JP5514263B2 - 表示パネルの製造方法 - Google Patents

表示パネルの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5514263B2
JP5514263B2 JP2012132733A JP2012132733A JP5514263B2 JP 5514263 B2 JP5514263 B2 JP 5514263B2 JP 2012132733 A JP2012132733 A JP 2012132733A JP 2012132733 A JP2012132733 A JP 2012132733A JP 5514263 B2 JP5514263 B2 JP 5514263B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
welding rod
sealing lid
concave groove
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012132733A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013258006A (ja
Inventor
正純 池上
要 中村
誠 上村
Original Assignee
新日本ステンレス工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 新日本ステンレス工業株式会社 filed Critical 新日本ステンレス工業株式会社
Priority to JP2012132733A priority Critical patent/JP5514263B2/ja
Publication of JP2013258006A publication Critical patent/JP2013258006A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5514263B2 publication Critical patent/JP5514263B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッサンス素子を載置したガラス基板の周縁部にガラス製の封止蓋の周縁部を接合して得られる表示パネルの製造方法に関する。
従来から、薄型のフラットディスプレイパネルとして有機エレクトロルミネッサンス(以下、「EL」とも記載する)素子を用いた有機ELパネルが実用化されるようになっている。有機EL素子は、例えば、封止蓋とガラス基板とで封止されている。
前記有機EL素子には発光材料に有機材料が使用されており、この有機材料は水分を含むと寿命が短くなる。従って、封止蓋とガラス基板とで有機EL素子を封止し、この封止部分の気密性を向上させたり、封止蓋の内側に乾燥剤を取り付けたりしている(例えば、特許文献1参照)。
特開2010−228998号公報
しかしながら、前記従来技術においては、封止蓋とガラス基板との周縁部同士を接合する封着用ガラス材料として、粉末材料を溶剤に溶かしたペーストを用いるため、周縁部に沿った部位で、ガラス材料の量がばらつくことに起因して接合力もばらつきを生じるという問題があった。
また、封着用ガラス材料は、前記ペーストを封止蓋の溝に充填したのち乾燥させて塗布層を形成し、該塗布層を焼成して封着材料層にする工程を含むため、接合作業が面倒になるという問題もあった。
そこで、本発明は、簡単な作業で、封止蓋とガラス基板との周縁部に沿った接合力を一定にすることができる表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラス製の封止蓋の周縁部を、有機エレクトロルミネッサンス素子を載置したガラス基板の周縁部に接合することにより有機エレクトロルミネッサンス素子を収容した状態で封止する表示パネルの製造方法である。
前記封止蓋の周縁部およびガラス基板の周縁部のうち少なくともいずれかに凹溝を形成し、断面円形状の長尺状に形成されると共に、前記封止蓋およびガラス基板よりも融点が低く、レーザー光の照射によって溶融可能で、かつ、断面積が前記凹溝の断面積と同一に設定されたガラス溶接棒を前記凹溝に沿って配置し、レーザー光を前記ガラス溶接棒に照射し、ガラス溶接棒を溶融させて前記凹溝内に収容したのち固化させることにより、前記封止蓋の周縁部を、ガラス基板の周縁部に密着させた状態で接合することを特徴とする。
本発明に係る表示パネルの製造方法によれば、封止蓋およびガラス基板の周縁部に沿ったガラスの量が一定となりバラツキが小さくなるため、周縁部に沿った接合力も一定となる。
また、封止蓋の周縁部とガラス基板の周縁部との間に長尺状のガラス溶接棒を配置して溶融させるという簡単な作業で表示パネルを製造することができる。
本発明の第1実施形態による表示パネルの断面図である。 図1の分解斜視図である。 第1実施形態によるガラス基板を上方から見た平面図である。 ガラス基板の凹溝にガラス溶接棒を載置した状態を示す平面図である。 (a)は図1の要部を示す拡大断面図、(b)はガラス溶接棒にレーザー光を照射して溶融させた状態を示す断面図である。 第1実施形態における第1変形例を示す要部の断面図であり、図5(a)に対応している。 第1実施形態における第2変形例を示す要部の断面図であり、図5(a)に対応している。 本発明の第2実施形態による表示パネルの分解斜視図である。 (a)は図8の要部を示す拡大断面図、(b)はガラス溶接棒にレーザー光を照射して溶融させた状態を示す断面図である。 第2実施形態における第1変形例を示す要部の断面図であり、図9(a)に対応している。 第2実施形態における第2変形例を示す要部の断面図であり、図9(a)に対応している。
以下、本発明の実施形態を図面と共に詳述する。なお、図面において表示パネルを通常位置に配置した場合に、UPは上方向、LWRは下方向、Lは長手方向、Wは短手方向を示すものとする。
[第1実施形態]
まず、図1〜図5を用いて第1実施形態による表示パネル1を説明する。
図1,2に示すように、本実施形態による表示パネル1は、通常状態において下側に配置されたガラス基板3と、該ガラス基板3の上に配置される封止蓋5とを備え、これらのガラス基板3および封止蓋5同士を、ガラス溶接棒7を溶融させた溶融ガラス固化させて接合することによって得られる。前記封止蓋5およびガラス基板3の厚さは、例えば、0.5mm〜1.2mmが好ましい。
前記封止蓋5は、断面コ字状に形成されており、平板状の天板部9と、該天板部9の周縁から下方に延びる側面部11とから形成されている。前記天板部9の裏面には、表示パネル1の内部空間13の湿気を除去する乾燥剤15が貼着されている。
前記封止蓋5の材質は、例えば、無機ガラス、ステンレス鋼、アルミニウム合金などが好ましい。
前記ガラス基板3の周縁部には、図2,3に示すように、平面視が矩形状の凹溝17が形成されている。具体的には、図3に示すように、ガラス基板3は長手方向の長さが短手方向よりも長い長方形に形成されており、前記凹溝17も、長手方向に沿った長手方向溝19と、短手方向に沿った短手方向溝21とからなる。そして、図4に示すように、長手方向溝19には長い2本のガラス溶接棒23を載置し、短手方向溝には短い2本のガラス溶接棒25を載置する。
この凹溝17は、図5(a)に示すように、断面が矩形状に形成されており、底面27と該底面27の両端から上方に向けて延びる側面29,31とから構成されている。また、凹溝17の幅寸法は、断面円形状のガラス溶接棒7の径よりも小さく形成されている。例えば、凹溝17の幅寸法は0.1mm〜0.8mmが好ましく、ガラス溶接棒7の径は0.3mm〜1.0mmが好ましい。これによって、ガラス溶接棒7は、封止蓋5の側面部11の底面33に対する接触部34と、ガラス基板3の凹溝17の上端角部35,37に対する接触部との3点で支持される。なお、凹溝17の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一に設定されているため、ガラス溶接棒7が溶融した場合に、溶融ガラス39(図5(b)参照)の液面は、ガラス基板3の周縁部41の表面と同じ液面高さとなる。また、ガラス基板3の凹溝17の内周側には、有機EL素子43が配設されている。この有機EL素子43には発光材料に有機材料が使用されており、この有機材料は水分を含むと寿命が短くなる性質がある。
前記ガラス基板3の材質は、例えば、無アルカリガラス、白板ガラス、石英ガラス、ソーダガラス、サファイアガラスなどが好ましい。
また、ガラス溶接棒7の材質は、例えば、低融点ガラスが好ましく、特に導電性バナジン酸塩ガラスが好ましい。
次に、第1実施形態において、封止蓋5をガラス基板3に接合して表示パネル1を製造する手順を説明する。なお、以下の作業は、窒素等の不活性ガスを封入した図外のグローブボックスの内部で行うため、表示パネル1の内部空間13には不活性ガスが充填される。
まず、図1、図2および図5(a)に示すように、ガラス基板3の凹溝17に4本のガラス溶接棒7を載置する。このとき、前述したように、ガラス溶接棒7は、封止蓋5の側面部11の底面33に対する接触部と、ガラス基板3の凹溝17の上端角部35,37との3点で支持される。
なお、本実施形態では、図2に示すように、4本の直線状のガラス溶接棒7を用いる形態を説明したが、例えば、平面視でL字状に屈曲したガラス溶接棒であっても良い。即ち、L字状のガラス溶接棒を4本用意し、ガラス基板3の凹溝17に載置するようにしても良い。ここで、L字状のガラス溶接棒の材質は、前述した直線状のガラス溶接棒7と同一であることが好ましい。
次いで、図1に示すように、ガラス基板3の凹溝17に載置したガラス溶接棒7にレーザー光45を照射すると、ガラス溶接棒7は溶融し、図5(b)に示すように、溶融ガラス39は凹溝17内に充填されて、ガラス基板3の周縁部41の表面と同じ液面高さとなる。
そして、そのまま放置すると、溶融ガラス39は固化してガラス基板3の周縁部41の表面と封止蓋5の側面部11の底面33とを接合(結合)させる。
これによって、有機EL素子43をガラス基板3と封止蓋5とで封止した表示パネル1が完成する。なお、前記レーザー光45としては、例えば、波長が1064nmのYAGレーザーやYVOレーザーなどが好ましい。
以下に、第1実施形態による効果を説明する。
(1)本実施形態による表示パネル1の製造方法は、ガラス基板3の周縁部41に凹溝17を形成し、断面円形状の長尺状に形成されると共に、前記封止蓋5およびガラス基板3よりも融点が低く、レーザー光45の照射によって溶融可能なガラス溶接棒7を前記凹溝17に沿って配置し、レーザー光45を前記ガラス溶接棒7に照射し、ガラス溶接棒7を溶融させて前記凹溝17内に収容したのち固化させることにより、前記封止蓋5の周縁部を、ガラス基板3の周縁部41に密着させた状態で接合する方法である。
このように、本実施形態による有機EL素子の封止方法は、封止蓋5の周縁部とガラス基板3の周縁部41との間に長尺状のガラス溶接棒7を配置し、このガラス溶接棒7を溶融させて固化させることによって、封止蓋5の周縁部とガラス基板3の周縁部41とを接合する。従って、封止蓋5およびガラス基板3の周縁部41に沿ったガラスの量が一定となりバラツキが小さくなるため、周縁部に沿った接合力も一定となる。
また、封止蓋5の周縁部とガラス基板3の周縁部41との間に長尺状のガラス溶接棒7を配置して溶融させるという簡単な作業で封止作業を行うことができる。
(2)前記封止蓋5の周縁部に配置された側面部11の底面33を平坦に形成し、ガラス基板3の周縁部41の表面に凹溝17を形成し、該凹溝17に沿ってガラス溶接棒7を載置する。
従って、ガラス基板3のみに凹溝17を形成し、封止蓋5には凹溝を形成しないため、作業工程が簡略化できる。
(3)凹溝17の断面形状を、ガラス溶接棒7の直径よりも幅寸法が小さい矩形状に形成した。
これにより、ガラス溶接棒7との接触点が、封止蓋の周縁部の底面に対する接触部34と、凹溝17の上端角部35,37との3点となり、ガラス溶接棒7の位置決めが良好となり、位置のバラツキがなくなる。
[第1実施形態における第1変形例]
前述した凹溝の形状は、断面矩形状に限定されず、図6に示すように断面で円弧状に形成しても良い。
具体的には、第1変形例による凹溝47は、ガラス溶接棒7の断面の半径よりも大きな曲率半径を有する断面円弧状に形成されている。この場合も、凹溝47の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一に設定されている。また、ガラス溶接棒7を、凹溝47の底面と封止蓋5の周縁部の底面33との間に挟持した場合、ガラス溶接棒7の上端49は封止蓋5の周縁部の底面33に当接し、ガラス溶接棒7の下端51は凹溝47の底面に当接する。このように、断面においては、ガラス溶接棒7は上下の2点で支持される。
以下に、第1変形例による効果を説明する。
(1)凹溝47の断面形状を、ガラス溶接棒7の径よりも大きい曲率半径を有する円弧状に形成した。
これにより、接合する断面積を大きくすることができる。具体的には、接合部の幅をガラス溶接棒の直径よりも大きくすることができる。このため、封止蓋5とガラス基板53との接合力を大きくすることができる。
[第1実施形態における第2変形例]
前述した凹溝の形状は、断面矩形状または断面円弧状に限定されず、図7に示すように断面でV字状に形成しても良い。
この場合も、ガラス基板54における凹溝55の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一に設定されている。また、ガラス溶接棒7を、凹溝55の底面と封止蓋5の周縁部の底面33との間に挟持した場合、ガラス溶接棒7の上端57は封止蓋5の周縁部の底面33に当接し、ガラス溶接棒7の下側は、下側接触部59,61を介して凹溝55の底面に当接する。このように、断面においては、ガラス溶接棒7は上下の3点で支持される。
以下に、第2変形例による効果を説明する。
(1)凹溝55の断面形状をV字状に形成した。
これにより、ガラス溶接棒7との接触点が、封止蓋5の周縁部の底面33と、凹溝55の底面との3点となり、ガラス溶接棒7の位置決めが良好となり、位置のバラツキがなくなる。また、凹溝55の底面の2面だけ削れば良いため、矩形状の場合よりも凹溝55の成形が容易になる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態について説明するが、前述した第1実施形態と同一構成の部位には同一符号を付けて、説明を省略する。
図8に示すように、第2実施形態による表示パネル77は、第1実施形態の表示パネル1の配置方向を90°回転させて上下方向に沿うように立て掛けて配置した状態で接合作業を行う。また、図9(a)に示すように、前記封止蓋63の周縁部における底面65および側面67を含む角部を削ることによって断面L字状の切欠き69を形成する。一方、この封止蓋63の角部に対向するガラス基板71の角部を削ることによって断面L字状の切欠き73を形成する。そして、これらの切欠き同士69,73を突き合わせることによって、断面矩形状の凹溝75を形成する。なお、この凹溝75は、表示パネル77の全周囲に亘って形成する。従って、ガラス溶接棒7もそれぞれの凹溝75に対応させて配置する。
つまり、図9(a)に示すように、封止蓋63の切欠き69は、封止蓋63の側面67に沿って延びる側部79と、該側部79に対して直交して延びる底部81とから断面L字状に形成される。また、ガラス基板71の切欠き73は、ガラス基板71の側面83に沿って延びる側部85と、該側部85に対して直交して延びる底部87とから断面L字状に形成される。そして、封止蓋63の切欠き69とガラス基板71の切欠き73を側部同士79,85の位置を合致させることによって、断面矩形状の凹溝75を形成する。なお、この凹溝75の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一である。また、凹溝75の幅は、ガラス溶接棒7の径よりも小さく形成されているため、凹溝75にガラス溶接棒7を載置したとき、凹溝75の側端角部89,91の2点でガラス溶接棒7が支持される。
次に、第2実施形態において、封止蓋63をガラス基板71に接合して表示パネル77を製造する手順を説明する。なお、以下の作業は、窒素等の不活性ガスを封入したグローブボックスの内部で行うため、表示パネル77の内部空間には不活性ガスが充填される。
まず、図9(a)に示すように、封止蓋63とガラス基板71を突き合わせた状態で、上側に配置される凹溝75にガラス溶接棒7を載置する。このとき、前述したように、ガラス溶接棒7は、凹溝75の側端角部89,91の2点で支持される。
次いで、図9(a)に示すように、ガラス溶接棒7にレーザー光45を照射すると、ガラス溶接棒7は溶融し、図9(b)に示すように、溶融ガラス39は凹溝75内に充填されて、封止蓋63およびガラス基板71の周縁部の側面67,83と同じ液面高さとなる。
そして、そのまま放置すると、溶融ガラス39は固化してガラス基板71の周縁部と封止蓋63の周縁部とが接合される。
次いで、封止蓋63とガラス基板71を90°回転させて、上側に配置された別の凹溝75にガラス溶接棒7を載置させ、ガラス溶接棒7にレーザー光45を照射して同様の接合作業を行う。これを4回繰り返すことによって、4つの凹溝75をガラスで接合し、封止蓋63とガラス基板71の全周囲を接合する。
これによって、有機EL素子をガラス基板71と封止蓋63とで封止した表示パネル77が完成する。なお、前記レーザー光45としては、例えば、波長が1064nmのYAGレーザーやYVOレーザーなどが好ましい。
以下に、第2実施形態による効果を説明する。
(1)前記封止蓋63の周縁部における底面65および側面67を含む角部を削ると共に、この封止蓋63の角部に対向するガラス基板71の角部を削ることによって凹溝75を形成し、該凹溝75に沿ってガラス溶接棒7を載置する。
これによって、封止する有機EL素子の面積を大きくすることができる。即ち、凹溝75を封止蓋63およびガラス基板71の最周縁に形成することができるため、有機EL素子を配置する部位の面積を大きく設定することができる。
[第2実施形態における第1変形例]
前述した凹溝の形状は、断面矩形状に限定されず、図10に示すように断面で円弧状に形成しても良い。
具体的には、第1変形例による表示パネル109の凹溝93は、ガラス溶接棒7の断面の半径よりも大きな曲率半径を有する断面円弧状に形成されている。具体的には、封止蓋95の側面97を削って形成した切欠き99と、ガラス基板101の側面103を削って形成した切欠き105とを突き合わせて凹溝93が形成される。この場合も、凹溝93の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一に設定されている。また、ガラス溶接棒7を、凹溝93の底面に載置した場合、ガラス溶接棒7の下端107は凹溝93の底面に当接する。このように、断面においては、ガラス溶接棒7は下端の1点で支持される。
当該第1変形例による効果は、前述した第1実施形態における第1変形例の効果と同様である。
[第2実施形態における第2変形例]
前述した凹溝の形状は、断面矩形状または断面円弧状に限定されず、図11に示すように断面でV字状に形成しても良い。
この場合も、表示パネル111における凹溝113は、封止蓋115の側面117を削って形成した切欠き119と、ガラス基板121の側面123を削って形成した切欠き125とを突き合わせて凹溝113が形成される。
凹溝113の断面積は、ガラス溶接棒7の断面積と同一に設定されている。また、ガラス溶接棒7を、凹溝113の底面に載置した場合、ガラス溶接棒の左右両側における下側接触部127,129は凹溝113の底面に当接する。このように、断面においては、ガラス溶接棒7は下側の2点で支持される。
当該第2変形例による効果は、前述した第1実施形態における第2変形例の効果と同様である。
1…表示パネル
3…ガラス基板
5…封止蓋
7…ガラス溶接棒
17…凹溝
41…周縁部
43…有機EL素子
45…レーザー光
47…凹溝
53…ガラス基板
54…ガラス基板
55…凹溝
63…封止蓋
65…底面
67,83…側面
71…ガラス基板
75…凹溝
77…表示パネル
93…凹溝
95…封止蓋
101…ガラス基板
109…表示パネル
111…表示パネル
113…凹溝
115…封止蓋
121…ガラス基板

Claims (6)

  1. ガラス製の封止蓋の周縁部を、有機エレクトロルミネッサンス素子を載置したガラス基板の周縁部に接合することにより有機エレクトロルミネッサンス素子を収容した状態で封止する表示パネルの製造方法であって、
    前記封止蓋の周縁部およびガラス基板の周縁部のうち少なくともいずれかに凹溝を形成し、
    断面円形状の長尺状に形成されると共に、前記封止蓋およびガラス基板よりも融点が低く、レーザー光の照射によって溶融可能で、かつ、断面積が前記凹溝の断面積と同一に設定されたガラス溶接棒を前記凹溝に沿って配置し、
    レーザー光を前記ガラス溶接棒に照射し、ガラス溶接棒を溶融させて前記凹溝内に収容したのち固化させることにより、
    前記封止蓋の周縁部を、ガラス基板の周縁部に密着させた状態で接合することを特徴とする表示パネルの製造方法。
  2. 前記封止蓋の周縁部の底面を平坦に形成し、ガラス基板の周縁部の表面に凹溝を形成し、該凹溝に沿ってガラス溶接棒を載置することを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
  3. 前記封止蓋の周縁部における底面および側面を含む角部を削ると共に、この封止蓋の角部に対向するガラス基板の角部を削ることによって前記凹溝を形成し、該凹溝に沿ってガラス溶接棒を載置することを特徴とする請求項1に記載の表示パネルの製造方法。
  4. 前記凹溝の断面形状を、ガラス溶接棒の径よりも大きい曲率半径を有する円弧状に形成したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
  5. 前記凹溝の断面形状を、ガラス溶接棒の直径よりも幅寸法が小さい矩形状に形成したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
  6. 前記凹溝の断面形状をV字状に形成したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の表示パネルの製造方法。
JP2012132733A 2012-06-12 2012-06-12 表示パネルの製造方法 Active JP5514263B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012132733A JP5514263B2 (ja) 2012-06-12 2012-06-12 表示パネルの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012132733A JP5514263B2 (ja) 2012-06-12 2012-06-12 表示パネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013258006A JP2013258006A (ja) 2013-12-26
JP5514263B2 true JP5514263B2 (ja) 2014-06-04

Family

ID=49954289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012132733A Active JP5514263B2 (ja) 2012-06-12 2012-06-12 表示パネルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5514263B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102396332B1 (ko) 2015-09-22 2022-05-12 삼성전자주식회사 Led 디스플레이용 미세간격 코팅부재 및 이를 이용한 코팅방법
KR20230174620A (ko) * 2022-06-21 2023-12-28 한양이엔지 주식회사 Pvc 부재를 사용하는 케미컬 부스 및 이의 제조방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50129240A (ja) * 1974-03-30 1975-10-13
JP2001022293A (ja) * 1999-07-07 2001-01-26 Sony Corp 平面表示素子
JP2001319775A (ja) * 2000-05-10 2001-11-16 Auto Network Gijutsu Kenkyusho:Kk 有機el表示装置の封止方法および封止構造
JPWO2005122645A1 (ja) * 2004-06-11 2008-04-10 三洋電機株式会社 表示パネルの製造方法および表示パネル
JP5082628B2 (ja) * 2007-07-05 2012-11-28 パナソニック株式会社 有機elパネル
JP2010228998A (ja) * 2009-03-27 2010-10-14 Asahi Glass Co Ltd 封着材料層付きガラス部材とそれを用いた電子デバイスおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013258006A (ja) 2013-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4630338B2 (ja) 気密封止用キャップ、電子部品収納用パッケージおよび気密封止用キャップの製造方法
US7560858B2 (en) Sealing substrate and a pixel substrate of a display device joined by a metal joint solder
JP5123987B2 (ja) 圧電デバイス、および圧電デバイスの周波数調整方法
JP2011188308A (ja) 圧電振動子及び圧電振動子の製造方法
JP5514263B2 (ja) 表示パネルの製造方法
JP2012147228A (ja) 水晶デバイス
JP5790878B2 (ja) 水晶振動子
TWI559462B (zh) Ceramic package
JP5989342B2 (ja) 有機el装置およびその製造方法
JP6563758B2 (ja) メタルマスク製造方法
JP2010011352A (ja) 水晶振動子の製造方法及び水晶振動子並びに電子部品
JP2009272229A (ja) レーザ光を用いた接合方法ならびに気密容器の製造方法
JP2009260845A (ja) 圧電振動デバイスの製造方法および圧電振動デバイス
US8871049B2 (en) Method of manufacturing resistor
JP2011250228A (ja) 圧電デバイス、および圧電デバイスの周波数調整方法
JP2006094372A (ja) 水晶振動子及びその製造方法
JP2006073977A (ja) レーザー照射を利用したウェーハレベルパッケージの作製方法
JP6805081B2 (ja) 発光装置用蓋体
JP2009111124A (ja) 電子デバイス及び電子デバイス用パッケージ
JP2003086723A (ja) 薄型金属パッケージ
JP2015139012A (ja) 水晶振動子及びその製造方法
JP4992686B2 (ja) 圧電振動デバイスおよび圧電振動デバイスの製造方法
JP2007088966A (ja) 圧電振動デバイスの製造方法およびその製造方法により製造された圧電振動デバイス
JP4363990B2 (ja) 表面実装用の水晶振動子
JP5864196B2 (ja) 振動子

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131029

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5514263

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250