JP5592957B2 - 荷電粒子線応用装置、及び照射方法 - Google Patents
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Description
ルギーを変化させる方法もあるが、加速電圧毎に全光学系条件が変化し、そのたびに軸調整を実施する必要があり望ましくない。また、入射エネルギーを低くすると色収差が大きくなり、分解能維持の観点から開き角を小さくする必要があり、開き角、すなわち角度制限絞りの制御も必要となる。角度制限絞りの制御は、開口径の異なる複数の開口を有する可動絞りを機械的に動かすことにより開口を選択する方法が一般的にとられている。この制御によっても電流は変化するため、総合的な照射電流は、電流制限絞り法による制限と、角度制限絞りによる制限の組み合わせで決定される。
つコンデンサレンズの下流に各ビームに対して個別の絞りを配置し、コンデンサレンズの励磁を制御することによりビーム電流を調整することができる。
。その後、演算部121が画像の各種統計量の算出を行い、最終的には欠陥判定部122が予め求めておいた欠陥判定条件に基づき欠陥の有無を判定する。これらは、上述した中央処理部のプログラム処理で実現可能である。判定結果は入出力部124の画像表示装置に表示される。以上の手順で、ウェハ114内の検査すべき領域を端から順にパターン検査できる。
することが可能となる。これにより、入射エネルギー、照射電流、及びマルチビーム配置が制御できた。すなわち、本実施例において、ビーム形成部108は、ビーム電流制御部、ビーム配置制御部として機能する。
図である。なお、図示しないが、本実施例においてはレンズアレイ上部電極303a、レンズアレイ中間電極303b、レンズアレイ下部電極303cの開口パターンは同一であり、各開口パターンはビーム分割電極302の開口パターンと対応した配置となっている。また、レンズ
アレイ上部電極303a、レンズアレイ中間電極303b、レンズアレイ下部電極303cの開口径はどのパターンにおいても同一とし、ビーム分割電極302の開口径に対して1.1倍以上の大きさとした。ただし、開口径や開口形状が上記と異なる場合においても本発明の効果は失われない。また、本実施例においては、開口パターンセットを9種類としたが、開口パターンセットの数によらず、その効果は失われない。
また、本実施例においては、可動ステージ802には回転機能を持たせているため、マルチビームの回転量も制御可能であり、制御パラメータは開口径のみである。従って、本実施形態においては、開口パターンに角度の変化及び開口間隔を作りこまなくてもマルチビームの回転量及び間隔を制御することが可能となり、結果として、開口パターンの開口径の種類を多くできる。
Claims (12)
- 試料の観察を行う荷電粒子線応用装置であって、
試料上に複数の荷電粒子線を形成する、互いに間隔の異なる開口を有する、複数の開口パターンを備えたビーム形成部と、
前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線の入射エネルギーを制御するエネルギー制御部と、
前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線のビーム電流を制御するビーム電流制御部と、
前記複数の荷電粒子線が前記試料上に照射される配置を制御するビーム配置制御部を備え、
前記ビーム形成部は、前記複数の開口パターンを持つビーム分割電極と、
前記複数の開口パターンを持つ、3枚以上の電極からなるレンズアレイと、
前記ビーム分割電極及び前記レンズアレイを搭載する可動ステージで構成される、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記複数の開口パターンの各々は、複数の等しい開口間隔で配置された少なくとも3つ以上の開口から構成される、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記複数の開口パターンに含まれる任意の第一の開口パターンと任意の第二の開口パターンとの間隔は、前記第一の開口パターンを構成する開口間隔、前記第二の開口パターンを構成する開口間隔と比較して2倍以上である、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記ビーム形成部は、前記ビーム分割電極より上流に配置された上流偏向器と、前記ビーム分割電極より下流に配置された下流偏向器を更に備え、
前記上流偏向器、前記下流偏向器はそれぞれ、2段以上の偏向器の組み合わせで構成される、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記ビーム形成部より下流に2つ以上の電磁レンズを備え、
前記電磁レンズのうち少なくともひとつは前記荷電粒子線を回転させる、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記可動ステージは、前記ビーム分割電極及び前記レンズアレイを平行移動に加えて回転方向に移動可能である、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項6に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記ビーム形成部より下流に2つ以上の電磁レンズを備え、
前記2つ以上の電磁レンズの励磁の組み合わせにより、前記試料上に焦点を結ぶ条件を維持したまま倍率を制御可能である、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 試料の観察を行う荷電粒子線応用装置であって、
試料上に複数の荷電粒子線を形成する、互いに間隔の異なる開口を有する、複数の開口パターンを備えたビーム形成部と、
前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線の入射エネルギーと、ビーム電流と、前記試料上に照射される配置とを制御する制御部とを備え、
前記ビーム形成部は、前記複数の開口パターンを持つビーム分割電極と、
前記複数の開口パターンを持つ、3枚以上の電極からなるレンズアレイと、
前記ビーム分割電極及び前記レンズアレイを搭載する可動ステージで構成され、
前記制御部は、前記可動ステージを可動することにより、前記複数の荷電粒子線のビーム電流及び前記試料上に照射される配置を制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子線応用装置であって、
前記ビーム形成部は、前記ビーム分割電極より上流に配置された上流偏向器と、前記ビーム分割電極より下流に配置された下流偏向器を更に備え、
前記上流偏向器、前記下流偏向器はそれぞれ、2段以上の偏向器の組み合わせで構成され、
前記制御部は、前記上流偏向器、前記下流偏向器を制御することにより、前記複数の荷電粒子線のビーム電流及び前記試料上に照射される配置を制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。 - 試料の観察を行う荷電粒子線応用装置の荷電粒子線の照射方法であって、
試料上に複数の荷電粒子線を形成する、互いに間隔の異なる開口を有する、複数の開口パターンを備え、前記荷電粒子線を形成するビーム形成部と、前記装置を制御する制御部とを有し、
前記ビーム形成部は、前記複数の開口パターンを持つビーム分割電極と、
前記複数の開口パターンを持つ、3枚以上の電極からなるレンズアレイと、
前記ビーム分割電極及び前記レンズアレイを搭載する可動ステージで構成され、
前記制御部は、
前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線の入射エネルギーを制御し、
前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線のビーム電流を制御し、
前記複数の荷電粒子線が前記試料上に照射される配置を制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線の照射方法。 - 請求項10に記載の荷電粒子線の照射方法であって、
前記制御部は、
前記ビーム形成部の前記複数の開口パターンの何れか一つを選択することにより、前記試料に照射する前記複数の荷電粒子線のビーム電流と、前記複数の荷電粒子線が前記試料上に照射される配置を制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線の照射方法。 - 請求項10に記載の荷電粒子線の照射方法であって、
前記制御部は、
前記複数の荷電粒子線を、前記荷電粒子線応用装置の光軸の周りに回転するよう制御する、
ことを特徴とする荷電粒子線の照射方法。
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