JP5517475B2 - 熱処理装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明に係る熱処理装置の全体構成について概説する。図1は、本発明に係る熱処理装置1の構成を示す縦断面図である。熱処理装置1は基板として円板形状の半導体ウェハーWにフラッシュ光を照射してその半導体ウェハーWを加熱するフラッシュランプアニール(FLA)装置である。熱処理装置1は、半導体ウェハーWを収容する略円筒形状のチャンバー6と、複数のフラッシュランプFLを内蔵するランプハウス5と、を備える。また、熱処理装置1は、チャンバー6およびランプハウス5に設けられた各動作機構を制御して半導体ウェハーWのフラッシュ加熱処理を実行させる制御部3を備える。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態の熱処理装置の全体構成および半導体ウェハーWの処理手順は第1実施形態と同じである。第2実施形態が第1実施形態と相違するのはホットプレート71の表面における変色防止膜78の形成領域である。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。第3実施形態の熱処理装置の全体構成および半導体ウェハーWの処理手順は第1実施形態と同じである。第3実施形態が第1実施形態と相違するのはホットプレート71の表面における変色防止膜78の形成領域である。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記各実施形態においては、変色防止膜78をアルミナの膜としていたが、これに代えて変色防止膜78を耐熱性に優れた他のセラミックスにて形成するようにしても良い。例えば、変色防止膜78をジルコニア(ZrO2)の膜としても良い。ジルコニア膜のコーティング方法としては、アルミナ膜と同様の手法を用いることができる。ジルコニアの変色防止膜78も白色であってフラッシュ光を遮光することができる。また、ジルコニアの変色防止膜78もホットプレート71の表面に密着して形成される。すなわち、ジルコニアの変色防止膜78も、フラッシュランプFLからのフラッシュ光を遮光する遮光膜としての機能および周辺雰囲気とホットプレート71の表面との接触を防止する雰囲気遮断膜としての機能を兼ね備える。その結果、ホットプレート71の表面にジルコニアの変色防止膜78を形成した場合にも、アルミナの変色防止膜78と同様の効果を得ることができる。
3 制御部
4 保持部昇降機構
5 ランプハウス
6 チャンバー
7 保持部
60 上部開口
61 チャンバー窓
65 熱処理空間
71 ホットプレート
72 サセプタ
76 抵抗加熱線
78 変色防止膜
79 凹部
110 プローブ
FL フラッシュランプ
W 半導体ウェハー
Claims (8)
- 基板に対してフラッシュ光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
基板を水平姿勢に保持する金属製の保持プレートと、
前記保持プレートの上方に設けられ、前記保持プレートに保持された基板にフラッシュ光を照射するフラッシュ光源と、
を備え、
フラッシュ光が照射されたときに前記保持プレートの表面に生じる変色を防止する変色防止膜が前記保持プレートの表面に形成され、
前記変色防止膜は、前記金属製の保持プレートの表面に形成された酸化膜の不動態皮膜に紫外線または電子ビームを照射して改質して形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1記載の熱処理装置において、
前記不動態皮膜はクロムの酸化膜であることを特徴とする熱処理装置。 - 基板に対してフラッシュ光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
基板を水平姿勢に保持する金属製の保持プレートと、
前記保持プレートの上方に設けられ、前記保持プレートに保持された基板にフラッシュ光を照射するフラッシュ光源と、
を備え、
フラッシュ光が照射されたときに前記保持プレートの表面に生じる変色を防止する変色防止膜が前記保持プレートの表面に形成され、
前記変色防止膜は、前記保持プレートの金属と同種の金属のポーラス体にて形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項3記載の熱処理装置において、
前記保持プレートはインコネル(登録商標)にて形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の熱処理装置において、
前記変色防止膜は、前記保持プレートの上面全面に形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の熱処理装置において、
前記保持プレートの平面サイズは基板の平面サイズよりも大きく、
前記変色防止膜は、前記保持プレートの上面のうち前記保持プレートに保持された基板によって覆われる領域よりも外側の環状領域に形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の熱処理装置において、
前記変色防止膜は、前記保持プレートの上面全面および側面に形成されることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1から請求項7のいずれかに記載の熱処理装置において、
前記保持プレートは、前記フラッシュ光源からフラッシュ光を照射する前に基板を予備加熱するヒータを備えることを特徴とする熱処理装置。
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