JP5512349B2 - Substrate inversion apparatus and substrate inversion method - Google Patents

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Description

本発明は、液晶基板などの基板貼合システムに係り、特に、上下基板をローラコンベアで搬送する場合に、貼合装置に上基板を受け渡す際に上基板を反転させて貼合装置に搬入できるようにした基板反転装置及び基板反転方法に関する。   The present invention relates to a substrate bonding system such as a liquid crystal substrate, and in particular, when the upper and lower substrates are transported by a roller conveyor, the upper substrate is reversed and transferred to the bonding device when the upper substrate is delivered to the bonding device. The present invention relates to a substrate reversing apparatus and a substrate reversing method which can be performed.

液晶表示パネルの製造には、透明電極や薄膜トランジスタアレイを設けた2枚のガラス基板を数μm程度の極めて接近した間隔をもって、基板の周縁部に設けた接着剤(以下、シール剤ともいう)で貼り合わせ(以下、貼合後の基板を液晶パネルという)、それによって形成される空間に液晶を封止する工程がある。   For the production of a liquid crystal display panel, two glass substrates provided with transparent electrodes and thin film transistor arrays are bonded with an adhesive (hereinafter also referred to as a sealing agent) provided at the peripheral edge of the substrate with a very close distance of about several μm. There is a step of bonding (hereinafter, the substrate after bonding is referred to as a liquid crystal panel) and sealing the liquid crystal in a space formed thereby.

この液晶の封止を行なうには、液晶を滴下した下基板に対して、TFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)またはカラーフィルタなどが形成された上基板のTFTまたはカラーフィルタなどが形成された面を対向させて貼り合わせを行なうようにしている。   In order to seal the liquid crystal, the surface of the upper substrate on which the TFT (thin film transistor) or the color filter is formed is formed on the lower substrate on which the liquid crystal is dropped. They are made to face each other.

ところで、上基板を貼合装置まで搬送する場合、TFTまたはカラーフィルタの形成面を上向きにして、ローラコンベアを用いて搬送する場合がある。この場合、貼合装置に搬入するときは、上基板を反転させる必要がある。   By the way, when conveying an upper board | substrate to a bonding apparatus, the formation surface of TFT or a color filter may face up, and it may convey using a roller conveyor. In this case, when carrying in a bonding apparatus, it is necessary to reverse an upper board | substrate.

従来、電子部品を実装する基板を保持して、180度回転して反転する装置が知られており、この装置では、基板を保持したフレームの中央部を回転させて反転する構成となっている(例えば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known an apparatus that holds a substrate on which an electronic component is mounted, and rotates and reverses it by 180 degrees. In this apparatus, a center portion of a frame that holds a substrate is rotated and reversed. (For example, refer to Patent Document 1).

また、UV(紫外線)照射して基板間のシール剤を硬化するために、貼り合わせ後のパネルを反転してUV光を照射するための反転装置も知られている(例えば、特許文献2参照)。   Also known is a reversing device for reversing the bonded panel and irradiating it with UV light in order to cure the sealing agent between the substrates by irradiating with UV (ultraviolet rays) (see, for example, Patent Document 2). ).

特開平6−48554号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-48554 特開2006−227181号公報JP 2006-227181 A

上記特許文献1に記載の装置では、基板をフレームで挟んで保持し、そのフレームの中央部を180度回転させて、基板を反転する構造となっている。   In the apparatus described in Patent Document 1, the substrate is sandwiched and held by a frame, and the center portion of the frame is rotated by 180 degrees to reverse the substrate.

同じく特許文献2に記載の装置では、液晶パネルに貼合後にシール剤が硬化していない状態で反転させるために、両パネル間を押し圧した状態で反転するようにしている。この反転方法でも、特許文献1に記載の装置と同様、空中で基板を180度回転させる方法を用いている。このため、この方式でパネルを組み立てる前(貼り合わせの前)の状態で基板を反転させると、周囲の空気を乱して搬送ラインなどに落ちている粉塵を舞い上げ、その粉塵が液晶パネル内に入り込み、パネルの動作不良や画質低下の要因となる。   Similarly, in the apparatus described in Patent Document 2, in order to reverse the state in which the sealant is not cured after being bonded to the liquid crystal panel, the liquid crystal panel is reversed while being pressed between the two panels. Also in this inversion method, a method of rotating the substrate by 180 degrees in the air is used as in the apparatus described in Patent Document 1. For this reason, if the substrate is turned upside down before assembling the panel using this method (before bonding), the surrounding air will be disturbed and the dust falling on the transfer line will rise up. This can cause panel malfunction and image quality degradation.

本発明の目的は、かかる問題を解消し、上基板を反転させる際に粉塵などの舞い上がりを極力抑制するようにした基板反転装置とそれを用いた液晶パネル貼合システムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a substrate reversing device that solves such problems and suppresses rising of dust and the like as much as possible when reversing the upper substrate, and a liquid crystal panel bonding system using the same.

上記目的を達成するために、本発明は、上基板と環状に形成したシール剤の内側に液晶を滴下した下基板とを夫々基板貼合装置に搬送する前に、ローラコンベア上を上向きにして搬送される上基板を上下反転させる基板反転装置であって、架台上に上向きで搬送されてきた上基板を上向きの状態でローラコンベアから受け取り保持する複数の指部を備えたウォーキングビームを備え、ウォーキングビームは、一端側に上下移動部材が、他端側に水平移動部が夫々設けられ、架台上に設けられた移動用柱に沿って上下移動部材が上下に移動するとともに、水平移動部がリニアガイドに沿って水平方向に移動する構成としたことを特徴とする。   In order to achieve the above-mentioned object, the present invention sets the roller conveyor upward before conveying the upper substrate and the lower substrate in which the liquid crystal is dropped inside the annular sealant to the substrate bonding apparatus. A substrate reversing device for vertically reversing the upper substrate to be transported, comprising a walking beam having a plurality of fingers that receive and hold the upper substrate that has been transported upward on the gantry from the roller conveyor in an upward state, The walking beam has a vertically moving member on one end side and a horizontal moving part on the other end side, and the vertically moving member moves up and down along a moving column provided on the gantry. It is characterized in that it is configured to move in the horizontal direction along the linear guide.

また、本発明は、ウォーキングビームの複数の指部夫々に、上基板を吸着保持する複数の真空吸着パッドが設けられており、真空吸着パッドは指部の面より所定の高さの足部を備えていることを特徴とする。   Further, according to the present invention, a plurality of vacuum suction pads for sucking and holding the upper substrate are provided on each of the plurality of finger portions of the walking beam, and the vacuum suction pad has a foot portion having a predetermined height from the surface of the finger portion. It is characterized by having.

上記目的を達成するために、本発明は、基板貼合装置で上基板と下基板とを夫々上テーブルと下テーブルに保持して貼り合わせを行なう前に、上向きにローラコンベア上を搬送されて来た該上基板を上下反転させる基板反転装置であって、連結部が設けられた回転腕が反転機構を構成し、該上基板を上向きに保持して該ローラコンベア上を搬送されてきた搬送パレットの連結機構を該回転腕の連結部に回動可能に連結し、該回転腕を半回転させて該搬送パレットとこれに保持された該上基板とを上下反転させる構成としたことを特徴とする。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is carried on a roller conveyor upward before holding and bonding the upper substrate and the lower substrate to the upper table and the lower table, respectively. A substrate reversing device for vertically reversing the upper substrate that has come, wherein a rotating arm provided with a connecting portion constitutes a reversing mechanism and the upper substrate is held upward and conveyed on the roller conveyor. The pallet coupling mechanism is pivotally coupled to the coupling portion of the rotary arm, and the rotary arm is rotated halfway so that the transport pallet and the upper substrate held by the pallet are vertically inverted. And

また、本発明は、搬送パレットを反転させるとき、搬送パレットと回転腕の連結部との間で搬送パレットが回動できるように構成したことを特徴とする。   Further, the present invention is characterized in that when the transport pallet is reversed, the transport pallet can be rotated between the transport pallet and the connecting portion of the rotating arm.

上記目的を達成するために、本発明は、ローラコンベア上を上向きに搬送されてきた基板を反転させる基板反転方法において、前記基板を上向きに保持して前記ローラコンベア上を搬送されてきた搬送パレットの連結機構を回転腕の連結部に回動可能に連結し、該回転腕を半回転させて該搬送パレットとこれに保持された前記基板とを上下反転させること特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate inverting method for inverting a substrate that has been conveyed upward on a roller conveyor, and a conveyance pallet that has been conveyed on the roller conveyor while holding the substrate upward. the coupling mechanism pivotally connected to the connecting portion of the rotary arm, characterized thereby upside down and the substrate held the rotating arm to a conveying pallet by a half turn.

本発明により、反転時に基板が円弧を描いて180度反転させずに、基板の一端部を垂直状態とし、他端部を水平移動する動作の反転を行なうようにしたために、基板の上下反転時に描く移動軌跡の面積を最小にでき、基板の上下反転によって発生する空気の掻き揚げ面積が少なくなり、塵埃の発生を極力小さくできるし、また、装置の大型化を抑制できる。即ち、本発明による基板反転装置を用いるシステムにおいて、塵埃が他の装置に落下して、貼り合わされた液晶パネルの精度が低下することを防止でき、装置の小型化を図ることができる。   According to the present invention, when the substrate is turned upside down, since the substrate does not draw a circular arc and does not turn 180 degrees, the one end portion of the substrate is placed in a vertical state and the movement of the other end portion is horizontally reversed. The area of the moving locus to be drawn can be minimized, the area of air scraping generated by turning the substrate upside down can be reduced, dust generation can be minimized, and the size of the apparatus can be suppressed. That is, in the system using the substrate reversing device according to the present invention, it is possible to prevent the dust from dropping to another device and the accuracy of the bonded liquid crystal panel from being lowered, and the size of the device can be reduced.

本発明による基板反転装置及び基板反転方法を用いた液晶パネル組立システムの全体配置を示す平面図である。It is a top view which shows the whole arrangement | positioning of the liquid crystal panel assembly system using the board | substrate inversion apparatus and board | substrate inversion method by this invention. 図1における第1の搬送ライン5の一部と検出センサの配置などの一具体例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows one specific examples, such as arrangement | positioning of a part of 1st conveyance line 5 in FIG. 1, and a detection sensor. 図1における本発明による基板反転装置及び基板反転方法の第1の実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows 1st Embodiment of the substrate inversion apparatus and substrate inversion method by this invention in FIG. 図1における本発明による基板反転装置及び基板反転方法の第2の実施形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows 2nd Embodiment of the substrate inversion apparatus and substrate inversion method by this invention in FIG. 図1における基板貼合装置での前処理室からの基板搬入及び後処理室への基板搬出動作の一具体例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows one specific example of the board | substrate carrying-in from the pre-processing chamber in the board | substrate bonding apparatus in FIG. 1, and the board | substrate carrying-out operation to a post-processing chamber.

以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には本発明による基板反転装置及び基板反転方法を用いた液晶パネル組立システムの全体配置を示す平面図であって、1は下基板、2は上基板、3は基板搬入ロボット、4は整列機構、5は第1の搬送ライン(インライン)、6は第2の搬送ライン(サイドライン)、7はペースト塗布機(シールディスペンサ)、8は短絡用電極形成用塗布機、9は液晶滴下装置、10は第1の検出室、11は基板反転装置、12は移載室、13はロボットハンド、14は前処理室、15は基板貼合室(真空チャンバ)、16は後処理室、17は紫外線照射室、18は第2の検査室(パネル検査室)、19は貼合基板(液晶パネル)、20は第3の搬送ラインである。   FIG. 1 is a plan view showing an overall arrangement of a liquid crystal panel assembly system using a substrate reversing apparatus and a substrate reversing method according to the present invention, wherein 1 is a lower substrate, 2 is an upper substrate, 3 is a substrate carry-in robot, Alignment mechanism, 5 is a first transfer line (inline), 6 is a second transfer line (side line), 7 is a paste applicator (seal dispenser), 8 is a short-circuit electrode forming applicator, and 9 is a liquid crystal drop Apparatus, 10 is a first detection chamber, 11 is a substrate inversion device, 12 is a transfer chamber, 13 is a robot hand, 14 is a pretreatment chamber, 15 is a substrate bonding chamber (vacuum chamber), 16 is a posttreatment chamber, Reference numeral 17 denotes an ultraviolet irradiation chamber, 18 denotes a second inspection room (panel inspection room), 19 denotes a bonded substrate (liquid crystal panel), and 20 denotes a third transport line.

同図において、TFTなどが形成された下基板1が搬送される第1搬送ライン(インライン)5と、第1搬送ライン5と平行に、カラーフィルタが形成された上基板2が搬送される第2搬送ライン(サイドライン)6とが設けてある。洗浄された上基板2及び下基板1が搬送される第1搬送ライン5及び第2搬送ライン6は、ローラコンベアまたはベルトコンベアで構成されている。なお、TFTが形成された基板を上基板2とし、カラーフィルタが形成された基板を下基板1としてもよい。これら上下基板は、処理された面(下基板1はTFTなどが形成された面、上基板2はカラーフィルタなどが形成された面)を上向きにしてローラコンベアまたはベルトコンベア上を夫々搬送される。以下では、搬送装置しては、ローラコンベアを例にして説明するが、ローラコンベアをベルトコンベアに置き換えてもよいことは言うまでもない。   In the figure, a first transport line (inline) 5 for transporting a lower substrate 1 on which a TFT or the like is formed, and a first substrate 2 on which a color filter is formed are transported in parallel with the first transport line 5. Two transport lines (side lines) 6 are provided. The 1st conveyance line 5 and the 2nd conveyance line 6 in which the cleaned upper board | substrate 2 and the lower board | substrate 1 are conveyed are comprised by the roller conveyor or the belt conveyor. The substrate on which the TFT is formed may be the upper substrate 2 and the substrate on which the color filter is formed may be the lower substrate 1. These upper and lower substrates are conveyed on a roller conveyor or a belt conveyor with the processed surfaces (the lower substrate 1 is a surface on which TFTs are formed and the upper substrate 2 is a surface on which color filters are formed) facing upward. . In the following description, the conveying device will be described by taking a roller conveyor as an example, but it goes without saying that the roller conveyor may be replaced with a belt conveyor.

第1搬送ライン5の手前には、洗浄された下基板1をこのシステムに搬入する基板搬入ロボット3と、基板搬入ロボット3から下基板1を整列させるための整列機構4が設けられている。整列機構4から第1搬送ライン5に下基板1が受け渡され、第1の搬送ライン5上を下基板1が貼合面を上にして矢印方向に移動する。この第1の搬送ライン5の途中には、下基板1上にシール剤(接着剤)を環状(閉じたループ状)に塗布するペースト塗布機7が設けられている。このペースト塗布機7の下流側に、導電性ペーストをスポット的に塗布する短絡用電極形成用塗布機8が直列に配置されている。   In front of the first transfer line 5, a substrate carry-in robot 3 for carrying the cleaned lower substrate 1 into this system and an alignment mechanism 4 for aligning the lower substrate 1 from the substrate carry-in robot 3 are provided. The lower substrate 1 is transferred from the alignment mechanism 4 to the first conveyance line 5, and the lower substrate 1 moves in the direction of the arrow on the first conveyance line 5 with the bonding surface up. In the middle of the first transport line 5, there is provided a paste applicator 7 for applying a sealing agent (adhesive) in a ring shape (closed loop shape) on the lower substrate 1. On the downstream side of the paste applicator 7, a short-circuit electrode forming applicator 8 for applying a conductive paste in a spot manner is arranged in series.

なお、図示していないが、各装置には、基板を保持するテーブルが設けられており、ローラコンベアで搬送されてきた下基板1をこのテーブル面上に受け取る構成となっている。このために、テーブルの部分では、ローラコンベアがテーブルを挟んで設置されており、かつ、上下に移動できる構成としてある。ここで、ローラコンベアを上下動させる代わりに、テーブルを上下させて基板を受け取るようにすることも可能である。以下の説明では、テーブルを上下動させる方式で説明する。   Although not shown, each apparatus is provided with a table for holding a substrate, and is configured to receive the lower substrate 1 conveyed by a roller conveyor on the table surface. For this reason, in the table portion, a roller conveyor is installed across the table and is configured to be movable up and down. Here, instead of moving the roller conveyor up and down, the table can be moved up and down to receive the substrate. In the following description, the method of moving the table up and down will be described.

さらに、短絡用電極形成用塗布機8の下流側には、上記のように環状に塗布されたシール剤のループ内に液晶を所望量滴下する液晶滴下装置9が配置されている。この液晶滴下装置9の下流側には、塗布されたシール剤や滴下された液晶材などの状態を検査する第1検査装置10が配置されている。第1検査装置10でシール剤の塗布状況や液晶の滴下状態が検査された下基板1は、移載室12に設けられたロボットハンド13により、前処理室14からパネル検査室18へと設けた第3の搬送ライン20に受け渡される。第3の搬送ライン20も、ローラコンベアで形成されている。第3の搬送ライン20により、まず、下基板1が基板搬入側の前処理室14内に搬入される。この前処理室14には、基板搬入側(移載室12側)と基板搬出側(基板貼合室15側)にゲートバルブが設けられている。移載室12側から下基板1を搬入するために、ローラコンベアを伸縮するコンベア伸縮機構が前処理室14に設けられている。このゲートバルブが開いているときには、このコンベア伸縮機構により、前処理室14から移載室12にローラコンベアが伸ばされて移載室12のローラコンベアに接続されている。前処理室14に下基板1が搬入されると、コンベア伸縮機構が動作してゲートバルブが閉じることができるように、前処理室内14にローラコンベアが縮められる。同様に、前処理室14に設けたコンベア伸縮機構は、基板貼合室15側にもローラコンベアを伸縮させることができるように構成されている。   Further, on the downstream side of the short-circuit electrode forming applicator 8, a liquid crystal dropping device 9 for dropping a desired amount of liquid crystal into the loop of the sealing agent applied in an annular shape as described above is disposed. On the downstream side of the liquid crystal dropping device 9, a first inspection device 10 that inspects the state of the applied sealing agent, the dropped liquid crystal material, and the like is disposed. The lower substrate 1, which has been inspected by the first inspection apparatus 10 for the application state of the sealant and the liquid crystal dripping state, is provided from the pretreatment chamber 14 to the panel inspection chamber 18 by the robot hand 13 provided in the transfer chamber 12. Then, it is delivered to the third transport line 20. The third transport line 20 is also formed by a roller conveyor. First, the lower substrate 1 is carried into the pretreatment chamber 14 on the substrate carry-in side by the third carrying line 20. In the pretreatment chamber 14, gate valves are provided on the substrate carry-in side (transfer chamber 12 side) and the substrate carry-out side (substrate bonding chamber 15 side). In order to carry in the lower substrate 1 from the transfer chamber 12 side, a conveyor expansion / contraction mechanism for expanding and contracting the roller conveyor is provided in the pretreatment chamber 14. When the gate valve is open, the roller extender is extended from the pretreatment chamber 14 to the transfer chamber 12 by the conveyor expansion / contraction mechanism and is connected to the roller conveyor of the transfer chamber 12. When the lower substrate 1 is carried into the pretreatment chamber 14, the roller conveyor is contracted in the pretreatment chamber 14 so that the conveyor expansion / contraction mechanism operates and the gate valve can be closed. Similarly, the conveyor expansion / contraction mechanism provided in the pretreatment chamber 14 is configured so that the roller conveyor can be expanded and contracted also on the substrate bonding chamber 15 side.

さらに、第2の搬送ライン6を搬送されてきた上基板2が、基板反転装置11で表裏反転された後、移載室12に設けたロボットハンド13により、前処理室14内に搬入される。即ち、移載室12の部分で第1の搬送ライン5と第2搬送ラインとが合流されて、第3の搬送ラインに接続される。第1の搬送ライン5と第3の搬送ラインとは、略一直線状に連結されている。   Further, the upper substrate 2 transported through the second transport line 6 is turned upside down by the substrate turnover device 11 and then carried into the pretreatment chamber 14 by the robot hand 13 provided in the transfer chamber 12. . That is, the first transfer line 5 and the second transfer line are merged at the transfer chamber 12 and connected to the third transfer line. The first transfer line 5 and the third transfer line are connected in a substantially straight line.

前処理室14にも、上基板2を保持して基板貼合室15に搬入するロボットハンド(図示せず)と、下基板1を搬送するローラコンベア(図示せず)とが設けられている。   The pretreatment chamber 14 is also provided with a robot hand (not shown) that holds the upper substrate 2 and carries it into the substrate bonding chamber 15 and a roller conveyor (not shown) that conveys the lower substrate 1. .

上下両基板が前処理室14に搬入されると、前処理室14の基板搬入側の入り口に設けられたゲートバルブ(図示せず)が閉じられ、図示しない真空ポンプを駆動して前処理室14内は所定の真空度(150Torr程度:以下、これを半真空という)になるまで排気される。このとき、前処理室14と基板貼合室15との間のゲートバルブは閉じられている。前処理室14内が半真空の状態になると、基板貼合室15との間のゲートバルブが開かれて、前処理室14から基板貼合室15内に上下基板が搬入される。このとき、基板貼合室15内は半真空状態となっている。この前処理室14には、下基板1を受け取って基板貼合室15の下テーブルに搬送するローラコンベア20と、上基板2を受け取って基板貼合室15の上テーブル(加圧版)に搬送するロボットハンドが設けられている。このとき、前処理室14からコンベア伸縮機構によりローラコンベアがゲートバルブを跨ぐように伸ばされて基板貼合室15のローラコンベアに接続され、下基板1はこのローラコンベア上を移動して基板貼合室15での貼合装置の下テーブルに受け渡される。   When both the upper and lower substrates are carried into the pretreatment chamber 14, a gate valve (not shown) provided at the entrance of the pretreatment chamber 14 on the substrate carry-in side is closed, and a vacuum pump (not shown) is driven to drive the pretreatment chamber. 14 is exhausted until a predetermined degree of vacuum (about 150 Torr: hereinafter referred to as a semi-vacuum) is reached. At this time, the gate valve between the pretreatment chamber 14 and the substrate bonding chamber 15 is closed. When the inside of the pretreatment chamber 14 is in a semi-vacuum state, the gate valve to the substrate bonding chamber 15 is opened, and the upper and lower substrates are carried into the substrate bonding chamber 15 from the pretreatment chamber 14. At this time, the inside of the substrate bonding chamber 15 is in a semi-vacuum state. In the pretreatment chamber 14, the lower substrate 1 is received and transferred to the lower table of the substrate bonding chamber 15, and the upper substrate 2 is received and transferred to the upper table (pressure plate) of the substrate bonding chamber 15. A robot hand for carrying is provided. At this time, the roller conveyor is extended from the pretreatment chamber 14 by the conveyor expansion / contraction mechanism so as to straddle the gate valve and connected to the roller conveyor in the substrate bonding chamber 15, and the lower substrate 1 moves on the roller conveyor to attach the substrate. It is delivered to the lower table of the pasting device in the meeting room 15.

上下両基板のこの貼合装置への受渡しが終了し、上下両テーブルに上下基板が夫々保持されると、ゲートバルブが閉じられ、図示しない真空ポンプを駆動して基板貼合室15内は高真空(約5×10-3Torr)に排気される。その後、上下両基板の位置合わせを行ないながら、上テーブルを降下させて上基板2の下基板1への貼り合わせを実行する。この貼り合わせが終了すると、貼り合わされた基板(液晶パネル)19は下テーブルからローラコンベア20に受け渡される。その後、基板貼合室15内に空気が導入されて半真空状態に戻され、基板貼合室15と後処理室16との間のゲートバルブ(図示せず)が開放される。このとき、後処理室16は半真空の状態となっている。 When the delivery of both the upper and lower substrates to the bonding apparatus is completed and the upper and lower substrates are respectively held by the upper and lower tables, the gate valve is closed, and a vacuum pump (not shown) is driven to keep the substrate bonding chamber 15 in the high level It is evacuated to a vacuum (about 5 × 10 −3 Torr). Thereafter, the upper table is lowered while aligning the upper and lower substrates, and the upper substrate 2 is bonded to the lower substrate 1. When this bonding is completed, the bonded substrate (liquid crystal panel) 19 is transferred from the lower table to the roller conveyor 20. Thereafter, air is introduced into the substrate bonding chamber 15 to return to a semi-vacuum state, and a gate valve (not shown) between the substrate bonding chamber 15 and the post-processing chamber 16 is opened. At this time, the post-processing chamber 16 is in a semi-vacuum state.

なお、後処理室16にも、コンベア伸縮機構が設けられており、基板貼合室15と後処理室16との間のゲートバルブが開くと、後処理室16から基板貼合室15に、コンベア伸縮機構により、ローラコンベアが伸ばされて基板貼合室15のローラコンベアに接続できる構成となっている。そして、ローラコンベア上を上下両基板が貼り合わされてなる液晶パネルが搬送されて処理室16に搬入される。後処理室16に貼り合わされた液晶パネル19が搬入されると、ローラコンベアは後処理室16内に縮められ、基板貼合室15と後処理室16との間のゲートバルブが閉じられる。ゲートバルブが閉じると、後処理室16内に大気を導入して半真空状態から大気状態に戻す。後処理室16内が大気状態になると、後処理室16と紫外線照射室17との間のゲートバルブが開放される。ゲートバルブが開くと、後処理室16に設けられているコンベア伸縮機構(図示せず)により、後処理室16からのローラコンベアが紫外線照射室17側に伸ばされて紫外線照射室17のローラコンベアと接続される。そして、かかるローラコンベア上を後処理室16から紫外線照射室17に貼り合わされた基板が搬入され、そこで貼り合わされた基板のシール剤に紫外線光(UV光)が照射されてシール剤を硬化させる。シール剤の硬化が完了すると、ローラコンベア上を液晶パネル19が搬送され、パネル検査室18に搬入されてその検査が行なわれる。   The post-processing chamber 16 is also provided with a conveyor expansion / contraction mechanism, and when the gate valve between the substrate bonding chamber 15 and the post-processing chamber 16 is opened, the post-processing chamber 16 changes to the substrate bonding chamber 15. The roller conveyor is stretched by the conveyor expansion / contraction mechanism and can be connected to the roller conveyor in the substrate bonding chamber 15. Then, a liquid crystal panel formed by bonding the upper and lower substrates on the roller conveyor is conveyed and carried into the processing chamber 16. When the liquid crystal panel 19 bonded to the post-processing chamber 16 is carried in, the roller conveyor is contracted into the post-processing chamber 16 and the gate valve between the substrate bonding chamber 15 and the post-processing chamber 16 is closed. When the gate valve is closed, the atmosphere is introduced into the post-processing chamber 16 to return from the semi-vacuum state to the atmospheric state. When the interior of the post-processing chamber 16 becomes atmospheric, the gate valve between the post-processing chamber 16 and the ultraviolet irradiation chamber 17 is opened. When the gate valve is opened, the roller conveyor from the post-processing chamber 16 is extended toward the ultraviolet irradiation chamber 17 by a conveyor expansion / contraction mechanism (not shown) provided in the post-processing chamber 16, and the roller conveyor of the ultraviolet irradiation chamber 17. Connected. Then, the substrate bonded to the ultraviolet irradiation chamber 17 from the post-processing chamber 16 is carried on the roller conveyor, and the sealing agent on the bonded substrate is irradiated with ultraviolet light (UV light) to cure the sealing agent. When the curing of the sealant is completed, the liquid crystal panel 19 is transported on the roller conveyor and is carried into the panel inspection chamber 18 for inspection.

このように、各処理室14〜18をほぼ直線状に並べて、一部にロボットハンドを用いているが、ほぼ全体に基板の搬送にローラコンベアを用いる構成としたため、装置の設置面積を最小限に抑制することができる。   As described above, the processing chambers 14 to 18 are arranged in a substantially straight line and a robot hand is used for a part of the processing chambers. However, since the roller conveyor is used for transferring the substrate almost entirely, the installation area of the apparatus is minimized. Can be suppressed.

図2に図1における第1の搬送ライン5の一部と検出センサの配置などの一具体例を示す概略構成図であって、同図(a)は下基板1が正常な姿勢で搬送されている状態を、同図(b)は下基板が回転した(傾いた)状態で搬送されている状態を夫々示しており、30a,30bは動力伝達軸、31a,31bはローラ、32a,32bは基板検出センサ、33a,33bは駆動モータであって、図1に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a specific example of a part of the first transport line 5 and the arrangement of detection sensors in FIG. 1, and FIG. 2A shows the lower substrate 1 transported in a normal posture. (B) shows the state where the lower substrate is conveyed in a rotated (tilted) state, 30a and 30b are power transmission shafts, 31a and 31b are rollers, 32a and 32b, respectively. Is a substrate detection sensor, and 33a and 33b are drive motors. Parts corresponding to those in FIG.

一般に、基板をローラコンベア上で搬送すると、ローラコンベア上に載せる際やローラコンベアを急停止する際、搬送方向に対して基板が回転して傾く場合がある。ここでは、その傾きを補正するための構成と方法を説明する。   Generally, when a substrate is transported on a roller conveyor, the substrate may be rotated and tilted with respect to the transport direction when the substrate is placed on the roller conveyor or when the roller conveyor is suddenly stopped. Here, a configuration and a method for correcting the inclination will be described.

図2(a),(b)において、夫々のローラコンベアには、その左右に夫々複数のローラ31a,31bが配置され、夫々左右のローラ31a,31bを駆動するための駆動モータ33a,33bに動力伝達軸30a,30bを介して接続されている。このローラ31a,31b上に下基板1が載置されて、駆動モータ33a,33bでローラ31a,31bを駆動することにより、下基板1が矢印方向に搬送される。   2 (a) and 2 (b), a plurality of rollers 31a and 31b are arranged on the left and right sides of the respective roller conveyors, and drive motors 33a and 33b for driving the left and right rollers 31a and 31b, respectively. The power transmission shafts 30a and 30b are connected. The lower substrate 1 is placed on the rollers 31a and 31b, and the rollers 31a and 31b are driven by the drive motors 33a and 33b, whereby the lower substrate 1 is conveyed in the direction of the arrow.

かかる第1の搬送ライン5には、基板搬送方向に対して直角方向(左右)に、下基板1の左右両辺部の先端部の通過を検出するための基板検出センサ32a,32bが間隔を開けて配置されている。下基板1がペースト塗布機7(図1)の基板載置テーブル(図示せず)の手前に搬送されてくると、この第1の搬送ライン5に設置されている基板検出センサ32a,32bによってこの下基板1の両辺部の先端部が検出される。左右夫々の側に設けた基板検出センサ32a,32bのうちのいずれか一方が下基板1の先端部を検出すると、検出した側の駆動モータ33aまたは33bを停止させるように、図示しない制御手段が制御する。図2(a)に示すように、基板検出センサ32a,32bがが同時にした基板1の夫々の辺部の尖端部を検出したときには、制御手段は下基板1が正しい状態で搬送されてきたものと判定し、駆動モータ33a,33bをそのまま回転駆動して下基板1を搬送させる。   In the first transport line 5, substrate detection sensors 32 a and 32 b for detecting the passage of the front end portions of the left and right sides of the lower substrate 1 are spaced apart in the direction perpendicular to the substrate transport direction (left and right). Are arranged. When the lower substrate 1 is transported in front of a substrate mounting table (not shown) of the paste applicator 7 (FIG. 1), the substrate detection sensors 32a and 32b installed in the first transport line 5 are used. The tips of both sides of the lower substrate 1 are detected. When any one of the substrate detection sensors 32a and 32b provided on the left and right sides detects the tip of the lower substrate 1, a control means (not shown) is arranged to stop the drive motor 33a or 33b on the detected side. Control. As shown in FIG. 2 (a), when the substrate detection sensors 32a and 32b detect the sharp edges of the respective sides of the substrate 1 simultaneously, the control means has transported the lower substrate 1 in the correct state. And the drive motors 33a and 33b are rotated as they are to convey the lower substrate 1.

下基板1が、図2(b)に示すように、進行方向からみて(以下、同様)反時計方向に回転して(傾いて)いると(即ち、下基板1の左辺部側が右辺部側よりも遅れて搬送されていると)、左右側に配置された基板検出センサ32a,32bが同時に下基板1を検出せずにその検出に時間差が生ずる。下基板1が図2(b)に示すように傾いている場合、基板検出センサ32bが最初に下基板1を検出し、基板検出センサ32b側のローラコンベアを駆動している駆動モータ33bが停止される。このとき、下基板1の左辺部側の先端部を検出していない基板検出センサ32a側の駆動モータ33aは回転し続ける。このため、下基板1の片側は移動状態を保持していることになる。このように傾きを有する下基板1は、基板検出センサ32aが下基板1を検出すると、検出側の駆動モータ33aが停止される。この動作により、下基板1は、駆動モータが回転している側は停止している側と略同じ位置になり、傾きが補正される。   As shown in FIG. 2B, when the lower substrate 1 is rotated (tilted) counterclockwise as viewed from the traveling direction (hereinafter the same) (ie, the left side of the lower substrate 1 is the right side). If the substrate detection sensors 32a and 32b arranged on the left and right sides do not detect the lower substrate 1 at the same time, a time difference occurs in the detection. When the lower substrate 1 is inclined as shown in FIG. 2B, the substrate detection sensor 32b first detects the lower substrate 1, and the drive motor 33b that drives the roller conveyor on the substrate detection sensor 32b side stops. Is done. At this time, the drive motor 33a on the substrate detection sensor 32a side that has not detected the tip on the left side of the lower substrate 1 continues to rotate. For this reason, one side of the lower substrate 1 holds the moving state. In the lower substrate 1 having such an inclination, when the substrate detection sensor 32a detects the lower substrate 1, the detection-side drive motor 33a is stopped. By this operation, the lower substrate 1 is positioned at substantially the same position as the stop side on the side where the drive motor is rotating, and the inclination is corrected.

なお、図示していない制御手段は、左右に設けた基板検出センサ32a,32bの検出の時間差を求めて、下基板1の回転(傾き)状態を知るとともに、左右のローラコンベアを駆動する左右両駆動モータ33a,33bを逆転して、再度下基板1を検出前の所定位置に戻す。その後、再度両駆動モータ33a,33bを駆動してローラコンベアを搬送方向に回転させて、下基板1を矢印の搬送方向に移動させることにより、両方の基板検出センサ32a,32bが略同時に下基板1の両辺部の先端部を検出することにより、傾きがなくなったことを確認することができる。傾きが充分に補正されていない場合には、上記の動作を繰り返して補正して、駆動モータ33a,33bの停止処理を行なうとともに基板検出センサ32a,32bの検出時間差を求める。この検出時間差が所定の範囲にあることを制御手段が判断した場合には、下基板1が正常の状態で搬送されていると認識し、塗布テーブルの下まで下基板1を搬送し、そこで停止させる。   The control means (not shown) obtains the time difference between the detections of the board detection sensors 32a and 32b provided on the left and right sides to know the rotation (tilt) state of the lower board 1 and drives both the left and right roller conveyors. The drive motors 33a and 33b are reversed to return the lower substrate 1 to the predetermined position before detection again. Thereafter, both the drive motors 33a and 33b are driven again to rotate the roller conveyor in the transport direction, and the lower substrate 1 is moved in the transport direction indicated by the arrow, so that both the substrate detection sensors 32a and 32b are substantially simultaneously moved to the lower substrate. By detecting the tip portions of both sides of 1, it can be confirmed that there is no inclination. If the tilt is not sufficiently corrected, the above operation is repeated and corrected to stop the drive motors 33a and 33b and obtain the detection time difference between the substrate detection sensors 32a and 32b. When the control means determines that the difference in detection time is within a predetermined range, the control unit recognizes that the lower substrate 1 is being transported in a normal state, transports the lower substrate 1 to under the coating table, and stops there. Let

ペースト塗布機7に設けている基板載置テーブルは上下移動可能に構成されており、この基板載置テーブルを上昇させることにより、下基板1をローラコンベアからこの基板載置テーブル上に受け取る構成となっている。即ち、ローラコンベアは基板載置テーブルを挟んで左右両側に配置されており、基板載置テーブルを上昇させることによって下基板1をこの基板載置テーブル上に受け取る構成となっている。なお、下基板1の幅との関係から、ローラコンベアがテーブル幅より狭く構成しなければならない場合には、基板載置テーブルにローラコンベアを収納する溝を設けて、ローラコンベアを溝内に収納してもよい。   The substrate mounting table provided in the paste applicator 7 is configured to be movable up and down, and the lower substrate 1 is received from the roller conveyor on the substrate mounting table by raising the substrate mounting table. It has become. That is, the roller conveyors are arranged on both the left and right sides of the substrate placement table, and the lower substrate 1 is received on the substrate placement table by raising the substrate placement table. If the roller conveyor must be narrower than the table width because of the width of the lower substrate 1, a groove for storing the roller conveyor is provided in the substrate mounting table, and the roller conveyor is stored in the groove. May be.

このように、第1の搬送ライン5の途中に基板検出センサ32a,32bを下基板1の幅方向である左右方向に配置し、基板検出センサ32a,32bの検出結果に応じて検出側の駆動モータ33aまたは33bを停止させるとともに、基板検出センサ32a,32bの検出時間差を求める。これにより、下基板1の傾き状態を検出して、基板検出センサ32a,32bの検出結果が所定範囲になるまで下基板1の検出と、先に検出した側のローラコンベアの停止を繰り返すことにより、下基板1の傾きの補正を行なうようにしている。これにより、下基板1の傾き補正のために、テーブルを別設する必要がなくなり、処理時間も短縮できる。また、ロボットハンドも設ける必要もなく、システムの大型化を抑制できる。第1の搬送ライン5のローラコンベアは、各装置間で同様の位置合わせ制御が実行される。   In this way, the substrate detection sensors 32a and 32b are arranged in the left-right direction, which is the width direction of the lower substrate 1, in the middle of the first transport line 5, and the detection side drive is performed according to the detection results of the substrate detection sensors 32a and 32b. The motor 33a or 33b is stopped, and the detection time difference between the substrate detection sensors 32a and 32b is obtained. Thereby, the inclination state of the lower substrate 1 is detected, and the detection of the lower substrate 1 and the stop of the roller conveyor on the previously detected side are repeated until the detection results of the substrate detection sensors 32a and 32b reach a predetermined range. The inclination of the lower substrate 1 is corrected. This eliminates the need for a separate table for correcting the tilt of the lower substrate 1 and shortens the processing time. In addition, there is no need to provide a robot hand, and an increase in the size of the system can be suppressed. The roller conveyor of the first transport line 5 is subjected to the same alignment control between the devices.

なお、上記の方法では、ローラコンベアを逆転駆動して、下基板1を所定位置まで戻してその左右両辺部の先端部の検出を繰り返すことにより、下基板1の傾き補正を行なうようにしたが、検出時間の差と補正量との関係を予め求めておき、その関係を記憶して置いて、検出時間差に応じて一方側の駆動モータ33aまたは33bを駆動制御して補正することも可能である。このように、第1の搬送ライン5での搬送コンベア上で下基板1の位置補正を行なうために、テーブル上に載置した下基板1の位置合わせを行なう必要が無くなり、基板貼合室15で基板載置テーブル上に載置した際の位置合わせ時間を短縮できるとともに、夫々の装置でのテーブル上での作業精度が向上する。   In the above method, the inclination of the lower substrate 1 is corrected by driving the roller conveyor in the reverse direction, returning the lower substrate 1 to a predetermined position, and repeatedly detecting the leading ends of the left and right sides. It is also possible to obtain the relationship between the detection time difference and the correction amount in advance, store the relationship, and correct the drive motor 33a or 33b on one side according to the detection time difference. is there. Thus, in order to correct the position of the lower substrate 1 on the transport conveyor in the first transport line 5, it is not necessary to align the lower substrate 1 placed on the table, and the substrate bonding chamber 15. Thus, it is possible to shorten the alignment time when the substrate is placed on the substrate placement table, and the work accuracy on the table in each apparatus is improved.

また、以上は下基板1を用いて説明したが、上基板2に関しても、同様に補正を行なうことができる。   Although the above description has been made using the lower substrate 1, the upper substrate 2 can be similarly corrected.

また、各装置に設けてある各テーブルには、基板1,2の停止位置を規定するために、基板位置決め機構を備えている。この位置決め機構は、基板搬送方向に対して、直角方向に基板1,2の両端部側の進行を規定する上下動する2本の規制ピンで構成されている。下基板1がローラコンベア上を装置内に搬送されてくると、この規制ピンを、下基板1の移動を停止させるように、ローラコンベア上の下基板1の位置より高い位置になるまで突出させるものである。   Each table provided in each apparatus is provided with a substrate positioning mechanism in order to define the stop position of the substrates 1 and 2. This positioning mechanism is composed of two restricting pins that move up and down to regulate the progress of both ends of the substrates 1 and 2 in the direction perpendicular to the substrate transport direction. When the lower substrate 1 is transported into the apparatus on the roller conveyor, the regulation pin is protruded until it is higher than the position of the lower substrate 1 on the roller conveyor so as to stop the movement of the lower substrate 1. Is.

図3は図1における本発明による基板反転装置11とその基板反転方法の第1の実施形態を示す構成図であって、同図(a)はこの第1の実施形態の全体構成を示す概略構成図、同図(b)は同図(a)におけるウォーキングビームを示す構成図であって、40は架台、41は移動用柱、42はウォーキングビーム、43は水平移動部、44は上下移動部材、45は指部、46は真空吸着パッドである。   FIG. 3 is a block diagram showing the first embodiment of the substrate inverting apparatus 11 and the substrate inverting method according to the present invention in FIG. 1, and FIG. 3 (a) is a schematic diagram showing the overall configuration of the first embodiment. Configuration diagram, (b) is a configuration diagram showing the walking beam in FIG. (A), 40 is a pedestal, 41 is a moving column, 42 is a walking beam, 43 is a horizontal moving part, 44 is vertically moved A member, 45 is a finger portion, and 46 is a vacuum suction pad.

第2の搬送ライン6を形成しているローラコンベア上に、カラーフィルタ形成面を上向きにして、上基板2が載置されて基板反転装置11に搬送してくる。基板反転装置11の反転機構部に設けられているローラコンベアは、上下動できるように構成されている。   The upper substrate 2 is placed on the roller conveyor forming the second conveyance line 6 with the color filter forming surface facing upward and conveyed to the substrate reversing device 11. The roller conveyor provided in the reversing mechanism portion of the substrate reversing device 11 is configured to move up and down.

図3(a)において、この基板反転装置11には、架台40上に上基板2の搬送方向に対して直角(幅)方向に伸びた複数の指部45(図3(b))を備えたウォーキングビーム42などからなる反転機構が設けられている。   3A, the substrate reversing device 11 includes a plurality of finger portions 45 (FIG. 3B) extending on the gantry 40 in a direction perpendicular to the conveying direction of the upper substrate 2 (width). A reversing mechanism including a walking beam 42 is provided.

ウォーキングビーム42は、図3(b)に示すように、回転軸に複数の指部45を設けた構成をなしており、これら指部45には、上基板2を吸着する複数の真空吸着パッド46が指部45の面によりも所定の高さで設けられている。真空吸着パッド46には、図示を省略するが、負圧を供給する負圧源からの配管が接続されている。   As shown in FIG. 3B, the walking beam 42 has a configuration in which a plurality of finger portions 45 are provided on the rotation shaft, and a plurality of vacuum suction pads that suck the upper substrate 2 are attached to these finger portions 45. 46 is provided at a predetermined height also on the surface of the finger portion 45. Although not shown, the vacuum suction pad 46 is connected to a pipe from a negative pressure source that supplies a negative pressure.

この反転機構は、図3(a)に示すように、ウォーキングビーム42の指部45に、真空吸着パッド46により、上基板2を吸着保持して、ウォーキングビーム42の一端側の上下移動部材44を持ち上げて垂直方向へ移動させ、他端側の水平移動部材43を基板搬送方向に架台40の一方の辺側から他方の辺側に移動させることにより、上基板2を上下反転させるようにした構成となっている。   As shown in FIG. 3A, the reversing mechanism is configured such that the upper substrate 2 is sucked and held on the finger 45 of the walking beam 42 by the vacuum suction pad 46, and the up and down moving member 44 on one end side of the walking beam 42. The upper substrate 2 is turned upside down by moving the horizontal movement member 43 on the other end side from one side of the gantry 40 to the other side in the substrate transport direction. It has a configuration.

ここで、ウォーキングビーム42の指部45は、反転機構部に設けられているローラコンベアのローラとローラとの間に設置されている。架台40の基板搬送方向の略中央部であって、上基板2の端部側には、ウォーキングビーム42の一端側の上下移動部材44を上昇降下させるための移動用柱41が設けられている。移動用柱41の部分には、ウォーキングビーム42の一端部側に設けられた上下移動部材44を上下動させるための駆動モータ(図示せず)が設けられている。この駆動モータにより、上下移動部材44が移動用柱41に沿って上下に移動する構成となっている。また、図示しないが、上下移動部材44はカウンタウェイトにロープで接続されており、駆動モータの駆動力を低減させている。ウォーキングビーム42の他端側の水平移動部材43には、リニアガイド上を移動し易いようにする転がり機構を備えている。   Here, the finger part 45 of the walking beam 42 is installed between the rollers of the roller conveyor provided in the reversing mechanism part. A moving column 41 for raising and lowering the up and down moving member 44 on one end side of the walking beam 42 is provided at a substantially central portion of the gantry 40 in the substrate transport direction and on the end portion side of the upper substrate 2. . A driving motor (not shown) for moving up and down a vertically moving member 44 provided on one end side of the walking beam 42 is provided in the moving column 41. By this drive motor, the vertically moving member 44 is configured to move up and down along the moving column 41. Although not shown, the up-and-down moving member 44 is connected to the counterweight with a rope to reduce the driving force of the driving motor. The horizontal moving member 43 on the other end side of the walking beam 42 is provided with a rolling mechanism that makes it easy to move on the linear guide.

この第1の実施形態の基板反転装置11の動作について説明する。   The operation of the substrate reversing device 11 of the first embodiment will be described.

まず、基板反転装置11上に上基板2が到着すると、ローラコンベアを停止して、ローラコンベアを下方向へ移動させる。ローラコンベアを降下させることにより、ローラとローラとの間に備えられたウォーキングビーム42の指部45上に上基板2が受け渡される。指部45上に受け渡された上基板2は、指部45に設けられている真空吸着パッド46により、真空吸着されて保持する。上基板2が吸着保持されると、ウォーキングビーム42の一端側の上下移動部材44が移動用柱41に沿って上昇し、これと同時に、ウォーキングビーム42の他端側の水平移動部材43がリニアガイドに沿って水平方向に移動する。そして、上下移動部材44が最高点に達する前に、水平移動部材43が水平方向に所定の速度で移動するようにして移動用柱41の中心を通過してその反対側に移動できるようにしている。   First, when the upper substrate 2 arrives on the substrate inverting device 11, the roller conveyor is stopped and the roller conveyor is moved downward. By lowering the roller conveyor, the upper substrate 2 is transferred onto the finger portion 45 of the walking beam 42 provided between the rollers. The upper substrate 2 delivered onto the finger part 45 is vacuum-sucked and held by a vacuum suction pad 46 provided on the finger part 45. When the upper substrate 2 is sucked and held, the vertical moving member 44 on one end side of the walking beam 42 rises along the moving column 41, and at the same time, the horizontal moving member 43 on the other end side of the walking beam 42 is linear. Move horizontally along the guide. Before the vertical moving member 44 reaches the highest point, the horizontal moving member 43 moves in the horizontal direction at a predetermined speed so that it can pass through the center of the moving column 41 and move to the opposite side. Yes.

なお、水平移動部材43に駆動用モータを設けておいて、その回転力を水平移動部材43に与えて水平方向に駆動する構成としてもよい。   In addition, it is good also as a structure which provides the horizontal moving member 43 with the motor for a drive, and gives the rotational force to the horizontal moving member 43, and drives to a horizontal direction.

ウォーキングビーム42が垂直状態になると、上下移動部材44の上昇を降下方向に変更制御する。以上の動作をさせることにより、上基板2を上下反転させることができる。   When the walking beam 42 is in a vertical state, the upward and downward movement member 44 is controlled to change in the downward direction. By performing the above operation, the upper substrate 2 can be turned upside down.

水平移動部材43が移動用柱41の反対側に移動してウォーキングビーム42が水平状態となり、上基板2が上下反転した状態になると、この基板反転装置11の次の移載室12のロボットハンド13(図1)をウォーキングビーム42の指部45からずらした位置まで伸ばして、ロボットハンド側の指部に設けた真空吸着パッドで上基板2を吸着保持する。これにより、上基板2が基板反転装置11のウォーキングビーム42から移載室12のロボットハンド13に受け渡される。   When the horizontal moving member 43 moves to the opposite side of the moving column 41 and the walking beam 42 is in a horizontal state and the upper substrate 2 is turned upside down, the robot hand in the next transfer chamber 12 of the substrate inverting device 11 is placed. 13 (FIG. 1) is extended to a position shifted from the finger portion 45 of the walking beam 42, and the upper substrate 2 is sucked and held by a vacuum suction pad provided on the finger portion on the robot hand side. As a result, the upper substrate 2 is transferred from the walking beam 42 of the substrate inverting device 11 to the robot hand 13 in the transfer chamber 12.

このように、この基板反転装置11では、上基板2の一端側を上下移動させ、他端を水平移動させるようにするため、上基板2がウォーキングビーム42の上下移動部材44を頂点として、この頂点を中心に略半扇型に近い形で移動することになり、180度回転した場合に比べて移動面積が小さくなる。そのため、周囲の空気をかき乱すことがなく、塵埃の発生を最小限に抑制することができ、周囲の装置への塵埃の影響も最小限に抑制できる。   Thus, in this substrate reversing device 11, in order to move one end side of the upper substrate 2 up and down and horizontally move the other end, the upper substrate 2 has the vertically moving member 44 of the walking beam 42 as a vertex. It moves in a shape close to a half fan shape with the vertex at the center, and the moving area is smaller than when it is rotated 180 degrees. Therefore, the surrounding air is not disturbed, the generation of dust can be suppressed to the minimum, and the influence of the dust on the surrounding devices can also be suppressed to the minimum.

なお、この実施形態では、ウォーキングビーム42の指部45の上からロボットハンドの真空吸着パッドを伸ばして上基板2を受け取るものとしたが、ウォーキングビーム42の指部45に設けた真空吸着パッド46の足部を伸ばしておき、上基板2と指部45との間にロボットハンド13の指部を差し込めるようにして、上基板2の受け渡しを行なうようにしてもよく、このように構成した方が作業効率は向上する。   In this embodiment, the vacuum suction pad of the robot hand is extended from above the finger portion 45 of the walking beam 42 to receive the upper substrate 2. However, the vacuum suction pad 46 provided on the finger portion 45 of the walking beam 42 is used. The upper substrate 2 may be delivered by inserting the finger portion of the robot hand 13 between the upper substrate 2 and the finger portion 45 so that the upper substrate 2 is extended. The work efficiency is improved.

図4は図1における本発明による基板反転装置11とその基板反転方法の第2の実施形態を示す構成図であって、同図(a)はこの第1の実施形態の全体構成を示す概略構成図、同図(b)は同図(a)における上基板搬送パレットを示す構成図であり、50は架台、51は上基板搬送パレット、52は回転腕、53は駆動機構、54は連結部、55は桟、56は真空吸着パッド、57は連結機構である。   FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the substrate inversion apparatus 11 and the substrate inversion method according to the present invention in FIG. 1, and FIG. 4A is a schematic diagram showing the overall configuration of the first embodiment. FIG. 2B is a block diagram showing the upper substrate transfer pallet in FIG. 1A. 50 is a stand, 51 is an upper substrate transfer pallet, 52 is a rotating arm, 53 is a drive mechanism, and 54 is a connection. , 55 is a crosspiece, 56 is a vacuum suction pad, and 57 is a coupling mechanism.

図4(a)において、この基板反転装置11には、架台50上に、搬送パレット51などからなる上基板2を上下反転する反転機構が設けられている。この反転機構は、上基板2を搬送パレット51上に載置して、搬送パレット51の中央部を支持して回転することにより、上基板2を上下反転させる。   In FIG. 4A, the substrate reversing device 11 is provided with a reversing mechanism for vertically reversing the upper substrate 2 composed of the transfer pallet 51 and the like on the gantry 50. The reversing mechanism places the upper substrate 2 on the transfer pallet 51 and rotates the upper substrate 2 upside down by supporting and rotating the central portion of the transfer pallet 51.

以下、上基板搬送パレットの一具体例を示す図4(b)を用いて、図4(a)に基板反転装置11の反転機構について説明する。   Hereinafter, the reversing mechanism of the substrate reversing device 11 will be described with reference to FIG. 4A using FIG. 4B showing a specific example of the upper substrate transport pallet.

搬送パレット51での上基板2の搬送方向に平行な両辺側の中央部には、反転機構の連結部54にジョイントできるように連結機構57(図4(b))を備えている。また、搬送パレット51は、図4(b)に示すように、複数の桟55で形成されており、この桟55の上部にロボットハンドの指部の挿入が可能なように所定の長さの真空吸着パッド56が設けられている。   A connecting mechanism 57 (FIG. 4B) is provided at the central part on both sides parallel to the transport direction of the upper substrate 2 on the transport pallet 51 so as to be able to be jointed with the connecting part 54 of the reversing mechanism. Further, as shown in FIG. 4B, the transport pallet 51 is formed of a plurality of bars 55, and has a predetermined length so that the finger part of the robot hand can be inserted into the upper part of the bars 55. A vacuum suction pad 56 is provided.

この基板反転装置11には、その中央部にパレット回転駆動機構が設けられている。このパレット回転駆動機構では、第1の搬送ライン5での上基板2の搬送方向の両側に回転腕52が設けられており、回転腕52の一端側(回転中心側)には、回転腕52を回転させるための駆動機構53が設けられており、回転腕52の先端部側には、搬送パレット51に連結するための連結部54が設けられている。   The substrate reversing device 11 is provided with a pallet rotation driving mechanism at the center thereof. In this pallet rotation drive mechanism, the rotary arm 52 is provided on both sides of the first transfer line 5 in the transfer direction of the upper substrate 2, and the rotary arm 52 is provided at one end side (rotation center side) of the rotary arm 52. A driving mechanism 53 for rotating the pallet is provided, and a connecting portion 54 for connecting to the transport pallet 51 is provided on the distal end side of the rotating arm 52.

第2の搬送ライン6(図1)には、搬送パレット51が設けられており、基板搬入ロボット3(図1)から上基板2がカラーフィルタ面を上向きにして搬送パレット51に載せられて搬送される。このとき、上基板2は、図4(b)に示す搬送パレット51の桟55に設けられた真空吸着パッド56で真空吸着される。この第2の搬送ライン6上を搬送パレット51と一緒に、上基板2が基板反転装置11に運ばれる。   The second transfer line 6 (FIG. 1) is provided with a transfer pallet 51, and the upper substrate 2 is placed on the transfer pallet 51 with the color filter surface facing upward from the substrate carry-in robot 3 (FIG. 1). Is done. At this time, the upper substrate 2 is vacuum-sucked by the vacuum suction pad 56 provided on the crosspiece 55 of the transport pallet 51 shown in FIG. The upper substrate 2 is transported to the substrate reversing device 11 on the second transport line 6 together with the transport pallet 51.

搬送パレット51が基板反転装置11上に到達すると、その反転機構の回転腕52の先端部に設けられている連結部54が、搬送パレット51の中央部に設けられている連結機構57により連結される。回転腕52の先端の連結部54が搬送パレット51の連結機構57に連結されると、回転腕52は駆動機構53によって回転し、上基板2を上下反転させる。さらに、回転腕52の連結部54は回動可能に構成されており、回転腕52に対して搬送パレット51の連結機構57との間は、回動可能になっていて、回転腕52の矢印A方向の回転に伴って、搬送パレット51を図示する矢印B,Cの方向に回転させる。回転腕52が矢印A方向に180度回転すると、上基板2は搬送パレット51の下側に来る。   When the transport pallet 51 reaches the substrate reversing device 11, the connecting portion 54 provided at the tip of the rotating arm 52 of the reversing mechanism is connected by a connecting mechanism 57 provided at the center of the transport pallet 51. The When the connecting portion 54 at the tip of the rotating arm 52 is connected to the connecting mechanism 57 of the transport pallet 51, the rotating arm 52 is rotated by the driving mechanism 53 to turn the upper substrate 2 upside down. Further, the connecting portion 54 of the rotating arm 52 is configured to be rotatable, and the rotating arm 52 is rotatable with respect to the connecting mechanism 57 of the transport pallet 51 with respect to the rotating arm 52. With the rotation in the A direction, the transport pallet 51 is rotated in the directions of arrows B and C shown in the figure. When the rotary arm 52 rotates 180 degrees in the direction of arrow A, the upper substrate 2 comes to the lower side of the transport pallet 51.

上基板2は、搬送パレット51の下部に吊り下げられた状態で、移載室12のロボットハンド13に受け渡される。即ち、ロボットハンド13の指部が搬送パレット51の真空吸着パッド56の間に挿入され、ロボットハンド13の指部に設けられている真空吸着パッドで上基板2を保持し、搬送パレット51の桟55に設けた真空吸着パッド56の真空吸着が停止される。その後、ロボットハンドが搬送パレット51部から上基板2を離して、前処理室14に上基板2を搬入する。搬送パレット51は基板反転装置11の反転機構によって再度回転され、真空吸着パッドの設けられた側に上向きにして第2の搬送ライン6に戻され、基板搬入ロボット3の位置に戻される。   The upper substrate 2 is transferred to the robot hand 13 in the transfer chamber 12 while being suspended from the lower portion of the transfer pallet 51. That is, the finger part of the robot hand 13 is inserted between the vacuum suction pads 56 of the transport pallet 51, the upper substrate 2 is held by the vacuum suction pad provided on the finger part of the robot hand 13, The vacuum suction of the vacuum suction pad 56 provided at 55 is stopped. Thereafter, the robot hand separates the upper substrate 2 from the transfer pallet 51 and carries the upper substrate 2 into the pretreatment chamber 14. The transport pallet 51 is rotated again by the reversing mechanism of the substrate reversing device 11, returned upward to the second transport line 6 with the vacuum suction pad provided, and returned to the position of the substrate loading robot 3.

以上のように、この第2の実施形態においても、基板反転装置11では、上基板2を完全に180回転させて上下反転させるのではなく、一端側は略水平方向に、他端側は垂直方向に移動させることにより、上基板2の動作は極力最小の範囲に押えることができるために、上基板2の反転に伴う塵埃の発生及び舞い上がりを抑制でき、周囲の装置への塵埃による影響を抑制できる。   As described above, also in the second embodiment, in the substrate reversing device 11, the upper substrate 2 is not completely rotated 180 degrees and turned upside down, but one end side is substantially horizontal and the other end side is vertical. By moving in the direction, the operation of the upper substrate 2 can be suppressed to the smallest possible range, so that the generation and rising of dust accompanying the inversion of the upper substrate 2 can be suppressed, and the influence of dust on surrounding devices can be suppressed. Can be suppressed.

図5に図1における基板貼合装置15での前処理室14からの基板搬入及び後処理室16への基板搬出動作の一具体例を示す縦断面図であって、60はローラコンベア、61はローラコンベア、62はロボットハンド、63は指部、64は吸着パッド、65は下テーブル、66は基板受渡し用のローラコンベア、67は上テーブル、68は吸着パッド、69,70はゲートバルブ、71はローラコンベア、72はコンベア伸縮機構であり、図1に対応する部分には同一符号をつけて重複する説明を省略する。   FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a specific example of the operation of carrying in the substrate from the pretreatment chamber 14 and carrying out the substrate into the posttreatment chamber 16 in the substrate bonding apparatus 15 in FIG. Is a roller conveyor, 62 is a robot hand, 63 is a finger part, 64 is a suction pad, 65 is a lower table, 66 is a roller conveyor for delivering a substrate, 67 is an upper table, 68 is a suction pad, 69 and 70 are gate valves, Reference numeral 71 denotes a roller conveyor, and 72 denotes a conveyor expansion / contraction mechanism. Parts corresponding to those in FIG.

同図において、前処理室14には、下側に伸縮するローラコンベア60が、天井側にロボットハンド62が夫々設けられている。基板貼合室15と前処理室14との間には、ゲートバルブ69が設けられており、基板貼合装置15の貼合室内は、通常、所定の真空度に保持されている。ロボットハンド62の指部63には、複数の吸着パッド64が設けられている。また、上テーブル67にも、伸縮自在な吸着パッド68が複数設けられており、ロボットハンド62の指部63の間を上テーブル67の吸着パッド68が降下して上基板2を吸着保持できるようにしている。これらの吸着パッド64,68は、中心部に負圧を供給する供給口が設けられており、この供給口に負圧が供給されて基板を吸着するようにしている。   In the figure, the pretreatment chamber 14 is provided with a roller conveyor 60 that expands and contracts downward, and a robot hand 62 on the ceiling side. A gate valve 69 is provided between the substrate bonding chamber 15 and the pretreatment chamber 14, and the bonding chamber of the substrate bonding apparatus 15 is normally maintained at a predetermined degree of vacuum. The finger part 63 of the robot hand 62 is provided with a plurality of suction pads 64. The upper table 67 is also provided with a plurality of elastic suction pads 68 so that the suction pads 68 of the upper table 67 can be lowered between the finger portions 63 of the robot hand 62 to hold the upper substrate 2 by suction. I have to. The suction pads 64 and 68 are provided with a supply port for supplying a negative pressure at the center, and the negative pressure is supplied to the supply port to suck the substrate.

なお、負圧源や供給配管に関しては、ここでは、図示を省略している。   The negative pressure source and the supply piping are not shown here.

上記のように、上基板2の受け渡しに際しては、負圧で吸着しても、上基板2が落下しないように、前処理室14及び基板貼合室15内が半真空の状態にして、各吸着パッド64,68に供給する負圧はそれよりも真空度を高くなるようにしている。   As described above, when the upper substrate 2 is delivered, the pretreatment chamber 14 and the substrate bonding chamber 15 are in a semi-vacuum state so that the upper substrate 2 does not fall even if it is adsorbed by a negative pressure. The negative pressure supplied to the suction pads 64 and 68 has a higher degree of vacuum than that.

上基板2の受渡し時には、ロボットハンド62の吸着パッド64と上テーブル67の吸着パッド68との両方で上基板2を保持した後に、ロボットハンド62の吸着パッド64への負圧の供給を停止して、ロボットハンド62の指部63を前処理室14に退避させる。その後、上基板2は吸着パッド68で上テーブル67の面まで持ち上げられ、上テーブル67面に配置された複数の粘着部材(図示せず)で保持するように構成している。従って、真空度を上げても、この粘着力で上基板2が保持され、落下することはない。   When the upper substrate 2 is delivered, after the upper substrate 2 is held by both the suction pad 64 of the robot hand 62 and the suction pad 68 of the upper table 67, the supply of the negative pressure to the suction pad 64 of the robot hand 62 is stopped. Thus, the finger part 63 of the robot hand 62 is retracted to the pretreatment chamber 14. Thereafter, the upper substrate 2 is lifted up to the surface of the upper table 67 by the suction pad 68 and is held by a plurality of adhesive members (not shown) arranged on the upper table 67 surface. Therefore, even if the degree of vacuum is increased, the upper substrate 2 is held by this adhesive force and does not fall.

なお、ここでは、吸着パッド64,68として、負圧を供給する方式の真空吸着パッドを用いたが、前処理室14や基板貼合室15が半真空状態であるために、吸着パッド64,68として、上基板2と接触する面に粘着部材を設けた構成の粘着吸着パッドとする方がよい。   In addition, although the vacuum suction pad of the system which supplies a negative pressure was used as the suction pads 64 and 68 here, since the pretreatment chamber 14 and the substrate bonding chamber 15 are in a semi-vacuum state, the suction pads 64 and 68 68 is preferably an adhesive suction pad having a configuration in which an adhesive member is provided on the surface in contact with the upper substrate 2.

また、粘着吸着パッド64,68の中心部に負圧供給口を設けておき、上基板2を粘着吸着パッド64,68の粘着部材から引き剥がす場合、圧縮気体を供給して引き剥がすようにする。または、吸着パッド64,68の中央部に上下ピンを設けておき、上基板2を上下ピンで押しながら、粘着部材から引き剥がすように粘着吸着パッドを動作させることにより、粘着パッド64,68から上基板2を引き剥がすことが可能である。   In addition, a negative pressure supply port is provided at the center of the adhesive suction pads 64 and 68, and when the upper substrate 2 is peeled off from the adhesive member of the adhesive suction pads 64 and 68, the compressed gas is supplied and peeled off. . Alternatively, an upper and lower pin is provided in the central portion of the suction pads 64 and 68, and the adhesive suction pad is operated so as to be peeled off from the adhesive member while pressing the upper substrate 2 with the upper and lower pins. The upper substrate 2 can be peeled off.

前処理室14に設けられたローラコンベア61は、その前室である移載室12(図1)側と基板貼合室15側とに、コンベア伸縮機構60により、伸縮できる構造となっている。なお、移載室12側は、ロボットハンドで前処理室14に基板を搬入できるようにしておくことにより、コンベア伸縮機構60を用いなくてもよいが、時間短縮のためには、コンベア伸縮機構60を用いて、上基板2と下基板1を同時に搬送を行なえるようにした方がよい。   The roller conveyor 61 provided in the pretreatment chamber 14 has a structure that can be expanded and contracted by the conveyor expansion / contraction mechanism 60 to the transfer chamber 12 (FIG. 1) side and the substrate bonding chamber 15 side which are the front chambers. . The transfer chamber 12 side does not need to use the conveyor expansion / contraction mechanism 60 by allowing the substrate to be loaded into the pretreatment chamber 14 with a robot hand. It is preferable that the upper substrate 2 and the lower substrate 1 can be simultaneously transported using 60.

前処理室14と基板貼合室15との間のゲートバルブ69が閉じているときには、ローラコンベア61は前処理室14側に縮められており、ゲートバルブ69が開いて下基板1を基板貼合室15に搬送するときには、基板貼合室15側に伸びて、基板貼合室15に設けられている基板受渡し用のローラコンベア66にドッキングして、下基板1をスムーズに基板貼合室15の下テーブル65に受け渡せるように構成されている。下テーブル65は受取りコンベアを構成する左右のローラコンベアの間に設けられており、上下に移動可能に構成されている。   When the gate valve 69 between the pretreatment chamber 14 and the substrate bonding chamber 15 is closed, the roller conveyor 61 is contracted to the pretreatment chamber 14 side, and the gate valve 69 is opened to attach the lower substrate 1 to the substrate. When transporting to the chamber 15, it extends to the substrate laminating chamber 15 side and is docked on the substrate transfer roller conveyor 66 provided in the substrate laminating chamber 15, so that the lower substrate 1 can be smoothly bonded to the substrate laminating chamber. 15 can be delivered to the lower table 65. The lower table 65 is provided between the left and right roller conveyors constituting the receiving conveyor, and is configured to be movable up and down.

また、後処理室16に設けられているコンベア伸縮機構72により、後処理室16に設けられているローラコンベア71も貼合室15側に伸縮できる構成となっており、上下基板1,2の貼り合わせが完了して後処理室16と基板貼合室15との間のゲートバルブ70が開くと、ローラコンベア71が基板貼合室15側に伸びて基板受渡しコンベア66にドッキングして、上下基板1,2が貼り合わされてなる液晶パネルが基板貼合室15から搬出される。   In addition, the roller conveyor 71 provided in the post-processing chamber 16 can be extended and contracted to the bonding chamber 15 side by the conveyor expansion / contraction mechanism 72 provided in the post-processing chamber 16. When the bonding is completed and the gate valve 70 between the post-processing chamber 16 and the substrate bonding chamber 15 is opened, the roller conveyor 71 extends to the substrate bonding chamber 15 side and docks on the substrate delivery conveyor 66, The liquid crystal panel formed by bonding the substrates 1 and 2 is unloaded from the substrate bonding chamber 15.

なお、このシステムでは、基板貼合室15への上下の基板1,2の搬入と上下テーブル65,67への載置保持を略同時に行なうことができ、これにより、パネル組立の時間を大幅に短縮できる。   In this system, the upper and lower substrates 1 and 2 can be carried into the substrate bonding chamber 15 and placed on the upper and lower tables 65 and 67 at substantially the same time, thereby greatly increasing the panel assembly time. Can be shortened.

上記のように、前処理室14から上下基板1,2が基板貼合室15の上テーブル67及び下テーブル65に夫々保持されると、ゲートバルブ69が閉じられる。なお、基板貼合室15と後処理室間16のゲートバルブ70は予め閉じられている。ゲートバルブ69が閉じられると、基板貼合室15内を高真空状態として上下基板1,2の貼り合わせが行なわれる。基板貼合室15内が高真空状態となると、上基板2と下基板1との位置合わせが行なわれる。上下基板1,2の位置合わせは、上下基板1,2の夫々に設けられている位置合わせマークを図示しないカメラによって観測して位置ずれ量を求め、その位置ずれ量に応じて下テーブル65を水平方向に移動させて行なわれる。位置合わせが終了すると、図示していない駆動機構を用いて、上テーブル67を下テーブル65側に移動して貼り合わせが行なわれる。   As described above, when the upper and lower substrates 1 and 2 are held from the pretreatment chamber 14 by the upper table 67 and the lower table 65, respectively, the gate valve 69 is closed. Note that the gate valve 70 between the substrate bonding chamber 15 and the post-processing chamber 16 is closed in advance. When the gate valve 69 is closed, the upper and lower substrates 1 and 2 are bonded together while the substrate bonding chamber 15 is in a high vacuum state. When the inside of the substrate bonding chamber 15 is in a high vacuum state, the upper substrate 2 and the lower substrate 1 are aligned. The alignment of the upper and lower substrates 1 and 2 is performed by observing the alignment marks provided on the upper and lower substrates 1 and 2 with a camera (not shown) to determine the amount of displacement, and the lower table 65 is moved according to the amount of displacement. It is performed by moving in the horizontal direction. When the alignment is completed, the upper table 67 is moved to the lower table 65 side using a driving mechanism (not shown), and bonding is performed.

上下基板1,2の貼り合わせが終了すると、先に述べたように、基板貼合室15内を半真空状態とし、後処理室16を予め設定されている半真空状態から真空状態にする。基板貼合室15内が半真空状態となると、ゲートバルブ70が開かれ、後処理室16からローラコンベア71が基板貼合室15内に伸びて受け渡しコンベア66上の上下基板1,2が貼り合わされて液晶パネル19の状態になった作成物が後処理室16側に搬出される。後処理室16に液晶パネル19が搬入されると、ゲートバルブ70が閉じられ、後処理室16内が大気状態に戻される。このように、大気に戻されることにより、液晶パネル19の全体に大気圧が均一に加わり、上下基板1,2間の間隔が正規の間隔になる。   When the bonding of the upper and lower substrates 1 and 2 is completed, as described above, the inside of the substrate bonding chamber 15 is set in a semi-vacuum state, and the post-processing chamber 16 is changed from a preset semi-vacuum state to a vacuum state. When the inside of the substrate bonding chamber 15 is in a semi-vacuum state, the gate valve 70 is opened, the roller conveyor 71 extends from the post-processing chamber 16 into the substrate bonding chamber 15, and the upper and lower substrates 1 and 2 on the transfer conveyor 66 are bonded. The combined product in the state of the liquid crystal panel 19 is carried out to the post-processing chamber 16 side. When the liquid crystal panel 19 is carried into the post-processing chamber 16, the gate valve 70 is closed, and the inside of the post-processing chamber 16 is returned to the atmospheric state. In this way, by returning to the atmosphere, atmospheric pressure is uniformly applied to the entire liquid crystal panel 19, and the interval between the upper and lower substrates 1 and 2 becomes a regular interval.

後処理室16内が大気に戻されると、第3の搬送ライン20を構成するローラコンベアにより、液晶パネル19が紫外線照射室17(図1)に搬送され、そこで、シール剤に紫外線が照射されてシール剤が硬化される。シール剤の硬化が終了すると、同じくローラコンベアにより、パネル検査室18に送られ、液晶パネル19の状態が検査され、次の工程に送られる。   When the inside of the post-processing chamber 16 is returned to the atmosphere, the liquid crystal panel 19 is transferred to the ultraviolet irradiation chamber 17 (FIG. 1) by the roller conveyor constituting the third transfer line 20, where the sealing agent is irradiated with ultraviolet rays. The sealant is cured. When the curing of the sealant is completed, it is sent to the panel inspection chamber 18 by the roller conveyor, and the state of the liquid crystal panel 19 is inspected and sent to the next step.

このように、基板貼合室15内の真空度を半真空の状態と高真空の状態とに繰り返すようにするために、前後に前処理室14と後処理室16を設けてゲートバルブ69,70を開閉して上下基板1,2の受け渡し及びその貼り合わせ後の液晶パネル19の送り出しを行なう構成とした。このように、半真空状態と高真空状態を繰り返すことにより、基板貼合室15内で真空状態する時間の短縮を図るとともに、基板貼合室15内の清浄度を低下させることを防止したものである。   Thus, in order to repeat the degree of vacuum in the substrate bonding chamber 15 between a semi-vacuum state and a high vacuum state, a pre-treatment chamber 14 and a post-treatment chamber 16 are provided before and after the gate valve 69, 70 is opened and closed to deliver the upper and lower substrates 1 and 2 and to send out the liquid crystal panel 19 after bonding. As described above, by repeating the semi-vacuum state and the high vacuum state, the time for vacuuming in the substrate bonding chamber 15 is shortened, and the cleanliness in the substrate bonding chamber 15 is prevented from being lowered. It is.

以上のように、この実施形態では、基板貼合室15内に上下基板1,2を略同時に搬入して上テーブル67と下テーブル65とに保持するようにしたため、従来、別々に搬入していた場合に比べて、貼り合わせに要する時間を短縮できる。   As described above, in this embodiment, since the upper and lower substrates 1 and 2 are carried into the substrate bonding chamber 15 substantially simultaneously and held on the upper table 67 and the lower table 65, conventionally, they are carried separately. Compared to the case, the time required for bonding can be shortened.

また、貼り合わせを行なう前の工程の各処理室の配置を略直線状に配置し、上下基板1,2の搬送にローラコンベアを用いる構成としたために、各処理装置のテーブル構成を略同じ構成にでき、かつ装置の設置面積を縮小することが可能となり、かつタクトタイムを短縮することができた。   In addition, since the arrangement of the processing chambers in the process before the bonding is arranged substantially linearly and the roller conveyor is used for transporting the upper and lower substrates 1 and 2, the table configuration of each processing apparatus is substantially the same. In addition, the installation area of the apparatus can be reduced, and the tact time can be shortened.

12 下基板
2 上基板
3 基板搬入ロボット
4 整列機構
5 第1の搬送ライン(インライン)
6 第2の搬送ライン(サイドライン)
7 ペースト塗布機(シールディスペンサ)
8 短絡用電極形成用塗布機
9 液晶滴下装置
10 第1の検出室
11 基板反転装置
12 移載室
13 ロボットハンド
14 前処理室
15 基板貼合室(真空チャンバ)
16 後処理室
17 紫外線照射室
18 第2の検査室(パネル検査室)
19 貼合基板(液晶パネル)
20 第3の搬送ライン
30a,30b 動力伝達軸
31a,31b ローラ
32a,32b 基板検出センサ
33a,33b 駆動モータ
40 架台
41 移動用柱
42 ウォーキングビーム
43 水平移動部
44 上下移動部材
45 指部
46 真空吸着パッド
50 架台
51 上基板搬送パレット
52 回転腕
53 駆動機構
54 連結部
55 桟
56 真空吸着パッド
57 連結機構
60 ローラコンベア
61 ローラコンベア
62 ロボットハンド
63 指部
64 吸着パッド
65 下テーブル
66 基板受渡し用のローラコンベア
67 上テーブル
68 吸着パッド
69,70 ゲートバルブ
71 ローラコンベア
72 コンベア伸縮機構
12 Lower substrate 2 Upper substrate 3 Substrate loading robot 4 Alignment mechanism 5 First transfer line (inline)
6 Second transport line (side line)
7 Paste applicator (seal dispenser)
8 Coating device for forming an electrode for short-circuiting 9 Liquid crystal dropping device 10 First detection chamber 11 Substrate reversing device 12 Transfer chamber 13 Robot hand 14 Pretreatment chamber 15 Substrate bonding chamber (vacuum chamber)
16 Post-treatment room 17 UV irradiation room 18 Second inspection room (panel inspection room)
19 Bonding substrate (liquid crystal panel)
20 Third transport line 30a, 30b Power transmission shaft 31a, 31b Roller 32a, 32b Substrate detection sensor 33a, 33b Drive motor 40 Mounting frame 41 Moving column 42 Walking beam 43 Horizontal moving part 44 Vertical moving member 45 Finger part 46 Vacuum adsorption Pad 50 Pedestal 51 Upper substrate transport pallet 52 Rotating arm 53 Drive mechanism 54 Connection portion 55 Crossing 56 Vacuum suction pad 57 Connection mechanism 60 Roller conveyor 61 Roller conveyor 62 Robot hand 63 Finger portion 64 Adsorption pad 65 Lower table 66 Roller for substrate delivery Conveyor 67 Upper table 68 Suction pad 69, 70 Gate valve 71 Roller conveyor 72 Conveyor expansion / contraction mechanism

Claims (5)

上基板と環状に形成したシール剤のループの内側に液晶を滴下した下基板とを夫々基板貼合装置に搬送する前に、ローラコンベア上を上向きにして搬送される該上基板を上下反転させる基板反転装置において、
架台上に上向きで搬送されてきた該上基板を上向きの状態でローラコンベアから受け取り保持する複数の指部を備えたウォーキングビームを備え、
該ウォーキングビームは、一端側に上下移動部材が、他端側に水平移動部が夫々設けられ、該架台上に設けられた移動用柱に沿って該上下移動部材が上下に移動するとともに、
該水平移動部がリニアガイドに沿って水平方向に移動する構成としたことを特徴とする基板反転装置。
Before the upper substrate and the lower substrate in which liquid crystal is dropped inside the loop of the sealing agent formed in an annular shape are conveyed to the substrate laminating apparatus, the upper substrate conveyed upside down on the roller conveyor is turned upside down. In the substrate reversing device,
A walking beam having a plurality of fingers that receive and hold the upper substrate, which has been conveyed upward on the gantry, from the roller conveyor in an upward state,
The walking beam is provided with a vertically moving member on one end side and a horizontal moving part on the other end side, and the vertically moving member moves up and down along a moving column provided on the gantry.
A substrate reversing apparatus characterized in that the horizontal moving portion moves in a horizontal direction along a linear guide.
請求項1に記載の基板反転装置において、
前記ウォーキングビームの複数の指部夫々に、前記上基板を吸着保持する複数の真空吸着パッドが設けられており、
該真空吸着パッドは前記指部の面より所定の高さの足部を備えていることを特徴とする基板反転装置。
The substrate reversing apparatus according to claim 1,
Each of the plurality of finger portions of the walking beam is provided with a plurality of vacuum suction pads for sucking and holding the upper substrate,
The substrate reversing device, wherein the vacuum suction pad includes a foot portion having a predetermined height from the surface of the finger portion.
基板貼合装置で上基板と下基板とを夫々上テーブルと下テーブルに保持して貼り合わせを行なう前に、上向きにローラコンベア上を搬送されて来た該上基板を上下反転させる基板反転装置において、
連結部が設けられた回転腕が反転機構を構成し、
該上基板を上向きに保持して該ローラコンベア上を搬送されてきた搬送パレットの連結機構を該回転腕の連結部に回動可能に連結し、該回転腕を半回転させて該搬送パレットとこれに保持された該上基板とを上下反転させる構成としたことを特徴とする基板反転装置。
Substrate reversing device that vertically flips the upper substrate that has been transported upward on the roller conveyor before the upper substrate and the lower substrate are held on the upper table and the lower table, respectively, by the substrate laminating device. In
The rotating arm provided with the connecting portion constitutes a reversing mechanism,
A transport pallet connecting mechanism that has been transported on the roller conveyor while holding the upper substrate upward is rotatably connected to a connecting portion of the rotating arm, and the rotating arm is rotated halfway to the transport pallet. A substrate reversing apparatus characterized in that the upper substrate held thereby is vertically reversed.
請求項3に記載の基板反転装置において、
前記搬送パレットを反転させるとき、前記搬送パレットと前記回転腕の連結部との間で前記搬送パレットが回動できるように構成したことを特徴とする基板反転装置。
The substrate reversing apparatus according to claim 3,
A substrate reversing device, wherein when the transport pallet is reversed, the transport pallet can be rotated between the transport pallet and the connecting portion of the rotating arm.
ローラコンベア上を上向きに搬送されてきた基板を反転させる基板反転方法において、
前記基板を上向きに保持して前記ローラコンベア上を搬送されてきた搬送パレットの連結機構を回転腕の連結部に回動可能に連結し、該回転腕を半回転させて該搬送パレットとこれに保持された前記基板とを上下反転させること特徴とする基板反転方法。
In the substrate reversing method for reversing the substrate conveyed upward on the roller conveyor,
A transport pallet connecting mechanism that has been transported on the roller conveyor while holding the substrate upward is rotatably connected to a connecting portion of a rotating arm, and the rotating arm is half-rotated to the transport pallet and the transfer pallet. A substrate inversion method, wherein the held substrate is inverted upside down.
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