳液に接している第1の金属膜9よりニッケル電鋳体24の成長が始まる。
図8(c)に示すように、所望とする厚みまで電鋳体24を成長させ、電鋳は終了する。
2 電鋳部
3 電鋳部
4 穴
5 基板
6 導電膜
7、13 ポジ型フォトレジスト層
8 開口部
9 第1の金属膜
10 第1のフォトレジスト層
11 第1の硬化部
12 蒸着膜
14 ポジ型フォトレジスト層
15 第2の金属膜
16 第2のフォトレジスト層
17 フォトレジスト層
18 紫外光
19 第2の硬化部
20 未露光部
21 開口部
22 型部
23 電鋳型
24、25 電鋳体
Claims (1)
- 導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜を、紫外線を透過する基板上に形成する導電膜形成工程と、
前記導電膜の前記基板に接する面と反対の面上の一部に第1の金属膜を形成する第1の金属膜形成工程と、
前記導電膜の前記基板に接する面と反対の面上及び前記第1の金属膜の前記導電膜に接する面と反対の面上に第1のフォトレジスト層を形成する第1のフォトレジスト層形成工程と、
前記第1の金属膜の前記導電膜に接する面と反対の面上の一部に形成された前記第1のフォトレジスト層を露光する第1の露光工程と、
前記第1のフォトレジスト層の露光された部分の前記第1の金属膜に接する面と反対の面上に第2の金属膜を形成する第2の金属膜形成工程と、
前記第1のフォトレジスト層の前記導電膜及び前記第1の金属膜に接する面と反対の面上と、前記第2の金属膜の前記第1のフォトレジスト層に接する面と反対の面上とに第2のフォトレジスト層を形成する第2のフォトレジスト層形成工程と、
前記基板の前記導電膜を形成した面と反対の面から紫外線による露光を行う第2の露光工程と、
前記第1のフォトレジスト層及び前記第2のフォトレジスト層を現像する現像工程と、を備えることを特徴とする電鋳型の製造方法。
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