JP5502304B2 - 磁気共鳴イメージング装置およびrfコイル - Google Patents

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Description

この発明は、磁気共鳴イメージング装置およびRF(Radio Frequency)コイルに関し、特に、RFコイルの周辺に発生する熱を抑えることができる磁気共鳴イメージング装置およびRFコイルに関する。
磁気共鳴イメージング装置は、静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加し、その高周波磁場によって被検体から発せられる磁気共鳴信号を検出して画像を再構成する装置である。かかる磁気共鳴イメージング装置は、被検体へ高周波磁場を印加し、さらに、被検体から発せられる磁気共鳴信号を検出するRFコイルを有する。このRFコイルには、高周波磁場の印加と磁気共鳴信号の検出とを単一のコイルで行う送受信兼用のものと、それぞれの動作を、送信用、受信用の異なったコイルで行うものとがある。
一般的に、RFコイルは、銅箔などの薄い導電部材を用いて形成され、この導電部材には、RFコイルの動作を制御するための所定の回路素子が接続される。たとえば、RFコイルには、高周波磁場の周波数と共鳴周波数とを同調させるための共振回路に含まれるキャパシタや、RFコイルが送受信兼用である場合に、動作モードを送信/受信の両モード間で切替えるためのスイッチとなるPIN(P-Intrinsic-N)ダイオードなどが接続される。
これらの回路素子は電流が供給されると発熱するため、磁気共鳴イメージング装置を稼動した際には、RFコイルの周辺に熱が生じる。この熱は、被検体まで伝わってしまう可能性がある。そのため、磁気共鳴イメージング装置の稼働中は、適宜、RFコイル周辺の熱を冷却する必要がある。そこで、磁気共鳴イメージング装置に冷却装置を設け、その冷却装置を用いて、RFコイル周辺など発熱する可能性がある箇所に冷却空気を送り込むことによって、磁気共鳴イメージング装置内に発生する熱を冷却する技術が考案されている(たとえば、特許文献1参照)。
特開平8−322815号公報
しかしながら、RFコイルの周辺では、各種回路素子の発熱によって局所的に熱が発生するため、従来のようにRFコイルに対して単純に冷却空気を送り込むだけでは、効率よく発熱を抑えることができない場合があった。この事象は、体重が重い被検体を撮影する場合など、RFコイルに大きな電流を供給する必要がある場合に多く発生する。
この発明は、上述した従来技術による課題を解決するためになされたものであり、各種回路素子の発熱によってRFコイルの周辺に局所的に発生する熱を抑えることができる磁気共鳴イメージング装置およびRFコイルを提供することを目的とする。
本発明の一態様にかかる磁気共鳴イメージング装置は、静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加するRFコイルを備え、前記RFコイルは、複数の導電部材と、前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、前記導電部材は、その少なくとも一部が、前記回路素子から発せられる熱を分散するような厚みに形成され、かつ、前記回路素子から発せられる熱を分散するような形状に形成されている。
また、本発明の他の態様にかかる磁気共鳴イメージング装置は、静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加するRFコイルを備え、前記RFコイルは、複数の導電部材と、前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、前記導電部材は、その少なくとも一部が、前記回路素子から発せられる熱を分散するような厚みに形成され、かつ、前記回路素子から発せられる熱を分散するような材質で形成されている。
また、本発明の他の態様にかかるRFコイルは、磁気共鳴イメージング装置に備えられ、静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加し、複数の導電部材と、前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、前記導電部材は、その少なくとも一部が、前記回路素子から発せられる熱を分散するような厚みに形成され、かつ、前記回路素子から発せられる熱を分散するような材質で形成されている。
本発明によれば、各種回路素子の発熱によってRFコイルの周辺に局所的に発生する熱を抑えることができるという効果を奏する。
以下に添付図面を参照して、この発明に係る磁気共鳴イメージング装置およびRFコイルの好適な実施例を詳細に説明する。なお、以下では、磁気共鳴イメージング装置を「MRI(Magnetic Resonance Imaging)装置」と呼ぶ。
まず、本実施例に係るMRI装置の全体構成について説明する。図1は、本実施例に係るMRI装置の全体構成を説明するための図である。図1に示すように、このMRI装置100は、静磁場磁石110と、傾斜磁場コイル120と、RFコイル130と、傾斜磁場電源141と、送信部142と、受信部143と、シーケンス制御装置150と、寝台装置160と、コンピュータ170とを有する。
静磁場磁石110は、筒状に形成された磁石であり、静磁場電源(図示せず)から供給される電流により、被検体Pが配置される筒内部の空間に静磁場を発生させる。
傾斜磁場コイル120は、静磁場磁石110の内側に配設されたコイルであり、傾斜磁場電源141から供給される電流により、互いに直交するx,y,zの3方向に沿った傾斜磁場を静磁場磁石110の内側に発生させる。
RFコイル130は、静磁場磁石110の開口部内で被検体Pに対向するように配設された送受信兼用のコイルであり、送信部142から高周波パルスの供給を受けて被検体Pに高周波磁場を印加し、また、励起によって被検体Pの水素原子核から放出される磁気共鳴信号を受信する。かかるRFコイル130の構成については、後に詳細に説明する。
なお、上記の静磁場磁石110、傾斜磁場コイル120およびRFコイル130は、図示していない架台装置にそれぞれ搭載されている。
傾斜磁場電源141は、シーケンス制御装置150からの指示に基づいて、傾斜磁場コイル120に電流を供給する電源である。
送信部142は、シーケンス制御装置150からの指示に基づいて、RFコイル130にRFパルスを送信する装置である。
受信部143は、RFコイル130によって受信された磁気共鳴信号を検出し、検出した磁気共鳴信号をデジタル化することによって得られる生データをシーケンス制御装置150に対して送信する。
シーケンス制御装置150は、コンピュータ170による制御のもと、傾斜磁場電源141、送信部142および受信部143をそれぞれ駆動することによって被検体Pのスキャンを行う装置であり、スキャンを行った結果、受信部143から生データが送信されると、その生データをコンピュータ170に送信する。
寝台装置160は、被検体Pが載置される天板161を備え、架台装置に設けられた開口部内にある撮像領域へ被検体Pとともに天板161を移動する。
コンピュータ170は、MRI装置100全体を制御する装置であり、操作者から各種入力を受け付ける入力部、操作者から入力される撮像条件に基づいてシーケンス制御装置150にスキャンを実行させるシーケンス制御部、シーケンス制御装置150から送信された生データに基づいて画像を再構成する画像再構成部、再構成された画像などを記憶する記憶部、再構成された画像など各種情報を表示する表示部、操作者からの指示に基づいて各機能部の動作を制御する主制御部などを有する。
なお、図1では図示を省略したが、MRI装置100は、RFコイル130が有する回路素子の表面に冷却空気を流通させるための冷却部として、ダクトおよびファンを有している。かかる冷却部については、後に詳細に説明する。
次に、本実施例に係るRFコイル130の構成について説明する。なお、ここでは、RFコイル130としてバードケージ型のコイルを用いた場合について説明する。図2は、本実施例に係るRFコイル130の構成を示す図である。図2に示すように、このRFコイル130は、コイル支持部131と、二つのリング部132と、複数のラング部133と、二つのガイド部134を有する。
コイル支持部131は、円筒状に形成された支持部材(ボビン)であり、後述するリング部132や、ラング部133、ガイド部134などを、それぞれ所定の位置で保たれるように支持している。
二つのリング部132は、それぞれ、銅箔132aを用いてリング状に形成された導電部材である。各リング部132は、リングの中心軸が一致し、かつ、所定の距離だけ間が離れるように、それぞれ設けられている。
複数のラング部133は、それぞれ、銅箔133aを用いて矩形状に形成された導電部材である。各ラング部133は、それぞれ、二つのリング部132の間を接続するように、所定の間隔で設けられている。
これらリング部132およびラング部133には、それぞれ、RFコイル130の動作を制御するための所定の回路素子が接続されている。この回路素子としては、たとえば、PINダイオードやキャパシタなどがあり、リング部132にキャパシタ、ラング部133にPINダイオードが接続されたり、あるいは逆に、リング部132にPINダイオード、ラング部133にキャパシタが接続されたりする。以下では、これらPINダイオード、キャパシタを「回路素子」と総称して説明する。
図3は、ラング部133と回路素子との接続箇所を示す図である。図3に示すように、たとえば、ラング部133には、長手方向の略中心で銅箔133aを分離するようにスリット状のギャップが形成されており、各ギャップを架け渡すように複数の回路素子133bが接続されている。
ここで、図3右側の拡大図に示すように、ラング部133の銅箔133aは、回路素子133bの周辺部が厚くなるように形成されている。具体的には、銅箔133aは、RFコイル130に供給される高周波電流の周波数に応じた表皮深さに基づいて決められる厚さよりも大きな厚みを有するように形成されている。実用上、導電部材の厚さは、表皮深さの5倍以上とされるのが一般的である。そこで、たとえば、厚さがさらにその3倍程度(表皮深さの15倍程度)となるように、銅箔133aを形成しておく。
一般的に、銅箔などの金属を用いた導電部材は、その厚さが大きくなると導電部材内に蓄えられる熱容量が大きくなることが知られている。そのため、上記で説明したように、銅箔133aの厚さを増やすことによって、回路素子から発生した熱がより多く導電部材内に分散されることになり、RFコイル130の局所的に発生する熱を抑えることが可能になる。
なお、ここでいう「表皮深さ」とは、導電部材内で高周波電流が流れる際に、高周波電流が流れる深さである。導体に高周波電流が流れる場合、流れる電流は導体の表面に集中することが知られている。この現象は「表皮効果」と呼ばれており、表皮効果によって高周波電流が表面に集中した場合に、その電流が流れる深さが「表皮深さ」と呼ばれている。この表皮深さは、導体の材質や高周波の周波数に応じて決まり、周波数が高くなるほど浅くなる。そのため、RFコイルにおける導電部材の厚さは表皮深さに基づいて決められる(たとえば、表皮深さの5倍以上)。
図4は、リング部132と回路素子との接続箇所を示す図である。図4に示すように、たとえば、リング部132には、所定の間隔で複数のギャップが形成されており、各ギャップを架け渡すように複数の回路素子132bが接続されている。
ここで、図4右側の拡大図に示すように、リング部132の銅箔132aは、回路素子132bとの接続箇所の周りの部分が他の部分と比べて局所的に厚くなるように形成されている。具体的には、銅箔132aは、回路素子132bとの接続箇所の周りの部分が、一様ではなく、局所的に、RFコイル130に供給される高周波電流の周波数に応じた表皮深さに基づいて決められる厚さよりも大きな厚みを有するように形成されている。
一般的に、RFコイルでは、導電部材を厚くすると、傾斜磁場によってRFコイルに生じる渦電流(Eddy-Current)の影響が大きくなる。そのため、導電部材はなるべく薄く形成するのが望ましい。そこで、図4右側の拡大図に示すように、回路素子との接続箇所の周りの部分を他の部分と比べて局所的に厚くすることによって、渦電流の影響を抑えつつ回路素子から発散される熱を効率よく抑えることが可能になる。
また、近年、臨床用では3テスラMRI装置が、他の用途ではさらに高い静磁場を発生するMRI装置が利用されている。こられのMRI装置では、静磁場強度の増加にともなって、被検体に印加する高周波磁場の周波数、すなわち、RFコイルに供給する高周波電流の周波数も高める必要がある。前述したように、周波数が高くなると、高周波電流が流れる表皮深さは浅くなるため、導電部材の厚さは薄くすることができる。
しかし、この一方で、高周波電流の周波数が高くなると、一般的に回路素子の発熱量が大きくなるため、熱を分散するためには導電部材の厚さを厚くする必要がある。そこで、静磁場強度が高いMRI装置では、回路素子との接続部分の厚さと、それ以外の部分の厚さとの差が大きくなるように、導電部材を形成する。
なお、ラング部133の銅箔133aの厚さと、リング部132の銅箔132aの厚さとは、必ずしも同じに揃える必要はない。通常、回路素子によって発生する熱量は、回路素子の種類や構造により異なっているので、接続されている回路素子の種類に応じて、それぞれの銅箔の厚さを変えるようにしてもよい。
通常、発熱による回路素子の温度変化は、回路素子の種類ごとに異なっている。たとえば、PINダイオードとキャパシタとを比べた場合、PINダイオードのほうがキャパシタよりも速く温度が上昇する。そこで、たとえば、温度上昇が速い回路素子の周辺部分については、ラング部133の銅箔133aの厚さやリング部132の銅箔132aの厚さを他の回路素子に比べて大きくしてもよい。これにより、温度上昇が速い回路素子については、他の回路素子に比べて冷却効率が高められ、その結果として、回路素子の温度上昇の速さを遅くすることができる。
これにより、導電部材における回路素子周辺部の厚さを回路素子の種類ごとに調整すれば、RFコイル130が備える複数の回路素子の温度上昇の速さをほぼ均一に揃えることができることになる。したがって、たとえば、RFコイル130の温度上昇を検知するために各回路素子の温度上昇を計測する必要がある場合に、一部の回路素子の温度上昇を計測するだけで他の回路素子の温度上昇も推定することが可能になり、各回路素子の温度を効率よく計測することができるようになる。
なお、ここでは、ラング部133の銅箔133aやリング部132の銅箔132aにおいて、回路素子が接続された箇所の周辺部の厚みを局所的に大きくする場合について説明したが、さらに、厚みを大きくした部分の材質や形状、表面積の大きさを回路素子の種類に応じて変えてもよい。材質を変える場合には、たとえば、銅箔の表面を他の金属の膜で被膜したりする。また、形状を変える場合には、たとえば、厚みを大きくした部分の表面を波型に成形したり、表面に溝を形成したりする。こうして、導電部材の材質や形状、表面積の大きさを変えることによって、厚みを変える場合と同様に、回路素子の温度上昇などを調整することが可能である。
図2にもどって、ガイド部134は、RFコイル130の表面上に冷却空気の流路を形成するリング状の部材である。具体的には、このガイド部134は、図2に示すように、一方のリング部132とラング部133の中央部との間、および、他方のリング部132とラング部133の中央部との間に、それぞれRFコイル130の円周方向に沿って設けられている。また、これらガイド部134の一部には、それぞれ、所定の幅の切欠部134aが設けられている。
なお、ここでは図示を省略しているが、RFコイル130の外側には、RFコイル130を覆うように円筒状のボアチューブが形成されている。そのため、ガイド部134を設けることによって、コイル支持部131とボアチューブとで挟まれ、かつ、ガイド部134によって仕切られた空間がRFコイル130の表面に形成される。この空間は、RFコイル130の表面で冷却空気が流れる際の流路となる。このように流路が形成されることによって、RFコイル130の表面上で、各回路素子に沿って冷却空気が流れるようになる。
図5および6は、ガイド部134により形成される流路および冷却空気の流れを示す図である。具体的には、図5に示すように、各ガイド部134によって、一方のリング部132が有する複数の回路素子132bに沿って流れる第一の流路(図5に示す(1)参照)と、他方のリング部132が有する複数の回路素子132bに沿って流れる第二の流路(図5に示す(2)参照)と、複数の回路素子133bに沿って流れる第三の流路(図5に示す(3)参照)とがそれぞれ形成される。
なお、図5において、ダクト181およびファン182は、RFコイル130に備えられた回路素子の表面に冷却空気を流通させるための冷却部である。ダクト181は、RFコイル130の付近に設けられた排気口183と、ファン182との間に取り付けられた排気管である。たとえば、このダクト181は、RFコイル130内の下方に設けられた天板レール部(天板161を水平方向へ移動可能に支持する支持部)の下側に、当該天板レール部に沿って取り付けられる。
また、ファン182は、ダクト181を介して空気を吸引する吸引装置である。このファン182は、MRI装置100が据え置かれているシールドルームの外に設けられている。このように、ファン182をシールドルーム外に設けることによって、ファン182の電気系統の影響でRFコイル130が受信する信号にノイズが混入されるのを防ぐことができる。
ここで、たとえば図5に示すように、第三の流路の付近に排気口183が設けられていた場合には、ファン182が駆動されると、ダクト181を介してRFコイル130表面の空気が吸い出され、第三の流路を流れる冷却空気の風が発生する。これによって、各ラング部133が有する回路素子133bに沿って、冷却空気が流れる。さらに、各ガイド部134に設けられている切欠部134aを介して、第一および第二の流路から第三の流路へ空気が流れ込む。これによって、各リング部132が有する回路素子132bに沿って、冷却空気が流れる。
このように、ガイド部134によって、ダクト181およびファン182により流通される冷却空気が回路素子の表面に沿って流れるように、RFコイル130の表面上に冷却空気の流路が形成されるので、各回路素子により発生する熱を効率よく冷却することが可能になる。
ところで、一般的に、RFコイル130では、リング部132に複数のキャパシタが、ラング部133に複数のPINダイオードがそれぞれ設けられる。または、反対に、リング部132に複数のPINダイオードが、ラング部133に複数のキャパシタがそれぞれ設けられる。または、リング部132、ラング部133のいずれか一方または両方に、キャパシタおよびPINダイオードが設けられる。
このような構成で、たとえば、リング部132に設けられる回路素子132bと、ラング部133に設けられる回路素子133bとの間で発熱量に差があったとする。その場合には、前述した冷却空気は、発熱量が大きい回路を冷却した後に発熱量が小さい回路の表面を冷却するように流れたほうが、RFコイル130全体として、より冷却効率が高くなる。
そこで、たとえば、リング部132に設けられた回路素子132bの発熱量がラング部133に設けられた回路素子133bの発熱量より大きい場合には、図5に示したように冷却空気を流通させる。すなわち、冷却空気は、リング部132に設けられた回路素子132bに沿って流れた後に(図5に示す(1)および(2)参照)、ラング部133に設けられた回路素子133bに沿って流れる(図5に示す(3)参照)。
一方、ラング部133に設けられた回路素子133bの発熱量がリング部132に設けられる回路素子132bの発熱量より大きい場合には、図6に示すように、リング部132の付近それぞれに排気口283を設ける。これにより、冷却空気は、ラング部133に設けられた回路素子133bに沿って流れた後に(図6に示す(1)参照)、リング部132に設けられた回路素子132bに沿って流れる(図6に示す(2)および(3)参照)。
このように、RFコイル130が、第一の回路素子と、発熱性が第一の回路素子に比べて高い第二の回路素子とを備えている場合に、冷却部が、第二の回路素子の表面を通過した後に第一の回路素子の表面を通過するように冷却空気を流通させることによって、RFコイル130全体を効率よく冷却することができる。
なお、ここでは、リング部132に設けられる回路素子132bと、ラング部133に設けられる回路素子133bとの間で発熱量に差があった場合について説明したが、両回路素子の間で許容される発熱温度の上限値に差がある場合でも、上記と同様に冷却空気の流路を変えることによって、RFコイル130全体を効率よく冷却することができる。
なお、ここでは、冷却空気を流通させるための方法として、吸引装置(ファン182)を用いて空気を吸引する場合について説明したが、逆に、空気を送り込むことによって冷却空気を流通させるようにしてもよい。その場合には、ダクト181を介して空気を送り込む送気装置を用いる。冷却空気を流通させるための装置としては、吸引装置、送気装置のいずれを用いてもよいが、空気の流通効率を考慮した場合には、吸引装置を用いるほうが好ましい。
上述してきたように、本実施例では、RFコイル130が、複数の導電部材と、各それら複数の導電部材に接続された回路素子とを備えており、各導電部材は、その少なくとも一部を、回路素子から発せられる熱を分散するような厚みに形成されているので、回路素子から発生する熱を導電部材内に分散することが可能になり、各種回路素子の発熱によってRFコイル130の周辺に局所的に発生する熱を抑えることができる。
また、本実施例では、MRI装置100が、RFコイル130に備えられた回路素子の表面に冷却空気を流通させる冷却部を備えるよう構成したので、従来のようにRFコイル130全体に冷却空気を吹き付けるのではなく、発熱する回路素子を直接冷却することが可能になり、各種回路素子の発熱によってRFコイル130の周辺に局所的に発生する熱を抑えることができる。
以上、本実施例に係るMRI装置100の構成を中心に説明してきたが、最後に、実験結果に基づいて、このMRI装置100の有効性を示すこととする。図7は、RFコイルにおける銅箔の厚み、送風の有無および回路素子周辺の温度変化の関係を示すグラフである。
図7は、WB(Whole Body:ホールボディー)コイルの表面にガイド部を設けたMRI装置において、銅箔の厚みを薄くした場合/厚くした場合、送風あり/送風なしの条件で測定した回路素子周辺の温度変化を示しており、具体的には、銅箔の厚みを0.03mmとした場合のPINダイオード周辺の銅箔の温度変化と、銅箔の厚みを0.3mmとした場合のPINダイオード周辺の銅箔の温度変化と、MRI装置が据え付けられたシールドルーム内の温度変化とをそれぞれ測定した結果を示している。
図7に示すように、銅箔の厚みを0.03mmから0.3mmに変更することによって、PINダイオード周辺の温度が8.2度降下した。また、ファンを駆動させて空気の吸引を行った場合には、PINダイオード周辺の温度がさらに11.1度降下した。この結果からも、本実施例に係るMRI装置が、実際に、回路素子の発熱によってRFコイルの周辺に局所的に発生する熱を抑えることができることがわかる。
なお、本実施例では、MRI装置が、厚みを増やした導電部材(銅箔)と、冷却部とをともに備えた場合について説明したが、本発明はこれに限られるわけではなく、いずれか一方のみを備えるようにしてもよい。いずれか一方のみを備えた場合でも、上記の実験結果からみて、目的とする効果が得られることは明らかである。
なお、本実施例では、バードケージ型のRFコイルについて説明したが、本発明はこれに限られるわけではなく、鞍型、ソレノイド型、スロットレゾネータ型など、他の形状のRFコイルについても同様に適用することができる。
また、本実施例では、RFコイルが有する導電部材が銅箔である場合について説明したが、本発明はこれに限られるわけではなく、導電部材が金や銀など他の金属である場合でも同様に適用することができる。
以上のように、本発明に係る磁気共鳴イメージング装置およびRFコイルは、RFコイルの周辺に発生する熱を抑える場合に有用であり、特に、RFコイルが有する回路素子によって局所的に発生する熱を抑える場合に適している。
本実施例に係るMRI装置の全体構成を説明するための図である。 本実施例に係るRFコイルの構成を示す図である。 ラング部と回路素子との接続箇所を示す図である。 リング部と回路素子との接続箇所を示す図である。 ガイド部により形成される流路および冷却空気の流れを示す図(1)である。 ガイド部により形成される流路および冷却空気の流れを示す図(2)である。 RFコイルにおける銅箔の厚み、送風の有無および回路素子周辺の温度変化の関係を示すグラフである。
符号の説明
100 磁気共鳴イメージング装置(MRI装置)
110 静磁場磁石
120 傾斜磁場コイル
130 RFコイル
131 コイル支持部
132 リング部
132a,133a 銅箔
132b,133b 回路素子
133 ラング部
134 ガイド部
134a 切欠部
141 傾斜磁場電源
142 送信部
143 受信部
150 シーケンス制御装置
160 寝台装置
161 天板
170 コンピュータ
181 ダクト
182 ファン
183,283 排気口

Claims (19)

  1. 静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加するRFコイルを備え、
    前記RFコイルは、
    複数の導電部材と、
    前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、
    前記導電部材は、前記回路素子との接続箇所の周辺部が、他の部分と比べて局所的に大きな厚みを有するように形成されている、
    磁気共鳴イメージング装置。
  2. 前記導電部材は、局所的に大きな厚みを有するように形成された部分の厚さが、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  3. 前記導電部材は、前記厚みに形成された部分の材質が、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  4. 前記導電部材は、前記厚みに形成された部分の形状が、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  5. 前記導電部材は、前記厚みに形成された部分の表面積の大きさが、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  6. 前記回路素子の表面に冷却空気を流通させる冷却部をさらに備えた、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  7. 前記RFコイルは、前記回路素子として、第一の回路素子と、発熱量が前記第一の回路素子に比べて大きい第二の回路素子とを備え、
    前記冷却部は、前記第二の回路素子の表面を通過した後に前記第一の回路素子の表面を通過するように前記冷却空気を流通させる、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  8. 前記RFコイルは、前記回路素子として、第一の回路素子と、許容される発熱温度の上限値が前記第一の回路素子に比べて高い第二の回路素子とを備え、
    前記冷却部は、前記第の回路素子の表面を通過した後に前記第の回路素子の表面を通過するように前記冷却空気を流通させる、
    請求項1に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  9. 静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加するRFコイルを備え、
    前記RFコイルは、
    複数の導電部材と、
    前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、
    前記導電部材は、前記回路素子との接続箇所の周辺部が、他の部分と比べて熱を分散し易い材質で形成されている、
    磁気共鳴イメージング装置。
  10. 前記導電部材は、前記回路素子との接続箇所の周部が、他の部分と比べて局所的に大きな厚みを有するように形成されている、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  11. 前記導電部材は、局所的に大きな厚みを有するように形成された部分の厚さが、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項10に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  12. 前記導電部材は、前記材質が、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  13. 前記導電部材は、前記材質で形成された部分の形状が、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  14. 前記導電部材は、前記材質で形成された部分の表面積の大きさが、前記回路素子の種類に応じて決められている、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  15. 前記回路素子の表面に冷却空気を流通させる冷却部をさらに備えた、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  16. 前記RFコイルは、前記回路素子として、第一の回路素子と、発熱量が前記第一の回路素子に比べて大きい第二の回路素子とを備え、
    前記冷却部は、前記第二の回路素子の表面を通過した後に前記第一の回路素子の表面を通過するように前記冷却空気を流通させる、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  17. 前記RFコイルは、前記回路素子として、第一の回路素子と、許容される発熱温度の上限値が前記第一の回路素子に比べて高い第二の回路素子とを備え、
    前記冷却部は、前記第の回路素子の表面を通過した後に前記第の回路素子の表面を通過するように前記冷却空気を流通させる、
    請求項に記載の磁気共鳴イメージング装置。
  18. 磁気共鳴イメージング装置に備えられ、静磁場中に置かれた被検体に高周波磁場を印加し、
    複数の導電部材と、
    前記複数の導電部材に接続された回路素子とを有し、
    前記導電部材は、前記回路素子との接続箇所の周辺部が、他の部分と比べて熱を分散し易い材質で形成されている、
    RFコイル。
  19. 前記導電部材は、前記回路素子との接続箇所の周辺部が、局所的に、前記高周波磁場を発生させる高周波電流の周波数に応じた表皮深さに基づいて決められる厚さよりも大きな厚みを有するように形成されている、
    請求項18に記載のRFコイル。
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