JP5540471B2 - ガス増幅を用いた放射線検出器 - Google Patents
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Description
絶縁部材の第1の面上に形成されるとともに、円形状の複数の開口部を有する第1の電極パターンと、
前記絶縁部材の前記第1の面と相対向する第2の面上に形成されるとともに、前記絶縁部材を貫通して埋設され、前記第1の電極パターンの前記開口部の略中心部に先端が露出してなる凸状部を有する第2の電極パターンとを具え、
前記第1の電極パターンと前記第2の電極パターンとは所定の電位差を有するように設定され、
前記第2の電極パターンの前記凸状部は、その先端が狭窄されて前記第2の電極パターンの埋設部の径より露出部の径の方が小さくなっており、電子雪崩を生ぜしめることを特徴とする、ガス増幅を用いた放射線検出器に関する。
絶縁部材の第1の面上に第1の電極層を形成するとともに、前記絶縁部材の前記第1の面と相対向する第2の面上に第2の電極層を形成する工程と、
前記第1の電極層に対して第1の露光現像処理を施し、前記第1の電極層において複数の加工用開口部を形成する工程と、
前記第1の電極層の前記複数の加工用開口部を介して前記絶縁部材にエネルギー線を照射し、前記絶縁部材の厚さ方向において貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔内にビアフィルメッキを施し、前記貫通孔を埋設するようにして金属メッキ層を形成する工程と、
前記第1の電極層に対して第2の露光現像処理を施し、前記第1の電極層において前記金属メッキ層を中心とした円形状の開口部を形成して、第1の電極パターンを形成する工程と、
前記金属メッキ層の先端を狭窄加工し、前記金属メッキ層からなる先端が狭窄された凸状部と前記第2の電極層とからなる第2の電極パターンを形成する工程と、
を具えることを特徴とする、放射線検出器の製造方法に関する。
20 ピクセル型放射線検出器
21 検出パネル
22 電極板
211 絶縁部材
212 第1の電極パターン
212A 第1の電極パターンの円形状開口部
213 第2の電極パターン
214 第2の電極パターンの凸状部
214A 第2の電極パターンの凸状部の先端
Claims (8)
- 絶縁部材の第1の面上に形成されるとともに、円形状の複数の開口部を有する第1の電極パターンと、
前記絶縁部材の前記第1の面と相対向する第2の面上に形成されるとともに、前記絶縁部材を貫通して埋設され、前記第1の電極パターンの前記開口部の略中心部に先端が露出してなる凸状部を有する第2の電極パターンとを具え、
前記第1の電極パターンと前記第2の電極パターンとは所定の電位差を有するように設定され、
前記第2の電極パターンの前記凸状部は、その先端が狭窄加工されて前記第2の電極パターンの埋設部の径より露出部の径の方が小さくなっており、電子雪崩を生ぜしめることを特徴とする、ガス増幅を用いた放射線検出器。 - 前記第2の電極パターンの前記凸状部の前記先端は、テーパー状に狭窄されてなることを特徴とする、請求項1に記載の放射線検出器。
- 前記凸状部の前記先端は、円錐台形状を呈することを特徴とする、請求項2に記載の放射線検出器。
- 前記凸状部の前記先端は、半球形状を呈することを特徴とする、請求項2に記載の放射線検出器。
- 前記第2の電極パターンの前記凸状部の前記先端は、ステップ状に狭窄されてなることを特徴とする、請求項1に記載の放射線検出器。
- 前記凸状部の前記先端は、円柱形状を呈することを特徴とする、請求項5に記載の放射線検出器。
- 前記凸状部の前記先端は、逆円錐台形状を呈することを特徴とする、請求項5に記載の放射線検出器。
- 前記第2の電極パターンの前記凸状部は、ビアフィルメッキ法で形成したことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一に記載の放射線検出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008116778A JP5540471B2 (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | ガス増幅を用いた放射線検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008116778A JP5540471B2 (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | ガス増幅を用いた放射線検出器 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012217206A Division JP5360281B2 (ja) | 2012-09-28 | 2012-09-28 | ガス増幅を用いた放射線検出器の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009264997A JP2009264997A (ja) | 2009-11-12 |
JP5540471B2 true JP5540471B2 (ja) | 2014-07-02 |
Family
ID=41391020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008116778A Active JP5540471B2 (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | ガス増幅を用いた放射線検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5540471B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5471051B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2014-04-16 | 大日本印刷株式会社 | ガス増幅を用いた放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法 |
JP2012013483A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ガス増幅を用いた放射線検出器、及びその製造方法 |
JP2013181800A (ja) * | 2012-03-01 | 2013-09-12 | Kyocera Corp | 粒子線位置検出器 |
JP6156028B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-07-05 | 大日本印刷株式会社 | ガス増幅を用いた放射線検出器、及びその製造方法 |
EP3361492B1 (en) * | 2015-10-08 | 2022-08-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Detection element |
JP6696162B2 (ja) | 2015-12-03 | 2020-05-20 | 大日本印刷株式会社 | 放射線検出素子及び放射線検出装置 |
JP2017191108A (ja) * | 2017-06-08 | 2017-10-19 | 大日本印刷株式会社 | ガス増幅を用いた放射線検出器、及びその製造方法 |
JP6645528B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2020-02-14 | 大日本印刷株式会社 | 検出素子、検出素子の製造方法、および検出装置 |
JP6645529B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2020-02-14 | 大日本印刷株式会社 | 検出素子、検出素子の製造方法、および検出装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000075037A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-03-14 | Toshiba Corp | 放射線検出器 |
JP3354551B2 (ja) * | 2000-06-27 | 2002-12-09 | 科学技術振興事業団 | ピクセル型電極によるガス増幅を用いた粒子線画像検出器 |
JP2002090465A (ja) * | 2000-09-12 | 2002-03-27 | Toshiba Corp | 放射線検出器の製造方法 |
JP2005055306A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Japan Atom Energy Res Inst | スルーホール型マイクロストリップガスカウンタ素子 |
JP4391391B2 (ja) * | 2004-11-12 | 2009-12-24 | 大日本印刷株式会社 | 放射線検出器の製造方法 |
JP4765506B2 (ja) * | 2005-09-16 | 2011-09-07 | 大日本印刷株式会社 | 放射線検出パネルの製造方法、放射線検出パネル |
JP2009224069A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-01 | Toshiba Corp | 放射線検出器及び放射線検出方法 |
-
2008
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009264997A (ja) | 2009-11-12 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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