JP5514366B2 - Sealing material molding method - Google Patents

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Description

本発明は、半導体チップの封止材成形技術に関し、より詳しくは、発光ダイオードパッケージ製品の封止材の成形に好適な封止材成形技術に関する。  The present invention relates to a semiconductor chip sealing material molding technique, and more particularly to a sealing material molding technique suitable for molding a sealing material of a light emitting diode package product.

発光ダイオードチップのような半導体チップを内蔵するパッケージ製品の製造には、チップを封止する封止材を樹脂で成形する技術が用いられている。技術水準と最近の製品特性及び市場ニーズに応じて、発光ダイオードパッケージ等の半導体パッケージは、軽薄短小化の傾向を示している。このような傾向と、原資材節約のための努力として、封止材成形のための樹脂消耗量を最小化しようとする封止材成形技術への研究が盛んに進行している。  In the manufacture of a package product incorporating a semiconductor chip such as a light-emitting diode chip, a technique of forming a sealing material for sealing the chip with a resin is used. Depending on the technical level and recent product characteristics and market needs, semiconductor packages such as light emitting diode packages tend to be lighter, thinner and shorter. As an effort to save such a trend and raw materials, research into a sealing material molding technique that attempts to minimize the amount of resin consumption for molding a sealing material is actively progressing.

従来の封止材成形技術としては、トランスファー成形または射出成形と、オーバーモールド成形(または圧縮成形)が多く知られている。  As conventional sealing material molding techniques, there are many known transfer molding or injection molding and overmold molding (or compression molding).

トランスファー成形の場合、原料となる硬化前の樹脂を成形が行われるキャビティ内に充填するために、一次的に金型に設けられたポットに樹脂を供給し、上型と下型が閉じられた状態で、ポットに外力を加えることにより、その樹脂がランナーとゲートを順次経てキャビティに入るようにしている。ゲートを通過した樹脂は、キャビティ内に完全に充填された後、所定の時間が経過すると硬化する。封止材または封止材を含む製品を金型から分離し、この際、ポット、ランナー、ゲート内に残った樹脂は、製品との分離作業後、捨てられる。  In the case of transfer molding, in order to fill the resin before curing as a raw material into the cavity where the molding is performed, the resin is temporarily supplied to the pot provided in the mold, and the upper mold and the lower mold are closed. In this state, an external force is applied to the pot so that the resin enters the cavity through the runner and the gate sequentially. The resin that has passed through the gate is completely filled in the cavity, and then cured when a predetermined time elapses. The sealing material or the product containing the sealing material is separated from the mold. At this time, the resin remaining in the pot, the runner, and the gate is discarded after the separation work with the product.

このように従来のトランスファー成形(または射出成形)は、樹脂が移送される経路が多いため、多くの樹脂の流動量が要求され、封止材が成形されるキャビティに比べて、ポット、ランナー、ゲートの体積が大きく、そのポット、ランナー、及びゲート内の樹脂を捨てることにより、樹脂消耗量が多くなり過ぎるという短所があった。したがって、トランスファー成形は、成形精度がよく、成形寸法の安定性が高いという利点にもかかわらず、過多な樹脂消耗量により、経済性に極めて劣るという問題点があった。  As described above, the conventional transfer molding (or injection molding) has many paths through which the resin is transferred. Therefore, a large amount of resin flow is required, and the pot, runner, The volume of the gate is large, and the pot, runner, and the resin in the gate are discarded, so that there is a disadvantage that the amount of resin consumption becomes excessive. Therefore, transfer molding has a problem that it is extremely inferior in economic efficiency due to excessive resin consumption, despite the advantages of good molding accuracy and high molding dimension stability.

これに対して、オーバーモールド成形は、トランスファー成形の方式とは異なり、ポット、ランナー、ゲート無しに、キャビティに直接樹脂を供給し加圧して封止材を成形するので、樹脂消耗量を大いに減らすことができるという経済的な利点があった。しかしながら、従来のオーバーモールド成形は、キャビティの体積が、加圧中、成形厚さ方向に収縮または変化するので、樹脂供給量の程度により成形厚さの差を生じることがある。また、従来のオーバーモールド成形は、多数の素子に対して一括して封止材を形成するのには利点を有するが、特定の製品に対して対応することは難いという問題点があった。特に、従来のオーバーモールド成形技術は、多数の貫通孔を有するリードフレーム基板上の半導体チップに対して封止材を成形する場合、貫通孔から樹脂が流れ出ることもあるので、例えば、リーク防止用テープで貫通孔を塞ぐ事前保護措置が要求される等の不便さと煩わしさがあった。  On the other hand, in contrast to the transfer molding method, overmold molding reduces the amount of resin consumption by supplying resin directly to the cavity and molding it by applying pressure without a pot, runner, or gate. There was an economic advantage of being able to. However, in the conventional overmolding, the volume of the cavity shrinks or changes in the molding thickness direction during pressurization, so that a difference in molding thickness may occur depending on the degree of resin supply. Further, the conventional overmolding has an advantage in forming a sealing material for a large number of elements at once, but there is a problem that it is difficult to cope with a specific product. In particular, the conventional overmolding technology may cause the resin to flow out of the through holes when molding a sealing material on a semiconductor chip on a lead frame substrate having a large number of through holes. There were inconveniences and annoyances such as requiring pre-protection measures to close the through hole with tape.

発光ダイオードパッケージ製品の大多数を占める表面実装型発光ダイオードパッケージの場合、光効率を高くするために、発光ダイオードチップの周辺を取り囲むレフレクターが要求される。レフレクターは、金属をパターン加工して形成されたリードフレーム基板上にPPAを射出成形して一体化した成形物であり、半導体チップを収容する開口部を含む。このような適用に、オーバーモールド成形を用いる場合、前記開口部を覆うように封止材またはレンズ成形しなければならないので、下型のキャビティの全体にわたって樹脂を塗布する場合、レフレクターの外郭を含むリードフレームの不要な部分まで封止材の成形が行われるようになる。これは、素子間またはパッケージ間の間隔またはピッチが大きいほど、廃棄される樹脂消耗量を増加させ、さらには、成形工程以降の工程において、他の追加の問題を引き起こす素地がある。また、廃棄される樹脂量を減らすために薄く成形する場合、レフレクターと封止材との間の密着性に劣るので、成形以降の工程を経る間、封止材が取り外され、他の問題を生じることもある。  In the case of a surface mount type light emitting diode package that occupies the majority of light emitting diode package products, a reflector surrounding the periphery of the light emitting diode chip is required to increase the light efficiency. The reflector is a molded product in which PPA is injection-molded and integrated on a lead frame substrate formed by patterning a metal, and includes an opening for accommodating a semiconductor chip. When overmolding is used for such an application, a sealing material or a lens must be molded so as to cover the opening. Therefore, when the resin is applied over the entire cavity of the lower mold, the outer shell of the reflector is included. The sealing material is molded up to an unnecessary portion of the lead frame. This increases the amount of consumed resin as the distance or pitch between elements or packages increases, and there is also a base that causes other additional problems in the processes after the molding process. In addition, when thinly molded to reduce the amount of resin that is discarded, the adhesion between the reflector and the sealing material is inferior, so the sealing material is removed during the steps after molding, causing other problems. Sometimes it happens.

一方、従来は、封止材成形後、製品の分離のために、高価の離型フィルムが用いられてきた。代表的な離型フィルムとしては、非粘着性の特性を有するフッ素成分を含む、例えば、PTFE、PFA、FEP、ETFE(旭硝子社製、商品名;Fluon(R)ETFE)等のようなフッ素複合樹脂フィルムがある。従来技術では、高価の離型フィルムの利用のため、経済性が悪くなるという短所があり、それ以外にも、固形の剰余樹脂が離型フィルムの反対側の金型、すなわち、製品が支持される金型またはブロックに固着されて分離されないという問題点を引き起こす。このような剰余樹脂を除去するために煩雑な追加の作業がさらに要求される。また、剰余の樹脂がきれいに除去されていない金型またはブロックを用いて封止材をさらに圧縮成形する場合、封止材の成形の質を下げ、さらには多くの不良をもたらしてしまう。  On the other hand, an expensive release film has been conventionally used for product separation after molding of a sealing material. Typical release films include fluorine components having non-adhesive properties, such as fluorine composites such as PTFE, PFA, FEP, and ETFE (trade name; Fluon (R) ETFE) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. There is a resin film. In the prior art, because of the use of an expensive release film, there is a disadvantage that the economy becomes worse. Besides that, solid residual resin supports the mold on the opposite side of the release film, that is, the product. This causes a problem that it is fixed to the mold or block and cannot be separated. In order to remove such surplus resin, a complicated additional work is further required. Further, when the sealing material is further compression-molded using a mold or block from which excess resin has not been removed cleanly, the molding quality of the sealing material is lowered, and many defects are caused.

本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、封止材が成形された後、剰余の固形樹脂の除去が容易な、改善された封止材成形方法を提供することにある。  The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an improved sealing material molding method in which it is easy to remove excess solid resin after the sealing material is molded. It is in.

上記目的を達成するために、本発明の一側面による封止材成形方法は、樹脂流入口と成形キャビティを有するインサートキャビティブロックを基板上に配置するインサートキャビティブロック配置ステップと、前記インサートキャビティブロックと向かい合う側にフィルムで取り囲まれた樹脂積載空間を形成する樹脂積載空間形成ステップと、前記樹脂積載空間の底部を前記インサートキャビティブロックに近づけ、前記樹脂積載空間内の樹脂を前記樹脂流入口から前記成形キャビティに満たす封止材成形ステップと、前記樹脂の硬化後、前記インサートキャビティブロックの表面に残った剰余固形樹脂を前記フィルムと接着した状態で分離、除去するフィルム分離ステップと、を含む。  To achieve the above object, a sealing material molding method according to an aspect of the present invention includes an insert cavity block placement step of placing an insert cavity block having a resin inlet and a molding cavity on a substrate, and the insert cavity block, A resin loading space forming step for forming a resin loading space surrounded by a film on the opposite side, a bottom portion of the resin loading space is brought close to the insert cavity block, and the resin in the resin loading space is formed from the resin inlet through the molding A sealing material forming step that fills the cavity, and a film separating step that separates and removes the remaining solid resin remaining on the surface of the insert cavity block after the resin is cured, in a state of being adhered to the film.

好ましくは、前記インサートキャビティブロック配置ステップであって、前記インサートキャビティブロックは、前記樹脂積載空間と向かい合う表面に離型剤物質が適用される。  Preferably, in the insert cavity block arranging step, a release agent material is applied to a surface of the insert cavity block facing the resin loading space.

好ましくは、前記インサートキャビティブロック配置ステップは、第1の金型に前記基板を装着することと、前記基板上に前記インサートキャビティブロックを装着することを含む。  Preferably, the step of disposing the insert cavity block includes mounting the substrate on a first mold and mounting the insert cavity block on the substrate.

好ましくは、前記樹脂積載空間形成ステップは、前記第1の金型と向かい合い、窪んだ空間を有する第2の金型に前記フィルムを被せて前記樹脂積載空間を形成するが、前記第2の金型は、キャビティ加圧ブロックと、その周辺に配置されたキャビティホールディングブロックとを有し、前記窪んだ空間は、前記キャビティホールディングブロックと前記キャビティ加圧ブロックとの高低差により形成される。  Preferably, in the resin loading space forming step, the resin loading space is formed by covering the second mold having a depressed space facing the first mold and forming the resin loading space. The mold includes a cavity pressure block and a cavity holding block disposed around the cavity pressure block, and the recessed space is formed by a height difference between the cavity holding block and the cavity pressure block.

好ましくは、前記封止材成形ステップは、前記インサートキャビティブロックに当接するまで、前記キャビティホールディングブロックを上昇または下降移動させ、前記キャビティホールディングブロックが、移動後、停止した状態で、前記キャビティ加圧ブロックをさらに上昇または下降移動させ、前記樹脂積載空間の樹脂を前記成形キャビティ内に注入し、前記フィルム分離ステップは、前記第2の金型と前記インサートキャビティブロックを遠ざかるようにし、前記フィルムとそれに接着している剰余固形樹脂を前記インサートキャビティブロックから分離する。  Preferably, in the sealing material forming step, the cavity holding block is moved up or down until it comes into contact with the insert cavity block, and the cavity pressing block is stopped after the movement. Is further moved up or down, and the resin in the resin loading space is injected into the molding cavity, and the film separating step causes the second mold and the insert cavity block to move away from each other, and the film is adhered to the film. The remaining solid resin is separated from the insert cavity block.

前記第1の金型は、上部金型または下部金型であってもよく、第1の金型が上部金型である場合、第2の金型は下部金型であり、反対として、第1の金型が下部金型である場合、第2の金型は上部金型である。  The first mold may be an upper mold or a lower mold. When the first mold is an upper mold, the second mold is a lower mold, and vice versa. When the first mold is the lower mold, the second mold is the upper mold.

本発明によると、基板上に発光ダイオードチップのような半導体を封止する封止材を圧縮成形するにあたって、高価の離型フィルムを使用しなくてもよいので、経済性に優れる。  According to the present invention, when a sealing material for sealing a semiconductor such as a light-emitting diode chip is compression-molded on a substrate, an expensive release film does not have to be used, which is excellent in economic efficiency.

また、固形の剰余樹脂をインサートキャビティブロックと封止材から容易に除去することができ、製品生産費用を画期的に低くすることができる。  Further, the solid surplus resin can be easily removed from the insert cavity block and the sealing material, and the product production cost can be dramatically reduced.

また、固形の剰余樹脂、さらには、離型フィルムが製品の封止材から分離されないことから生じた従来の品質低下問題を解決することができる。  Further, it is possible to solve the conventional quality deterioration problem caused by the fact that the solid surplus resin and the release film are not separated from the product sealing material.

本発明の一実施例による封止材成形装置を第1位置において示した断面図である。It is sectional drawing which showed the sealing material shaping | molding apparatus by one Example of this invention in the 1st position. 本発明の一実施例による封止材成形装置を第2位置において示した断面図である。It is sectional drawing which showed the sealing material shaping | molding apparatus by one Example of this invention in the 2nd position. 本発明の一実施例による封止材成形装置を第3位置において示した断面図である。It is sectional drawing which showed the sealing material shaping | molding apparatus by one Example of this invention in the 3rd position. 図3に示した本発明の一実施例による封止材成形装置の一部を拡大して示した断面図である。It is sectional drawing which expanded and showed a part of sealing material shaping | molding apparatus by one Example of this invention shown in FIG. 本発明の一実施例により、封止材成形後、剰余固形樹脂をフィルムと一緒に分離して除去する過程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of isolate | separating and removing surplus solid resin with a film after sealing material shaping | molding by one Example of this invention. 図5に示した過程により、剰余固形樹脂と一緒に分離して除去されたフィルムを示した実物写真である。FIG. 6 is an actual photograph showing a film separated and removed together with the residual solid resin by the process shown in FIG. 5. 本発明の他の実施例による封止材成形方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the sealing material shaping | molding method by the other Example of this invention. 本発明の他の実施例による封止材成形方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the sealing material shaping | molding method by the other Example of this invention.

以下、添付した図面に基づき、本発明の好適な実施例について詳述する。また、本発明の実施例は、当該技術の分野における通常の知識を有する者に、本発明をさらに完全に説明するために提供されるものであり、下記の実施例は、様々な他の形態に変形され、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるものではない。  Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, the embodiments of the present invention are provided in order to more fully explain the present invention to those having ordinary skill in the art, and the following embodiments are described in various other forms. The scope of the present invention is not limited to the following examples.

図1、図2、図3は、本発明の一実施例による封止材成形装置を成形初期の第1位置、成形中期の第2の位置、また成形完了期の第3の位置において示した断面図であり、図4は、図3の主要部分を拡大して示した断面図である。図5は、封止材成形完了後、剰余樹脂を分離する状態を示す断面図である。  1, 2, and 3 show a sealing material molding apparatus according to an embodiment of the present invention in a first position at the initial stage of molding, a second position at the middle stage of molding, and a third position at the stage of completion of molding. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the main part of FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where the surplus resin is separated after the molding of the sealing material is completed.

図1乃至図5に示すように、本実施例による封止材成形装置は、オーバーモールドまたは圧縮成形方式の成形装置であり、上部金型20、下部金型30、これらの間のインサートキャビティブロック40を有する。図示してはいないが、下部金型の上昇または下降による樹脂の加圧成形のために、例えば、プレス加圧装置のような昇降駆動器具が用いられる。  As shown in FIGS. 1 to 5, the sealing material molding apparatus according to the present embodiment is an overmolding or compression molding molding apparatus, and includes an upper mold 20, a lower mold 30, and an insert cavity block therebetween. 40. Although not shown in the drawings, for example, a lift driving device such as a press pressurizing device is used for pressure molding of the resin by raising or lowering the lower mold.

前記上部金型20と前記下部金型30は、ブレス加圧装置のような昇降駆動器具の上部と下部に互いに対向して配置される。前記上部金型20及び/または前記下部金型30には、樹脂を設定温度に加熱するための加熱装置(図示せず)が設けられてもよい。本実施例において、リードフレーム11を有する基板10上に封止材の成形が行われ、前記基板10は、リードフレーム11に実装された発光ダイオードチップ12と、前記発光ダイオードチップ12を収容する開口部が形成されたレフレクター13とを有する。また、前記基板10は、封止材形成後に切断され、複数のSMD型発光ダイオードパッケージに分離されるものであり、リードフレーム11のパターンにより、基板10には貫通孔が形成されている。本明細書において、用語の「基板」とは、上部金型20または下部金型30に封止材成形のために装着される全ての種類の客体を含むものを意味する。また、図示によると、封止材が形成される客体である基板が、発光ダイオードチップがリードフレームに実装されてなるものであるが、本発明がこれに限定されてはならないことに留意する。  The upper mold 20 and the lower mold 30 are disposed opposite to each other on the upper and lower parts of an elevating drive device such as a breath pressurizing device. The upper mold 20 and / or the lower mold 30 may be provided with a heating device (not shown) for heating the resin to a set temperature. In this embodiment, a sealing material is formed on a substrate 10 having a lead frame 11, and the substrate 10 has a light emitting diode chip 12 mounted on the lead frame 11 and an opening for accommodating the light emitting diode chip 12. And a reflector 13 formed with a portion. The substrate 10 is cut after the sealing material is formed and separated into a plurality of SMD type light emitting diode packages, and through holes are formed in the substrate 10 due to the pattern of the lead frame 11. In this specification, the term “substrate” means one including all types of objects mounted on the upper mold 20 or the lower mold 30 for molding a sealing material. Further, according to the drawing, the substrate, which is the object on which the sealing material is formed, is formed by mounting the light emitting diode chip on the lead frame, but it should be noted that the present invention should not be limited to this.

前記基板10は、別途に設けられた基板供給装置(図示せず)により、上部金型20に供給され、その上部金型20に装着される。基板10を上部金型20に装着する方式は、真空吸着方式またはクランプ方式が用いられてもよく、その他の方式により、基板10を上部金型20に装着することも考慮される。基板供給装置による前記基板10の供給は、プレス可動部によって、上部金型20と下部金型30が一定の間隔で離隔した状態で行われる。上部金型20に装着された基板10は、封止材が成形される広い面が下部金型30に向かうようになる。  The substrate 10 is supplied to the upper mold 20 by a substrate supply device (not shown) provided separately, and is mounted on the upper mold 20. As a method of mounting the substrate 10 on the upper mold 20, a vacuum suction method or a clamp method may be used, and mounting of the substrate 10 on the upper mold 20 by other methods is also considered. The supply of the substrate 10 by the substrate supply apparatus is performed in a state where the upper mold 20 and the lower mold 30 are separated by a predetermined interval by the press movable part. The substrate 10 mounted on the upper mold 20 is such that a wide surface on which the sealing material is formed faces the lower mold 30.

また、前記上部金型20に装着された基板10上に、前記インサートキャビティブロック40が装着される。図4に示すように、前記インサートキャビティブロック40は、一面に複数の成形キャビティ41を有し、反対面には、前記成形キャビティ41のそれぞれに連結される複数の樹脂流入口(またはゲート42)が設けられる。また、前記インサートキャビティブロック40は、前記複数の成形キャビティ41が基板10に向かうように、また、前記複数の樹脂流入口42が前記下部金型30の樹脂積載空間38に向かうように前記基板10に装着される。  Further, the insert cavity block 40 is mounted on the substrate 10 mounted on the upper mold 20. As shown in FIG. 4, the insert cavity block 40 has a plurality of molding cavities 41 on one surface, and a plurality of resin inlets (or gates 42) connected to the molding cavities 41 on the opposite surface. Is provided. The insert cavity block 40 has the substrate 10 such that the plurality of molding cavities 41 are directed toward the substrate 10, and the plurality of resin inlets 42 are directed toward the resin loading space 38 of the lower mold 30. It is attached to.

上述のように、前記基板10の一面には、発光ダイオードチップ12と、その発光ダイオードチップ12を収容する開口部が形成されたレフレクター13とが設けられ、封止材は、前記レフレクター13の開口部を満たすように形成されることが必要である。このような要求のために、前記インサートキャビティブロック40の成形キャビティ41には、前記レフレクター13が嵌合される。したがって、前記成形キャビティ41のうち、実際に樹脂Rが満たされる空間は、前記レフレクター13の開口部にのみ残ることになる。前記封止材の形状を所望の形状にするために、図示のような凸レンズ形または他の所望の形状に成形キャビティ41の形状を設計することができる。  As described above, the light emitting diode chip 12 and the reflector 13 in which the opening for receiving the light emitting diode chip 12 is formed are provided on one surface of the substrate 10, and the sealing material is the opening of the reflector 13. It is necessary to form so as to fill the part. For such a requirement, the reflector 13 is fitted into the molding cavity 41 of the insert cavity block 40. Therefore, the space that is actually filled with the resin R in the molding cavity 41 remains only in the opening of the reflector 13. In order to make the shape of the sealing material into a desired shape, the shape of the molding cavity 41 can be designed into a convex lens shape as shown in the figure or another desired shape.

下部金型30の樹脂積載空間に存在していた樹脂は、キャビティ加圧ブロック31による加圧により、前記樹脂流入口42を通じて成形キャビティ41に加圧流入した後、硬化され、前記レフレクター13の開口部に前記発光ダイオードチップ12を封止する封止材を形成する。本実施例とは異なり、基板10にレフレクター13が設けられていない場合、樹脂は、図面においてレフレクター13が占める空間まで満たされる。  The resin existing in the resin loading space of the lower mold 30 is pressurized and flows into the molding cavity 41 through the resin inlet 42 by the pressurization by the cavity pressurizing block 31, and then cured to open the reflector 13. A sealing material for sealing the light emitting diode chip 12 is formed on the portion. Unlike the present embodiment, when the reflector 13 is not provided on the substrate 10, the resin is filled up to the space occupied by the reflector 13 in the drawing.

さらに図1、図2、図3、及び図5を参照すると、前記下部金型30は、ベース3上に配置されるキャビティ加圧ブロック31とキャビティホールディングブロック36を有する。前記ベース3は、不図示の昇降駆動器具に連結され、前記昇降駆動器具により上下に駆動されるように構成される。前記キャビティ加圧ブロック31は、前記ベース3の上部面の中央領域に固定配置され、前記キャビティホールディングブロック36は、ベース3に設けられた弾性部材37により付勢される。前記ベース3が上昇駆動すると、キャビティ加圧ブロック31とキャビティホールディングブロック36が一緒に上昇され、前記キャビティホールディングブロック36が、他要素(本実施例では、インサートキャビティブロック40)との接触により停止すると、その以降は、弾性部材37の圧縮を伴い、キャビティ加圧ブロック31のみが一定の高さまで上昇する。  1, 2, 3, and 5, the lower mold 30 includes a cavity pressurizing block 31 and a cavity holding block 36 disposed on the base 3. The base 3 is connected to an elevating drive device (not shown) and is configured to be driven up and down by the elevating drive device. The cavity pressurizing block 31 is fixedly disposed in a central region of the upper surface of the base 3, and the cavity holding block 36 is urged by an elastic member 37 provided on the base 3. When the base 3 is driven up, the cavity pressurizing block 31 and the cavity holding block 36 are raised together, and the cavity holding block 36 is stopped by contact with other elements (in this embodiment, the insert cavity block 40). Thereafter, with the compression of the elastic member 37, only the cavity pressurizing block 31 rises to a certain height.

本実施例によると、前記キャビティ加圧ブロック31は、外郭のキャビティホールディングブロック36よりも常時低く位置するので、前記キャビティ加圧ブロック31と前記キャビティホールディングブロック36により定められる下部金型30の上部には、窪んだ空間が形成される。  According to the present embodiment, the cavity pressurizing block 31 is always positioned lower than the outer cavity holding block 36, so that the cavity pressurizing block 31 is positioned above the lower mold 30 defined by the cavity pressurizing block 31 and the cavity holding block 36. A recessed space is formed.

一方、本実施例による封止材成形装置は、前記キャビティ加圧ブロック31と前記キャビティホールディングブロック36により形成された窪んだ空間に設置されたフィルム、さらに具体的には、非離型性フィルム50を備える。前記フィルム50は、前記窪んだ空間の輪郭により、溶融樹脂を収容可能な体積可変型樹脂積載空間38を限定する。前記フィルム50により、溶融樹脂が下部金型30と直接接触せず、その溶融樹脂が下部金型30の下方に漏れないようになる。  On the other hand, the sealing material forming apparatus according to the present embodiment is a film installed in a depressed space formed by the cavity pressurizing block 31 and the cavity holding block 36, more specifically, a non-release film 50. Is provided. The film 50 defines a variable volume resin loading space 38 that can accommodate a molten resin due to the contour of the recessed space. The film 50 prevents the molten resin from coming into direct contact with the lower mold 30 and prevents the molten resin from leaking below the lower mold 30.

前記フィルム50は、下部金型30のキャビティ加圧ブロック31とキャビティホールディングブロック36との間の狭い隙間を通じて真空吸着され、このような過程により、加圧工程中、樹脂の外部漏れを防止することができる樹脂積載空間38が形成される。この樹脂積載空間38内に一定量の固形または液状の樹脂を均一に積載する。  The film 50 is vacuum-adsorbed through a narrow gap between the cavity pressurizing block 31 and the cavity holding block 36 of the lower mold 30, and this process prevents external leakage of the resin during the pressurizing process. A resin loading space 38 is formed. A certain amount of solid or liquid resin is uniformly loaded in the resin loading space 38.

前記フィルム50は、前記下部金型30の上部に被せられたまま、前記下部金型30側に設置された真空機器(図示せず)により、前記下部金型30の上部に吸着される。前記フィルム50は、図5に示すように、従来の離型フィルムとは異なり、封止材成形過程において樹脂と接着され、封止材成形後、剰余の固形樹脂と強くくっついているようになる。したがって、前記フィルム50を分離すると、剰余の固形樹脂は、フィルム50と一緒に分離される。前記フィルム50は、封止材の成形が行われる温度範囲、例えば、130〜200℃で使用可能な一般の耐熱フィルムであってもよく、離型フィルムに比べて安価である、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等が用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムは、一般産業、電気電子、包装、グラフィック、ディスプレイ産業等において多様な用途として用いられており、供給先が多いため、安価であり、需給も容易である。  The film 50 is adsorbed on the upper part of the lower mold 30 by a vacuum device (not shown) installed on the lower mold 30 side while being covered on the upper part of the lower mold 30. As shown in FIG. 5, unlike the conventional release film, the film 50 is adhered to the resin in the sealing material molding process, and after the molding of the sealing material, the film 50 is strongly adhered to the remaining solid resin. . Therefore, when the film 50 is separated, excess solid resin is separated together with the film 50. The film 50 may be a general heat-resistant film that can be used in a temperature range where molding of the sealing material is performed, for example, 130 to 200 ° C., and is cheaper than a release film, such as polyethylene ( PE), polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET) and the like are used. In particular, polyethylene terephthalate (PET) films are used for various applications in the general industry, electrical and electronic, packaging, graphic, display industries, and the like, and are inexpensive and easy to supply and demand.

一方、前記インサートキャビティブロック40は、少なくとも前記封止材成形の際に、樹脂と接する表面が樹脂に対して界面分離特性を有する。前記界面分離特性を付与するために、前記インサートキャビティブロック40の樹脂と接する表面に離型剤物質401(図4参照)を適用することが好ましい。  On the other hand, the surface of the insert cavity block 40 in contact with the resin has an interface separation characteristic with respect to the resin at least when the sealing material is molded. In order to impart the interface separation characteristic, it is preferable to apply a release agent substance 401 (see FIG. 4) to the surface of the insert cavity block 40 that contacts the resin.

以下、図1、図2、図3、及び図5を順次参照して、上述した封止材成形装置で基板上に封止材を形成する過程についてさらに説明する。  Hereinafter, the process of forming the sealing material on the substrate with the above-described sealing material forming apparatus will be further described with reference to FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, and FIG.

図1を参照すると、先ず、基板10が上部金型20に装着され、次に、基板10上にはインサートキャビティブロック40が装着される。この際、インサートキャビティブロック40の表面、少なくとも一領域には離型剤物質が適用されてもよい。  Referring to FIG. 1, first, the substrate 10 is mounted on the upper mold 20, and then the insert cavity block 40 is mounted on the substrate 10. At this time, a release agent material may be applied to the surface of at least one region of the insert cavity block 40.

また、キャビティ加圧ブロック31とキャビティホールディングブロック36との間の高低差により窪んだ空間を有する下部金型30の上部に、耐熱性フィルム50を吸着させて樹脂積載空間38を形成する。この際、前記樹脂積載空間38は、前記インサートキャビティブロック40と向かい合う側に位置する。前記フィルム50は、封止材成形温度に耐え、封止材成形後、剰余固形樹脂に対する接着力が、インサートキャビティブロック40の表面接着力よりも大きなものであればよい。上述のように、樹脂に対するインサートキャビティブロック40の表面接着特性を相対的に下げるために、離型剤物質が用いられてもよい。  In addition, the resin loading space 38 is formed by adsorbing the heat-resistant film 50 on the upper part of the lower mold 30 having a space depressed due to the height difference between the cavity pressurizing block 31 and the cavity holding block 36. At this time, the resin loading space 38 is located on the side facing the insert cavity block 40. The film 50 should only withstand the sealing material molding temperature and have a greater adhesive force to the residual solid resin than the surface adhesive force of the insert cavity block 40 after the molding of the sealing material. As described above, a release agent material may be used to lower the surface adhesion properties of the insert cavity block 40 relative to the resin.

前記インサートキャビティブロック40を基板10に配置する過程と、前記樹脂積載空間38を形成する過程は、その順序が変わってもよく、この二過程を同時に行ってもよい。  The order of the process of arranging the insert cavity block 40 on the substrate 10 and the process of forming the resin loading space 38 may be changed, and these two processes may be performed simultaneously.

図1に示した第1の位置において、下部金型30側の全ての部分は、上部金型20側の全ての要素から離隔している。  In the first position shown in FIG. 1, all parts on the lower mold 30 side are separated from all elements on the upper mold 20 side.

図2及び図3を参照すると、液状またはゲル状の樹脂が積載されている樹脂積載空間38とインサートキャビティブロック40を近づけることにより、樹脂積載空間38に積載された液状またはゲル状の樹脂を、前記インサートキャビティブロック40の成形キャビティ41に満たす過程が示されている。前記樹脂は、樹脂流入口42から前記成形キャビティ41内に満たされ、これにより、複数の樹脂流入口42は、それに対応する複数の成形キャビティ41と一つの樹脂積載空間38を連結する構造からなることが好ましい。  Referring to FIGS. 2 and 3, the liquid or gel resin loaded in the resin loading space 38 is made closer by bringing the resin loading space 38 loaded with the liquid or gel resin and the insert cavity block 40 closer to each other. The process of filling the molding cavity 41 of the insert cavity block 40 is shown. The resin is filled into the molding cavity 41 from the resin inlet 42, whereby the plurality of resin inlets 42 are configured to connect the corresponding molding cavities 41 and one resin loading space 38. It is preferable.

図2に示すように、昇降駆動器具によりベース3を上昇駆動させると、一次に下部金型30のキャビティホールディングブロック36がインサートキャビティブロック40に当接して停止する。これにより、前記フィルム50によって限定された樹脂積載空間38は、フィルム50が被された下部金型30と、それに向かい合うインサートキャビティブロック40との間において完全に閉じられる。  As shown in FIG. 2, when the base 3 is driven up by the elevating drive device, the cavity holding block 36 of the lower mold 30 comes into contact with the insert cavity block 40 and stops. Thereby, the resin loading space 38 defined by the film 50 is completely closed between the lower mold 30 covered with the film 50 and the insert cavity block 40 facing the lower mold 30.

図3に示すように、昇降駆動器具によりベース3をさらに上昇駆動させると、弾性部材37の圧縮を伴い、キャビティ加圧ブロック31がさらに上昇し、樹脂積載空間38の樹脂を加圧するようになる。前記加圧により、樹脂積載空間38は段々減らす。図4に示すように、レフレクター13とインサートキャビティブロック40が当接するダンバー面43がさらに加圧されると、樹脂がキャビティ領域に転移することを抑制することができ、密封力がさらに向上することができる。上述のように、樹脂積載空間38が減少しながら、直接的に樹脂を加圧するようになり、加圧された樹脂は、インサートキャビティブロック40に設けられた樹脂流入口42から成形キャビティ41内に注入される。  As shown in FIG. 3, when the base 3 is further driven to rise by the elevating drive device, the compression of the elastic member 37 causes the cavity pressurizing block 31 to further rise and pressurize the resin in the resin loading space 38. . The resin loading space 38 is gradually reduced by the pressurization. As shown in FIG. 4, when the damper surface 43 where the reflector 13 and the insert cavity block 40 abut is further pressurized, the resin can be prevented from transferring to the cavity region, and the sealing force can be further improved. Can do. As described above, the resin is directly pressurized while the resin loading space 38 is reduced, and the pressurized resin enters the molding cavity 41 from the resin inlet 42 provided in the insert cavity block 40. Injected.

また、前記ステップ別の過程において、成形物に内在され、または発生した泡(ボイド)を効果的に除去し、成形性を改善するために、真空通路、すなわち、エアベントが形成され、このエアベントは、樹脂積載空間38の外郭を形成するキャビティホールディングブロック36の上面と、レフレクター13の上面と、インサートキャビティブロック40とが当接する面に選択的に設けられ得る。  Further, in the process of each step, a vacuum passage, that is, an air vent, is formed in order to effectively remove bubbles (voids) contained or generated in the molding and improve moldability. The upper surface of the cavity holding block 36 forming the outline of the resin loading space 38, the upper surface of the reflector 13, and the surface where the insert cavity block 40 abuts can be selectively provided.

図3に示すように、液状に加圧された樹脂は一定の時間が経て硬化し、これにより、基板10には、インサートキャビティブロック40の成形キャビティ41により定められたレンズ状の封止材が形成される。この際、除去すべき剰余の固形樹脂は、樹脂流入口42からインサートキャビティブロック40とフィルム50との間にそのまま残っている。  As shown in FIG. 3, the resin pressurized in a liquid state is cured after a certain period of time, whereby the substrate 10 has a lens-shaped sealing material defined by the molding cavity 41 of the insert cavity block 40. It is formed. At this time, the excess solid resin to be removed remains as it is between the insert cavity block 40 and the film 50 from the resin inlet 42.

図5を参照すると、下部金型30を下降させ、上部金型20と下部金型30を離隔させる。前記上部金型20に装着された基板10と、その基板10上に装着されたインサートキャビティブロック40は、下部金型30及びその下部金型30の上面に設けられたフィルム50から分離される。この際、成形キャビティ41内において硬化されて封止材となる樹脂を除いた残りの剰余固形樹脂R’は、フィルム50に強く接着されたまま、フィルム50と一緒にインサートキャビティブロック40から分離される。したがって、インサートキャビティブロック40と封止材の表面から剰余固形樹脂R’がきれいに除去される。  Referring to FIG. 5, the lower mold 30 is lowered and the upper mold 20 and the lower mold 30 are separated. The substrate 10 mounted on the upper mold 20 and the insert cavity block 40 mounted on the substrate 10 are separated from the lower mold 30 and the film 50 provided on the upper surface of the lower mold 30. At this time, the remaining residual solid resin R ′ excluding the resin which is cured in the molding cavity 41 and becomes the sealing material is separated from the insert cavity block 40 together with the film 50 while being strongly adhered to the film 50. The Therefore, the residual solid resin R ′ is removed cleanly from the insert cavity block 40 and the surface of the sealing material.

このように、本発明は、離型フィルムではなく、固形樹脂と強く接着される強接着性の耐熱性フィルムを用いており、さらには、樹脂と接するインサートキャビティブロック40の表面に、界面分離特性の強い物質、例えば、離型剤物質を適用することにより、封止材成形後、剰余固形樹脂R’をフィルム50と一緒に封止材とインサートキャビティブロック40からきれいに除去することができる。  As described above, the present invention uses a strongly adhesive heat-resistant film that is strongly bonded to a solid resin, not a release film, and further has an interface separation characteristic on the surface of the insert cavity block 40 in contact with the resin. By applying a strong material such as a release agent material, the residual solid resin R ′ can be cleanly removed from the sealing material and the insert cavity block 40 together with the film 50 after molding the sealing material.

一方、基板10とインサートキャビティブロック40を不図示の資材供給装置を用いて一括してアンロードし、金型の外部に一括して分離し、またはインサートキャビティブロック40を先ずアンロードするとともに、分離した後、封止材の成形が完了した基板を取り外すこともできる。  On the other hand, the substrate 10 and the insert cavity block 40 are collectively unloaded using a material supply device (not shown) and separated to the outside of the mold, or the insert cavity block 40 is first unloaded and separated. After that, the substrate after the molding of the sealing material can be removed.

図6は、図5に示した工程後、金型、またインサートキャビティブロックから分離して除去されたフィルムを示し、これを参照すると、フィルムに剰余固形樹脂が付着したまま除去されたことが分かる。この際、樹脂流入口またはゲートを満たしていた剰余固形樹脂の一部が、樹脂流入口またはゲートの形状をそのまま有して分離されたことが分かる。  FIG. 6 shows the film removed from the mold and the insert cavity block after the process shown in FIG. 5, and it can be seen that the residual solid resin was removed while adhering to the film. . At this time, it can be seen that a part of the residual solid resin that filled the resin inlet or gate was separated with the shape of the resin inlet or gate intact.

図7及び図8は、本発明の他の実施例による封止材成形装置を用いた封止材成形方法を説明するための図である。  7 and 8 are views for explaining a sealing material molding method using a sealing material molding apparatus according to another embodiment of the present invention.

図7に示した封止材成形方法は、基板10の装着方向が反対であることを除いては上述した実施例と同様である。  The sealing material molding method shown in FIG. 7 is the same as the above-described embodiment except that the mounting direction of the substrate 10 is opposite.

図7を参照すると、可動金型300が上部に配置されて上部金型を構成し、固定金型200が下部に配置されて下部金型を構成する。基板10が下部金型、すなわち、固定金型200に装着され、その上にインサートキャビティブロック400が搭載される。前記インサートキャビティブロック400の一面には、下部金型、すなわち、固定金型200に装着された基板10に向かって開放された成形キャビティ410が設けられ、反対面、すなわち、可動金型300に臨む面には、樹脂積載空間38と、前記樹脂積載空間38を前記成形キャビティに連結する樹脂流入口420が形成される。前記樹脂積載空間380の下方に位置するように、前記可動金型300の下部または前記インサートキャビティブロック40の上部には、フィルム50が配置される。上述した実施例と同様に、前記フィルム500が樹脂積載空間380を取り囲んでいる。可動金型300が1次下降し、可動金型300のキャビティホールディングブロック360が前記フィルム500を介して前記インサートキャビティブロック400に当接し、前記キャビティ加圧ブロック310は、弾性部材370の圧縮を伴ってさらに下降し、樹脂積載空間380内の樹脂を加圧する。樹脂は、樹脂積載空間380から樹脂流入口を通じて成形キャビティ内に大きな圧力で注入される。成形キャビティ内の液状の樹脂が硬化し、緻密であり、厚さ寸法が安定的な封止材が、前記成形キャビティ内において形成される。真空吸着ではなくても、フィルム500を下部の固定金型200、すなわち、下部金型にそのまま維持させることができるので、フィルム500の真空吸着のための真空機器を省略することもできる。  Referring to FIG. 7, the movable mold 300 is disposed on the upper part to constitute the upper mold, and the fixed mold 200 is disposed on the lower part to constitute the lower mold. The substrate 10 is mounted on the lower mold, that is, the fixed mold 200, and the insert cavity block 400 is mounted thereon. One surface of the insert cavity block 400 is provided with a molding cavity 410 opened toward the lower mold, that is, the substrate 10 mounted on the fixed mold 200, and faces the opposite surface, that is, the movable mold 300. A resin loading space 38 and a resin inlet 420 that connects the resin loading space 38 to the molding cavity are formed on the surface. A film 50 is disposed below the movable mold 300 or above the insert cavity block 40 so as to be positioned below the resin loading space 380. Similar to the embodiment described above, the film 500 surrounds the resin loading space 380. The movable mold 300 is first lowered, the cavity holding block 360 of the movable mold 300 abuts the insert cavity block 400 through the film 500, and the cavity pressurizing block 310 is accompanied by compression of the elastic member 370. And further pressurizes the resin in the resin loading space 380. The resin is injected from the resin loading space 380 through the resin inlet into the molding cavity with a large pressure. A liquid resin in the molding cavity is cured, dense, and a sealing material having a stable thickness is formed in the molding cavity. Even if it is not vacuum suction, since the film 500 can be maintained as it is in the lower fixed mold 200, that is, the lower mold, a vacuum device for vacuum suction of the film 500 can be omitted.

図8に示すように、封止材成形後、フィルム500をインサートキャビティブロック400から分離すると、成形後、インサートキャビティブロック400の表面に残った剰余の固形樹脂R’が前記フィルム500に接着された状態で、前記インサートキャビティブロック400の表面から分離される。上述した実施例と同様に、前記インサートキャビティブロック400の表面に離型剤物質を適用することができる。図8では、上部可動金型の図示を省略した。  As shown in FIG. 8, after molding the sealing material, when the film 500 is separated from the insert cavity block 400, the remaining solid resin R ′ remaining on the surface of the insert cavity block 400 is adhered to the film 500 after molding. And separated from the surface of the insert cavity block 400. Similar to the embodiment described above, a release agent material can be applied to the surface of the insert cavity block 400. In FIG. 8, the upper movable mold is not shown.

10 基板
11 リードフレーム
12 発光ダイオードチップ(または半導体チップ)
13 レフレクター
20 上部金型
30 下部金型
31 キャビティ加圧ブロック
36 キャビティホールディングブロック
37 弾性部材
40 インサートキャビティブロック
41 成形キャビティ
42 樹脂流入口
43 ダンバー面
50 フィルム
401 離型剤物質
R 樹脂
R’ 剰余固形樹脂
10 Substrate 11 Lead frame 12 Light emitting diode chip (or semiconductor chip)
13 Reflector 20 Upper mold 30 Lower mold 31 Cavity pressure block 36 Cavity holding block 37 Elastic member 40 Insert cavity block 41 Molding cavity 42 Resin inlet 43 Dumbar surface 50 Film 401 Release agent substance R Resin R 'Surplus solid resin

Claims (4)

樹脂流入口と成形キャビティを有するインサートキャビティブロックを基板上に配置するインサートキャビティブロック配置ステップと、
前記インサートキャビティブロックと向かい合う側にフィルムで取り囲まれた樹脂積載空間を形成する樹脂積載空間形成ステップと、
前記樹脂積載空間の底部を前記インサートキャビティブロックに近づけ、前記樹脂積載空間内の樹脂を前記樹脂流入口から前記成形キャビティに満たす封止材成形ステップと、
前記樹脂の硬化後、前記インサートキャビティブロックの表面に残った剰余固形樹脂を前記フィルムと接着した状態で分離、除去するフィルム分離ステップと、を含み、
前記インサートキャビティブロック配置ステップであって、前記インサートキャビティブロックは、前記樹脂積載空間と向かい合う表面に離型剤物質が適用されることを特徴とする封止材成形方法。
An insert cavity block placement step of placing an insert cavity block having a resin inlet and a molding cavity on a substrate;
A resin loading space forming step for forming a resin loading space surrounded by a film on the side facing the insert cavity block;
A sealing material molding step of bringing the bottom of the resin loading space close to the insert cavity block and filling the resin in the resin loading space from the resin inlet into the molding cavity;
After curing of the resin, it saw including a separation, and film separation step of removing in a state where the remaining residue solid resin on the surface of the insert cavity block was bonded to the film,
In the insert cavity block arranging step, a mold release material is applied to a surface of the insert cavity block facing the resin loading space .
前記インサートキャビティブロック配置ステップは、
第1の金型に前記基板を装着するステップと、前記基板上に前記インサートキャビティブロックを装着するステップとを含むことを特徴とする請求項1に記載の封止材成形方法。
The insert cavity block arranging step includes:
2. The sealing material forming method according to claim 1, comprising: mounting the substrate on a first mold; and mounting the insert cavity block on the substrate .
前記樹脂積載空間形成ステップは、前記第1の金型と向かい合い、窪んだ空間を有する第2の金型に前記フィルムを被せて前記樹脂積載空間を形成するが、前記第2の金型は、キャビティ加圧ブロックと、その周辺に配置されたキャビティホールディングブロックとを有し、前記窪んだ空間は、前記キャビティホールディングブロックと前記キャビティ加圧ブロックとの高低差により形成されることを特徴とする請求項2に記載の封止材成形方法。 In the resin loading space forming step, the resin loading space is formed by covering the second mold having a depressed space facing the first mold and forming the resin loading space. has a cavity pressure block and arranged cavities holding block its periphery, said recessed space, characterized in that it is formed by the height difference between the cavity holding block and said cavity pressurization block claims Item 3. A sealing material molding method according to Item 2 . 前記封止材成形ステップは、前記インサートキャビティブロックに当接するまで、前記キャビティホールディングブロックを上昇または下降移動させ、前記キャビティホールディングブロックが、移動後、停止した状態で、前記キャビティ加圧ブロックをさらに上昇または下降移動させ、前記樹脂積載空間の樹脂を前記成形キャビティ内に注入し、前記フィルム分離ステップは、前記第2の金型と前記インサートキャビティブロックを遠ざかるようにし、前記フィルムとそれに接着している剰余固形樹脂を前記インサートキャビティブロックから分離することを特徴とする請求項3に記載の封止材成形方法。 The sealing material forming step raises or lowers the cavity holding block until it abuts on the insert cavity block, and further raises the cavity pressure block while the cavity holding block is stopped after moving. Alternatively, the resin is moved downward to inject the resin in the resin loading space into the molding cavity, and the film separating step is to keep the second mold and the insert cavity block away from each other, and adhere to the film and the film. The sealing material molding method according to claim 3, wherein the residual solid resin is separated from the insert cavity block .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101618362B1 (en) * 2014-08-25 2016-05-04 한국교통대학교산학협력단 Film insert molding apparatus applied injection-compression molding and the method thereof
JP6744780B2 (en) * 2016-08-09 2020-08-19 アピックヤマダ株式会社 Resin molding equipment
JP6721738B2 (en) * 2019-02-14 2020-07-15 アピックヤマダ株式会社 Resin molding equipment
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Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2709035B2 (en) * 1994-12-28 1998-02-04 日東電工株式会社 Semiconductor package manufacturing method
KR100214555B1 (en) * 1997-02-14 1999-08-02 구본준 Method for manufacture of semiconductor package
JP3924457B2 (en) * 2001-12-10 2007-06-06 Necエレクトロニクス株式会社 Resin sealing device and resin sealing method
JP4268389B2 (en) * 2002-09-06 2009-05-27 Towa株式会社 Resin sealing molding method and apparatus for electronic parts
JP4358501B2 (en) * 2002-10-31 2009-11-04 Towa株式会社 Resin sealing molding method for electronic parts and mold
JP2008207450A (en) * 2007-02-27 2008-09-11 Towa Corp Compression molding method of light-emitting element
JP4954012B2 (en) 2007-10-05 2012-06-13 Towa株式会社 Mold for resin sealing molding of electronic parts
JP5020897B2 (en) 2008-06-17 2012-09-05 住友重機械工業株式会社 Release film adsorption method for compression mold and compression mold
JP5153536B2 (en) * 2008-09-17 2013-02-27 Towa株式会社 Mold for semiconductor chip compression molding

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