JP5580733B2 - 新規なアントラセン系化合物及びこれを利用した有機発光素子 - Google Patents

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Description

本発明は新規な化合物及びこれを利用した有機発光素子に関する。より詳しくは、青色発光特性に優れると共にホール伝達特性及び電子伝達特性に優れ、有機発光素子に低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる新規な化合物、及びこれを利用した有機発光素子に関する。
有機発光素子(Organic Electroluminescent Display Device;有機EL素子ともいう)は一般に基板上にアノードが形成されており、このアノードの上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及びカソードが順次形成されている構造を有している。ここで、正孔輸送層、発光層、及び電子輸送層は有機化合物を含む有機薄膜層である。
このような構造を有する有機EL素子の駆動原理は次の通りである。
まず、前記アノード及びカソードの間に電圧を印加すると、アノードから注入されたホールはホール輸送層を経由して発光層に移動する。一方、電子はカソードから電子輸送層を経由して発光層に注入され、発光層領域でキャリアが再結合して励起子(exciton)を生成する。この励起子が励起状態から基底状態に変化し、これによって発光層の蛍光性分子が発光することにより画像が形成される。この時、励起状態が一重項励起状態を通じて基底状態に落ちながら発光することを蛍光と言い、三重項励起状態を通じて基底状態に落ちながら発光することを燐光という。前記蛍光の場合、一重項励起状態の確率が25%(三重項状態75%)であり、発光効率の限界があるが、燐光を用いると三重項75%と一重項励起状態25%まで利用することができるので、理論的には内部量子効率100%までも可能である。
一方、アントラセン基を含む化合物を有機電界発光素子に利用しようとする試みは1960年代初期から始まった。1965年にヘルフリック(Helfrich)とポープ(Pope)はアントラセンの単結晶を利用した青色有機電界発光現象を始めて発表した。しかし、アントラセン単結晶を利用した発光には高い電圧が必要であり、素子の寿命が短くて、実用化することに多くの問題点を持っていた。
最近もアントラセン分子にいろいろな置換体を導入して有機発光素子に適用しようとする試みが多く行われている。その例として、青色発光物質としてのアントラセン誘導体が開示された特許には下記特許文献1、下記特許文献2(下記の化学式F)等がある。しかし、まだアントラセンにシラン誘導体が結合された青色発光誘導体は公開されたことがない。
韓国特許出願公開第10−2006−0050915号明細書 韓国特許第10−0422914号明細書
このような従来の技術の問題点を解決しようと、本発明は青色発光特性に優れると共に、ホール伝達特性及び電子伝達特性に優れ、有機発光素子に低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる新規な化合物、及びこれを利用した有機発光素子を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、下記の化学式1〜6のうちのいずれか一つで示される化合物を提供する。
Figure 0005580733
前記化学式1〜4中、Ar1、Ar2及びAr3はそれぞれ独立して、置換されていてもよいアリール(aryl)基を表わし、nは1〜4の整数を表わし、Aはそれぞれ独立して、水素原子、CF3または置換されていてもよいトリアリールシリル(triarylsilyl)基を表わし、Aのうち少なくとも1つはCF3または置換されていてもよいトリアリールシリル(triarylsilyl)基を表わす。
Figure 0005580733
前記化学式5〜6中、Ar1、及びAr2はそれぞれ独立して置換されていてもよいアリール基を表わし、R1〜R6はそれぞれ独立して水素原子またはCF3を表わし、R1〜R6のうちの少なくとも1つはCF3を表わす。
また、本発明は、下記反応式1〜4のうちのいずれか一つの過程を含む前記化学式1〜4のうちのいずれか一つで示される化合物の製造方法を提供する。
Figure 0005580733
Figure 0005580733
前記反応式1〜4中、Ar及びAr1はそれぞれ独立して、置換されていてもよいアリール基を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。
また、本発明は、前記アントラセン系化合物で形成される有機発光素子の有機薄膜層を提供する。
また、本発明は、アノードとカソードの間に前記有機薄膜層を少なくとも1層含むことを特徴とする有機発光素子を提供する
また、本発明は、前記有機発光素子を含むことを特徴とするディスプレイ装置を提供する。
本発明による化学式1〜6で示されるアントラセン系化合物は、青色発光特性及びホール伝達特性に優れると共に、青色発光材料として使用したり、赤色、緑色、青色、白色等のような多様な燐光または蛍光ドーパントに対するホストとして使用することができるだけでなく、有機発光素子に適用して高効率発光が可能であり、低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる効果がある。
本発明の一実施例による有機電界発光素子の構造を示す断面図である。 本発明の一実施例によって合成した化合物を発光層に含む有機電界発光素子の電気発光スペクトル、電圧−輝度曲線、電圧−電流密度曲線及び効率曲線である。 本発明の他の一実施例によって合成した化合物を発光層に含む有機電界発光素子の電気発光スペクトル、電圧−輝度曲線、電圧−電流密度曲線及び効率曲線である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の化学式1〜6のうちのいずれか一つで示されるアントラセン系化合物は青色発光特性に優れると共に、ホール伝達特性及び電子伝達特性に優れて有機発光素子に低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる。
Figure 0005580733
前記化学式1〜4中、Ar1、Ar2及びAr3はそれぞれ独立して、置換されていてもよいアリール基を表わし、nは1〜4の整数を表わし、Aはそれぞれ独立して、水素原子、CF3または置換されていてもよいトリアリールシリル基を表わし、Aのうちの少なくとも1つはCF3または置換されていてもよいトリアリールシリル基を表わす。
Figure 0005580733
前記化学式5〜6中、Ar1、及びAr2はそれぞれ独立して、置換されていてもよいアリール基を表わし、R1〜R6はそれぞれ独立して、水素原子またはCF3を表わし、R1〜R6のうちの少なくとも1つはCF3を表わす。
前記アリール基の炭素数は、好ましくは6〜50である。
前記化学式1〜4で示される化合物は、下記反応式1〜4のうちのいずれか一つの工程で製造することができる。
Figure 0005580733
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前記反応式1〜4中、Ar及びAr1はそれぞれ独立して、置換されていてもよいアリール基を表わし、好ましくは、前記アリール基の炭素数は6〜50であり、Xはハロゲン原子を表わし、好ましくはBrを表わす。
本発明の前記化学式1〜6で示される化合物は、好ましくは、下記化学式1−1〜6−2で示される化合物のうちの一つである。
Figure 0005580733
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また、本発明は、本発明による前記化学式1〜6のうちのいずれか一つで形成された有機発光素子の有機薄膜層、及びこの有機薄膜層を少なくとも1層含む有機発光素子を提供する。前記有機発光素子の製造方法を説明すると次の通りである。
一般的な有機発光素子はアノード(anode)とカソード(cathode)の間に正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、発光層(EML)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)等の有機薄膜層を1つ以上含む。
まず、基板の上部に高い仕事関数を有するアノード電極用材料を蒸着させてアノードを形成する。この時、前記基板は通常の有機発光素子で使用される基板を使用することができ、特に機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性、及び防水性に優れた有機基板または透明プラスチック基板を使用するのが良い。また、アノード電極用材料としては、透明で伝導性に優れた酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等を使用することができる。前記アノード電極用材料は通常のアノード形成方法によって蒸着することができ、具体的には蒸着法またはスパッタリング法によって蒸着することができる。
その後、前記アノード電極の上部に正孔注入層(HIL)を真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB(Langmuir-Blodgett)法等の方法によって形成することができるが、均一な膜質を得やすく、またピンホールが発生しにくいという点から、真空蒸着法によって形成するのが好ましい。前記真空蒸着法によって正孔注入層を形成する場合、その蒸着条件は正孔注入層の材料として使用する化合物、目的する正孔注入層の構造及び熱的特性等によって異なるが、一般的に50〜500℃の蒸着温度、10-8〜10-3torrの真空度、0.01〜100Å/secの蒸着速度、10Å〜5μmの膜厚の範囲で適切に選択するのが好ましい。
前記正孔注入層材料は特に制限されず、米国特許第4,356,429号に開示された銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物、またはスターバースト型アミン誘導体類であるTCTA、m−MTDATA、m−MTDAPB(Advanced Material、6、p677(1994))等を正孔注入層材料として使用することができる。
その次に、前記正孔注入層の上部に正孔輸送層(HTL)を真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法等の方法によって形成することができるが、均一な膜質を得やすく、ピンホールが発生しにくいという点から、真空蒸着法によって形成するのが好ましい。前記真空蒸着法によって正孔輸送層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物によって異なるが、一般的に正孔注入層の形成とほとんど同一の条件範囲で選択するのが良い。
また、前記正孔輸送層材料は特に制限されないが、本発明による化学式1または2で示される化合物を使用したり、正孔輸送層として使用されている公知の材料から任意に選択して使用することができる。具体的には、前記正孔輸送層材料として、本発明による化学式1または2で示される化合物以外に、N−フェニルカルバゾール、ポリビニルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ジフェニル−[1,1−ビフェニル]−4,4'−ジアミン(TPD)、N,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニルベンジジン(α−NPD)等の芳香族縮合環を有する通常のアミン誘導体等を使用することができる。
その後、前記正孔輸送層の上部に発光層(EML)を真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法等の方法によって形成することができるが、均一な膜質を得やすく、ピンホールが発生しにくいという点から、真空蒸着法によって形成するのが好ましい。前記真空蒸着法によって発光層を形成する場合、その蒸着条件は使用する化合物によって異なるが、一般的に正孔注入層の形成とほとんど同一の条件範囲で選択するのが良い。また、前記発光層材料は本発明の化学式1〜6で示される化合物を単独で、またはホスト材料として使用することができる。
前記化学式1〜6で示される化合物を発光ホストとして使用する場合、燐光または蛍光ドーパントと共に使用して発光層を形成することができる。この時、蛍光ドーパントとしては、出光興産(株)製のIDE102またはIDE105を使用することができ、燐光ドーパントとしては、緑色燐光ドーパントであるIr(ppy)3(factris(2−phenylpyridine)iridium)、青色燐光ドーパントであるF2Irpic(iridium(III)bis[4,6−di−fluorophenyl)−pyridinato−N、C2']picolinate)、赤色燐光ドーパントであるUDC社製のRD61等が挙げられ、通常真空蒸着(ドーピング)される。ドーパントのドーピング濃度は特に制限されないが、ホスト100質量部に対してドーパントは0.01〜15質量部であるのが好ましい。
また、発光層に燐光ドーパントと共に使用する時には、三重項励起子または正孔が電子輸送層(HTL)に拡散する現象を防止するために、正孔抑制材料(HBL)を追加的に真空蒸着法またはスピンコーティング法によって積層することが好ましい。この時使用できる正孔抑制材料は特に制限されないが、正孔抑制材料として使用されている公知のものから任意のものを選択して利用することができる。例えば、オキサジアゾール誘導体やトリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、または特開平11−329734号公報に記載されている正孔抑制材料等が挙げられ、代表的には、フェナントロリン(phenanthrolines)系化合物(例:UDC社製 BCP)等を使用することができる。
前記のように形成された発光層の上部には電子輸送層(ETL)が形成されるが、この時、前記電子輸送層は真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法等の方法で形成され、特に真空蒸着法によって形成するのが好ましい。
前記電子輸送層材料はカソードから注入される電子を安定的に輸送する機能を果たすものであって、特に制限されないが、例えば、キノリン誘導体、特にトリス(8−キノリノレート)アルミニウム(Alq3)を使用することができる。また、電子輸送層の上部にカソードから電子を注入する機能を有する電子注入層(EIL)が積層され、電子注入層材料としてはLiF、NaCl、CsF、Li2O、BaO等を利用することができる。
また、前記電子輸送層(ETL)の蒸着条件は使用する化合物によって異なるが、一般に正孔注入層の形成とほとんど同一の条件範囲で選択するのが良い。
その後、前記電子輸送層の上部に電子注入層(EIL)を形成することができ、この時、前記電子輸送層は通常の電子注入層材料を真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法等の方法で形成され、特に真空蒸着法によって形成するのが好ましい。
最後に、電子注入層の上部にカソード形成用金属を真空蒸着法やスパッタリング法等の方法によって形成し、カソードとして使用する。ここで、カソード形成用金属としては低い仕事関数を有する金属、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物を使用することができる。具体的な例としては、リチウム(Li)、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、アルミニウム−リチウム(Al−Li)、カルシウム(Ca)、マグネシウム−インジウム(Mg−In)、マグネシウム−銀(Mg−Ag)等がある。また、前面発光素子を得るためにITO、IZOを使用した透過型カソードを使用することもできる。
本発明の有機発光素子はアノード(anode)、正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、発光層(EML)、電子輸送層(ETL)、電子注入層(EIL)、カソード(cathode)の構造だけでなく、多様な構造が可能であり、必要によって1層または2層の中間層をさらに形成することも可能である。
本発明によって形成される有機薄膜層の厚さは要求される程度によって調節することができ、好ましくは10〜1,000nmであり、さらに好ましくは20〜150nmであるのが良い。
以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。
[実施例1]
(1)化合物<1a>2−ブロモアントラキノン(2−Bromoanthraquinone)の合成
臭化銅(CuBr2)18g(81mmol)、tert−ブチルナイトライト(tert−Butyl nitrite12ml(101mmol)を65℃のアセトニトリル(acetonitrile)で分散させ、激しく撹拌しながら、2−アミノアントラキノン(2−aminoanthraquinone)15g(67mmol)を添加した。窒素ガスが完全に出なくなるまで撹拌して、室温まで冷却し、20%塩酸(1L)を加えた後、ジクロロメタン(dichloromethane)で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧除去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、下記化合物<1a>14g(75%)を得た。
Figure 0005580733
(2)化合物<1b>2−ブロモ−9,10−ジ−ナフタレン−1−イル−9,10−ジヒドロ−アントラセン−9,10−ジオール(2−Bromo−9,10−di−naphthalene−1−yl−9,10−dihydro−anthracene−9,10−diol)の合成
1−ブロモナフタレン(1−Bromonaphthalene)10.5ml(75.23mmol)を無水テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran)100mlに溶かし、撹拌しながら−78℃に維持した後、2.5M N−BuLi 30ml(75.23mmol)を徐々に滴下した。30分後、化合物<1a>9g(31.34mmol)を入れて室温で撹拌した。2時間後、NH4Cl溶液で反応混合物を洗浄し、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸マグネシウムで水分を乾燥させ、溶媒を減圧除去した。メタノールで洗浄した後、下記化合物<1b>7.7g(45%)を得た。
Figure 0005580733
(3)化合物<1c>2−ブロモ−9,10−ジ−ナフタレン−1−イル−アントラセン(2−Bromo−9、10−di−naphthalene−1−yl−anthracene)の合成
化合物<1b>7.7g(14.18mmol)を氷酢酸(glacial acetic acid)(100ml)に溶かして撹拌し、ヨウ化カリウム(KI)23.4g(141.8mmol)、次亜リン酸ナトリウム(NaPO22)12.4g(141.8mmol)を加えた後、還流した。反応物が溶け始め、約2時間後、白色の沈殿が生じた。反応が完了した後、氷酢酸(glacial acetic acid)をろ過して除去し、沈殿物をエタノールで撹拌し、水(H2O)を添加して形成される沈殿物をろ過して、白色固体の下記化合物<1c>6.6g(92%)を得た。青色発光は418nmであった。
Figure 0005580733
(4)化合物<1−1>2−トリフェニルシリル−9,10−ジナフタレン−1−イル−アントラセン(2−Triphenylsilyl−9、10−dinaphthalene−1−yl−anthracene)の合成
化合物<1c>6.6g(12.9mmol)を無水テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran)100mlに溶かし、撹拌しながら−78℃に維持した後、2.5M N−BuLi 6.2ml(15.55mmol)を徐々に滴下した。30分後、トリフェニルシリルクロライド(Triphenylsilyl chloride)4.6g(15.55mmol)を入れて室温で撹拌した。2時間後、白色の沈殿が生じ始め、反応が完了した後、沈殿物をろ過して、白色固体の化合物<1−1>(化学式1−1)5.3g(60%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例2]
(1)化合物<1−2>の合成
前記実施例1で1−ブロモナフタレンの代わりに2−ブロモナフタレン15.6gを使用したことを除いては、実施例1の操作を繰り返して化合物<1−2>(化学式1−2)5.56g(63%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例3]
(1)化合物<2a>の合成
化合物<1a>5.77g(20.1mmol)、塩化スズ(SnCl2.H2O)13.90g(61.5mmol)、12M塩酸水溶液15mlを酢酸90mlに溶かした後、還流した。5時間後に冷却した後、水を入れて希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和させた。塩化メチレンで抽出後、無水硫酸マグネシウムで水分を乾燥させ、溶媒を減圧除去して得られた固体をカラムクロマトグラフィで精製して化合物<2a>2.18g(収率38%)を得た。
Figure 0005580733
(2)化合物<2b>の合成
2−ブロモナフタレン(2−Bromonaphthalene)1.8g(8.79mmol)を無水テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran anhydride)100mlに溶かし、撹拌しながら−78℃に維持した後、2.5M N−BuLi 3.5ml(8.79mmol)を徐々に滴下した。30分後、化合物<2a>2g(7.32mmol)を入れて室温で撹拌した。12時間後、6M HCl溶液を入れて、撹拌する。塩化メチレンで抽出後、無水硫酸マグネシウムで水分を乾燥させ、溶媒を減圧除去した。その後エタノールで洗浄し、下記化合物<2b>1.68g(60%)を得た。
Figure 0005580733
(3)化合物<2c>の合成
化合物<2b>1.68g(4.39mmol)を無水テトラヒドロフラン(Tetrahydrofuran)20mlに溶かし、撹拌しながら−78℃に維持した後、2.5M N−BuLi 1.8ml(4.39mmol)を徐々に滴下した。30分後、トリフェニルシリルクロライド(Triphenylsilyl chloride)1.6g(5.27mmol)を加えて室温で撹拌した。2時間後、白色の沈殿が生じ始め、反応が完了した後、沈殿物をろ過して、白色の固体化合物<2c>1.48g(60%)を得た。
Figure 0005580733
(4)化合物<2d>の合成
窒素気流下で化合物<2c>1.48g(2.63mmol)を塩化メチレン50mLに溶かし、5℃以下で塩化メチレン25mLに溶かしたNBS(N-Bromosuccinimide) 0.6g(3.42mmol)を加えた。30分程度撹拌した後、常温で再び撹拌した。反応の進行程度をTLCで確認し、反応がそれ以上進行しなくなったら、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム(sodium thiosulfate)飽和水溶液20mLを加えた。有機溶媒層を別に集めてMgSO4で脱水した後、減圧蒸留した。得られた反応物をシリカゲルで充填したカラムで塩化メチレンとn−ヘキサンの混合溶媒を移動相にして分離することによって、淡黄色の結晶化合物<2d>1.06g(63%)を得た。
Figure 0005580733
(5)化合物<2−1>の合成
窒素気流下で4−ビフェニルボロン酸(biphenyl boronic acid)0.39g(1.98mmol)と化合物<2d>1.0g(1.65mmol)、Pd(PPh34、2M K2CO3水溶液、トルエン 50mLを激しく撹拌しながら、還流させた。12時間後、10mLの水を添加して、生成した沈殿物をろ過して、白色の固体化合物<2−1>(化学式2−1)8g(68%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例4]
(1)化合物<2−42>の合成
前記実施例3で4−ビフェニルボロン酸(biphenyl boronic acid)の代わりに3−(ナフタレン−1−イル)フェニルボロン酸を使用したことを除いては、実施例3の操作を繰り返して化合物<2−42>(化学式2−42)1.2g(63%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例5]
(1)化合物<1−3>の合成
前記実施例1で2−アミノアントラキノンの代わりに2,6−ジアミノアントラキノンを使用したことを除いては、実施例1の操作を繰り返して化合物<1−3>(化学式1−3)1.2g(42%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例6]
(1)化合物<1−4>の合成
前記実施例2で2−アミノアントラキノンの代わりに2,6−ジアミノアントラキノンを使用したことを除いては、実施例2の操作を繰り返して化合物<1−4>(化学式1−4)1.42g(50%)を得た。
Figure 0005580733
[実施例7]
(1)化合物<2−7>の合成
前記実施例3で化合物<1a>の代わりに2,6−ジブロモアントラキノンを使用したことを除いては、実施例3の操作を繰り返して化合物<2−7>(化学式2−7)0.8g(35%)を得た。
[化学式2−7]
Figure 0005580733
[実施例8]
(1)化合物<2−93>の合成
前記実施例4で化合物<1a>の代わりに2,6−ジブロモアントラキノンを使用したことを除いては、実施例4の操作を繰り返して化合物<2−93>(化学式2−93)0.5g(30%)を得た。
[化学式2−93]
Figure 0005580733
[実施例9]
(1)化合物<6a>合成
窒素気流下で2−ブロモナフタレン(2−Bromonaphthalene)20g(96.6mmol)をテトラヒドロフラン(THF) 500mLに溶かし、−78℃で30分間冷却した。n−BuLi(2.5M)39mLを−78℃で30分間徐々に滴下した後、さらに30分間撹拌した。反応物をTHF 300mLに溶かしたアンスロン(anthrone)16.5g(85mmol)に15分間で滴下した後、20分後に常温で撹拌した。反応の進行程度はTLCで確認し、反応がそれ以上進行しなくなったら、反応混合液に6M HCl 300mLを加えた後、エチルアセテート(ethlyl acetate)200mLで3回抽出した。これらを混合した後、MgSO4で脱水した後、減圧蒸留した。得られた反応物をエタノールで再結晶して、淡緑色の結晶である9−ナフタレン−2−イル アントラセン(9−Naphthalene−2−yl anthracene)16.48g(63.6%)を得た。
Figure 0005580733
(2)化合物<6b>の合成
窒素気流下で9−ナフタレン−2−イルアントラセン(9−Naphthalene−2−yl anthracene)16.4g(54.0mmol)を塩化メチレン(methylene chloride)1050mLに溶かし、5℃以下で塩化メチレン550mLに溶かしたNBS(N-Bromosuccinimide) 12.45g(70mmol)を徐々に加えた。30分程度撹拌した後、常温で撹拌した。反応の進行程度はTLCで確認し、反応がそれ以上進行しなくなったら、反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム(saturated sodium thiosulfate)400mLを加えた後、有機溶媒層を別に集めてMgSO4で脱水し、減圧蒸留した。得られた反応物をシリカゲルで充填したカラムで塩化メチレンとn−ヘキサンの混合溶媒を移動相にして分離することによって淡黄色の結晶9−ブロモ−10−ナフタレン−2−イル アントラセン(9−Bromo−10−naphthalene−2−yl anthracene)12g(58%)を得た。
Figure 0005580733
(3)化合物<6c>の合成
窒素気流下で9−ブロモ−10−ナフタレン−2−イル アントラセン(9−Bromo−10−naphthalene−2−yl anthracene)12g(31.3mmol)をTHF 160mLに溶かした後、−78℃で30分間冷却させた。n−BuLi(2.5M)13.8mLを−78℃で30分間徐々に滴下した後、30分間撹拌した。ホウ酸トリメチル(Trimethyl borate)4.2mL(37.6mmol)を15分間で滴下した後、20分後に常温で撹拌した。反応の進行程度はTLCで確認し、反応がそれ以上進行しなくなったら、反応混合液に2M HCl 100mLを加えた後、酢酸エチル(ethyl acetate)60mLで3回抽出した。これらを混合した後、MgSO4で脱水し、減圧蒸留した。得られた反応物をトルエンとn−ヘキサンで再結晶して、白色の結晶5.3g(49%)を得た。
Figure 0005580733
(4)化合物<6d>の合成
化合物<6b>の代わりに1−ブロモ−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンを使用したことを除いては、前記化合物<6c>の合成操作を繰り返して化合物<6d>8g(73%)を得た。
Figure 0005580733
(5)化合物<6e>の合成
4−ビフェニルボロン酸(biphenyl boronic acid)の代わりに化合物<6d>、化合物<2d>の代わりに4−ブロモヨウ化ベンゼンを使用したことを除いては、実施例3〜5の操作を繰り返して化合物<6e>5.7g(63%)を得た。
Figure 0005580733
(6)化合物<6−1>の合成
4−ビフェニルボロン酸(biphenyl boronic acid)の代わりに化合物<6c>と化合物<2d>の代わりに化合物<6e>を使用したことを除いては、実施例3〜5の操作を繰り返して化合物<6−1>2.2g(57%)を得た。
Figure 0005580733
試験例:発光ピーク測定
前記実施例1〜9で製造した化合物をTHFに溶解して発光ピークを測定した。結果を図2(実施例1)、図3(実施例9)及び下記表1に示した。下記表1において単位はnmである。
Figure 0005580733
表1、図2及び3に示されているように、本発明の実施例1〜9の化合物は青色発光特性が優れていることを確認することができた。
有機電界発光素子の物性測定:
前記実施例1〜9で製造した化合物をそれぞれ発光ホスト材料として使用して、図1のような構造の有機電界発光素子を作製した。まず、ガラス基板に形成した1500Å厚のITO層(アノード)の上に、650Å厚の正孔注入層(正孔注入層材料:HI−406(N1,N1−(ビフェニル−4,4'−ジイル)ビス(N1−(ナフタレン−1−イル)−N4,N4−ジフェニルベンゼン−1,4−ジアミン))、200Å厚の正孔輸送層(正孔輸送層材料:ビス(N−(1−ナフチル−n−フェニル))ベンジジン(α−NPB))、350Å厚のBD142がドーピングされた発光層(BD142:N6,N12−ビス(3,4−ジメチルフェニル)−N6,N12−ジメシチルクリセン−6,12−ジアミン)、200Å厚の電子輸送層(電子輸送層材料:ET4(6,6'−(3,4−ジメシチル−1,1−ジメチル−1H−シルオル−2,5−ジイル)ジ−2,2'−ビピリジン))及び1000/10Å厚のアルミニウム/LiFカソードを順次蒸着して、有機電界発光素子を作製した。この時、発光層に使用したドーパント BD142の量は、ホスト100質量部に対して7質量部とした。
前記製造された有機電界発光素子の発光特性を測定した結果、素子は電気的安定性に優れ、高い発光効率と発光輝度を示した。このうち、実施例1の化合物に対する結果を下記表2に示した。
Figure 0005580733
以上説明した本発明は、本発明の技術的な思想を逸脱しない範囲内でいろいろな置換、変形、及び変更が可能であるのは本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者において明白である。
産業上利用の可能性
本発明による化学式1〜6で示されるアントラセン系化合物は、青色発光特性及び正孔伝達特性に優れると共に、青色発光材料として使用したり赤色、緑色、青色、白色等のような多様な燐光または蛍光ドーパントに対してホストとして使用することができるだけでなく、有機発光素子に適用して高効率発光が可能であり、低電圧、高輝度、長寿命の特性を付与することができる効果がある。

Claims (5)

  1. 下記の化学式2−1〜2−104で示される化合物のうちの一つである化合物(式中のnは1〜4の整数を表わす。):
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
    Figure 0005580733
  2. 請求項1の化合物を発光ホストとして使用することを特徴とする有機発光素子の有機薄膜層。
  3. 前記有機薄膜層が正孔注入層(HIL)、正孔輸送層(HTL)、及び発光層(EML)で構成される請求項に記載の有機薄膜層。
  4. アノードとカソードの間に請求項記載の有機薄膜層を少なくとも1層含むことを特徴とする有機発光素子。
  5. 請求項記載の有機発光素子を含むことを特徴とするディスプレイ装置。
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