JP5539662B2 - Manufacturing method of magnetic disk - Google Patents
Manufacturing method of magnetic disk Download PDFInfo
- Publication number
- JP5539662B2 JP5539662B2 JP2009080432A JP2009080432A JP5539662B2 JP 5539662 B2 JP5539662 B2 JP 5539662B2 JP 2009080432 A JP2009080432 A JP 2009080432A JP 2009080432 A JP2009080432 A JP 2009080432A JP 5539662 B2 JP5539662 B2 JP 5539662B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- glide
- slider
- inspection
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 78
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 44
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 6
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 5
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は、ハードディスクドライブ（HDD）などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクのグライド検査方法及び磁気ディスクの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for inspecting a glide of a magnetic disk mounted on a magnetic disk device such as a hard disk drive (HDD) and a method for manufacturing the magnetic disk.
近年の情報処理の大容量化に伴い、各種の情報記録技術が開発されている。特に磁気記録技術を用いたＨＤＤ（ハードディスクドライブ）の面記録密度は年率１００％程度の割合で増加し続けている。最近では、ＨＤＤ等に用いられる２．５インチ径磁気ディスクにして、１枚当り２５０Ｇバイトを超える情報記録容量が求められるようになってきており、このような所要に応えるためには１平方インチ当り４００Ｇビットを超える情報記録密度を実現することが求められる。 Various information recording techniques have been developed with the recent increase in information processing capacity. In particular, the surface recording density of an HDD (hard disk drive) using magnetic recording technology continues to increase at an annual rate of about 100%. Recently, an information recording capacity exceeding 250 Gbytes has been required for a 2.5 inch diameter magnetic disk used for HDDs and the like. In order to meet such a requirement, one square inch is required. It is required to realize an information recording density exceeding 400 Gbits per unit.
ところで、磁気ディスクの出荷までの工程は、ディスク基板製造工程、成膜工程、検査工程という順次一連の製造工程を経て完成し梱包され市場に出荷される。この検査工程には、通常、グライド検査工程と信号品質検査工程などが含まれる。
このグライド検査工程とは、磁気ディスクがハードディスクドライブに搭載されたときに、磁気ヘッドの浮上飛行が妨げられないよう、磁気ディスク上の凹凸や異物等を検査し、許容範囲外の磁気ディスクを排除する工程のことである。この検査工程を経ることにより、安定した品質を備える磁気ディスク製品が完成し、市場に供給される。グライド検査には、グライド検査用途に製造されたグライドヘッドが用いられる。このようなグライドヘッドとしては、例えば特許文献１に開示されたよなグライドヘッドを用いることが知られている。
By the way, the process up to the shipment of the magnetic disk is completed, packed and shipped to the market through a sequential series of manufacturing processes including a disk substrate manufacturing process, a film forming process, and an inspection process. This inspection process usually includes a glide inspection process and a signal quality inspection process.
This glide inspection process is to check the unevenness and foreign matter on the magnetic disk so that the flying of the magnetic head is not hindered when the magnetic disk is installed in the hard disk drive, and remove the magnetic disk outside the allowable range It is a process to do. Through this inspection process, a magnetic disk product with stable quality is completed and supplied to the market. For glide inspection, a glide head manufactured for glide inspection is used. As such a glide head, for example, it is known to use a glide head disclosed in
現在グライド検査で主流となっているヘッドスライダー（一般にＰｉｃｏスライダーとも呼ばれている）は、長さ１．２５ｍｍ、幅１ｍｍ、厚さ０．３ｍｍ、質量１．５ｍｇのものであるが、直径１μｍ前後の凸欠陥は検出可能である。しかし、近年の飛躍的な高記録密度化の要請に伴い、ドライブが安定的に動作するためには、ドライブに搭載される磁気ディスクにおいても、現在検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５〜１μｍ程度の凸欠陥や、直径２０μｍ前後の凹欠陥等の有無が問題となっている。 The head slider (generally also called Pico slider), which is currently the mainstream in glide inspection, has a length of 1.25 mm, a width of 1 mm, a thickness of 0.3 mm, and a mass of 1.5 mg, but a diameter of 1 μm. Front and rear convex defects can be detected. However, in order to drive the drive stably in accordance with the recent dramatic increase in recording density, even a magnetic disk mounted on the drive has a minute size defect that cannot be detected at present, such as a diameter of 0. The presence or absence of a convex defect of about 25 to 1 μm or a concave defect of about 20 μm in diameter is a problem.
グライド検査の欠陥検出感度は、グライドヘッドの浮上量を下げることで改善することは可能である。しかし、磁気ディスクの量産工場内で、多数のグライドヘッドの浮上量をすべて一定の高さに管理することは非常に困難である。しかも、グライドヘッドの浮上量を下げることによって、ヘッド汚れの発生、磁気ディスク表面の傷付きの確率が高くなるので、今以上にグライドヘッドの浮上量を下げることにより欠陥検出感度を改善することは非常に困難である。 The defect detection sensitivity of the glide inspection can be improved by reducing the flying height of the glide head. However, it is very difficult to control the flying height of a large number of glide heads at a certain height in a mass production factory for magnetic disks. Moreover, reducing the flying height of the glide head increases the probability of head contamination and scratches on the magnetic disk surface, so improving the defect detection sensitivity by lowering the flying height of the glide head more than ever It is very difficult.
本発明は以上の課題に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、グライドヘッドの浮上量を今以上に下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥をも精度良く検出することが可能な磁気ディスクのグライド検査方法、及び該グライド検査方法を用いてグライド検査を行う工程を含む磁気ディスクの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and the object of the present invention is to reduce defects of a small size that cannot be detected by the current glide inspection without lowering the flying height of the glide head. It is an object of the present invention to provide a magnetic disk glide inspection method capable of detecting with high accuracy, and a magnetic disk manufacturing method including a step of performing a glide inspection using the glide inspection method.
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の構成を有する発明である。
（構成１）
磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、前記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いて検査を行うことを特徴とする磁気ディスクのグライド検査方法。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has completed the present invention.
That is, the present invention is an invention having the following configuration.
(Configuration 1)
A method of performing a glide inspection of a magnetic disk using a glide head flying and flying over a magnetic disk, wherein a slider size attached to the glide head has a length of 0.75 to 0.95 mm and a width of 0.6 A glide inspection method for a magnetic disk, wherein inspection is performed using a disk having a thickness of ˜0.8 mm and a thickness of 0.20 to 0.26 mm.
（構成２）
前記スライダーの質量が、０．６ｍｇ以下であることを特徴とする構成１に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
(Configuration 2)
The magnetic disk glide inspection method according to
（構成３）
前記グライドヘッドは、該グライドヘッドに取り付けられたピエゾ素子からの出力電圧の大きさによって欠陥検出を行うことを特徴とする構成１又は２に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
(Configuration 3)
3. The magnetic disk glide inspection method according to
（構成４）
検査される磁気ディスクの表面は鏡面であることを特徴とする構成１乃至３のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法。
(Configuration 4)
4. The magnetic disk glide inspection method according to
（構成５）
構成１乃至４のいずれか一項に記載の磁気ディスクのグライド検査方法を用いて、直径０．２５μｍ〜１μｍの凸状欠陥、直径１８μｍから２２μｍの凹状欠陥を検出する磁気ディスクのグライド検査工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 5)
A magnetic disk glide inspection step of detecting a convex defect having a diameter of 0.25 μm to 1 μm and a concave defect having a diameter of 18 μm to 22 μm using the magnetic disk glide inspection method according to any one of
本発明の磁気ディスクのグライド検査方法によれば、グライドヘッドの浮上量を今以上に下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥や、直径２０μｍ前後の凹状欠陥をも精度良く検出することができ、安定的なグライド検査を実現することが可能である。 According to the method for inspecting a glide of a magnetic disk of the present invention, a micro size defect such as a convex having a diameter of about 0.25 μm to 1 μm that cannot be detected by the current glide inspection without lowering the flying height of the glide head. It is possible to accurately detect even-shaped defects and concave defects having a diameter of about 20 μm, and it is possible to realize a stable glide inspection.
また、本発明の磁気ディスクのグライド検査方法を適用することにより、磁気ディスク表面の微小欠陥に対する厳しい要求に対応できるような磁気ディスクを提供することができる。 Further, by applying the magnetic disk glide inspection method of the present invention, it is possible to provide a magnetic disk capable of meeting the strict requirements for minute defects on the surface of the magnetic disk.
以下、本発明の実施の形態を詳述する。
本発明に係る磁気ディスクのグライド検査方法は、構成１にあるように、磁気ディスク上を浮上飛行するグライドヘッドを用いて、磁気ディスクのグライド検査をする方法であって、前記グライドヘッドに装着されるスライダーサイズが、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのものを用いて検査を行うことを特徴としている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
A magnetic disk glide inspection method according to the present invention is a method for performing a glide inspection of a magnetic disk using a glide head flying and flying over a magnetic disk as in
本発明は、グライドヘッドの浮上を下げるのではなく、グライドヘッドに装着されるスライダーサイズを従来のものよりも小型化することによって欠陥検出感度の改善を行い、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥や、直径２０μｍ前後の凹状欠陥をも精度良く検出可能とするものである。 The present invention improves the defect detection sensitivity by reducing the size of the slider mounted on the glide head rather than reducing the flying height of the glide head, and cannot be detected by the current glide inspection. A micro-sized defect, for example, a convex defect having a diameter of about 0.25 μm to 1 μm or a concave defect having a diameter of about 20 μm can be detected with high accuracy.
グライド検査は、グライドヘッドに取り付けられているピエゾ素子からの出力電圧の大きさによって欠陥判定を行うため、このピエゾ素子からの出力が大きいグライドヘッドであるほど欠陥検出感度が高いということになる。 In the glide inspection, the defect determination is performed based on the magnitude of the output voltage from the piezo element attached to the glide head. Therefore, the glide head having a larger output from the piezo element has a higher defect detection sensitivity.
ところで、ピエゾ素子の出力電圧は、グライドヘッドのスライダーの振動速度にＶに依存する。ここで、スライダーの質量をＭとし、欠陥質量をｍ、欠陥の速度をｖとすれば、本発明者は、運動量保存の法則によってＭＶ＝ｍｖが成立することに着目した。つまり、上記スライダーの振動速度Ｖは、ｍｖ／Ｍに依存することになる。したがって、グライドヘッドのスライダーサイズを小型化し、スライダー質量Ｍが小さいほど、ピエゾ素子からの出力電圧が高くなり、欠陥検出速度が向上するため、より高感度のグライド検査が可能となり、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥、例えば直径０．２５μｍ〜１μｍ程度の凸状欠陥をも精度良く検出可能となる。また、すべての触針式測定器に共通な要素として、そのプローブが小さいほど凹欠陥測定の分解能が向上する。従って、グライド検査においても、そのスライダーサイズを小さくすることにより、凹欠陥検出感度も向上する。 By the way, the output voltage of the piezo element depends on V on the vibration speed of the slider of the glide head. Here, when the mass of the slider is M, the mass of the defect is m, and the velocity of the defect is v, the present inventor has focused on the fact that MV = mv is established according to the law of conservation of momentum. That is, the vibration speed V of the slider depends on mv / M. Therefore, the smaller the slider size of the glide head and the smaller the slider mass M, the higher the output voltage from the piezo element and the higher the defect detection speed, enabling a more sensitive glide inspection and the current glide inspection. Thus, it is possible to accurately detect a micro-sized defect that cannot be detected by, for example, a convex defect having a diameter of about 0.25 μm to 1 μm. Further, as an element common to all stylus-type measuring instruments, the smaller the probe, the higher the resolution of measuring the concave defect. Therefore, also in the glide inspection, the concave defect detection sensitivity is improved by reducing the slider size.
図１は、本発明に用いるスライダーサイズと質量の一例を、従来のスライダーサイズと質量と対比して示したものである。同図（ａ）中の長さ、幅、厚さは、同図（ｂ）に示すものを表わしている。また、同図（ａ）中の長さ、幅、厚さは、すべてｍｍ単位、質量はｍｇで示している。 FIG. 1 shows an example of a slider size and mass used in the present invention in comparison with a conventional slider size and mass. The length, width, and thickness in FIG. 10A represent those shown in FIG. In addition, the length, width, and thickness in FIG.
ここで、一例として、たとえば欠陥質量ｍを１０ｍｇ、欠陥速度ｖを１００ｍ／ｓとしたときの、スライダーの振動速度Ｖを求める。従来のスライダーの場合、スライダーの振動速度Ｖは６６６ｍ／ｓ（＝１０×１００／１．５）であるのに対し、本発明のスライダーの場合、スライダーの振動速度Ｖは２０００ｍ／ｓ（＝１０×１００／０．５）である。ヘッドスライダーサイズを小型化し、質量を小さくすることで、スライダー振動速度が増加し、ピエゾ素子からの出力電圧が増加して、欠陥検出感度を大幅に改善できるものと考えられる。 Here, as an example, for example, the vibration speed V of the slider when the defect mass m is 10 mg and the defect speed v is 100 m / s is obtained. In the case of the conventional slider, the vibration speed V of the slider is 666 m / s (= 10 × 100 / 1.5), whereas in the case of the slider of the present invention, the vibration speed V of the slider is 2000 m / s (= 10 × 100 / 0.5). By reducing the size of the head slider and reducing the mass, the slider vibration speed increases, the output voltage from the piezo element increases, and the defect detection sensitivity can be greatly improved.
図１は、本発明に用いるスライダーサイズと質量の一例を示したものであり、本発明においては、長さ０．７５〜０．９５ｍｍ、幅０．６〜０．８ｍｍ、厚さ０．２０〜０．２６ｍｍのスライダーが好適である。また、スライダーの質量は、０．６ｍｇ以下であることが好適である。 FIG. 1 shows an example of slider size and mass used in the present invention. In the present invention, the length is 0.75 to 0.95 mm, the width is 0.6 to 0.8 mm, and the thickness is 0.20. A slider of ~ 0.26 mm is preferred. The mass of the slider is preferably 0.6 mg or less.
また、本発明に用いるスライダーの材質としては、とくに小型サイズのものを高精度で製造可能である観点から、例えば、鉄および鉄合金（含むステンレス）等が好ましく用いられる。 Moreover, as a material of the slider used in the present invention, for example, iron and iron alloys (including stainless steel) are preferably used from the viewpoint that a small size can be manufactured with high accuracy.
また、本発明は、表面が鏡面である磁気ディスクのグライド検査において微小欠陥を精度良く検出でき、顕著な作用効果を得ることができるので、検査される磁気ディスクの表面は鏡面であることが特に好適である。 Further, according to the present invention, since a micro defect can be accurately detected and a remarkable effect can be obtained in a glide inspection of a magnetic disk having a mirror surface, the surface of the magnetic disk to be inspected is particularly a mirror surface. Is preferred.
本発明によるグライド検査を行う磁気ディスクは、磁気ディスク用基板の上に少なくとも磁性層、保護層等を形成して製造される。
磁気ディスク用基板としては、ガラス基板が好ましい。ガラス基板を構成するガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとすることが好ましい。このようなガラス基板は表面を鏡面研磨することにより平滑な鏡面に仕上げることができる。このようなアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ2が５８重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上２３重量％以下、Ｌｉ2Ｏが３重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2Ｏが４重量％以上１３重量％以下を主成分として含有するアルミノシリケートガラス（ただし、リン酸化物を含まないアルミノシリケートガラス）を用いることができる。例えば、ＳｉＯ2 が６２重量％以上７５重量％以下、Ａｌ2Ｏ3が５重量％以上１５重量％以下、Ｌｉ2 Ｏが４重量％以上１０重量％以下、Ｎａ2 Ｏが４重量％以上１２重量％以下、ＺｒＯ2が５．５重量％以上１５重量％以下を主成分として含有するとともに、Ｎａ2Ｏ／ＺｒＯ2 の重量比が０．５以上２．０以下、Ａｌ2Ｏ3 ／ＺｒＯ2 の重量比が０．４以上２．５以下であるリン酸化物を含まないアモルファスのアルミノシリケートガラスとすることができる。
A magnetic disk for glide inspection according to the present invention is manufactured by forming at least a magnetic layer, a protective layer, etc. on a magnetic disk substrate.
A glass substrate is preferred as the magnetic disk substrate. The glass constituting the glass substrate is preferably amorphous aluminosilicate glass. Such a glass substrate can be finished to a smooth mirror surface by polishing the surface. As such an aluminosilicate glass, SiO 2 is 58 wt% to 75 wt%, Al 2 O 3 is 5 wt% to 23 wt%, Li 2 O is 3 wt% to 10 wt%, Na 2 An aluminosilicate glass containing O as a main component in an amount of 4 wt% or more and 13 wt% or less (however, an aluminosilicate glass containing no phosphorus oxide) can be used. For example, SiO 2 is 62 wt% to 75 wt%, Al 2 O 3 is 5 wt% to 15 wt%, Li 2 O is 4 wt% to 10 wt%, and Na 2 O is 4 wt% to 12 wt%. Wt% or less, ZrO 2 containing 5.5 wt% or more and 15 wt% or less as a main component, and a weight ratio of Na 2 O / ZrO 2 of 0.5 or more and 2.0 or less, Al 2 O 3 / ZrO An amorphous aluminosilicate glass containing no phosphorous oxide having a weight ratio of 2 of 0.4 to 2.5 can be obtained.
磁気ディスク用ガラス基板は、少なくともガラス基板の鏡面研磨処理と洗浄処理により、ガラス基板の表面は、最大粗さＲｍａｘが６ｎｍ以下である鏡面とされることが好ましい。このような鏡面状態は、鏡面研磨処理と洗浄処理をこの順で行うことにより実現することができる。 It is preferable that the glass substrate for a magnetic disk has a mirror surface having a maximum roughness Rmax of 6 nm or less by at least mirror polishing and cleaning of the glass substrate. Such a mirror state can be realized by performing a mirror polishing process and a cleaning process in this order.
なお、洗浄処理工程の後に、化学強化処理を施してもよい。化学強化処理の方法としては、例えば、ガラス転移点の温度を超えない温度領域、例えば摂氏３００度以上４００度以下の温度で、イオン交換を行う低温型イオン交換法などが好ましい。 In addition, you may perform a chemical strengthening process after a washing | cleaning process process. As a method of the chemical strengthening treatment, for example, a low temperature type ion exchange method in which ion exchange is performed in a temperature range that does not exceed the temperature of the glass transition point, for example, a temperature of 300 ° C. or more and 400 ° C. or less is preferable.
磁気ディスク用基板上に形成する磁性層の材料としては、異方性磁界の大きな六方晶系であるＣｏＰｔ系強磁性合金を用いることができる。磁性層の形成方法としてはスパッタリング法、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法によりガラス基板の上に磁性層を成膜する方法を用いることができる。またガラス基板と磁性層との間に、下地層を介挿することにより磁性層の磁性グレインの配向方向や磁性グレインの大きさを制御することができる。例えば，Ｃｒ系合金など立方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面に沿って配向させることができる。この場合、面内磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。また、例えば、ＲｕやＴｉを含む六方晶系下地層を用いることにより、例えば磁性層の磁化容易方向を磁気ディスク面の法線に沿って配向させることができる。この場合、垂直磁気記録方式の磁気ディスクが製造される。下地層は磁性層同様にスパッタリング法により形成することができる。 As a material for the magnetic layer formed on the magnetic disk substrate, a hexagonal CoPt ferromagnetic alloy having a large anisotropic magnetic field can be used. As a method for forming the magnetic layer, a method of forming a magnetic layer on a glass substrate by sputtering, for example, DC magnetron sputtering can be used. Further, by interposing an underlayer between the glass substrate and the magnetic layer, the orientation direction of the magnetic grains of the magnetic layer and the size of the magnetic grains can be controlled. For example, by using a cubic base layer such as a Cr-based alloy, for example, the magnetization easy direction of the magnetic layer can be oriented along the magnetic disk surface. In this case, a magnetic disk of the in-plane magnetic recording system is manufactured. Further, for example, by using a hexagonal underlayer containing Ru or Ti, for example, the easy magnetization direction of the magnetic layer can be oriented along the normal of the magnetic disk surface. In this case, a perpendicular magnetic recording type magnetic disk is manufactured. The underlayer can be formed by sputtering as with the magnetic layer.
また、磁性層の上には、保護層を形成することができる。保護層としてはアモルファスの水素化炭素系保護層が好適である。例えばプラズマＣＶＤ法により保護層を形成することができる。保護層の膜厚としては、４０オングストロームから８０オングストローム程度が好ましい。 A protective layer can be formed on the magnetic layer. As the protective layer, an amorphous hydrogenated carbon-based protective layer is suitable. For example, the protective layer can be formed by a plasma CVD method. The film thickness of the protective layer is preferably about 40 angstroms to 80 angstroms.
また、保護層の上にさらに潤滑層を形成しても良い。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル化合物の主鎖の末端に官能基を有する潤滑剤、とりわけ極性官能基として水酸基を末端に備えるパーフルオロポリエーテル化合物を主成分とすることが好ましい。潤滑層の膜厚は５オングストロームから１５オングストローム程度とすることが好ましい。潤滑層はディップ法により塗布形成することができる。 Further, a lubricating layer may be further formed on the protective layer. The lubricating layer is preferably composed mainly of a lubricant having a functional group at the end of the main chain of the perfluoropolyether compound, particularly a perfluoropolyether compound having a terminal hydroxyl group as a polar functional group. The thickness of the lubricating layer is preferably about 5 angstroms to 15 angstroms. The lubricating layer can be applied and formed by a dip method.
以下、実施例により本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。
（ディスク基板製造工程）
まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径６６ｍｍφ、厚さ１．５ｍｍの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得、これに粗ラッピング工程（粗研削工程）、形状加工工程、精ラッピング工程（精研削工程）、端面鏡面加工工程、第１研磨工程、第２研磨工程を順次施すとともに、次いで化学強化を施すことにより、磁気ディスク用ガラス基板を製造した。このガラス基板は、主表面、端面ともに鏡面研磨加工されている。
Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to examples.
(Disc board manufacturing process)
First, a glass substrate made of disk-shaped aluminosilicate glass having a diameter of 66 mmφ and a thickness of 1.5 mm is obtained from molten glass by direct pressing using an upper die, a lower die, and a barrel die, and a rough lapping step (rough grinding step) ), A shape processing step, a fine lapping step (fine grinding step), an end mirror processing step, a first polishing step, and a second polishing step, followed by chemical strengthening to manufacture a magnetic disk glass substrate. . This glass substrate is mirror-polished on both the main surface and the end surface.
上記化学強化及びその後の洗浄を終えたガラス基板表面の目視検査及び精密検査を実施した結果、ガラス基板表面に付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。また、上記工程を経て得られたガラス基板の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝４．５ｎｍ、Ｒａ＝０．３ｎｍの鏡面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。また、ガラス基板の外径は６５ｍｍ、内径は２０ｍｍ、板厚は０．６３５ｍｍであった。 As a result of visual inspection and precise inspection of the glass substrate surface after the chemical strengthening and subsequent cleaning, no defects such as protrusions and scratches due to deposits were found on the glass substrate surface. Further, when the surface roughness of the main surface of the glass substrate obtained through the above steps was measured with an atomic force microscope (AFM), it was for a magnetic disk having a mirror surface with Rmax = 4.5 nm and Ra = 0.3 nm. A glass substrate was obtained. The glass substrate had an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm, and a plate thickness of 0.635 mm.
（成膜工程）
次に、得られた磁気ディスク用ガラス基板上に枚葉式スパッタリング装置を用いて、Ｔｉ系の付着層、Ｆｅ系の軟磁性層、ＮｉＷの第１下地層、Ｒｕの第２下地層、ＣｏＣｒＰｔ磁性層を順次成膜し、次いでプラズマＣＶＤ法により炭素系保護層を形成した。さらに、保護層の上に、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤をディップ法により塗布して潤滑層を形成した。この磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。得られた磁気ディスクの主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定したところ、Ｒｍａｘ＝４．６ｎｍ、Ｒａ＝０．３ｎｍの鏡面であることを確認した。
(Film formation process)
Next, using a single-wafer sputtering apparatus on the obtained glass substrate for a magnetic disk, a Ti-based adhesion layer, a Fe-based soft magnetic layer, a NiW first underlayer, a Ru second underlayer, CoCrPt A magnetic layer was sequentially formed, and then a carbon-based protective layer was formed by plasma CVD. Further, a perfluoropolyether lubricant was applied on the protective layer by a dip method to form a lubricating layer. This magnetic disk is a magnetic disk for perpendicular magnetic recording. When the surface roughness of the main surface of the obtained magnetic disk was measured with an atomic force microscope (AFM), it was confirmed that the mirror surface had Rmax = 4.6 nm and Ra = 0.3 nm.
（グライド検査工程）
ヘッドスライダーとして、図１（ａ）に示すサイズと質量を有する本発明のスライダーと従来のスライダーをそれぞれ２個ずつ用いて、これらスライダーを装着したグライドヘッドと上記した検査用の磁気ディスクを用いて、グライド検査を行った。検査機には、日立電子エンジニアリング株式会社製の磁気ディスクテストシステムＲＱ７８００（商品名）を用いた。また、グライドヘッドの浮上量は、１０ｎｍに設定した。
(Glide inspection process)
As the head slider, two sliders of the present invention having the size and mass shown in FIG. 1A and two conventional sliders are used, and a glide head equipped with these sliders and the above-described magnetic disk for inspection are used. A glide test was conducted. A magnetic disk test system RQ7800 (trade name) manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. was used as the inspection machine. The flying height of the glide head was set to 10 nm.
上記磁気ディスクを検査した結果、図２の結果を得た。図２は、本発明と従来（比較例）のヘッドスライダーでの欠陥検出感度比較の結果を示す図である。
図２の結果から、本発明によれば、欠陥検出感度（Ｓ／Ｎ比）が向上し、しかも測定に用いた２個の同じスライダーでのばらつきも非常に少ないことが分かる。すなわち、グライドヘッドの浮上はとくに下げることなく、現状のグライド検査では検出できないような微小サイズの欠陥を検出でき、しかも精度良く検出することが可能である。これに対し、従来例では、本発明より欠陥検出感度（Ｓ／Ｎ比）が低く、また測定に用いた２個の同じスライダーでのばらつきも大きく、精度の良い検査が必ずしも行えない。
As a result of inspecting the magnetic disk, the result of FIG. 2 was obtained. FIG. 2 is a diagram showing a result of comparison of defect detection sensitivity between the head slider of the present invention and the conventional (comparative example).
From the results of FIG. 2, it can be seen that according to the present invention, the defect detection sensitivity (S / N ratio) is improved and the variation between the two same sliders used for the measurement is very small. That is, the flying height of the glide head is not particularly lowered, and it is possible to detect a defect of a minute size that cannot be detected by the current glide inspection, and to detect it with high accuracy. On the other hand, in the conventional example, the defect detection sensitivity (S / N ratio) is lower than that of the present invention, and the variation between the two same sliders used for the measurement is large, so that a highly accurate inspection cannot always be performed.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009080432A JP5539662B2 (en) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Manufacturing method of magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009080432A JP5539662B2 (en) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Manufacturing method of magnetic disk |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010231859A JP2010231859A (en) | 2010-10-14 |
| JP5539662B2 true JP5539662B2 (en) | 2014-07-02 |
Family
ID=43047521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009080432A Expired - Fee Related JP5539662B2 (en) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | Manufacturing method of magnetic disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5539662B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07296537A (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Sony Corp | Contact detecting head device |
| JP2007272995A (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Hoya Corp | Method for determining whether or not magnetic disk device and non-magnetic substrate are good, magnetic disk, and magnetic disk device |
-
2009
- 2009-03-27 JP JP2009080432A patent/JP5539662B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010231859A (en) | 2010-10-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5574414B2 (en) | Magnetic disk evaluation method and magnetic disk manufacturing method | |
| JP5401066B2 (en) | Magnetic disk and manufacturing method thereof | |
| US8241769B2 (en) | Glass substrate for a magnetic disk, magnetic disk and method of manufacturing a magnetic disk | |
| JP5103005B2 (en) | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof | |
| JP2009245490A (en) | Method for manufacturing perpendicular magnetic recording medium, and perpendicular magnetic recording medium | |
| JP2002163818A (en) | Substrate for information recording medium, information recording medium and method for controlling substrate surface in information recording medium | |
| JP4545714B2 (en) | Magnetic recording medium and magnetic recording / reproducing apparatus | |
| JP6664530B2 (en) | Magnetic disk substrate, magnetic disk, and magnetic disk drive | |
| JP3965277B2 (en) | Magnetic recording medium and magnetic storage device | |
| JP4631971B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and magnetic disk manufacturing method | |
| JP5539662B2 (en) | Manufacturing method of magnetic disk | |
| CN100550137C (en) | The substrate of magnetic recording media, magnetic recording media and magnetic recording and transcriber | |
| JP2005289728A (en) | Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing magnetic disk | |
| JP5095470B2 (en) | Manufacturing method of magnetic disk | |
| JP6267115B2 (en) | Information recording medium glass substrate, information recording medium glass substrate manufacturing method, magnetic recording medium, and magnetic recording medium manufacturing method | |
| JP6196976B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate for information recording medium, manufacturing method of information recording medium, and glass substrate for information recording medium | |
| JP6021911B2 (en) | GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM | |
| JP6131124B2 (en) | Glass substrate for information recording medium and information recording medium | |
| JP2014010869A (en) | Method for manufacturing glass substrate for hdd | |
| JP2010080013A (en) | Method for evaluating durability of magnetic disk | |
| JP2009163814A (en) | Method for evaluating durability of magnetic disk and magnetic disk | |
| JP2010238290A (en) | Method for evaluating magnetic recording medium | |
| JP2009087473A (en) | Magnetic disk and its manufacturing method | |
| JP2009283036A (en) | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100706 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20101018 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120324 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130628 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131002 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5539662 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140501 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |