JP5482361B2 - パターン形成体の製造方法およびカラーフィルタの製造方法 - Google Patents
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吸水寸法変化量[μm/100mm]=吸水寸法変化率[μm/100mm/Δwt%]×吸水量差[Δwt%] (1)
(ここで、吸水寸法変化率は、プラスチック基板の吸水量差に対する寸法変化量の割合を表し、プラスチック基板の材質に固有の値である。)
を用いることにより、上記特定の吸水量とした際の寸法が所定の範囲内となるように、吸水量が制御されることが好ましい。常温常湿雰囲気(例えば、25℃、45%RH)下におけるプラスチック基板の吸水量と上記特定の吸水量との吸水量差が一定の範囲内となるようにプラスチック基板の吸水量を制御することで、支持基板から取り外した後の常温常湿雰囲気下におけるプラスチック基板を所望の寸法に出来るとともに、プラスチック基板毎の寸法ばらつきを一定の範囲内とすることができるからである。
まず、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、上記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板に仮固定された上記プラスチック基板上にパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とする製造方法である。
以下、本発明のパターン形成体の製造方法について、工程ごとに説明する。
まず、本発明における脱水工程について説明する。本発明における脱水工程は、プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する工程である。
吸水寸法変化量[μm/100mm]=吸水寸法変化率[μm/100mm/Δwt%]×吸水量差[Δwt%] (1)
(ここで、吸水寸法変化率は、プラスチック基板の吸水量差に対する寸法変化量の割合を表し、プラスチック基板の材質に固有の値である。)
を用いることにより、上記特定の吸水量とした際の寸法が所定の範囲内となるように、吸水量が制御されることが好ましい。常温常湿雰囲気下におけるプラスチック基板の吸水量と上記特定の吸水量との吸水量差が一定の範囲内となるようにプラスチック基板の吸水量を制御することで、支持基板から取り外した後の常温常湿雰囲気下におけるプラスチック基板を所望の寸法に出来るとともに、プラスチック基板毎の寸法ばらつきを一定の範囲内とすることができるからである。
また、本工程における加熱手段としては、所望の吸水量となるようにプラスチック基板を加熱脱水することができれば、特に限定されるものではなく、例えば、温風加熱炉、赤外線加熱炉、ホットプレート、および加熱ロール等を挙げることができる。
次に、本発明における貼合工程について説明する。本発明における貼合工程は、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する工程である。
また、上記支持基板の湿度膨張係数は、10ppm/%RH以下であることが好ましく、5ppm/%RH以下であることがより好ましく、1ppm/%RH以下であることがさらに好ましい。
支持基板の線膨張係数および湿度膨張係数をそれぞれ上記範囲内とすることで、支持基板の温度および湿度寸法変化を極めて少なくすることができ、吸水量や温度変化によるプラスチック基板の寸法変化をより抑制することができるからである。
次に、本発明におけるパターン形成工程について説明する。本発明におけるパターン形成工程は、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上にパターンを形成する工程である。
本発明のパターン形成体の製造方法は、少なくとも上記脱水工程、上記貼合工程および上記パターン形成工程を有する製造方法であるが、必要に応じて、その他の工程を有していても良い。その他の工程としては、例えば、支持基板から取り外したパターン形成体と他の部材とを貼り合わせて積層させる積層工程等を挙げることができる。
本発明のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体は、プラスチック基板上にパターンが形成されてなるものである。本発明によれば、上述した工程を経ることにより、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが寸法精度良く形成されたパターン形成体を得ることができる。また、パターンを多層重ねる工程ごとに、上記脱水工程および上記貼合工程をプラスチック基板に施すことで、寸法の再現性が高く、重ね合わせ精度の高い積層パターン形成体を得ることができる。
また、上記パターン形成体の構成としては、少なくとも、プラスチック基板と、プラスチック基板上に形成された所望のパターンとを有するものであれば、特に限定されるものではなく、目的とするパターン形成体の種類等に応じて、任意の構成とすることができる。
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明なプラスチック基板上に複数の着色層がパターン状に形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、上記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上に上記着色層のパターンを形成する着色層形成工程とを有することを特徴とする製造方法である。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について、工程ごとに説明する。
まず、本発明における脱水工程について説明する。本発明における脱水工程は、透明なプラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する工程である。
次に、本発明における貼合工程について説明する。本発明における貼合工程は、上記脱水工程後の上記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が上記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する工程である。本工程の詳細については、上記「A.パターン形成体の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明における着色層形成工程について説明する。本発明における着色層形成工程は、上記支持基板上に仮固定された上記プラスチック基板上に着色層のパターンを形成する工程である。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、少なくとも上記脱水工程、上記貼合工程および上記着色層形成工程を有するものであるが、必要に応じて、その他の工程を有していても良い。その他の工程としては、例えば、上記着色層および上記遮光部を覆うようにオーバーコート層を形成するオーバーコート層形成工程、および、上記オーバーコート層上に透明電極層を形成する透明電極層形成工程等を挙げることができる。これらの工程は、上記着色層形成工程後に、支持基板からパターン形成体を取り外してから行っても良く、支持基板にパターン形成体を仮固定したまま行っても良い。上記その他の工程については、一般的なカラーフィルタの製造時に行われている工程と同様とすることができるので、ここでの記載は省略する。
本発明のカラーフィルタの製造方法により得られるカラーフィルタは、透明なプラスチック基板上に複数の着色層がパターン状に形成されてなるものである。本発明によれば、上述した工程を経ることにより、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、複数色の着色層のカラーパターンが寸法精度高く形成されたカラーフィルタを得ることができる。
上記カラーフィルタの構成としては、少なくとも、透明なプラスチック基板と、透明なプラスチック基板上に形成された着色層とを有するものであれば、特に限定されるものではなく、目的とする画像表示素子の種類等に応じて、任意の構成とすることができる。
プラスチック基板として、ガラス転移点が155℃であり、ガラス転移点以下における線膨張係数および湿度膨張係数が、それぞれ13ppm/℃および11ppm/%RHであり、300mm×400mm(0.2mmt)サイズのPENフィルムを準備した。上記プラスチック基板の吸水量をJIS法 K7209に基づき、110℃のオーブン乾燥による絶乾吸水量および23℃の水浸漬による飽和吸水量を測定し、それぞれの状態の寸法を測定した。
次に、上記熱処理を施したプラスチック基板を、23℃まで即座に冷却し、23℃、45%RHの雰囲気下で、シリコーンゴムを粘着材として用いて、上記支持基板に貼合した。
2 … 粘着層
3 … 支持基板
4 … パターン
5 … 遮光部
6 … 着色層
6R … 赤色着色層
6G … 緑色着色層
6B … 青色着色層
10 … パターン形成体
11 … カラーフィルタ
Claims (7)
- プラスチック基板上にパターンが形成されてなるパターン形成体の製造方法であって、
前記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、
前記脱水工程後の前記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が前記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、
前記支持基板上に仮固定された前記プラスチック基板上にパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。 - 前記支持基板の線膨張係数および湿度膨張係数が、10ppm/℃以下および10ppm/%RH以下であることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記脱水工程では、下記式(1):
吸水寸法変化量[μm/100mm]=吸水寸法変化率[μm/100mm/Δwt%]×吸水量差[Δwt%] (1)
(ここで、吸水寸法変化率は、プラスチック基板の吸水量差に対する寸法変化量の割合を表し、プラスチック基板の材質に固有の値である。)
を用いることにより、前記特定の吸水量とした際の寸法が所定の範囲内となるように、吸水量が制御されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成体の製造方法。 - 前記貼合工程における前記プラスチック基板の温度が、常温であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
- 前記支持基板が、ガラス基板であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体の製造方法。
- 透明なプラスチック基板上に複数の着色層がパターン状に形成されてなるカラーフィルタの製造方法であって、
前記プラスチック基板を特定の吸水量となるまで脱水する脱水工程と、
前記脱水工程後の前記プラスチック基板を、温度および湿度寸法変化が前記プラスチック基板より少ない支持基板上に仮固定する貼合工程と、
前記支持基板上に仮固定された前記プラスチック基板上に前記着色層のパターンを形成する着色層形成工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 前記支持基板の線膨張係数および湿度膨張係数が、10ppm/℃以下および10ppm/%RH以下であることを特徴とする請求項6に記載のカラーフィルタの製造方法。
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