JP5481993B2 - アルミナイズド処理方法 - Google Patents
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Description
すなわち、アルミニウム被膜を施す必要のある超合金等の被処理金属は、上記の粉末混合物と一緒にボックス内に収納され、被処理金属は粉末混合物であるパックで覆われる。
この問題を解決するために、外部から供給する水素ガス(H2ガス)を還元剤として用いて被処理金属の表面にアルミニウムを析出させて拡散浸透させる場合は、このH2ガスについて、安全を確保するために慎重に取り扱わなければならないという面倒があるとともに、工場内のアルミナイズド処理の行われる反応容器までガスの供給配管を布設する必要があり、設備費が嵩むという欠点があった。
また、アルミナイズド処理時に、外部からH2ガスを供給する替わりに、活性剤として、加熱により水素を発生する一水素二フッ化アンモニウム(NH4F・HF,別名;「酸性フッ化アンモニウム」)を用いることができるが、一水素二フッ化アンモニウムを単独で使用すると、反応容器内は、反応時に副生する窒化物等の微粉体で汚染されやすくなり、その汚染のクリーニング作業の負荷が増大するという欠点があった。
本発明は、反応容器内に被処理金属、アルミニウム供給源及び活性剤を収納して加熱し、その被処理金属の表面層にアルミニウム拡散層を形成するアルミナイズド処理方法であって、前記活性剤は、フッ化アルミニウム(AlF3)及び一水素二フッ化アンモニウムの混合物からなることを特徴としている。
AlF3+2Al→3AlF(g)…(1)
NH4F・HF+3Al→2AlF(g)+5/2H2(g)+AlN(s)…(2)
上記構成のアルミナイズド処理方法において、AlF3及びNH4F・HFの混合物の重量比が上記の範囲内のときは、還元剤としてのH2ガスが十分に確保でき、さらに、汚染物質の窒化アルミニウム(AlN)の発生量を少なくすることができる。
本発明に係るアルミナイズド処理方法は、活性剤がAlF3及びNH4F・HFの混合物からなるので、外部からH2ガスの供給の必要がなく、したがって、H2ガスの供給設備を必要とすることなくアルミナイズド処理が行え、設備費を抑制できる特長を有している。
また、被処理金属製品上に形成されるアルミニウム拡散層の表面状態は、活性剤としてAlF3単独のときよりも良好で高品質のアルミナイズド製品を得ることができる。しかも、汚染物質の発生量を少なくすることができるので、クリーニング作業の負荷を軽減することができる。
図1は、本発明の一実施の形態に係るアルミナイズド処理方法を実施するための反応容器1の断面図である。
各反応箱3は、水平状に設けられた多孔板4で上下に二分割されていて、その二分割された下部には、アルミニウム供給源及び本発明に係る活性剤からなる処理剤aが収納され、上部には、ガスタービンの動翼や静翼のような被処理金属bが載置されるように構成されている。
被処理金属bしては、ガスタービンの動翼や静翼のようなニッケル基材合金だけでなく、周知のアルミナイズド処理の対象となる各種金属製品が挙げられる。
なぜならば、本発明に係るアルミナイズド処理は、上述した反応式(2)に示されるように、NH4F・HFの反応によって発生するH2ガスを還元剤として利用するからである。
また、処理温度は、周知のアルミナイズド処理と同様に、700〜1100℃の範囲で、処理時間は、1〜48時間の範囲で適宜設定することができる。
そして、反応容器1内を外部電気炉2で1080℃に4時間加熱処理を行った。このときの反応容器1内の圧力は、20kPaであった。
実験の結果、テストピースの表面には、良好なアルミニウム拡散層が得られた。また、反応容器1の内壁には、ほとんど汚染が生じなかった。
また、本発明に係るアルミナイズド処理は、活性剤としてAlF3を単独として用いたときよりも被処理金属製品上に形成されるアルミニウム拡散層の表面状態を良好にすることができ、高品質のアルミナイズド製品を得ることができる。
しかも、本発明に係るアルミナイズド処理は、汚染物質の発生量を少なくすることができるので、クリーニング作業の負荷を軽減することができる。
Claims (2)
- 反応容器内に被処理金属、アルミニウム供給源及び活性剤を収納して加熱し、その被処理金属の表面層にアルミニウム拡散層を形成するアルミナイズド処理方法であって、
前記活性剤は、フッ化アルミニウム及び一水素二フッ化アンモニウムの混合物からなることを特徴とするアルミナイズド処理方法。 - 前記フッ化アルミニウム対一水素二フッ化アンモニウムの混合物の重量比は、1対1〜20対1であることを特徴とする請求項1に記載のアルミナイズド処理方法。
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