JP5515686B2 - 露光装置および画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置および画像形成装置に関する。

露光装置においては、感光材料の相反則性、相反則不軌および多重露光などが原因で、露光によって形成された潜像を現像して得た画像に副走査方向の濃度ムラが発生することがある。例えば、特許文献１には、時間をあけて複数回に分けた光を照射される感光体の領域において、重複する一方の光の光量を他方の光の光量と異ならせることにより、濃度ムラの発生を抑制する技術が開示されている。また、特許文献２には、複数のシリンドリカルレンズから副走査方向の結像位置のばらつきを抑制するようなレンズを選択することで、濃度ムラの発生を抑制する技術が開示されている。

特開平０４−１４９５２２号公報 特開平０１−１０８５１９号公報

本発明は、露光による静電潜像を現像して得た画像における副走査方向の濃度ムラを抑制し得る仕組みを提供することを目的とする。

請求項１に係る発明は、光を発する複数の発光部を有する光源と、各々の前記発光部が発する光の光量およびタイミングを、画像に応じた画像信号に従って制御する光源制御手段であって、主走査方向に延びる回転軸を中心に回転する像保持体の回転速度が予め決められた回転速度より速い場合には、１の用紙に対するＮ＋１回目の露光走査においてＮ回目の露光走査よりも前記発光部が発する光の光量を当該回転速度に応じて大きくし、前記像保持体の回転速度が予め決められた回転速度より遅い場合には、１の用紙に対するＮ＋１回目の露光走査においてＮ回目の露光走査よりも前記発光部が発する光の光量を当該回転速度に応じて小さくする光源制御手段と、前記像保持体へと、各々の前記発光部が発する光を導いて照射する導光手段であって、当該像保持体において光が照射される位置を前記主走査方向に移動させる主走査方向の露光走査を、前記主走査方向に交差する副走査方向において繰り返し行う導光手段とを備え、前記導光手段は、前記露光走査により各々の前記発光部が発する光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔よりも、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔を広くするように、各々の前記発光部から発せられた光が照射される前記像保持上の位置を調整する調整手段を有し、前記調整手段は、各々の前記発光部が発する光を前記像保持体の副走査方向に収束させる位置において、それぞれ異なる前記像保持体の副走査方向の位置に当該光を収束させる複数の光学素子のいずれかを交換可能に保持することで、当該光を前記像保持体の副走査方向に収束させる保持手段と、各々の前記発光部が発して前記光学素子を通過した光を前記像保持体へと反射する反射面を有し、当該反射面の姿勢を変えることで、当該反射面にて反射された光を前記像保持体の副走査方向に収束させる反射手段とを備え、前記反射手段の前記反射面の姿勢を変えることで調整される前記主走査ラインの間隔が、前記保持手段によって保持される光学素子の交換により調整される前記主走査ラインの間隔よりも小さいことを特徴とする露光装置である。

請求項２に係る発明は、請求項１に記載の構成において、前記光源制御手段は、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔が予め決められた値よりも小さいと判断した場合には、当該主走査ラインどうしの間隔に応じて前記光源の発光部が発する光の光量を小さくし、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔が予め決められた値よりも大きいと判断した場合には、当該主走査ラインどうしの間隔に応じて前記発光部が発する光の光量を大きくすることを特徴とする露光装置である。

請求項３に係る発明は、請求項１又は２に記載の露光装置と、当該露光装置による光の照射によって像保持体に形成された静電潜像を現像し、媒体に転写する転写手段とを備えることを特徴とする画像形成装置である。

請求項１記載の発明によれば、発光部が発する光の光量を像保持体の回転速度に応じて調整することで、露光による静電潜像を現像して得た画像における副走査方向の濃度ムラを本構成を有しない場合に比べて抑制することができる。また、請求項１記載の発明によれば、それぞれ異なる屈折率を有する複数の光学素子のいずれかを保持し、反射面の姿勢を変えることで、光が照射される像保持上の位置を副走査方向に移動させることができる。
請求項２記載の発明によれば、露光走査により光が照射される像保持体上の領域が重複している場合においても、露光による静電潜像を現像して得た画像における副走査方向の濃度ムラを本構成を有しない場合に比べて抑制することができる。
請求項３記載の発明によれば、露光による静電潜像を現像して得た画像における副走査方向の濃度ムラを抑制した画像を記録媒体に形成することができる。

本発明の実施形態に係る画像形成装置の構成を示すブロック図である。 同実施形態に係る露光装置に関係するハードウェアの構成を示したブロック図である。 同実施形態に係る光走査部の光学系の構成を示した図である。 ３２本の主走査ラインを形成する従来の光源を例示した図である。 同実施形態に係る走査ピッチを示した図である。 同実施形態に係る第１走査ピッチと第２走査ピッチを示す図である。 同実施形態に係るシリンドリカルレンズおよび平面ミラーの最適化による調整範囲を示す図である。 同実施形態に係る点灯制御部による光量の最適化を説明する図である。

（１）実施形態
（全体構成）
図１は、画像形成装置１の構成を示すブロック図である。
画像形成装置１は、イエロー（Ｙ），マゼンタ（Ｍ），シアン（Ｃ），ブラック（Ｋ）の色材の一例であるトナーを使用してカラー画像を用紙上に形成する電子写真方式の画像形成装置である。画像形成装置１は、画像読取部２００、給紙部３００及び画像形成部４００を備えている。なお、図面及び以下の説明においては、イエローの画像に係わるものについては符号の末尾にＹを付し、マゼンタの画像に係わるものについては符号の末尾にＭを付し、シアンの画像に係わるものについては符号の末尾にＣを付し、ブラックの画像に係わるものについては符号の末尾にＫを付し、各色について区別して説明する必要がない場合には末尾のアルファベットの記載を省略して説明を行う。

画像読取部２００は、文書などの読取対象物の画像を読み取るものであり、自動原稿搬送装置２０１、プラテンガラス２０２および読取装置２０３を備えている。自動原稿搬送装置２０１は、文書をプラテンガラス２０２上に搬送する装置であり、載せられた文書を一枚づつプラテンガラス２０２上に搬送する。読取装置２０３は、プラテンガラス２０２上にある文書の画像を読み取る装置であり、プラテンガラス２０２上の文書に光を照射し、文書で反射した光を光電変換素子で電気信号に変換する。そして、この電気信号からＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの色毎に文書の画像を表す画像情報を生成し、生成した画像情報を画像形成部４００へ出力する。給紙部３００は、用紙を収容する複数の用紙収容部３０１と、用紙を搬送する複数の搬送ロール３０２とを備えており、用紙収容部３０１に収容されている用紙を画像形成部４００に搬送する。

画像形成部４００は、図１中の矢印ａ方向に回転軸を中心に回転する像保持体としての感光体４０１と、感光体４０１を帯電させる帯電装置４０２と、供給される画像情報に従ってレーザ光を感光体４０１に照射することにより画像情報に対応した静電潜像を形成する露光装置４０３とを備えている。また、画像形成部４００は、感光体４０１に形成された静電潜像をトナーによって現像する現像装置４０４と、現像装置４０４で使用されるトナーを収容したトナーカートリッジ１００とを備えている。

画像形成部４００は、中間転写ベルト４０６、一次転写ロール４０７、二次転写ロール４０８及び定着装置４１１を備えている。中間転写ベルト４０６は、張力が掛かった状態でバックアップロール４０９や駆動ロール４１０に掛け渡され、感光体４０１と接触しながら図中の矢印ｂ方向に循環移動する。一次転写ロール４０７は、中間転写ベルト４０６を挟んで感光体４０１と対向し、感光体４０１の周面に形成されたトナー像を中間転写ベルト４０６に転写する。二次転写ロール４０８は、転写手段の一例であり、中間転写ベルト４０６を挟んでバックアップロール４０９に対向し、中間転写ベルト４０６上のトナー像を用紙に二次転写する。定着装置４１１は、用紙に転写されたトナー像を加熱および加圧することでトナー像を用紙に定着させる。

（露光装置４０３の構成）
図２は、露光装置４０３に関係するハードウェアの構成を示したブロック図である。
図２に示したように、露光装置４０３は、光走査部５００と点灯制御部６００を備えており、画像形成装置１の各部を制御するＣＰＵ（Central Processing Unit）７０２にバス７０１を介して接続されている。点灯制御部６００は、感光体４０１に照射されるレーザ光を出力する光源５０１を制御するものであり、光源５０１から感光体４０１に照射されるレーザ光の光量やレーザ光の照射タイミングを、バス７０１を介して露光装置４０３に供給される画像情報に従って制御する。つまり、点灯制御部６００は、各々の発光部が発する光の光量および照射タイミングを、画像に応じた画像信号に従って制御する光源制御手段の一例として機能する。ＲＯＭ（Read Only Memory）７０３は、ＣＰＵ７０２により実行される制御プログラムを記憶している。ＣＰＵ７０２は、ＲＯＭ７０３に記憶されている制御プログラムを読み出し、ＲＡＭ（Random Access Memory）７０４を作業エリアにして制御プログラムを実行することで、画像形成装置１の各部を制御する。

図３は、光走査部５００の光学系の構成を示した図である。
光源５０１は、光を発する複数の発光部として例えばレーザダイオードを備えており、このレーザダイオードからレーザ光を照射する。光源５０１から照射されたレーザ光の光路には、コリメータレンズ５０２、スリット５０４、シリンドリカルレンズ５１０、偏向器５１６が順に設けられている。まず、光源５０１から照射されたレーザ光は、コリメータレンズ５０２によって拡散光線から平行光線に変換され、スリット５０４によって整形される。そして、スリット５０４を通過したレーザ光は、シリンドリカルレンズ５１０によって集光されて、偏向器５１６へと進行する。また、シリンドリカルレンズ５１０は、シリンドリカルレンズ５１０の上流側の焦点位置がコリメータレンズ５０２の下流側の焦点位置と一致するように配置され、かつこのシリンドリカルレンズ５１０の下流側の焦点位置が偏向器５１６の反射面上となるような予め決められた位置に配置される。したがって、レーザ光は、偏向器５１６の反射面上で結像されるとともに、副走査方向において互いに平行に、かつ、偏向器５１６の反射面に対して副走査方向に角度を持たずに入射する。

偏向器５１６は、自転することで偏向器５１６に対するレーザ光の入射角を連続的に変化させ、側面に設けられた反射面によってレーザ光の進行方向を偏向させる。偏向器５１６により偏向されたレーザ光は、ｆθレンズ５１４、第１シリンドリカルミラー５２０ａ、平面ミラー５２２及び第２シリンドリカルミラー５２０ｂを介して、感光体４０１の周面上をその感光体の回転軸方向（以下、主走査方向と称する）に移動する。感光体４０１の周面上でレーザ光の照射領域を主走査方向に１回移動させて露光を行うことを、以下では、１回の露光走査といい、また、この１回の露光走査において１本のレーザ光により露光される領域を主走査ラインという。したがって、光源５０１は、複数の発光部を備えているから、１回の露光走査において複数の主走査ラインを形成することになる。ｆθレンズ５１４は、感光体４０１に照射されるレーザ光の湾曲を主走査方向に補正する。第１シリンドリカルミラー５２０ａおよび第２シリンドリカルミラー５２０ｂは、感光体４０１に照射されるレーザ光の湾曲を主走査方向に交差する方向（以下、副走査方向と称する）に補正する。また、第１シリンドリカルミラー５２０ａおよび第２シリンドリカルミラー５２０ｂの間で、且つレーザ光の経路上には、レーザ光の反射角度を調整することを可能とする平面ミラー５２２が配置されている。つまり、光走査部５００は、主走査方向に延びる回転軸を中心に回転する像保持体へと、各々の発光部が発する光を導いて照射させ、像保持体において光が照射される位置を主走査方向に移動させる主走査方向の露光走査を、主走査方向に交差する副走査方向において繰り返し行う導光手段の一例として機能する。

（副走査方向の濃度ムラの発生を抑制する仕組み）
続いて、副走査方向の濃度ムラの発生を抑制する仕組みについて説明する。
光走査部５００は、光源５０１から複数本のレーザ光を照射することで、感光体４０１に対する１回の露光走査で、複数の主走査ラインを露光する。このように複数本のレーザ光により露光走査する走査方式として、飛び越し走査方式と隣接走査方式とがある。隣接走査方式にて露光走査を行う場合、平行四辺形の仮想的な格子上の格子点に配置された発光部を有する面発光レーザダイオードアレイ等の面発光型光源が用いられる。例えばこのような面発光型光源が３２個の発光部を有する場合には、図４に示すように、３２本分の主走査ラインに対する露光が、１回の露光走査の過程で実施される。一方、感光体４０１を形成する感光材料は、予め決められた時間をあけて複数回露光されると相反則不軌によって最終的に現像で得られる画像に濃度ムラが生じることが知られている。例えば、３２個の発光部が、副走査方向に１０μｍの間隔で設けられており、それぞれ直径５０μｍのビームを照射するものとする。つまり、１回の露光走査における３２個の発光部は、一部を重なりあうようにしてそれぞれの主走査ラインを形成するから、ある特定の感光材料の領域を複数のレーザ光によって露光することになる。しかし、ある特定の感光材料の領域は、予め決められた時間をあけて複数回露光されていないから相反則不軌による濃度ムラを生じることがない。一方、例えばＮ回目とＮ＋１回目など複数回の露光走査において発光部が、ある特定の感光材料の領域を複数回露光することがある。この場合、ある特定の感光材料の領域は、予め決められた時間をあけて複数回露光されることになるから、相反則不軌による濃度ムラを形成することになる。以降、予め決められた時間をあけて複数回露光された領域のことを、時差露光領域と称する。この時差露光領域は、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査、さらにＮ＋１回目とＮ＋２回目の露光走査といったように周期的に形成されることにより、濃度ムラを副走査方向に対して周期的に形成することになる。そこで、本実施形態における光走査部５００においては、１回の露光走査における主走査ラインの間隔（以下、第１走査ピッチと称する）を狭めることにより、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査における主走査ラインの間隔（以下、第２走査ピッチと称する）を広くすることで、相反則不軌よる濃度ムラの発生の原因となる時差露光領域を狭める調整が施される。以下、第１走査ピッチと第２走査ピッチを特に区別して説明しない場合には、走査ピッチと総称する。なお、本実施形態においては、各主走査ラインの位置は、予め光走査部５００に備えられた計測器に入射した光の重心位置を測定することで得られた値で定義されているものとする。また、各走査ピッチは、計測器に入射した光の重心位置の差分から算出されるものとする。

光走査部５００の組み立て作業者（以下、作業者と称する。）は、屈折率の異なる複数種類のシリンドリカルレンズ５１０の中からシリンドリカルレンズ５１０を選択し、更に平面ミラー５２２の設置角度を調整することによって、走査ピッチを調整する。このような調整が施されていない光走査部５００においては、図５（ａ）に示すようにＮ回目とＮ＋１回目のそれぞれの露光走査における第１走査ピッチ（Ｌ）と、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチ（Ｍ）とが副走査方向に対して概ね等しくなる。一方、上記のような調整が施されている光走査部５００においては、図５（ｂ）に示すようにＮ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチ（Ｏ）が、Ｎ回目とＮ＋１回目のそれぞれの露光走査における第１走査ピッチ（Ｎ）よりも１０％〜３０％（または１．０μｍ〜３．０μｍ）程度広くなるように調整されることになる。したがって、シリンドリカルレンズ５１０および平面ミラー５２２は、露光走査により各々の発光部が発する光が照射される像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔よりも、副走査方向において隣り合う露光走査により光が照射される像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔を広くするように、各々の前記発光部から発せられた光が照射される像保持上の位置を調整する調整手段の一例として機能する。
以下に、その調整の詳細について詳述する。

（副走査方向の濃度ムラの抑制方法：シリンドリカルレンズ５１０の最適化）
図６は、第１走査ピッチと第２走査ピッチを示す図である。
作業者は、屈折率などの違いにより３．０μｍ程度の分解能を有する複数種類のシリンドリカルレンズ５１０を予め準備している。作業者は、これらのシリンドリカルレンズ５１０からいずれかを選択して光走査部５００に組み込むことで、１回の露光走査における第１走査ピッチと、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査における第２走査ピッチとを調整する。ここで、点灯制御部６００のレーザ光の出力タイミングおよび感光体４０１の回転速度が同じという条件下において、屈折力がより大きいシリンドリカルレンズ５１０を選択すると、第１走査ピッチはＰからＰ１へと小さくなると同時に、第２走査ピッチはＰからＰ２へと大きくなる。一方、屈折率がより小さいシリンドリカルレンズ５１０を選択すると、第１走査ピッチはＰからＰ３へと大きくなると同時に、第２走査ピッチはＰからＰ４へと小さくなる。

図７（ａ）は、シリンドリカルレンズ５１０の最適化による、第２走査ピッチの調整範囲を示す図である。
作業者は、複数のシリンドリカルレンズ５１０として、第２走査ピッチを例えば＋９．０μｍ、＋６．０μｍ、＋３．０μｍ、±０μｍ、−３．０μｍ、−６．０μｍ、−９．０μｍの値に収束させるような、７種類のものを用意しておく。つまり、これら７種類のシリンドリカルレンズ５１０により、図７（ａ）に示すように、第２走査ピッチを＋９．０μｍから−９．０μｍの範囲で、７段階に収束させることが可能となる。作業者は、光走査部５００に組み込むシリンドリカルレンズ５１０を適宜交換しながら第２走査ピッチを計測し、副走査方向の濃度ムラを抑制できる第２走査ピッチとして予め決められた値に計測値が最も近くなるようなシリンドリカルレンズ５１０を選択し、さらに先述した光走査部５００の予め決められた位置に配置する。したがって、シリンドリカルレンズ５１０は、それぞれ異なる前記像保持体の副走査方向の位置に当該光を収束させる複数の光学素子の一例として機能する。また、光走査部５００は、各々の前記発光部が発する光を前記像保持体の副走査方向に収束させる位置において、それぞれ異なる前記像保持体の副走査方向の位置に当該光を収束させる複数の光学素子のいずれかを保持することで、当該光を前記像保持体の副走査方向に収束させる保持手段の一例として機能する。

（副走査方向の濃度ムラの抑制方法：平面ミラー５２２の最適化）
上記のようなシリンドリカルレンズ５１０の最適化によれば、第２走査ピッチを３．０μｍ単位で調整可能となる。さらに、第２走査ピッチを３．０μｍ未満の単位で調整を行う場合には、平面ミラー５２２の最適化を行う。
図７（ｂ）は、平面ミラー５２２の最適化による、第２走査ピッチの調整範囲を示す図である。
作業者は、シリンドリカルレンズ５１０の最適化によって調整しきれなかった走査ピッチを３μｍ未満の範囲でさらに調整したい場合には、図３に示した平面ミラー５２２の設置角度を調整する。この平面ミラー５２２は、予め決められた基準角度に調整された場合と比較して、走査ピッチを＋１．５μｍから−１．５μｍの範囲で調整できるように、図３の矢印Ａ方向に沿ってその姿勢を変更し得るように構成されている。平面ミラー５２２の姿勢が変化すると、感光体４０１に対するレーザ光の露光位置は副走査方向に変化する。つまり、平面ミラー５２２は、各々の発光部が発する光を像保持体へと反射する反射面を有し、反射面の姿勢を変えて、反射面にて反射された光が照射される像保持上の位置を副走査方向に移動させる反射手段の一例として機能する。このとき、平面ミラー５２２で反射したレーザ光の進行方向が変化することで焦点距離誤差が生じて、感光体４０１の感光面への斜入射角度に誤差が生じる。そして、この斜入射角度の誤差により感光体上で主走査ラインが弓なりに湾曲する、所謂Ｂｏｗが発生する。更に、１回の露光走査で複数本のレーザ光を走査する場合には、この湾曲量がレーザ光毎に異なり、主走査方向の走査位置によって主走査ラインの間隔が異なる、所謂Ｂｏｗ差が発生する。これらのＢｏｗおよびＢｏｗ差は、第２シリンドリカルミラー５２０ｂによる補正効果で抑制される。

図７（ｃ）は、シリンドリカルレンズ５１０および平面ミラー５２２の最適化による、第２走査ピッチの調整範囲を示す図である。
作業者は、シリンドリカルレンズ５１０および平面ミラー５２２の最適化といった走査ピッチの調整の細かさが異なる２つの調整方法を組み合わせることで、図７（ｃ）に示すように、概ね±１１．５μｍの範囲で露光位置を連続的に調整することができる。例えば、解像度が２４００ｄｐｉであれば、隣接する主走査ラインのピッチはおよそ１０．６μｍとなるから、シリンドリカルレンズ５１０および平面ミラー５２２の調整を組み合わせることによって調整し得る範囲の方が広くなる。したがって、作業者は、主走査ラインの位置を十分に調整し得ることとなる。

（２）変形例
（２−１）変形例１
副走査方向の濃度ムラの発生を抑制する方法としては、上記実施形態の方法に加えて点灯制御部６００が、感光体４０１に照射されるレーザ光の光量を制御するものも考えられる。
図８は、点灯制御部による光量の最適化を示す図である。
より具体的には、点灯制御部６００は、シリンドリカルレンズおよび平面ミラーの最適化によって調整された第２走査ピッチの大きさに応じて主走査ラインの光量の最適化を実施してもよい。例えば、第２走査ピッチが副走査方向の濃度ムラを抑制するような予め決められた間隔よりも小さい場合において、点灯制御部６００は、その第２走査ピッチの大きさに応じて、１回の露光走査において副走査方向に並んだ主走査ラインうち上端及び下端からそれぞれ内側ｍ本目（ｍ≧０）までの主走査ラインの光量を他の主走査ラインと比べて小さくしてもよい。これはＮ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチが、予め定めた値より小さくなり濃度ムラが悪化するためである。一方、第２走査ピッチが副走査方向の濃度ムラを抑制するような予め決められた間隔より大きい場合においては、点灯制御部６００は、その第２走査ピッチの大きさに応じて、１回の露光走査において副走査方向に並んだ主走査ラインうち上端及び下端からそれぞれ内側ｍ本目（ｍ≧０）までの主走査ラインの光量を他の主走査ラインと比べて大きくしてもよい。これはＮ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチが、予め定めた値より大きくなり濃度ムラが悪化するためである。

（２−２）変形例２
副走査方向の濃度ムラの発生を抑制する方法としては、上記実施形態の方法に加えて点灯制御部６００が、予め測定された走査ピッチの大きさを示す測定結果に基づいて、感光体４０１に照射するレーザ光の光量を変形例1と同じ方法で制御するものも考えられる。より具体的には、作業者は、光走査部５００の走査ピッチを予め決められた測定環境において測定する。そして、作業者は、その測定結果を示す情報を、点灯制御部６００に入力する。この入力とは、点灯制御部６００に備えられたメモリに記憶させる方法でも良いし、バーコードなどに記述した情報を読み込ませる方法でもよい。点灯制御部６００は、入力された測定結果に記述された光走査部５００の走査ピッチの情報（特に、第２走査ピッチの大きさ）に基づいて、１回の露光走査において副走査方向に並んだ主走査ラインうち上端及び下端からそれぞれ内側ｍ本目（ｍ≧０）までの主走査ラインの光量を他の主走査ラインとは変化させて、光量の最適化を実施してもよい。なお、この光量の制御に関しては、変形例１に記載した内容と同一であるので、改めての記載を省略する。

（２−３）変形例３
副走査方向の濃度ムラの発生を抑制する方法としては、上記実施形態の方法に加えて点灯制御部６００が、感光体４０１の回転する速度に応じて、感光体４０１に照射するレーザ光の光量を制御するものも考えられる。より具体的には、点灯制御部６００は、感光体４０１の回転する速度が予め決められた速度よりも早いことを検知した場合には、検知した速度に基づいて１回の露光走査において副走査方向に並んだ主走査ラインうち上端及び下端からそれぞれ内側ｍ本目（ｍ≧０）までの主走査ラインの光量を他の主走査ラインよりも大きくしてもよい。これはＮ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチが、予め定めた値より大きくなり濃度ムラが悪化するためである。また、点灯制御部６００は、感光体４０１の回転する速度が予め決められた速度よりも遅いことを検知した場合には、検知した速度に基づいて１回の露光走査において副走査方向に並んだ主走査ラインうち上端及び下端からそれぞれ内側ｍ本目（ｍ≧０）までの主走査ラインの光量を他の主走査ラインよりも小さくしてもよい。これはＮ回目とＮ＋１回目の露光走査の間における第２走査ピッチが、予め定めた値より小さくなり濃度ムラが悪化するためである。

（２−４）変形例４
作業者は、実際に画像形成装置１に形成させた画像を目視（確認）することで発見した副走査方向の濃度ムラを調整するために、点灯制御部６００の制御を手動で変更してもよい。なお、作業者は、点灯制御部６００の制御を手動で変更する作業を、変形例１〜３に記載した点灯制御部６００の制御に加えて実施してもよい。

１…画像形成装置、１００…トナーカートリッジ、２００…画像読取部、２０１…自動原稿搬送装置、２０２…プラテンガラス、２０３…読取装置、３００…給紙部、３０１…用紙収容部、３０２…搬送ロール、４００…画像形成部、４０１…感光体、４０２…帯電装置、４０３…露光装置、４０４…現像装置、４０６…中間転写ベルト、４０７…一次転写ロール、４０８…二次転写ロール、４０９…バックアップロール、４１０…駆動ロール、４１１…定着装置、７０１…バス、７０２…ＣＰＵ、７０３…ＲＯＭ、７０４…ＲＡＭ、５００…光走査部、５０１…光源、５０２…コリメータレンズ、５０４…スリット、５１０…シリンドリカルレンズ、５１４…ｆθレンズ、５１６…偏向器、５２０ａ…第１シリンドリカルミラー、５２０ｂ…第２シリンドリカルミラー、５２２…平面ミラー、６００…点灯制御部。

Claims (3)

1. 光を発する複数の発光部を有する光源と、
   各々の前記発光部が発する光の光量およびタイミングを、画像に応じた画像信号に従って制御する光源制御手段であって、主走査方向に延びる回転軸を中心に回転する像保持体の回転速度が予め決められた回転速度より速い場合には、１の用紙に対するＮ＋１回目の露光走査においてＮ回目の露光走査よりも前記発光部が発する光の光量を当該回転速度に応じて大きくし、前記像保持体の回転速度が予め決められた回転速度より遅い場合には、１の用紙に対するＮ＋１回目の露光走査においてＮ回目の露光走査よりも前記発光部が発する光の光量を当該回転速度に応じて小さくする光源制御手段と、
   前記像保持体へと、各々の前記発光部が発する光を導いて照射する導光手段であって、当該像保持体において光が照射される位置を前記主走査方向に移動させる主走査方向の露光走査を、前記主走査方向に交差する副走査方向において繰り返し行う導光手段とを備え、
   前記導光手段は、
   前記露光走査により各々の前記発光部が発する光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔よりも、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔を広くするように、各々の前記発光部から発せられた光が照射される前記像保持上の位置を調整する調整手段を有し、
   前記調整手段は、
   各々の前記発光部が発する光を前記像保持体の副走査方向に収束させる位置において、それぞれ異なる前記像保持体の副走査方向の位置に当該光を収束させる複数の光学素子のいずれかを交換可能に保持することで、当該光を前記像保持体の副走査方向に収束させる保持手段と、
   各々の前記発光部が発して前記光学素子を通過した光を前記像保持体へと反射する反射面を有し、当該反射面の姿勢を変えることで、当該反射面にて反射された光を前記像保持体の副走査方向に収束させる反射手段と
   を備え、
   前記反射手段の前記反射面の姿勢を変えることで調整される前記主走査ラインの間隔が、前記保持手段によって保持される光学素子の交換により調整される前記主走査ラインの間隔よりも小さい
   ことを特徴とする露光装置。
2. 前記光源制御手段は、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔が予め決められた値よりも小さいと判断した場合には、当該主走査ラインどうしの間隔に応じて前記光源の発光部が発する光の光量を小さくし、前記副走査方向において隣り合う前記露光走査により光が照射される前記像保持体上の領域である主走査ラインどうしの間隔が予め決められた値よりも大きいと判断した場合には、当該主走査ラインどうしの間隔に応じて前記発光部が発する光の光量を大きくする
   ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 請求項１又は２に記載の露光装置と、
   当該露光装置による光の照射によって像保持体に形成された静電潜像を現像し、媒体に転写する転写手段と
   を備えることを特徴とする画像形成装置。

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