JP5456419B2 - Shrink film for cover tape and cover tape - Google Patents

Shrink film for cover tape and cover tape Download PDF

Info

Publication number
JP5456419B2
JP5456419B2 JP2009199529A JP2009199529A JP5456419B2 JP 5456419 B2 JP5456419 B2 JP 5456419B2 JP 2009199529 A JP2009199529 A JP 2009199529A JP 2009199529 A JP2009199529 A JP 2009199529A JP 5456419 B2 JP5456419 B2 JP 5456419B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
cover tape
density polyethylene
density
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009199529A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011051592A (en
Inventor
正行 吉野
豊 松木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Chemicals Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2009199529A priority Critical patent/JP5456419B2/en
Application filed by Asahi Kasei Chemicals Corp filed Critical Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority to MX2012002447A priority patent/MX2012002447A/en
Priority to SG2012002093A priority patent/SG178022A1/en
Priority to US13/386,077 priority patent/US8999502B2/en
Priority to PCT/JP2010/064388 priority patent/WO2011024860A1/en
Priority to KR1020127002237A priority patent/KR101339583B1/en
Priority to RU2012112480/12A priority patent/RU2012112480A/en
Priority to EP10811909.0A priority patent/EP2474483A4/en
Priority to CN201080036569.3A priority patent/CN102470965B/en
Priority to CA2768507A priority patent/CA2768507C/en
Priority to MYPI2012000398A priority patent/MY155405A/en
Priority to TW099129332A priority patent/TWI478814B/en
Publication of JP2011051592A publication Critical patent/JP2011051592A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5456419B2 publication Critical patent/JP5456419B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Packages (AREA)
  • Wrappers (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)

Description

本発明はカバーテープ用フィルムとして、利用可能なシュリンクフィルムに関する。具体的には、本発明は、電子部品包装用のエンボスキャリアテープに熱シールすることができるカバーテープ用シュリンクフィルム及びカバーテープに関する。   The present invention relates to a shrink film that can be used as a film for a cover tape. Specifically, the present invention relates to a shrink film for a cover tape and a cover tape that can be heat sealed to an embossed carrier tape for packaging electronic components.

一般に、電子部品の搬送用途にエンボスキャリアテープが用いられている。エンボスキャリアテープは、電子部品の形状に合わせて連続に、凹状に成型されたシートであり、一個一個半導体等を埋め込んで組立工場に持って行き、マウンターと呼ばれる部品組立機械(実装機)にセットして搬送できるように設計されているシートである。
携帯電話、携帯ゲーム機等の電子機器の小型化に伴い、使用される電子部品についても小型化が進んでおり、機器の組立工程においては組立の自動化、高速化が行われ、エンボスキャリアテープ等のパッケージングにも精度が求められている。
In general, an embossed carrier tape is used for conveying electronic parts. Embossed carrier tape is a sheet formed into a concave shape according to the shape of the electronic component. Each embossed carrier tape is embedded in a semiconductor, etc., taken to an assembly factory, and set in a component assembly machine (mounting machine) called a mounter. The sheet is designed so that it can be conveyed.
With the miniaturization of electronic devices such as mobile phones and portable game machines, the electronic components used are also miniaturized. In the device assembly process, assembly is automated and speeded up, embossed carrier tape, etc. The accuracy of packaging is also required.

現在、エンボスキャリアテープのカバーテープとして、基材であるPETフィルムにポリエチレンを押出ラミネート、またはPETフィルムにポリエチレンフィルムをドライラミネートして作製されるカバーテープが主に用いられている。しかしながら、前記のようなカバーテープは、カバーテープ自体の反りや熱シール(ヒートシール)時の膨張等によって弛みやすい傾向がある。このようなカバーテープを用いた場合、電子部品の固定が十分にできず、搬送中や輸送中の振動によって、電子部品がエンボスキャリアテープ内で大きく揺られ破損する恐れがある。更には、カバーテープが弛んでいると、そのカバーテープをエンボスキャリアテープにテーピングした後の外観検査において、基材であるPETフィルムに光が反射して、画像処理や目視による内容物の視認性が低下する。その結果、外観検査において、電子部品の欠け等の欠陥を見落とす可能性が高くなる。   At present, as a cover tape for an embossed carrier tape, a cover tape produced by extruding and laminating polyethylene to a PET film as a base material or dry laminating a polyethylene film to a PET film is mainly used. However, the cover tape as described above tends to be loosened easily due to warpage of the cover tape itself or expansion during heat sealing. When such a cover tape is used, the electronic component cannot be sufficiently fixed, and the electronic component may be greatly shaken and damaged in the embossed carrier tape due to vibration during transportation or transportation. Furthermore, if the cover tape is loose, in the appearance inspection after taping the cover tape on the embossed carrier tape, light is reflected on the PET film as the base material, and the visibility of the contents by image processing or visual inspection Decreases. As a result, in the appearance inspection, there is a high possibility of overlooking defects such as chipping of electronic components.

特許文献1には、基材層として、ポリエステル、ポリプロピレン、ナイロン等の二軸延伸フィルムを用いた電子部品包装用カバーテープが開示されている。   Patent Document 1 discloses a cover tape for packaging electronic parts using a biaxially stretched film such as polyester, polypropylene, or nylon as a base material layer.

特開2005−178870号公報JP 2005-178870 A

しかしながら、特許文献1に開示されたフィルムは基材層のポリエチレンテレフタレートフィルムの収縮温度が高く、熱シール時の熱によってもカバーテープが収縮せず、弛みが生じる場合がある。   However, the film disclosed in Patent Document 1 has a high shrinkage temperature of the polyethylene terephthalate film of the base material layer, and the cover tape may not be shrunk even by heat at the time of heat sealing, and may be loosened.

本発明が解決しようとする課題は、透明性に優れ、エンボスキャリアテープに熱シールした後も適度な収縮によって弛みなくタイトなテーピングが可能となるカバーテープ用シュリンクフィルム、及び、それを用いたカバーテープを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is a shrink film for a cover tape, which is excellent in transparency and can be tightly taped without loosening by moderate shrinkage even after heat sealing to an embossed carrier tape, and a cover using the same To provide a tape.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、積層された少なくとも2つの層を備え、それぞれの層が特定の樹脂を含む、カバーテープの基材層として利用可能なシュリンクフィルム、及びそれを用いたカバーテープにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have at least two layers that are laminated, and each layer contains a specific resin and can be used as a base layer of a cover tape. The present invention has been completed by finding that the above problems can be solved by a cover tape using the same.

すなわち、本発明は以下のカバーテープ用のシュリンクフィルムを提供する。
[1]密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを含む第1の層と、高圧法低密度ポリエチレンを含む第2の層と、の少なくとも2つの層を積層して備えるカバーテープ用シュリンクフィルム。
[2]前記第2の層は、密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを更に含む、前記[1]に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[3]前記高圧法低密度ポリエチレンは、密度が0.910〜0.930g/cm3であり、メルトフローレートが0.01〜2.0g/10分である、前記[1]又は[2]に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[4]前記第1の層は高分子型帯電防止剤を0.1〜40質量%含む、前記[1]〜[3]のいずれか一項に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[5]二軸延伸フィルムである、前記[1]〜[4]のいずれか一項に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[6]前記第1の層及び前記第2の層のうち少なくとも一方の層は、その層を構成する樹脂が架橋されている、[1]〜[5]のいずれか一項に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[7]前記第1の層と前記第2の層との積層体に更にポリエチレン系樹脂を含む層を積層して備える、前記[1]〜[6]のいずれか一項に記載のカバーテープ用シュリンクフィルム。
[8]前記[1]〜[7]のいずれか一項に記載のカバーテープ用シュリンクフィルムと、前記カバーテープ用シュリンクフィルムの少なくとも一方の主面上に配置された、ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層と、を備えるカバーテープ。
[9]前記[7]記載のカバーテープ用シュリンクフィルムと、前記カバーテープ用シュリンクフィルムの前記ポリエチレン系樹脂を含む層の主面上に配置された、ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層と、を備えるカバーテープ。
That is, this invention provides the following shrink films for cover tapes.
[1] At least two layers of a first layer including a high density polyethylene having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3 and a second layer including a high pressure method low density polyethylene are stacked. Shrink film for cover tape.
[2] The shrink film for cover tapes according to [1], wherein the second layer further includes high-density polyethylene having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3 .
[3] The high-pressure low-density polyethylene has a density of 0.910 to 0.930 g / cm 3 and a melt flow rate of 0.01 to 2.0 g / 10 minutes, [1] or [2 ] The shrink film for cover tapes of description.
[4] The shrink film for a cover tape according to any one of [1] to [3], wherein the first layer contains 0.1 to 40% by mass of a polymer type antistatic agent.
[5] The shrink film for cover tapes according to any one of [1] to [4], which is a biaxially stretched film.
[6] The cover according to any one of [1] to [5], wherein at least one of the first layer and the second layer is crosslinked with a resin constituting the layer. Shrink film for tape.
[7] The cover tape according to any one of [1] to [6], wherein a layer including a polyethylene resin is further laminated on the laminate of the first layer and the second layer. For shrink film.
[8] The heat sealant and / or the shrink film for cover tape according to any one of [1] to [7], and / or the heat sealant disposed on at least one main surface of the shrink film for cover tape. A cover tape comprising a layer containing a conductive agent.
[9] The shrink film for cover tape according to [7], and a layer containing a heat seal agent and / or a conductive agent disposed on the main surface of the layer containing the polyethylene resin of the shrink film for cover tape. And a cover tape.

本発明のカバーテープ用シュリンクフィルムを用いれば、透明性に優れ、エンボスキャリアテープにヒートシールした後も適度な収縮によって弛みなくタイトなテーピングが可能となるカバーテープを提供することができる。   By using the shrink film for a cover tape of the present invention, it is possible to provide a cover tape that is excellent in transparency and that can be tightly taped without slackness by appropriate shrinkage even after heat-sealing to an embossed carrier tape.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、本実施の形態)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、本明細書において、2種以上の樹脂を混合した混合物の密度及びメルトフローレートは、それぞれの樹脂の密度及びメルトフローレート、並びにそれらの樹脂の混合比率から算出することができ、本明細書の記載から自明な事項である。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement by changing variously within the range of the summary. Further, in the present specification, the density and melt flow rate of a mixture obtained by mixing two or more resins can be calculated from the density and melt flow rate of each resin and the mixing ratio of those resins. It is obvious from the description of the book.

本実施の形態のカバーテープ用シュリンクフィルム(以下、単に「フィルム」と略称する場合がある。)は、密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを含む第1の層(A)と、高圧法低密度ポリエチレン(y)を含む第2の層と、の少なくとも2つの層を積層して備えるものであり、第2の層は、密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを更に含むと好ましい。 The shrink film for cover tape of the present embodiment (hereinafter sometimes simply referred to as “film”) is a first layer containing a high density polyethylene having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3 ( A) and a second layer containing a high-pressure process low-density polyethylene (y) are provided by laminating at least two layers, and the second layer has a density of 0.942 to 0.970 g / It is preferable to further include high density polyethylene of cm 3 .

[第1の層(A)]
本実施の形態のフィルムは、密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを含む第1の層(A)(以下、単に(A)と略称する場合がある。)を有する。ここで、本実施の形態において、「密度」とは、JIS K 6922に記載の方法により測定されるものである。密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレンを用いることにより、引張剛性や曲げ剛性に優れるフィルムとすることができる。
[First layer (A)]
The film of the present embodiment has a first layer (A) containing high-density polyethylene having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3 (hereinafter sometimes simply referred to as (A)). . Here, in the present embodiment, “density” is measured by the method described in JIS K 6922. By using high-density polyethylene having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3, a film having excellent tensile rigidity and bending rigidity can be obtained.

なお、ポリエチレンはJIS K 6922に基づいて密度により分類され、密度が0.942g/cm3以上のものが高密度ポリエチレンと定義される。このような高密度ポリエチレンは、フィリップス法、スタンダード法、チーグラー法などの一般に公知の方法で製造することができる。 Polyethylene is classified by density based on JIS K 6922, and a polyethylene having a density of 0.942 g / cm 3 or more is defined as high density polyethylene. Such high-density polyethylene can be produced by a generally known method such as a Philips method, a standard method, or a Ziegler method.

本実施の形態においては、フィルムに対して、優れた透明性に加えて、良好な引張剛性、曲げ剛性等も好ましくは求められる。また、本実施の形態のフィルムは、適度な曇り度を有し製造時の延伸が容易に行えることが好ましい。   In the present embodiment, in addition to excellent transparency, good tensile rigidity, bending rigidity and the like are also preferably required for the film. Moreover, it is preferable that the film of this embodiment has an appropriate haze and can be easily stretched during production.

高密度ポリエチレンの密度は0.942〜0.970g/cm3の範囲であり、これにより、特に優れた曲げ弾性及び優れた透明性をフィルムに付与することができる。さらに良好な曲げ剛性をフィルムに付与する観点から、高密度ポリエチレンの密度は、好ましくは0.944g/cm3以上、より好ましくは0.946g/cm3以上、さらに好ましくは0.948g/cm3以上である。また、さらに良好な透明性をフィルムに付与する観点から、高密度ポリエチレンの密度は、好ましくは0.968g/cm3以下、より好ましくは0.967g/cm3以下、さらに好ましくは0.966g/cm3以下である。 The density of the high-density polyethylene is in the range of 0.942 to 0.970 g / cm 3 , and thereby particularly excellent bending elasticity and excellent transparency can be imparted to the film. From the viewpoint of imparting better bending rigidity to the film, the density of the high-density polyethylene is preferably 0.944 g / cm 3 or more, more preferably 0.946 g / cm 3 or more, and further preferably 0.948 g / cm 3. That's it. Further, from the viewpoint of imparting better transparency to the film, the density of the high-density polyethylene is preferably 0.968 g / cm 3 or less, more preferably 0.967 g / cm 3 or less, and still more preferably 0.966 g / cm 2. cm 3 or less.

高密度ポリエチレンのメルトフローレート(以下、単に「MFR」と略記する場合がある。)は0.1〜10.0g/10分の範囲であると好ましい。フィルムを成形する際の押出機への負荷を軽減させるために、そのMFRは、より好ましくは0.5g/10分以上であり、さらに好ましくは1.0g/10分以上であり、特に好ましくは2.0g/10分以上である。また、フィルム製造時の延伸安定性を付与する観点から、そのMFRは、より好ましくは8.0g/10分以下、さらに好ましくは6.0g/10分以下、特に好ましくは5.0g/10分以下である。ここで、本実施の形態において、「メルトフローレート(MFR)」は、温度190℃、荷重2.16kgfの条件下、JIS K 6922に記載の方法により測定されるものである。   The melt flow rate of the high-density polyethylene (hereinafter sometimes simply referred to as “MFR”) is preferably in the range of 0.1 to 10.0 g / 10 minutes. In order to reduce the load on the extruder when the film is formed, the MFR is more preferably 0.5 g / 10 min or more, further preferably 1.0 g / 10 min or more, particularly preferably. 2.0 g / 10 min or more. Further, from the viewpoint of imparting stretching stability during film production, the MFR is more preferably 8.0 g / 10 min or less, still more preferably 6.0 g / 10 min or less, and particularly preferably 5.0 g / 10 min. It is as follows. Here, in the present embodiment, “melt flow rate (MFR)” is measured by the method described in JIS K 6922 under conditions of a temperature of 190 ° C. and a load of 2.16 kgf.

高密度ポリエチレンの融解ピーク温度は、125〜140℃であることが好ましく、より好ましくは128〜139℃であり、さらに好ましくは130〜138℃である。融解ピーク温度が125℃以上の場合、フィルムに腰を与えて、剛性を発揮することができるため好ましく、140℃以下の場合、フィルムの透明性の観点で好ましい。なお、本実施形態において、「融解ピーク温度」は、示差走査熱量測定(DSC)により得られる融解曲線で現れる吸熱反応のピークの頂点における温度である。また、融解ピークが複数存在する場合や複数の高密度ポリエチレンを用いる場合、最も高温側の融解ピーク温度が上記数値範囲内であればよい。   The melting peak temperature of the high density polyethylene is preferably 125 to 140 ° C, more preferably 128 to 139 ° C, and further preferably 130 to 138 ° C. When the melting peak temperature is 125 ° C. or higher, the film can be stiff and exhibit rigidity, and when the melting peak temperature is 140 ° C. or lower, it is preferable from the viewpoint of the transparency of the film. In the present embodiment, the “melting peak temperature” is the temperature at the peak of the endothermic reaction peak that appears in the melting curve obtained by differential scanning calorimetry (DSC). In addition, when there are a plurality of melting peaks or when a plurality of high-density polyethylenes are used, the melting peak temperature on the highest temperature side may be within the above numerical range.

高密度ポリエチレンの密度、MFR及び融解ピーク温度を上記数値範囲内に制御するには、高密度ポリエチレンを製造する際に、各物性が上記数値範囲内となるように製造条件を調整してもよい。あるいは、既知の異なる物性を有する2種以上の高密度ポリエチレンを混合して本実施の形態の高密度ポリエチレンを得てもよく、この場合、得られる高密度ポリエチレンが上記数値範囲内の密度及びMFRを有するように、各高密度ポリエチレンの混合比率を調整してもよい。   In order to control the density, MFR, and melting peak temperature of the high density polyethylene within the above numerical range, the manufacturing conditions may be adjusted so that each physical property is within the above numerical range when the high density polyethylene is produced. . Alternatively, two or more types of high-density polyethylene having different physical properties may be mixed to obtain the high-density polyethylene of the present embodiment. In this case, the obtained high-density polyethylene has a density and MFR within the above numerical range. You may adjust the mixing ratio of each high-density polyethylene so that it may have.

本実施の形態において、第1の層(A)は、高圧法低密度ポリエチレン及び/又は線状低中密度ポリエチレンを、第1の層(A)を構成する全材料の50質量%を超えない範囲で含んでもよい。これにより、(A)の剛性と透明性とを所望のとおりに調整することができる。   In this Embodiment, a 1st layer (A) does not exceed 50 mass% of all the materials which comprise a high pressure process low density polyethylene and / or linear low medium density polyethylene which comprises a 1st layer (A). It may be included in the range. Thereby, the rigidity and transparency of (A) can be adjusted as desired.

第1の層(A)は表面処理を施されていてもよい。そのような表面処理としては、第1の層(A)の表面固有抵抗値がn×1012Ω以下(nは1〜9)になるような表面処理が好ましい。表面処理により、第1の層(A)の表面に高分子型の帯電防止剤や界面活性剤、酸化錫等の導電性微粉末等を付与することで、フィルムをカバーテープとして用いた場合の製品に対する埃等の付着を防止することができる。第1の層(A)は、より良好な透明性と帯電防止性能発現との観点から、高分子型の帯電防止剤を好ましくは0.1〜40質量%含み、より好ましくは0.5〜20質量%含み、さらに好ましくは1.0〜10質量%含む。 The first layer (A) may be subjected to a surface treatment. As such a surface treatment, a surface treatment such that the surface specific resistance value of the first layer (A) is n × 10 12 Ω or less (n is 1 to 9) is preferable. When the film is used as a cover tape by applying a polymer type antistatic agent, surfactant, conductive fine powder such as tin oxide to the surface of the first layer (A) by surface treatment. It is possible to prevent dust and the like from adhering to the product. The first layer (A) preferably contains a polymer type antistatic agent in an amount of 0.1 to 40% by mass, and more preferably 0.5 to 0.5% from the viewpoint of better transparency and expression of antistatic performance. 20% by mass, more preferably 1.0 to 10% by mass.

高分子型の帯電防止剤としては、例えば、ポリエーテル−ポリオレフィンブロックポリマー及びポリチオフェン系ポリマーが挙げられる。界面活性剤としては、例えば、グリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。導電性微粉末を構成する材料としては、酸化錫の他、例えば、酸化インジウム等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the polymer type antistatic agent include a polyether-polyolefin block polymer and a polythiophene polymer. Examples of the surfactant include glycerin fatty acid ester. Examples of the material constituting the conductive fine powder include indium oxide in addition to tin oxide. These are used singly or in combination of two or more.

また、フィルムをカバーテープとして用い、そのフィルムを後述のシール層と積層する場合、そのシール層に対するブロッキング防止のために、第1の層(A)はシリカ、アルミナ等の無機粒子や環状オレフィンを更に含んでもよい。特に環状オレフィンはテーピング時に脱落が起こらず、内容物(電子部品)に付着することを防止できるので好ましい。環状オレフィンとしては、例えば三井化学株式会社製のアペル(商品名)、Topas Advanced Polymers社製のTOPAS(商品名)が挙げられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて用いられる。   In addition, when the film is used as a cover tape and the film is laminated with a seal layer described later, the first layer (A) contains inorganic particles such as silica and alumina, and cyclic olefin in order to prevent blocking of the seal layer. Further, it may be included. Cyclic olefins are particularly preferred because they do not drop off during taping and can be prevented from adhering to the contents (electronic parts). Examples of the cyclic olefin include Apel (trade name) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and TOPAS (trade name) manufactured by Topas Advanced Polymers. These are used alone or in combination of two or more.

第1の層(A)の厚さは、5〜40μmであると好ましく、10〜35μmであるとより好ましい。   The thickness of the first layer (A) is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 10 to 35 μm.

[第2の層(B)]
本実施の形態のフィルムは、第1の層(A)に隣接して、第2の層(B)(以下、(B)と略称する場合がある)を積層して備える。第2の層(B)は、高圧法低密度ポリエチレン(y)を含む層であり、フィルムに対して、製造時の延伸安定性を付与したり、テーピングの際のシール性を高めるクッション性を付与するクッション層として機能したりする。
[Second layer (B)]
The film of the present embodiment is provided with a second layer (B) (hereinafter may be abbreviated as (B)) laminated adjacent to the first layer (A). The second layer (B) is a layer containing a high-pressure method low-density polyethylene (y), and imparts cushioning properties to the film to provide stretching stability during production or to enhance sealing properties during taping. It functions as a cushioning layer.

第2の層(B)に使用する高圧法低密度ポリエチレン(y)は、いわゆる高圧法(塊状重合法)により製造されるポリエチレンであり、その密度は0.910〜0.930g/cm3であると好ましい。テーピングの際のシール性を高めるクッション性を付与する観点から、その密度は、より好ましくは0.917〜0.929g/cm3、更に好ましくは0.918〜0.928g/cm3である。 The high pressure method low density polyethylene (y) used for the second layer (B) is a polyethylene produced by a so-called high pressure method (bulk polymerization method), and its density is 0.910 to 0.930 g / cm 3 . It is preferable. From the viewpoint of imparting cushioning properties that enhance sealing properties during taping, the density is more preferably 0.917 to 0.929 g / cm 3 , and still more preferably 0.918 to 0.928 g / cm 3 .

高圧法低密度ポリエチレン(y)のメルトフローレートは0.01〜2.0g/10分の範囲が好ましい。フィルムを成形する際の押出性の観点から、より好ましくは0.05〜1.0g/10分、更に好ましくは0.1〜0.5g/10分である。   The melt flow rate of the high pressure method low density polyethylene (y) is preferably in the range of 0.01 to 2.0 g / 10 min. From the viewpoint of extrudability when forming a film, it is more preferably 0.05 to 1.0 g / 10 minutes, and still more preferably 0.1 to 0.5 g / 10 minutes.

高圧法低密度ポリエチレン(y)の融解ピーク温度は110〜130℃であることが好ましく、より好ましくは115〜125℃である。融解ピーク温度が上記下限値以上の場合、フィルムの剛性が向上するため好ましく、上記上限値以下の場合、フィルムのクッション性が向上するため好ましい。また、融解ピークが複数存在する場合や複数の高圧法低密度ポリエチレン(y)を用いる場合、最も高温側の融解ピーク温度が上記数値範囲内であればよい。   The melting peak temperature of the high-pressure method low density polyethylene (y) is preferably 110 to 130 ° C, more preferably 115 to 125 ° C. When the melting peak temperature is equal to or higher than the lower limit value, the rigidity of the film is improved, and when the melting peak temperature is equal to or lower than the upper limit value, the cushioning property of the film is improved. In addition, when there are a plurality of melting peaks or when a plurality of high-pressure low-density polyethylene (y) is used, the highest melting peak temperature may be within the above numerical range.

高圧法低密度ポリエチレン(y)の密度、MFR及び融解ピーク温度を上記数値範囲内に制御するには、高圧法低密度ポリエチレン(y)を製造する際に、各物性が上記数値範囲内となるように製造条件を調整してもよい。あるいは、既知の物性を有する2種以上の高圧法低密度ポリエチレン(y)を混合して本実施の形態の高圧法低密度ポリエチレン(y)を得てもよく、この場合、得られる高圧法低密度ポリエチレン(y)が上記数値範囲内の密度及びMFRを有するように、各高圧法低密度ポリエチレン(y)の混合比率を調整してもよい。   In order to control the density, MFR and melting peak temperature of the high pressure method low density polyethylene (y) within the above numerical range, each physical property falls within the above numerical range when the high pressure method low density polyethylene (y) is produced. The manufacturing conditions may be adjusted as described above. Alternatively, two or more types of high pressure method low density polyethylene (y) having known physical properties may be mixed to obtain the high pressure method low density polyethylene (y) of the present embodiment. The mixing ratio of each high-pressure method low-density polyethylene (y) may be adjusted so that the density polyethylene (y) has a density and MFR within the above numerical range.

第2の層(B)は、高圧法低密度ポリエチレン(y)からなるものであってもよいが、密度が0.942〜0.970g/cm3の高密度ポリエチレン(x)を更に含むと好ましい。本実施の形態において、第2の層(B)に用いる高密度ポリエチレン(x)の密度は0.942〜0.970g/cm3の範囲であり、これにより、特に優れた曲げ弾性及び優れた透明性をフィルムに付与することができる。さらに良好な曲げ剛性をフィルムに付与する観点から、高密度ポリエチレン(x)の密度は、好ましくは0.944g/cm3以上、より好ましくは0.946g/cm3以上、さらに好ましくは0.948g/cm3以上である。また、さらに良好な透明性をフィルムに付与する観点から、高密度ポリエチレン(x)の密度は、好ましくは0.968g/cm3以下、より好ましくは0.967g/cm3以下、さらに好ましくは0.966g/cm3以下である。 The second layer (B) may be made of a high-pressure method low-density polyethylene (y), but if it further contains high-density polyethylene (x) having a density of 0.942 to 0.970 g / cm 3. preferable. In the present embodiment, the density of the high-density polyethylene (x) used for the second layer (B) is in the range of 0.942 to 0.970 g / cm 3 , whereby particularly excellent bending elasticity and excellent Transparency can be imparted to the film. From the viewpoint of imparting better bending rigidity to the film, the density of the high-density polyethylene (x) is preferably 0.944 g / cm 3 or more, more preferably 0.946 g / cm 3 or more, and further preferably 0.948 g. / Cm 3 or more. From the viewpoint of imparting better transparency to the film, the density of the high-density polyethylene (x) is preferably 0.968 g / cm 3 or less, more preferably 0.967 g / cm 3 or less, and still more preferably 0. 966 g / cm 3 or less.

(B)に用いる高密度ポリエチレン(x)のメルトフローレート(以下、単に「MFR」と略記する場合がある。)は0.01〜2.0g/10分の範囲であると好ましい。フィルムを成形する際の押出機への負荷を低減させるために、そのMFRは、より好ましくは0.05g/10分以上であり、さらに好ましくは0.1g/10分以上である。また、フィルム製造時の延伸安定性を付与する観点から、そのMFRは、より好ましくは2.0g/10分以下、さらに好ましくは1.5g/10分以下、特に好ましくは1.0g/10分以下である。   The melt flow rate (hereinafter sometimes simply referred to as “MFR”) of the high-density polyethylene (x) used in (B) is preferably in the range of 0.01 to 2.0 g / 10 minutes. In order to reduce the load on the extruder when the film is formed, the MFR is more preferably 0.05 g / 10 min or more, and further preferably 0.1 g / 10 min or more. Further, from the viewpoint of imparting stretching stability during film production, the MFR is more preferably 2.0 g / 10 min or less, further preferably 1.5 g / 10 min or less, and particularly preferably 1.0 g / 10 min. It is as follows.

高密度ポリエチレン(x)の融解ピーク温度は、125〜140℃であることが好ましく、より好ましくは128〜139℃であり、さらに好ましくは130〜138℃である。融解ピーク温度が125℃以上の場合、フィルムに腰を与えて、剛性を発揮することができるため好ましく、140℃以下の場合、フィルムの透明性の観点で好ましい。また、融解ピークが複数存在する場合や複数の高密度ポリエチレン(x)を用いる場合、最も高温側の融解ピーク温度が上記数値範囲内であればよい。   The melting peak temperature of the high-density polyethylene (x) is preferably 125 to 140 ° C, more preferably 128 to 139 ° C, and further preferably 130 to 138 ° C. When the melting peak temperature is 125 ° C. or higher, the film can be stiff and exhibit rigidity, and when the melting peak temperature is 140 ° C. or lower, it is preferable from the viewpoint of the transparency of the film. In addition, when there are a plurality of melting peaks or when a plurality of high-density polyethylene (x) is used, the melting peak temperature on the highest temperature side may be within the above numerical range.

高密度ポリエチレン(x)の密度、MFR及び融解ピーク温度を上記数値範囲内に制御するには、高密度ポリエチレン(x)を製造する際に、各物性が上記数値範囲内となるように製造条件を調整してもよい。あるいは、既知の物性を有する2種以上の高密度ポリエチレン(x)を混合して本実施の形態の高密度ポリエチレンを得てもよく、この場合、得られる高密度ポリエチレンが上記数値範囲内の密度及びMFRを有するように、各高密度ポリエチレン(x)の混合比率を調整してもよい。   In order to control the density, MFR and melting peak temperature of the high density polyethylene (x) within the above numerical range, the production conditions are set so that each physical property is within the above numerical range when the high density polyethylene (x) is produced. May be adjusted. Alternatively, two or more types of high-density polyethylene (x) having known physical properties may be mixed to obtain the high-density polyethylene of the present embodiment. In this case, the obtained high-density polyethylene has a density within the above numerical range. And the mixing ratio of each high-density polyethylene (x) may be adjusted so as to have MFR.

第2の層(B)は、フィルム製造時の延伸安定性の付与、フィルムへの剛性付与やフィルムのカールの抑制等の観点から、上述のように、高密度ポリエチレン(x)を含有してもよい。第2の層(B)が高密度ポリエチレン(x)を含む場合、その含有比率は、上記観点から、第2の層(B)の全体量に対して、1〜60質量%が好ましく、より好ましくは5〜55質量%、更に好ましくは10〜50質量%である。   The second layer (B) contains high-density polyethylene (x) as described above from the viewpoint of imparting stretching stability during film production, imparting rigidity to the film, and suppressing curling of the film. Also good. When the second layer (B) contains high-density polyethylene (x), the content ratio is preferably 1 to 60% by mass with respect to the total amount of the second layer (B) from the above viewpoint. Preferably it is 5-55 mass%, More preferably, it is 10-50 mass%.

第2の層(B)には目的に応じて、上記以外の樹脂を含んでもよく、例えば、線状低中密度ポリエチレンを含んでもよい。これにより、フィルムの強度が増し、フィルム破断等を減少させることができる。線状低中密度ポリエチレンは、エチレンと炭素数4〜10のα−オレフィンとの共重合体であり、常法により製造することができる。α−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、1−ヘキセンが挙げられる。   Depending on the purpose, the second layer (B) may contain a resin other than those described above, for example, linear low and medium density polyethylene. Thereby, the intensity | strength of a film increases and a film fracture | rupture etc. can be decreased. Linear low and medium density polyethylene is a copolymer of ethylene and an α-olefin having 4 to 10 carbon atoms, and can be produced by a conventional method. Examples of the α-olefin include 1-butene and 1-hexene.

線状低中密度ポリエチレンの融解ピーク温度は、100〜140℃であることが好ましく、より好ましくは105〜135℃であり、さらに好ましくは110〜130℃である。その融解ピーク温度が100℃以上の場合、フィルムに腰を与えて、剛性を発揮することができるため好ましく、140℃以下の場合、より良好な透明性と強度とをフィルムに付与できる観点から好ましい。なお、融解ピークが複数存在する場合や複数の線状低中密度ポリエチレンを用いる場合、より高温側にあるものが上記数値範囲内であればよい。   The melting peak temperature of the linear low and medium density polyethylene is preferably 100 to 140 ° C, more preferably 105 to 135 ° C, and still more preferably 110 to 130 ° C. When the melting peak temperature is 100 ° C. or higher, it is preferable because it can give rigidity to the film and exhibit rigidity, and when it is 140 ° C. or lower, it is preferable from the viewpoint of imparting better transparency and strength to the film. . In addition, when there are a plurality of melting peaks or when a plurality of linear low and medium density polyethylenes are used, it is only necessary that the one on the higher temperature side is within the above numerical range.

線状低中密度ポリエチレンの密度は、フィルム剛性の維持及びフィルム強度の向上の観点から0.910〜0.941g/cm3が好ましく、より好ましくは0.912〜0.939g/cm3であり、さらに好ましくは0.914〜0.937g/cm3である。 The density of the linear low or medium density polyethylene is preferably 0.910~0.941g / cm 3 from the viewpoint of improving the maintenance and the film strength of the film stiffness, more preferably at 0.912~0.939g / cm 3 More preferably, it is 0.914 to 0.937 g / cm 3 .

線状低中密度ポリエチレンのMFRは、フィルムを成形する際の押出機への負荷を軽減させる観点、及びフィルム製造時の延伸安定性を付与する観点から、0.1〜10.0g/10分の範囲であると好ましい。そのMFRは、より好ましくは0.5〜5.0g/10分であり、さらに好ましくは0.8〜3.0g/10分である。   The MFR of the linear low and medium density polyethylene is 0.1 to 10.0 g / 10 min from the viewpoint of reducing the load on the extruder when the film is formed and the stretching stability at the time of film production. It is preferable that it is in the range. The MFR is more preferably 0.5 to 5.0 g / 10 minutes, and still more preferably 0.8 to 3.0 g / 10 minutes.

フィルムの剛性を向上させたい場合、第2の層(B)は、環状オレフィンやポリプロピレンに代表される硬質樹脂を含んでもよい。さらに、フィルムをカバーテープとして用いる際に隣接するシール層との層間接着強度を高めたい場合、第2の層(B)は、酸変性線状低密度ポリエチレン、酸変性ポリプロピレン、EVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)等の接着性樹脂を含んでもよい。   When it is desired to improve the rigidity of the film, the second layer (B) may contain a hard resin typified by cyclic olefin or polypropylene. Further, when the film is used as a cover tape and when it is desired to increase the interlayer adhesion strength with the adjacent seal layer, the second layer (B) is formed by acid-modified linear low density polyethylene, acid-modified polypropylene, EVA (ethylene-acetic acid). An adhesive resin such as a vinyl copolymer) may be included.

第2の層(B)は、これらの樹脂をその全体量に対して50質量%を越えない範囲で含んでもよい。   The second layer (B) may contain these resins in a range not exceeding 50% by mass with respect to the total amount.

第2の層(B)の厚さは、5〜40μmであると好ましく、10〜35μmであるとより好ましい。この厚さが上記下限値以上であると、フィルムのクッション性が向上し、シール性が安定するという点で好ましく、上記上限値以下であると、フィルムの剛性が向上するという点で好ましい。   The thickness of the second layer (B) is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 10 to 35 μm. When the thickness is equal to or more than the lower limit, the cushioning property of the film is improved and the sealing property is stabilized, and when the thickness is equal to or less than the upper limit, the rigidity of the film is improved.

また、第1の層(A)及び第2の層(B)の少なくとも一方にポリエチレン用の結晶核剤を含んでもよい。結晶核剤を用いることで、それを含む層に配向性を持たせやすくなり、その結果、フィルムの延伸安定性が向上する。さらには、フィルムの透明性や剛性が向上する傾向にある。結晶核剤としては、アルキル脂肪酸カルシウム塩、アルキル脂肪酸ナトリウム塩、リン脂質等の公知のものが挙げられる。その好ましい添加量は、それを含む層の全体量に対して100〜3000ppm、さらに好ましくは500〜2000ppmである。   Further, at least one of the first layer (A) and the second layer (B) may contain a crystal nucleating agent for polyethylene. By using a crystal nucleating agent, it becomes easy to give orientation to the layer containing it, and as a result, the stretching stability of the film is improved. Furthermore, the transparency and rigidity of the film tend to be improved. Examples of crystal nucleating agents include known ones such as alkyl fatty acid calcium salts, alkyl fatty acid sodium salts, and phospholipids. The preferable addition amount is 100 to 3000 ppm, more preferably 500 to 2000 ppm with respect to the total amount of the layer containing it.

本実施の形態のフィルムは、第1の層(A)及び第2の層(B)のそれぞれを単層又は複数層備えてもよく、複数層備える場合、第1の層(A)及び第2の層(B)を交互に積層して備えてもよい。また、本実施の形態のフィルムは、第1の層(A)及び第2の層(B)に加えて、それら以外の第3の層(C)を備えてもよい。第3の層(C)は、第1の層(A)と第2の層(B)との積層体に積層して備えられる。第3の層(C)は、フィルムがカバーテープに用いられる場合に、上記積層体と後述のヒートシール剤又は導電剤を含む層との間に配置されるクッション層として機能するものであると好ましい。クッション層として機能することにより、カバーテープのシール性が向上する。このような観点から、第3の層(C)は、超低密度ポリエチレン及び高圧法低密度ポリエチレンに代表されるポリエチレン系樹脂を含む層であると好ましい。   The film of the present embodiment may include a single layer or a plurality of layers each of the first layer (A) and the second layer (B), and in the case of including a plurality of layers, the first layer (A) and the second layer (B) Two layers (B) may be alternately stacked. In addition to the first layer (A) and the second layer (B), the film of the present embodiment may include a third layer (C) other than those. The third layer (C) is provided by being laminated on a laminate of the first layer (A) and the second layer (B). When the film is used for a cover tape, the third layer (C) functions as a cushion layer disposed between the laminate and a layer containing a heat sealant or a conductive agent described later. preferable. By functioning as a cushion layer, the sealing property of the cover tape is improved. From such a viewpoint, the third layer (C) is preferably a layer containing a polyethylene resin typified by ultra-low density polyethylene and high-pressure method low density polyethylene.

本実施の形態のフィルムにおける上記各材料としては、上記物性の条件を満足する範囲で市販のものを用いてもよい。   As each of the materials in the film of the present embodiment, commercially available materials may be used as long as the physical property conditions are satisfied.

[カバーテープ用シュリンクフィルム]
本実施の形態において、カバーテープ用シュリンクフィルムは、上記第1の層(A)と第2の層(B)とを、それらの厚み方向に積層して備えるものである。このフィルムは、熱シール時のフィルムの収縮力を抑制する観点から、第1の層(A)及び第2の層(B)を構成する樹脂の融点以上の温度で、二軸延伸されてなる二軸延伸フィルムであることが好ましい。その延伸倍率はフィルムの厚みむらを抑制するため、縦方向(MD)に1.5倍以上、横方向(TD)に3倍以上が好ましく、より好ましくは縦方向に1.8倍以上、横方向に4倍以上、さらに好ましくは縦方向に2倍以上、横方向に5倍以上である。
[Shrink film for cover tape]
In this Embodiment, the shrink film for cover tapes comprises the said 1st layer (A) and 2nd layer (B) laminated | stacked in those thickness directions. This film is biaxially stretched at a temperature equal to or higher than the melting point of the resin constituting the first layer (A) and the second layer (B) from the viewpoint of suppressing the shrinkage force of the film during heat sealing. A biaxially stretched film is preferred. The stretching ratio is preferably 1.5 times or more in the machine direction (MD) and 3 times or more in the transverse direction (TD), more preferably 1.8 times or more in the machine direction in order to suppress unevenness of the film thickness. It is 4 times or more in the direction, more preferably 2 times or more in the vertical direction, and 5 times or more in the horizontal direction.

本実施の形態のカバーテープ用シュリンクフィルムにおいて、第1の層(A)及び第2の層(B)のうち少なくとも一方の層を構成する樹脂が架橋されていることが好ましく、その中でも第1の層(A)を構成する樹脂が架橋されていることが好ましい。架橋には一般に公知の方法が利用でき、例えば電子線などの電離性放射線を照射する方法が挙げられる。それらの層を構成する樹脂が架橋されていることにより、フィルムの耐熱性が向上すると共に、テーピングマシンによるヒートシールの際に、シール用のコテへのフィルムの粘着を防ぐことも可能である。なお、樹脂が架橋される場合のMFRは架橋前のものである。   In the shrink film for a cover tape of the present embodiment, the resin constituting at least one of the first layer (A) and the second layer (B) is preferably cross-linked, and among them, the first The resin constituting the layer (A) is preferably crosslinked. For crosslinking, generally known methods can be used, for example, a method of irradiating ionizing radiation such as an electron beam. When the resins constituting these layers are cross-linked, the heat resistance of the film is improved, and it is also possible to prevent the film from sticking to the sealing iron during heat sealing by a taping machine. In addition, MFR in case resin is bridge | crosslinked is a thing before bridge | crosslinking.

本実施の形態のカバーテープ用シュリンクフィルムについて、100℃における加熱収縮率は0〜10%であることが好ましい。また、120℃における加熱収縮率は1〜40%であることが好ましい。特に、120℃における収縮率が1%以上の場合、テーピング時のフィルムの収縮が適度となり、カバーテープに弛みが生じにくい。収縮率が40%以下であると、シール用コテでカバーテープの端部を抑えやすくなり、シール性が安定化する。本実施の形態における加熱収縮率は、下記実施例に記載の方法に準拠して測定される。   About the shrink film for cover tapes of this Embodiment, it is preferable that the heat shrinkage rate in 100 degreeC is 0 to 10%. Moreover, it is preferable that the heat shrinkage rate in 120 degreeC is 1 to 40%. In particular, when the shrinkage rate at 120 ° C. is 1% or more, the film shrinks appropriately during taping, and the cover tape is unlikely to loosen. When the shrinkage rate is 40% or less, it becomes easy to suppress the end of the cover tape with a sealing iron, and the sealing performance is stabilized. The heat shrinkage rate in this Embodiment is measured based on the method as described in the following Example.

フィルムの120℃における加熱収縮力は0.1〜1N/9.5mm巾の範囲が好ましい。その加熱収縮力が0.1N/9.5mm巾以上の場合、テーピングの収縮がより十分となり、タイトな仕上がりが得られる。加熱収縮力が1N/9.5mm巾以下であることにより、ヒートシール時に発生する熱収縮力でシール部が剥離する恐れがない。加熱収縮力は、より好ましくは0.2〜0.8N/9.5mm巾である。本実施の形態における加熱収縮力は、下記実施例に記載の方法に準拠して測定される。   The heat shrinkage force at 120 ° C. of the film is preferably in the range of 0.1 to 1 N / 9.5 mm width. When the heat shrinkage force is 0.1 N / 9.5 mm or more, taping shrinkage becomes more sufficient and a tight finish can be obtained. When the heat shrinkage force is 1 N / 9.5 mm width or less, there is no fear that the seal portion is peeled off by the heat shrinkage force generated during heat sealing. The heat shrinkage force is more preferably 0.2 to 0.8 N / 9.5 mm width. The heat shrinkage force in the present embodiment is measured according to the method described in the following examples.

本実施の形態において、フィルムの全光線透過率は80%以上であることが好ましい。80%以上の全光線透過率を有するフィルムであれば、内容物(電子部品)に対する視認性を低下させずにテーピングすることができるため、テーピング後の目視検査や画像処理による検査にも有効である。全光線透過率は、より好ましくは82%以上、さらに好ましくは84%以上である。本実施の形態における全光線透過率は、下記実施例に記載の方法に準拠して測定される。   In the present embodiment, the total light transmittance of the film is preferably 80% or more. A film having a total light transmittance of 80% or more can be taped without deteriorating the visibility of the contents (electronic parts), so it is also effective for visual inspection after taping and inspection by image processing. is there. The total light transmittance is more preferably 82% or more, and still more preferably 84% or more. The total light transmittance in this Embodiment is measured based on the method as described in the following Example.

本実施の形態のフィルムの引張破断強度は、テーピング時、及び引き剥がし時の切れ防止の観点で、10N/9.5mm巾以上であることが好ましく、20N/9.5mm巾以上であることがより好ましい。また、フィルムの引張弾性率は、フィルムの取扱い性の観点で、400N/mm2以上であることが好ましく、500N/mm2以上あることがより好ましい。本実施の形態における引張破断強度及び引張弾性率は、下記実施例に記載の方法に準拠して測定される。 The tensile strength at break of the film of the present embodiment is preferably 10 N / 9.5 mm width or more, and preferably 20 N / 9.5 mm width or more from the viewpoint of preventing breakage during taping and peeling. More preferred. The tensile modulus of the film is preferably 400 N / mm 2 or more, more preferably 500 N / mm 2 or more, from the viewpoint of the handleability of the film. The tensile breaking strength and tensile elastic modulus in the present embodiment are measured according to the methods described in the following examples.

本実施の形態のフィルムは、カバーテープ用シュリンクフィルムとして、ヒートシール時に適度に収縮させることで、タイトな包装体とすることができる。タイトな包装体とするために、フィルムの収縮温度は適宜調整することができる。   The film of this Embodiment can be made into a tight packaging body by shrinking moderately at the time of heat sealing as a shrink film for cover tapes. In order to obtain a tight package, the shrinkage temperature of the film can be adjusted as appropriate.

本実施の形態のフィルムのゲル分率は、より高倍率での延伸も可能となり、より薄肉でより高収縮性のフィルムが得られやすくなることから、10%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上であり、さらに好ましくは30%以上である。本実施の形態におけるゲル分率は、下記実施例に記載の方法に準拠して測定される。   The gel fraction of the film of the present embodiment is preferably 10% or more, more preferably, since it can be stretched at a higher magnification, and a thinner and more highly shrinkable film can be easily obtained. Is 20% or more, more preferably 30% or more. The gel fraction in this Embodiment is measured based on the method as described in the following Example.

本実施の形態におけるカバーテープ用シュリンクフィルムの厚さは、好ましくは10〜100μmであり、より好ましくは15〜90μmであり、さらに好ましくは20〜80μmである。フィルムの厚さが10〜100μmの範囲であれば、エンボスキャリアテープにテーピングした後もフィルムが弛み難くなり、以降の工程でカバーテープを剥離する際にもフィルム切れを生じ難く有効である。   The thickness of the shrink film for cover tape in this Embodiment becomes like this. Preferably it is 10-100 micrometers, More preferably, it is 15-90 micrometers, More preferably, it is 20-80 micrometers. If the thickness of the film is in the range of 10 to 100 μm, the film does not easily loosen even after being taped to the embossed carrier tape, and it is effective to prevent the film from being cut even when the cover tape is peeled off in the subsequent steps.

[カバーテープ用シュリンクフィルムの製造方法]
本実施の形態のカバーテープ用シュリンクフィルムは、第1の層(A)、第2の層(B)及び必要に応じてその他の層を構成する樹脂を、それぞれ単独の押出機より溶融押出して、多層ダイ中で積層し、溶融共押出して急冷し、未延伸原反を得る工程と、未延伸原反を、各樹脂の融解ピーク温度以上まで加熱して、縦方向に1.5倍以上、横方向に3倍以上の2軸延伸する工程と、を含む製造方法により製造することができる。
[Method for producing shrink film for cover tape]
The shrink film for the cover tape of the present embodiment is obtained by melt-extruding the first layer (A), the second layer (B) and, if necessary, the resin constituting the other layer from a single extruder. Lamination in a multilayer die, melt coextrusion and quenching to obtain an unstretched original fabric, and heating the unstretched original fabric to the melting peak temperature of each resin or more, 1.5 times or more in the longitudinal direction And a step of biaxially stretching three times or more in the transverse direction.

本実施の形態の製造方法においては、まず、フィルムが第1の層(A)と第2の層(B)とを有する少なくとも2層からなるように、溶融共押出する。   In the manufacturing method of the present embodiment, first, melt coextrusion is performed so that the film is composed of at least two layers having a first layer (A) and a second layer (B).

共押出しは特に制限されるものではなく、多層のTダイや多層のサーキュラーダイを用いた方法等を用いることができるが、多層のサーキュラーダイを用いた方法が好ましい。多層のサーキュラーダイを用いると、設備に関しての必要スペースや投資金額の点で有利であり、多品種少量生産に向き、熱収縮性がより得られやすい。   The coextrusion is not particularly limited, and a method using a multilayer T die or a multilayer circular die can be used, but a method using a multilayer circular die is preferable. The use of a multi-layer circular die is advantageous in terms of the required space for equipment and the amount of investment, and is suitable for high-mix, low-volume production, making it easier to obtain heat shrinkability.

次いで、共押出した樹脂を急冷する。本実施の形態におけるフィルムの製造方法において、急冷に使用する冷媒としては通常60℃以下の水が好適に用いられ、溶融樹脂に直接接触させるか、もしくは金属ロールの内部冷媒として間接的に使用される。内部冷媒として用いる場合は水以外にもオイル他、公知のものが使用可能であり、場合によっては冷風の吹き付けと併用することも可能である。   Next, the coextruded resin is quenched. In the film manufacturing method of the present embodiment, water of 60 ° C. or lower is usually preferably used as the refrigerant used for rapid cooling, and is directly contacted with the molten resin or indirectly used as an internal refrigerant of the metal roll. The When used as an internal refrigerant, oil or other known materials can be used in addition to water, and in some cases, it can be used in combination with blowing cold air.

次に、得られた未延伸原反を各樹脂の融解ピーク温度以上に加熱し、縦方向に1.5倍以上、横方向に3倍以上延伸する。延伸倍率は目的に応じて適宜選択され、必要に応じて、延伸後に熱処理を行ってフィルムの加熱収縮率や加熱収縮力の調整を行ってもよい。   Next, the obtained unstretched original fabric is heated to the melting peak temperature or more of each resin, and stretched 1.5 times or more in the longitudinal direction and 3 times or more in the transverse direction. The draw ratio is appropriately selected depending on the purpose, and if necessary, the film may be subjected to heat treatment after stretching to adjust the heat shrinkage rate and heat shrinkage force of the film.

延伸方法としては、溶融押出直後のチューブに空気や窒素を吹き込んで、延伸を行うダイレクトインフレーション法も挙げられ、この方法によっても収縮するフィルムが得られることもある。ただし、本実施の形態のフィルムのように高収縮性を発現させるためには、二軸に延伸する方法が好ましく、より好ましくは前述のサーキュラーダイで得られた未延伸原反を加熱二軸延伸するチューブラー法(またはダブルバブル法ともいう)である。   Examples of the stretching method include a direct inflation method in which air or nitrogen is blown into a tube immediately after melt extrusion to perform stretching. A film that shrinks by this method may also be obtained. However, in order to express high shrinkage like the film of the present embodiment, a method of stretching biaxially is preferable, and more preferably, the unstretched raw material obtained by the aforementioned circular die is heated biaxially stretched. It is a tubular method (also called a double bubble method).

本実施の形態のフィルムは、二軸延伸するチューブラー法により製造される二軸延伸多層フィルムであることが好ましい。   The film of the present embodiment is preferably a biaxially stretched multilayer film produced by a tubular method that is biaxially stretched.

本実施の形態におけるフィルムの製造方法は、延伸前、または延伸後に、樹脂の架橋処理を行う工程を含んでもよい。架橋処理を行う場合、樹脂を加熱して延伸する前にエネルギー線照射によって架橋処理を行うことがより好ましい。これにより延伸工程におけるフィルムの溶融張力が増し、より延伸の安定化が可能となる。   The method for producing a film in the present embodiment may include a step of performing a resin crosslinking treatment before or after stretching. When performing the crosslinking treatment, it is more preferable to carry out the crosslinking treatment by irradiation with energy rays before heating and stretching the resin. Thereby, the melt tension of the film in the stretching process is increased, and the stretching can be further stabilized.

また、延伸した後のフィルムにエネルギー線を照射して樹脂の架橋処理を行ってもよい。用いるエネルギー線としては紫外線、電子線、X線、γ線等の電離性放射線が挙げられ、好ましくは電子線であり、10〜300KGyの照射量範囲で使用されることが好ましい。フィルムへの延伸安定性付与やシール時の耐熱性付与等の観点から、その照射量は、より好ましくは50kGy以上、さらに好ましくは80kGy以上である。また低温シール性付与の観点から、その照射量は、好ましくは280kGy以下、さらに好ましくは250kGy以下である。   Moreover, you may irradiate an energy beam to the film after extending | stretching and perform the crosslinking process of resin. Examples of energy rays to be used include ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and γ rays, preferably electron beams, and preferably used in an irradiation dose range of 10 to 300 KGy. From the viewpoint of imparting stretching stability to the film and imparting heat resistance during sealing, the irradiation amount is more preferably 50 kGy or more, and even more preferably 80 kGy or more. Further, from the viewpoint of imparting low temperature sealing properties, the irradiation amount is preferably 280 kGy or less, more preferably 250 kGy or less.

照射によって樹脂を架橋する層は目的に応じて任意に選択することが可能である。また、例えば、各層の表面付近を主に架橋したい場合、延伸原反の厚さに応じて加速電圧を調整することにより厚み方向での線量分布を調整して照射する方法、アルミ等の遮蔽板使用によって同様に線量分布を調整するマスク照射法、電子線を延伸原反面に対して斜め方向より照射する方法等を用いることができる。   The layer that crosslinks the resin by irradiation can be arbitrarily selected according to the purpose. In addition, for example, in the case where it is mainly desired to crosslink the vicinity of the surface of each layer, a method of adjusting the dose distribution in the thickness direction by adjusting the acceleration voltage according to the thickness of the stretched raw fabric, and a shielding plate such as aluminum A mask irradiation method that similarly adjusts the dose distribution according to use, a method of irradiating an electron beam from an oblique direction with respect to the stretched original surface, and the like can be used.

架橋処理を行う場合、架橋対象となる樹脂を含む各層に任意の架橋阻害剤や架橋助剤(架橋促進剤)を添加してもよい。架橋助剤としては、例えば、トリアリルイソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート、トリメチルプロパントリアクリレート、トリアリルシアヌレート、トリメタアリルシアヌレートが挙げられる。   When the crosslinking treatment is performed, an arbitrary crosslinking inhibitor or crosslinking assistant (crosslinking accelerator) may be added to each layer including the resin to be crosslinked. Examples of the crosslinking aid include triallyl isocyanurate, trimethallyl isocyanurate, trimethylpropane triacrylate, triallyl cyanurate, and trimethallyl cyanurate.

本実施の形態におけるフィルムの製造方法により得られるフィルムは、適度な熱収縮特性を有し、カバーテープ用シュリンクフィルムとして好適であり、テーピング後にフィルムにシワ、緩み、弛み等を発生することなくエンボスキャリアテープに密着して固定保持を持続することができる。また、テーピング時にフィルムに発生する収縮応力が大きいためエンボスキャリアテープから剥離してしまう場合や、エンボスキャリアテープに反りが発生するような場合には、延伸後に熱弛緩処理等を加えて本実施の形態で特定した熱収縮特性の範囲内で自由に調整することができる。   The film obtained by the method for producing a film in the present embodiment has an appropriate heat shrinkage property and is suitable as a shrink film for a cover tape, and is embossed without generating wrinkles, loosening, loosening, etc. on the film after taping. The fixing and holding can be continued by being in close contact with the carrier tape. In addition, if the film is peeled off from the embossed carrier tape due to the large shrinkage stress generated during taping, or if the embossed carrier tape is warped, a thermal relaxation treatment is added after stretching. It can be freely adjusted within the range of the heat shrink characteristics specified by the form.

[カバーテープ]
本実施の形態のカバーテープは、上記カバーテープ用シュリンクフィルムと、そのフィルムの少なくとも一方の主面上に配置された、ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層とを備えるものである。ここで、「ヒートシール剤及び/又は導電剤」とは、ヒートシール剤、導電剤の他、それらの混合物(以下、「導電性ヒートシール剤」ともいう)をも含む概念である。ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層は、ヒートシール剤、導電剤、導電性ヒートシール剤を、上記フィルムの一方の主面にコーティング又は押出ラミネートにより形成され、それらの積層体が、エンボスキャリアテープ用のカバーテープとして利用可能となる。
[Cover tape]
The cover tape of this Embodiment is provided with the said shrink film for cover tapes, and the layer containing the heat seal agent and / or electrically conductive agent arrange | positioned on the at least one main surface of the film. Here, the “heat sealing agent and / or conductive agent” is a concept including a heat sealing agent and a conductive agent as well as a mixture thereof (hereinafter also referred to as “conductive heat sealing agent”). The layer containing a heat sealant and / or a conductive agent is formed by coating or extrusion laminating one main surface of the film with a heat sealant, a conductive agent, or a conductive heat sealant, and the laminate is embossed. It can be used as a cover tape for carrier tape.

フィルムが、第1の層(A)/第2の層(B)から構成される2層フィルムの場合、第2の層(B)の表面上にヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層が形成されると好ましい。フィルムが、第1の層(A)/第2の層(B)/第1の層(A)の対称3層構成の場合、どちらか一方の第1の層(A)の表面上にヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層が形成されると好ましい。また、フィルムが、第1の層(A)/第2の層(B)/第3の層(C)から構成される3層フィルムの場合、第3の層(C)の表面上にヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層が形成されると好ましい。   When the film is a two-layer film composed of the first layer (A) / second layer (B), a layer containing a heat sealant and / or a conductive agent on the surface of the second layer (B) Is preferably formed. When the film has a symmetrical three-layer configuration of first layer (A) / second layer (B) / first layer (A), heat is applied on the surface of one of the first layers (A). It is preferable that a layer containing a sealing agent and / or a conductive agent is formed. When the film is a three-layer film composed of the first layer (A) / second layer (B) / third layer (C), heat is applied on the surface of the third layer (C). It is preferable that a layer containing a sealing agent and / or a conductive agent is formed.

ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層(以下、「シール層」ともいう)は単層であってもよく、複数の層からなるものであってもよい。例えば、シール層は、ヒートシール剤を含む層と導電剤を含む層とを積層した複数の層であってもよく、この場合の各層の積層の順としては、フィルム側からヒートシール剤を含む層、導電剤を含む層の順であってもよく、導電剤を含む層、ヒートシール剤を含む層の順であってもよい。さらには、ヒートシール剤と導電剤とを混合した導電性ヒートシール剤を含む層のみがシール層として配置されてもよい。   The layer containing the heat sealant and / or the conductive agent (hereinafter also referred to as “seal layer”) may be a single layer or may be composed of a plurality of layers. For example, the sealing layer may be a plurality of layers in which a layer containing a heat sealing agent and a layer containing a conductive agent are laminated. In this case, the order of lamination of the layers includes the heat sealing agent from the film side. The order may be the order of the layer and the layer containing the conductive agent, or the order of the layer containing the conductive agent and the layer containing the heat sealant. Furthermore, only the layer containing the conductive heat sealing agent in which the heat sealing agent and the conductive agent are mixed may be disposed as the sealing layer.

シール層の厚さは、好ましくは0.1〜25μmであり、より好ましくは0.2〜20μmであり、さらに好ましくは0.3〜15μmである。シール層の厚さは、要求されるシール強度によって適宜選択することができる。   The thickness of the sealing layer is preferably 0.1 to 25 μm, more preferably 0.2 to 20 μm, and still more preferably 0.3 to 15 μm. The thickness of the seal layer can be appropriately selected depending on the required seal strength.

シール層を形成する際、コーティングや押出ラミネートの前に、シール層を形成する下地となる表面にコロナ処理やプラズマ処理を行って、その表面を活性化すると好ましい。   When forming the seal layer, it is preferable to activate the surface by performing corona treatment or plasma treatment on the surface to form the seal layer before coating or extrusion laminating.

ヒートシール剤はカバーテープのヒートシールを容易にするためのものである。ヒートシール剤としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、スチレン−ブタジエンブロックポリマー等のスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。ただし、目的に応じて、それ以外のエチレン−グリシジルメタクリレート共重合体やエチレン−メチルメタクリレート等のエチレン系共重合体等の接着性樹脂からなるヒートシール剤を用いてもよい。   The heat sealant is for facilitating heat sealing of the cover tape. As the heat sealant, for example, at least one selected from the group consisting of acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as styrene-butadiene block polymers, polyester resins, and polyurethane resins is preferable. However, depending on the purpose, a heat seal agent made of an adhesive resin such as an ethylene-glycidyl methacrylate copolymer or an ethylene copolymer such as ethylene-methyl methacrylate may be used.

導電剤は、特にカバーテープを剥離する際の静電気の発生を防止するためのものである。導電剤としては、例えば、酸化錫、ポリエーテル−ポリオレフィンブロックポリマー、ポリチオフェン系ポリマーが挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   The conductive agent is for preventing the generation of static electricity particularly when the cover tape is peeled off. Examples of the conductive agent include tin oxide, polyether-polyolefin block polymer, and polythiophene polymer. These are used singly or in combination of two or more.

ヒートシール剤及び導電剤は、別々にコーティングや押出ラミネートしてもよく、ヒートシール剤中に導電剤を分散または混合して、一度にコーティングや押出ラミネートしてもよい。更には、フィルムを押し出して成形する際に、シール層を共押出することでカバーテープを作製してもよい。   The heat sealant and the conductive agent may be separately coated or extrusion laminated, or the conductive agent may be dispersed or mixed in the heat sealant and coated or extrusion laminated at once. Furthermore, when extruding and forming a film, a cover tape may be produced by co-extruding a seal layer.

クッション層として機能してもよい第3の層(C)とシール層との2層を押出ラミネートする場合、タンデム型押出ラミネート機を用いて、第3の層(C)をラミネートした直後にシール層をラミネートすると,1回の工程で第3の層(C)とシール層との両方がラミネートできるため好ましい。   When extruding and laminating the third layer (C) that may function as a cushion layer and the sealing layer, a seal is made immediately after laminating the third layer (C) using a tandem extrusion laminating machine. Laminating the layers is preferable because both the third layer (C) and the sealing layer can be laminated in one step.

カバーテープのテーピング後の剥離強度は10〜130gであることが好ましい。剥離強度が10g以上であると、輸送時や保管時の振動などによりカバーテープがエンボスキャリアテープから剥離し難くなり、内容物(電子部品)が飛び出す恐れが低減する。剥離強度が130g以下であると、剥離時にカバーテープが破れる等の不具合が低減される。本実施の形態における剥離強度は、下記実施例の「(7)剥離強度試験」に記載の方法に準拠して測定される。   The peel strength of the cover tape after taping is preferably 10 to 130 g. If the peel strength is 10 g or more, the cover tape becomes difficult to peel from the embossed carrier tape due to vibration during transportation or storage, and the risk of the contents (electronic parts) popping out is reduced. When the peel strength is 130 g or less, problems such as breakage of the cover tape at the time of peeling are reduced. The peel strength in the present embodiment is measured according to the method described in “(7) Peel strength test” in the following examples.

以下、本実施の形態を実施例及び比較例によりさらに具体的に説明するが、本実施の形態はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、本実施の形態に用いられる評価方法及び測定方法は以下のとおりである。   Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present embodiment is not limited to only these examples. Note that the evaluation method and measurement method used in this embodiment are as follows.

(1)ゲル分率
沸騰パラキシレン中で試料を12時間抽出し、不溶解分の割合を次式により表示したものをゲル分率とし、フィルムにおける樹脂の架橋度の尺度として用いた。
ゲル分率(質量%)=(抽出後の試料質量/抽出前の試料質量)×100
(1) Gel fraction A sample was extracted from boiling paraxylene for 12 hours, and the ratio of insoluble matter expressed by the following formula was used as a gel fraction, which was used as a measure of the degree of crosslinking of the resin in the film.
Gel fraction (mass%) = (sample weight after extraction / sample weight before extraction) × 100

(2)引張破断強度
(株)島津製作所製のオートグラフを用いて、9.5mm巾にスリットした各フィルムに対して、サンプル長が50mm、引張速度が200mm/minの条件で引張試験を行い、引張破断強度を求めた。
(2) Tensile strength at break Using an autograph manufactured by Shimadzu Corporation, a tensile test was performed on each film slit to a width of 9.5 mm under the conditions of a sample length of 50 mm and a tensile speed of 200 mm / min. The tensile strength at break was determined.

(3)引張弾性率
(株)島津製作所製のオートグラフを用いて、巾が9.5mm、長さが100mmのサイズに切り出した試料について、JIS K 7113に準拠して、引張弾性率の測定を行った。
(3) Tensile elastic modulus Measurement of tensile elastic modulus based on JIS K 7113 for a sample cut into a size of 9.5 mm in width and 100 mm in length using an autograph manufactured by Shimadzu Corporation Went.

(4)全光線透過率
JIS K7361−1に準拠して、全光線透過率の測定を行った。
(4) Total light transmittance Total light transmittance was measured according to JIS K7361-1.

(5)加熱収縮力
フィルムをMD、TDの各方向に幅9.5mmの短冊状にサンプリングし、それをストレインゲージ付のチャックにチャック間50mmに緩めることなくセットし、120℃の測定温度で測定した。なお、フィルムを所定温度に加熱したシリコーンオイル中に浸漬し、1分後の収縮力をMDについて各温度で測定し、得られた値を加熱収縮力とし、5回の測定結果の相加平均値として求めた。
(5) Heat shrinkage force The film is sampled in a strip shape with a width of 9.5 mm in each direction of MD and TD, and set to a chuck with a strain gauge without loosening to 50 mm between the chucks, at a measurement temperature of 120 ° C. It was measured. The film was immersed in silicone oil heated to a predetermined temperature, the shrinkage force after 1 minute was measured at each temperature for MD, and the obtained value was defined as the heating shrinkage force, and the arithmetic average of five measurement results. Obtained as a value.

(6)加熱収縮率
100mm角のフィルム試料を100℃または120℃の温度に設定したエアーオーブン式恒温槽に入れ、自由に収縮する状態で10分間加熱処理した後、それぞれ向き合う辺の中心点間距離を測定してフィルムの収縮量を求め、元の寸法(加熱処理の前のそれぞれ向き合う辺の中心点間距離)で割った値の百分率で、MD及びTDそれぞれの収縮率を2回の測定結果の相加平均値として求めた。
(6) Heat shrinkage rate After putting a 100 mm square film sample into an air oven type thermostat set at 100 ° C. or 120 ° C. and heat-treating for 10 minutes in a freely shrinkable state, between the center points of the facing sides Measure the distance to determine the amount of film shrinkage, and measure the MD and TD shrinkage ratios twice as a percentage of the original dimension (distance between the center points of each facing side before heat treatment). It calculated | required as an arithmetic mean value of a result.

(7)剥離強度試験
(株)パルメック製 半自動テーピングマシン PTS−180を用いて、シール時間=0.3sec、送りピッチ=8mm、シール圧力=0.4MPaの条件で、12mm巾のポリスチレン製エンボスキャリアテープ((株)住友ベークライト製 スミキャリア(商品名、12mm巾))に対し、9.5mm巾にスリットした各フィルムを120℃でテーピングし、それぞれ3回分の剥離試験用サンプルを得た。次に、(株)パルメック製 剥離強度テスター PFT−50Sを用いて、剥離速度=300mm/分、剥離角度=170°の条件で、テーピングした剥離試験用サンプルから、テーピングの1時間経過後に、フィルムを引き剥がして剥離強度を測定し、それを計3階行い、その相加平均値より剥離強度を求めた。
(7) Peel strength test Using a semi-automatic taping machine PTS-180 manufactured by Palmec Co., Ltd., a 12 mm wide polystyrene embossed carrier under the conditions of seal time = 0.3 sec, feed pitch = 8 mm, seal pressure = 0.4 MPa Each film slit to 9.5 mm width was taped at 120 ° C. on a tape (Sumi Carrier (trade name, 12 mm width) manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), and three peel test samples were obtained. Next, using a peel strength tester PFT-50S manufactured by Palmec Co., Ltd., the film was peeled from a sample for peeling test under the conditions of peeling speed = 300 mm / min and peeling angle = 170 °, after 1 hour of taping, Was peeled off to measure the peel strength, which was performed for a total of 3 floors, and the peel strength was determined from the arithmetic mean value.

(8)テーピングサンプルの外観検査
(7)で得られた剥離試験用サンプル(パッケージングサンプル)のカバーテープの弛みを目視にて評価した。
○:弛みがなく、タイトにパッケージングされている。
×:カバーテープに弛みが生じている。
(8) Appearance inspection of taping sample The looseness of the cover tape of the peel test sample (packaging sample) obtained in (7) was visually evaluated.
○: There is no slack and it is tightly packaged.
X: The cover tape is loose.

(9)表面抵抗
超絶縁計SM−8220(日置電機株式会社製)を用いて、JIS K6911に記載の抵抗率測定法に従い、各フィルムの表面抵抗値を測定した。測定温度は23℃、湿度は45%であった。
(9) Surface resistance Using a superinsulator SM-8220 (manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), the surface resistance value of each film was measured according to the resistivity measurement method described in JIS K6911. The measurement temperature was 23 ° C. and the humidity was 45%.

実施例及び比較例で用いた樹脂は以下のとおりである。
[第1の層(A)]
HD1:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) J240)、MFR(190℃、2.16kgf)=5.5g/10分、密度=0.966g/cm3、融解ピーク温度=134℃)
HD2:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) B871)、MFR(190℃、2.16kgf)=0.35g/10分、密度=0.956g/cm3、融解ピーク温度=130℃)
HD3:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) S362)、MFR(190℃、2.16kgf)=0.8g/10分、密度=0.952g/cm3、融解ピーク温度=129℃)
Resins used in Examples and Comparative Examples are as follows.
[First layer (A)]
HD1: High density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) J240 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 5.5 g / 10 min, density = 0.966 g / cm 3 , melting peak temperature = 134 ° C)
HD2: High density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) B871 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 0.35 g / 10 min, density = 0.956 g / cm 3 , melting peak temperature = 130 ° C)
HD3: high density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) S362 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 0.8 g / 10 min, density = 0.952 g / cm 3 , melting peak temperature = 129 ° C)

[第2の層(B)]
HD1:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) J240)、MFR(190℃、2.16kgf)=5.5g/10分、密度=0.966g/cm3、融解ピーク温度=134℃)
HD2:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) B871)、MFR(190℃、2.16kgf)=0.35g/10分、密度=0.956g/cm3、融解ピーク温度=130℃)
HD3:高密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックHD(登録商標) S362)、MFR(190℃、2.16kgf)=0.8g/10分、密度=0.952g/cm3、融解ピーク温度=129℃)
LD1:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックLD(登録商標) M2102)、MFR(190℃、2.16kgf)=0.2g/10分、密度=0.922g/cm3、融解ピーク温度=121℃)
LD2:高圧法低密度ポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックLD(登録商標) M1920)、MFR(190℃、2.16kgf)=2.0g/10分、密度=0.921g/cm3、融解ピーク温度=121℃)
LL1:線状中密度ポリエチレン(プライムポリマー株式会社製、エボリュー(登録商標)SP4020))、MFR(190℃、2.16kgf)=1.8g/10分、密度=0.937g/cm3
LL2:変性ポリエチレン(三井化学株式会社製 アドマー(登録商標) NF308)、MFR(190℃、2.16kgf)=1.7g/10分、密度=0.932g/cm3
[Second layer (B)]
HD1: High density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) J240 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 5.5 g / 10 min, density = 0.966 g / cm 3 , melting peak temperature = 134 ° C)
HD2: High density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) B871 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 0.35 g / 10 min, density = 0.956 g / cm 3 , melting peak temperature = 130 ° C)
HD3: high density polyethylene (Suntech HD (registered trademark) S362 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 0.8 g / 10 min, density = 0.952 g / cm 3 , melting peak temperature = 129 ° C)
LD1: High pressure method low density polyethylene (Suntech LD (registered trademark) M2102 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 0.2 g / 10 min, density = 0.922 g / cm 3 , melting peak Temperature = 121 ° C)
LD2: High-pressure method low-density polyethylene (Suntech LD (registered trademark) M1920 manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 2.0 g / 10 min, density = 0.922 g / cm 3 , melting peak Temperature = 121 ° C)
LL1: linear medium density polyethylene (Prime Polymer Co., Ltd., Evolue (registered trademark) SP4020)), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 1.8 g / 10 min, density = 0.937 g / cm 3 )
LL2: Modified polyethylene (Mitsui Chemicals Admer (registered trademark) NF308), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 1.7 g / 10 min, density = 0.932 g / cm 3

参考例1]
第1の層(A)として、HD1を75質量%、HD2を20質量%、高分子型帯電防止剤 サンコノール(登録商標) TBX−25(三光化学株式会社製)を5質量%、第2の層(B)として、HD2を50質量%、LD1を50質量%用いて、層配置が第1の層/第2の層で、各層の厚さ比率(%)が30/70の2層構造になるように環状多層ダイを用いて押出した後、冷水にて急冷固化して折り幅130mm、厚さが約650μmの各層とも均一な厚み精度のチューブ状未延伸原反を得た。これに対して、電子線照射(加速電圧=1MV、照射線量=120kGy)を行い、得られた架橋未延伸原反を2対の差動ニップロール間に通し、延伸開始点の加熱温度が約140℃になるようにしてエアー注入してバブルを形成させ、MDに3.0倍、TDに4.8倍延伸(面積延伸倍率で14.4倍)を行い、厚さが45μmのカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1に示す。
[ Reference Example 1]
As the first layer (A), 75% by mass of HD1, 20% by mass of HD2, 5% by mass of polymer type antistatic agent Sanconol (registered trademark) TBX-25 (manufactured by Sanko Chemical Co., Ltd.), As a layer (B), HD2 is 50 mass%, LD1 is 50 mass%, the layer arrangement is the first layer / second layer, and the thickness ratio (%) of each layer is 30/70. After being extruded using a circular multilayer die, it was rapidly cooled and solidified with cold water to obtain a tube-shaped unstretched original fabric having a uniform thickness accuracy for each layer having a folding width of 130 mm and a thickness of about 650 μm. On the other hand, electron beam irradiation (acceleration voltage = 1 MV, irradiation dose = 120 kGy) is performed, and the obtained unstretched cross-linked raw fabric is passed between two pairs of differential nip rolls, and the heating temperature at the stretching start point is about 140. Inject air to form a bubble to form a bubble, stretch 3.0 times MD and 4.8 times TD (14.4 times the area stretch ratio), for cover tapes with a thickness of 45 μm A shrink film was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.

参考例2〜12]
層構成、並びにそれぞれの層の組成及び厚さを表1〜3に示すように代えた以外は、参考例1と同様にして、厚さが45μmのカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表1〜3に示す。
[ Reference Examples 2 to 12]
A shrink film for a cover tape having a thickness of 45 μm was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the layer configuration and the composition and thickness of each layer were changed as shown in Tables 1 to 3. The evaluation results of the obtained film are shown in Tables 1-3.

参考例13]
層構成及びそれぞれの層の組成を表3に示すように代えた以外は参考例1と同様にして、厚さが約180μmの各層とも均一な厚み精度のチューブ状未延伸原反を得た。これに対して、電子線照射(加速電圧=1MV、照射線量=120kGy)を行い、得られた架橋未延伸原反を2対の差動ニップロール間に通し、延伸開始点の加熱温度が約140℃になるようにしてエアー注入してバブルを形成させ、MDに4.0倍、TDに1.0倍延伸(面積延伸倍率で4.0倍)を行い、厚さが45μmのカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表3に示す。
[ Reference Example 13]
Except that the layer configuration and the composition of each layer were changed as shown in Table 3, in the same manner as in Reference Example 1, a tube-shaped unstretched raw material having a uniform thickness accuracy was obtained for each layer having a thickness of about 180 μm. On the other hand, electron beam irradiation (acceleration voltage = 1 MV, irradiation dose = 120 kGy) is performed, and the obtained unstretched cross-linked raw fabric is passed between two pairs of differential nip rolls, and the heating temperature at the stretching start point is about 140. Bubbles are formed by injecting air to reach ℃, 4.0 times MD and 1.0 times TD (4.0 times area draw ratio), for cover tape with a thickness of 45μm A shrink film was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3.

参考例14〜17]
層構成及びそれぞれの層の組成を表4に示すように代えた以外は参考例1と同様にして、厚さが45μmのカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表4に示す。
[ Reference Examples 14 to 17]
A cover tape shrink film having a thickness of 45 μm was obtained in the same manner as in Reference Example 1 except that the layer configuration and the composition of each layer were changed as shown in Table 4. Table 4 shows the evaluation results of the obtained film.

参考例18]
参考例1で得られたカバーテープ用シュリンクフィルムの第2の層(B)側の表面に、ヒートシール剤としてアクリル系コーティング剤 ダイヤナールBR−87(三菱レイヨン社製、商品名)を1μmの厚さで塗工してシール層を形成し、カバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。
[ Reference Example 18]
On the surface of the second layer (B) side of the shrink film for cover tape obtained in Reference Example 1, 1 μm of acrylic coating agent Dianal BR-87 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is used as a heat sealant. A seal layer was formed by coating with a thickness to obtain a cover tape. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape.

[実施例19]
第1の層(A)として、HD1を75質量%、HD2を20質量%、高分子型帯電防止剤 サンコノール(登録商標) TBX−25(三光化学株式会社製)を5質量%、第2の層(B)として、HD2を50質量%、LD1を50質量%用いて、層配置が第1の層/第2の層で、各層の厚さ比率(%)が30/70の2層構造になるように環状多層ダイを用いて押出した後、冷水にて急冷固化して折り幅130mm、厚さが約500μmの各層とも均一な厚み精度のチューブ状未延伸原反を得た。これに対して、電子線照射(加速電圧=1MV、照射線量=120kGy)を行い、得られた架橋未延伸原反を2対の差動ニップロール間に通し、延伸開始点の加熱温度が約140℃になるようにしてエアー注入してバブルを形成させ、MDに3.0倍、TDに4.8倍延伸(面積延伸倍率で14.4倍)を行い、厚さが35μmのシュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの第2の層側の表面にポリエチレン(旭化成ケミカルズ株式会社製 サンテックLD(登録商標) L1850K)、MFR(190℃、2.16kgf)=6.8g/10分、密度=0.918g/cm3)を押出ラミネートして、上記フィルムにポリエチレン系樹脂を含む層を更に備えるカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。そのポリエチレン系樹脂を含む層の表面上にヒートシール剤としてアクリル系コーティング剤 ダイヤナールBR−87(三菱レイヨン社製、商品名)を1μmの厚さで塗工してシール層を形成し、カバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。
[Example 19]
As the first layer (A), 75% by mass of HD1, 20% by mass of HD2, 5% by mass of polymer type antistatic agent Sanconol (registered trademark) TBX-25 (manufactured by Sanko Chemical Co., Ltd.), As a layer (B), HD2 is 50 mass%, LD1 is 50 mass%, the layer arrangement is the first layer / second layer, and the thickness ratio (%) of each layer is 30/70. After being extruded using an annular multilayer die, the tube was rapidly cooled and solidified with cold water to obtain a tube-shaped unstretched original fabric having a uniform thickness accuracy for each layer having a folding width of 130 mm and a thickness of about 500 μm. On the other hand, electron beam irradiation (acceleration voltage = 1 MV, irradiation dose = 120 kGy) is performed, and the obtained unstretched cross-linked raw fabric is passed between two pairs of differential nip rolls, and the heating temperature at the stretching start point is about 140. The air is injected to form a bubble to form a bubble, 3.0 times MD and 4.8 times TD (14.4 times area stretch ratio), and a shrink film having a thickness of 35 μm is formed. Obtained. On the surface on the second layer side of the obtained film, polyethylene (Suntech LD (registered trademark) L1850K manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), MFR (190 ° C., 2.16 kgf) = 6.8 g / 10 min, density = 0. 918 g / cm 3 ) was extrusion-laminated to obtain a shrink film for a cover tape further comprising a layer containing a polyethylene resin on the film. On the surface of the layer containing the polyethylene resin, an acrylic coating agent, Dianal BR-87 (product name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is applied to a thickness of 1 μm as a heat sealant to form a seal layer, and the cover I got a tape. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape.

参考例20]
参考例18で得られたカバーテープのシール層表面に、導電剤としてアンチモンドープ酸化スズ分散コーティング剤 コルコートSP−2001(コルコート株式会社製、商品名)を0.4μmの厚さで塗工し、導電性のカバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。なお、得られたカバーテープの導電剤側の表面固有抵抗値(気温20℃、湿度30%RH)を測定した結果は1.3×108Ωであり、十分な帯電防止性能が確認できた。
[ Reference Example 20]
On the surface of the seal layer of the cover tape obtained in Reference Example 18, antimony-doped tin oxide dispersion coating agent Colcoat SP-2001 (trade name, manufactured by Colcoat Co., Ltd.) was applied as a conductive agent to a thickness of 0.4 μm. A conductive cover tape was obtained. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape. In addition, the result of measuring the surface specific resistance value (temperature 20 ° C., humidity 30% RH) on the conductive agent side of the obtained cover tape was 1.3 × 10 8 Ω, and sufficient antistatic performance could be confirmed. .

参考例21]
参考例7で得られたカバーテープ用シュリンクフィルムの第2の層(B)側の表面に、導電性シール剤としてオレフィン共重合エマルジョン(中央理化工業株式会社製)を2.0μmの厚さで塗工してシール層を形成し、導電性のカバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。なお、得られたカバーテープの導電剤側の表面固有抵抗値(気温20℃、湿度30%RH)を測定した結果は2.5×108Ωであり、十分な帯電防止性能が確認できた。
[ Reference Example 21]
On the surface of the second layer (B) side of the shrink film for cover tape obtained in Reference Example 7, an olefin copolymer emulsion (manufactured by Chuo Rika Kogyo Co., Ltd.) with a thickness of 2.0 μm as a conductive sealant. Coating was performed to form a seal layer, and a conductive cover tape was obtained. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape. In addition, the result of measuring the surface specific resistance value (temperature 20 ° C., humidity 30% RH) on the conductive agent side of the obtained cover tape was 2.5 × 10 8 Ω, and sufficient antistatic performance was confirmed. .

参考例22]
参考例10で得られたカバーテープ用シュリンクフィルムの第2の層(B)側の表面に、導電性シール剤としてオレフィン共重合エマルジョン(中央理化工業株式会社製)を2.0μmの厚さで塗工してシール層を形成し、導電性のカバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。なお、得られたカバーテープの導電剤側の表面固有抵抗値(気温20℃、湿度30%RH)を測定した結果は3.3×108Ωであり、十分な帯電防止性能が確認できた。
[ Reference Example 22]
On the surface on the second layer (B) side of the shrink film for cover tape obtained in Reference Example 10, an olefin copolymer emulsion (manufactured by Chuo Rika Kogyo Co., Ltd.) with a thickness of 2.0 μm as a conductive sealant. Coating was performed to form a seal layer, and a conductive cover tape was obtained. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape. The surface resistivity value (temperature 20 ° C., humidity 30% RH) on the conductive agent side of the obtained cover tape was measured to be 3.3 × 10 8 Ω, and sufficient antistatic performance was confirmed. .

[比較例1]
第1の層(A)として、LL1を95質量%、高分子型帯電防止剤 サンコノール(登録商標) TBX−25(三光化学株式会社製)を5質量%、第2の層(B)として、LL1を50質量%、LD1を50質量%用いて、層配置が第1の層/第2の層で、各層の厚さ比率(%)が30/70の2層構造になるように環状多層ダイを用いて押出した後、冷水にて急冷固化して折り幅130mm、厚さが約650μmの各層とも均一な厚み精度のチューブ状未延伸原反を得た。これに対して、電子線照射(加速電圧=1MV、照射線量=120kGy)を行い、得られた架橋未延伸原反を2対の差動ニップロール間に通し、延伸開始点の加熱温度が約140℃になるようにしてエアー注入してバブルを形成させ、MDに3.0倍、TDに4.8倍延伸(面積延伸倍率で14.4倍)を行い、厚さが45μmのカバーテープ用シュリンクフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表3に示す。
[Comparative Example 1]
As a 1st layer (A), LL1 is 95 mass%, polymeric antistatic agent Sanconol (trademark) TBX-25 (made by Sanko Chemical Co., Ltd.) is 5 mass%, and as a 2nd layer (B), Using LL1 50% by mass and LD1 50% by mass, the layer arrangement is the first layer / second layer, and the thickness ratio (%) of each layer is a two-layer structure with 30/70. After extruding using a die, it was rapidly cooled and solidified with cold water to obtain a tube-shaped unstretched original fabric having a uniform thickness accuracy for each layer having a folding width of 130 mm and a thickness of about 650 μm. On the other hand, electron beam irradiation (acceleration voltage = 1 MV, irradiation dose = 120 kGy) is performed, and the obtained unstretched cross-linked raw fabric is passed between two pairs of differential nip rolls, and the heating temperature at the stretching start point is about 140. Inject air to form a bubble to form a bubble, stretch 3.0 times MD and 4.8 times TD (14.4 times the area stretch ratio), for cover tapes with a thickness of 45 μm A shrink film was obtained. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3.

[比較例2]
第2の層の組成をHD1 100%に代えた以外は参考例1と同様にしてカバーテープ用シュリンクフィルムを得ようと試みたが、高圧法低密度ポリエチレンを用いないことに起因して、安定したフィルムを作製することはできず、評価も不可能であった。
[Comparative Example 2]
An attempt was made to obtain a shrink film for a cover tape in the same manner as in Reference Example 1 except that the composition of the second layer was changed to HD1 100%. Film could not be produced and could not be evaluated.

[比較例3]
比較例1で得られたフィルムの第2の層側にアクリル系コーティング剤 ダイヤナールBR−87(三菱レイヨン社製、商品名)を1μmの厚さで塗工し、カバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。
[Comparative Example 3]
On the second layer side of the film obtained in Comparative Example 1, an acrylic coating agent, Dianal BR-87 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) was applied to a thickness of 1 μm to obtain a cover tape. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape.

[比較例4]
市販のPETフィルム(東レ株式会社製 ルミラー(登録商標)♯12)に、イソシアネート系接着剤をグラビアコート法で塗布し、その塗布面側に比較例1で得られたフィルムの第1の層(A)側を貼り合わせて、厚さが57μmのフィルムを得た。得られたフィルムの第2の層(B)側にグラビュアコーティングにより、アクリル系コーティング剤 ダイヤナールBR−87(三菱レイヨン社製、商品名)を1μmの厚さで塗工し、カバーテープを得た。得られたカバーテープの評価結果を表5に示す。
[Comparative Example 4]
An isocyanate-based adhesive was applied to a commercially available PET film (Lumirror (registered trademark) # 12 manufactured by Toray Industries, Inc.) by the gravure coating method, and the first layer of the film obtained in Comparative Example 1 ( A) side was bonded together to obtain a film having a thickness of 57 μm. The acrylic coating agent Dianal BR-87 (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is applied to the second layer (B) side of the obtained film by gravure coating to a thickness of 1 μm, and a cover tape is applied. Obtained. Table 5 shows the evaluation results of the obtained cover tape.

Figure 0005456419
Figure 0005456419

Figure 0005456419
Figure 0005456419

Figure 0005456419
Figure 0005456419

Figure 0005456419
Figure 0005456419

Figure 0005456419
Figure 0005456419

表1〜4に示す結果から、参考例1〜17のカバーテープ用シュリンクフィルムは透明性に優れており、十分な剛性と適度な収縮性を有し、それを用いたカバーテープ(参考例18〜21及び実施例19)は表5に示す結果から、ヒートシール時にかかる熱によって、適度に収縮が起こり、緩みのないタイトなテーピングを行うことが可能であることがわかった。 From the results shown in Tables 1 to 4, the shrink films for cover tapes of Reference Examples 1 to 17 are excellent in transparency, have sufficient rigidity and appropriate shrinkage, and cover tapes using them ( Reference Example 18). From the results shown in Table 5 to 21 and Example 19 ), it was found that due to heat applied during heat sealing, shrinkage occurred moderately and tight taping without loosening was possible.

一方、表1に示す結果から、比較例1で得られたフィルムは、高密度ポリエチレンを用いていないため、カバーテープの基材フィルムとして用いるには、フィルムの剛性が低く、伸びやすいため、取り扱い性等が困難なものとなった。
比較例3で得られたカバーテープは高密度ポリエチレンを用いていないため、エンボスキャリアテープへシールを行う際に、フィルムがコテの熱によって収縮を起こし、シールが不安定となったため、検査のためのテーピングサンプルが得られなかった。
更にPETフィルムにラミネートした比較例4は、剛性はPETフィルムにより得られているが、収縮性がPETフィルムで阻害されており、シール時に適度な収縮が起こらず、カバーテープに緩みが発生する結果となった。
On the other hand, from the results shown in Table 1, since the film obtained in Comparative Example 1 does not use high-density polyethylene, the film has low rigidity and is easy to stretch for use as a base film of a cover tape. Sexuality became difficult.
Since the cover tape obtained in Comparative Example 3 does not use high-density polyethylene, when sealing to the embossed carrier tape, the film shrinks due to the heat of the iron, and the seal becomes unstable. No taping sample was obtained.
Further, in Comparative Example 4 laminated on a PET film, the rigidity is obtained from the PET film, but the shrinkability is hindered by the PET film, and the cover tape does not shrink appropriately and the cover tape is loosened. It became.

本発明のカバーテープ用シュリンクフィルムは、電子部品包装用のエンボスキャリアテープに熱シールが可能なカバーテープ用の基材フィルムとして好適に用いることができる。   The shrink film for a cover tape of the present invention can be suitably used as a base film for a cover tape that can be heat sealed to an embossed carrier tape for packaging electronic components.

Claims (6)

カバーテープ用シュリンクフィルムと、
ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層と、
を備え、
前記カバーテープ用シュリンクフィルムが、密度が0.942〜0.970g/cmの高密度ポリエチレンを含む第1の層と高圧法低密度ポリエチレンを含む第2の層との積層体に、更にポリエチレン系樹脂を含む層を積層して備え、
前記ヒートシール剤及び/又は導電剤を含む層が、前記カバーテープ用シュリンクフィルムの前記ポリエチレン系樹脂を含む層の主面上に配置された、カバーテープ。
Shrink film for cover tape,
A layer containing a heat sealant and / or a conductive agent;
With
Shrink film for the cover tape, the laminate of the second layer density which comprises a first layer and a high-pressure method low density polyethylene containing high-density polyethylene 0.942~0.970g / cm 3, further polyethylene Layered with a layer containing resin,
Said layer comprising a heat-sealing material and / or conductive agent, disposed on the main surface of the layer containing the polyethylene resin of the shrink film for the cover tape, Kabate flop.
前記第2の層は、密度が0.942〜0.970g/cmの高密度ポリエチレンを更に含む、請求項1に記載のカバーテープ。 The second layer has a density further comprises a high density polyethylene 0.942~0.970g / cm 3, Kabate flop of claim 1. 前記高圧法低密度ポリエチレンは、密度が0.910〜0.930g/cmであり、メルトフローレートが0.01〜2.0g/10分である、請求項1又は2に記載のカバーテープ。 The high-pressure low-density polyethylene, density of 0.910~0.930g / cm 3, a is 0.01 to 2.0 g / 10 min melt flow rate, Kabate flop according to claim 1 or 2 . 前記第1の層は高分子型帯電防止剤を0.1〜40質量%含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のカバーテープ。 It said first layer containing 0.1 to 40 wt% of a polymeric antistatic agent, Kabate flop according to any one of claims 1 to 3. 前記カバーテープ用シュリンクフィルムは、二軸延伸フィルムである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のカバーテープ。 The cover tape for shrink film is biaxially a stretched film, Kabate flop according to any one of claims 1-4. 前記第1の層及び前記第2の層のうち少なくとも一方の層は、その層を構成する樹脂が架橋されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載のカバーテープ。 Wherein at least one layer of the first layer and the second layer, the layer constituting the resin is crosslinked, Kabate flop according to any one of claims 1 to 5.
JP2009199529A 2009-08-31 2009-08-31 Shrink film for cover tape and cover tape Expired - Fee Related JP5456419B2 (en)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009199529A JP5456419B2 (en) 2009-08-31 2009-08-31 Shrink film for cover tape and cover tape
CN201080036569.3A CN102470965B (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
US13/386,077 US8999502B2 (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
PCT/JP2010/064388 WO2011024860A1 (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
KR1020127002237A KR101339583B1 (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
RU2012112480/12A RU2012112480A (en) 2009-08-31 2010-08-25 COVER TAPE, METHOD FOR PRODUCING COVER TAPE AND PACKING OF ELECTRONIC COMPONENT
MX2012002447A MX2012002447A (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package.
SG2012002093A SG178022A1 (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
CA2768507A CA2768507C (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
MYPI2012000398A MY155405A (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
EP10811909.0A EP2474483A4 (en) 2009-08-31 2010-08-25 Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
TW099129332A TWI478814B (en) 2009-08-31 2010-08-31 Packaging tape, packaging tape manufacturing methods and electronic parts package body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009199529A JP5456419B2 (en) 2009-08-31 2009-08-31 Shrink film for cover tape and cover tape

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011051592A JP2011051592A (en) 2011-03-17
JP5456419B2 true JP5456419B2 (en) 2014-03-26

Family

ID=43941038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009199529A Expired - Fee Related JP5456419B2 (en) 2009-08-31 2009-08-31 Shrink film for cover tape and cover tape

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5456419B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016039275A1 (en) * 2014-09-10 2016-03-17 三井化学東セロ株式会社 Biaxially oriented ethylene polymer film and packaging
JP7395568B2 (en) * 2018-09-28 2023-12-11 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー coated heat shrinkable film
JP6930625B1 (en) * 2020-03-30 2021-09-01 住友ベークライト株式会社 Cover tape and electronic component packaging

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5366476U (en) * 1976-11-06 1978-06-03
JPS5453092A (en) * 1977-10-03 1979-04-26 Asahi Chem Ind Co Ltd Shrink-wrapping method of tray
JPS5943056B2 (en) * 1978-10-03 1984-10-19 出光石油化学株式会社 Polyethylene composition for shrink wrapping
JPH03189147A (en) * 1989-12-19 1991-08-19 Sekisui Chem Co Ltd Heat-shrinkable laminated film
JP3093020B2 (en) * 1992-02-14 2000-10-03 積水化学工業株式会社 Heat shrinkable laminated film
JP4624721B2 (en) * 2004-05-21 2011-02-02 株式会社プライムポリマー Laminated resin uniaxially stretched film
JP4822845B2 (en) * 2006-01-10 2011-11-24 パナソニック株式会社 Carrier tape, electronic component packaging body, and electronic component packaging method
JP5225704B2 (en) * 2008-02-15 2013-07-03 旭化成ケミカルズ株式会社 Vinyl aromatic hydrocarbon resin sheet

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011051592A (en) 2011-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2024041794A (en) Biaxially oriented laminated polypropylene film
JP5456602B2 (en) Cover tape, cover tape manufacturing method, and electronic component package
JP5208648B2 (en) Cover tape
JPWO2012169387A1 (en) Cover film
JP7463478B2 (en) Release film for resin sealing process by compression molding
KR101339583B1 (en) Cover tape, method for manufacturing cover tape, and electronic part package
JP2012012033A (en) Cover tape
JP5456419B2 (en) Shrink film for cover tape and cover tape
JP2012012032A (en) Cover tape
JP6205868B2 (en) Biaxially oriented polyester film
JP5399287B2 (en) Cover tape
KR20160020419A (en) Mold release film
JP2015020750A (en) Cover tape and electronic component packing body
JP2017177463A (en) Processing release film excellent in appearance of molding, use thereof, and method for producing resin sealed semiconductor using the same
JP2014031197A (en) Cover tape, method for manufacturing cover tape and electronic component package
JP4334858B2 (en) Cover tape for taping packaging of electronic parts
JP4938722B2 (en) Shrinkable film
JPH0976392A (en) Scattering-preventive and energy-saving film
JP2008036844A (en) Multilayered polyolefinic heat-shrinkable film
JPWO2016047546A1 (en) LAMINATED FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SURFACE PROTECTIVE FILM
JP2605114B2 (en) Laminated product of stretched polypropylene film and its use
JP2020055627A (en) Cover tape and packaging body for electronic component
US20230212361A1 (en) Biaxially oriented polypropylene film
US20230212362A1 (en) Biaxially oriented polypropylene film
JP2023013959A (en) Biaxially oriented laminated polypropylene film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120827

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131008

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131129

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140108

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5456419

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees