JP5444831B2 - Planographic printing plate precursor - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a lithographic printing plate precursor that exhibits an excellent antiscumming performance while exhibiting an excellent printing durability and that can also achieve an excellent on-press developability. The lithographic printing plate precursor is a lithographic printing plate precursor that has an image recording layer on an aluminum support, wherein the image recording layer contains from 0.01 to 10 mass% of a compound represented by the following general formula (I) (in the formula, R 1 represents a C 2-10 organic Substituent and R 2 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-10 organic Substituent).

Description

本発明は、平版印刷版原版に関し、特に画像記録層に特定の環状アミド化合物を含有する平版印刷版原版に関する。さらに詳しくは、高耐刷性と汚れ防止性を両立する平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor containing an image recording layer containing a specific cyclic amide compound. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor that achieves both high printing durability and antifouling properties.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤含有現像液によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing the lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer corresponding to the image portion remains, and the unnecessary image recording layer corresponding to the non-image portion is removed with an alkaline developer. Alternatively, the lithographic printing plate is obtained by dissolving and removing with an organic solvent-containing developer and exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image area.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることは、重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been gaining attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technology is one of the important technical issues.

更に、従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液などによって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化又は簡易化することも課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっており、上記課題解決への要請は一層強くなってきている。
これに対して、簡易な製版方法の一つとして、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で画像記録層の不要部分を除去して平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤又は湿し水とインキとの乳化物に溶解し又は分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤などの浸透によって画像記録層の凝集力又は画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
Furthermore, in the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure, but such additional wet processing is unnecessary. Simplification or simplification is also cited as one of the problems. In particular, in recent years, disposal of waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration of the global environment, and the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.
On the other hand, as one simple plate making method, an image recording layer that can remove an unnecessary portion of the image recording layer in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which unnecessary portions are removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in an fountain solution, an ink solvent, or an emulsion of a fountain solution and an ink. , Method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or blankets of a printing press, cohesion of the image recording layer or adhesion between the image recording layer and the support by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket.

なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液、界面活性剤含有現像液、および、親水性ポリマー含有水溶液など)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキ及び/又は湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法及び工程を指す。   In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” means that a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) is used, and a liquid (usually containing an alkaline developer and a surfactant). This refers to the process of removing the image recording layer of the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor by contacting the developer and an aqueous solution containing a hydrophilic polymer, and exposing the surface of the hydrophilic support. "The surface of the hydrophilic support is removed by removing the image recording layer of the lithographic printing plate precursor by contacting a liquid (usually printing ink and / or fountain solution) with a printing machine. Refers to methods and processes for exposing

上述したような製版作業の簡素化、乾式化又は無処理化では、露光後の画像記録層が現像処理によって定着されていないので感光性を有し、印刷までの間にかぶってしまう可能性があるため、明室又は黄色灯下で取り扱い可能な画像記録層及び光源が好ましく用いられる。
そのようなレーザー光源としては、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー及びYAGレーザー等の固体レーザーは、高出力かつ小型のものを安価に入手できるようになったことから、極めて有用である。また、UVレーザーも用いることができる。
このような平版印刷版原版において、汚れ防止性を持たせるための種々の添加剤が提案されている(例えば特許文献1参照)。しかしながら、耐刷性と汚れ防止性とを両立することは難しい。特に、例えば特許文献2に記載されているように、特定のバインダーを使用し、UVインキによる耐刷性を持たせる際に、該耐刷性と汚れ防止性と両立させることが課題となっている。
In the above-described simplification, drying, or no processing of the plate-making work, the image recording layer after exposure is not fixed by the development processing, and thus has photosensitivity and may be covered before printing. Therefore, an image recording layer and a light source that can be handled in a bright room or under a yellow light are preferably used.
As such a laser light source, a solid-state laser such as a semiconductor laser and a YAG laser that emits infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm is extremely useful because a high-power and small-sized laser can be obtained at low cost. . A UV laser can also be used.
Various additives for imparting antifouling properties to such a lithographic printing plate precursor have been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, it is difficult to achieve both printing durability and antifouling properties. In particular, as described in, for example, Patent Document 2, when using a specific binder and imparting printing durability with UV ink, it is an issue to achieve both printing durability and antifouling properties. Yes.

特開2005−41206号公報JP-A-2005-41206 特開2008−247000号公報JP 2008-247000 A

本発明の目的は、良好な耐刷性を発揮しつつ、且つ、良好な汚れ防止性を発揮でき、更には良好な機上現像性を達成しうる平版印刷版原版を提供することである。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that can exhibit good printing durability, can exhibit good antifouling properties, and can achieve good on-press developability.

本発明者らは、種々の画像記録層組成物を検討した結果、特定の環状アミド化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版が、過酷条件で長期間の保存を行った場合にも、充分な耐刷性を有し、且つ、良好な汚れ防止性を実現し、更には良好な機上現像性をも実現できる予想外の効果を見出し、本発明に到達した。特にUVインキに対して高耐刷性になるような特定のポリマーを画像記録層に使用した場合に、上記効果があることを見出した。
従って本発明は、アルミニウム支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版であって、該画像記録層が下記一般式(I)で表される化合物を0.01〜10質量%含有することを特徴とする、平版印刷版原版である。
As a result of studying various image recording layer compositions, the present inventors have found that a lithographic printing plate precursor having an image recording layer containing a specific cyclic amide compound can be stored for a long time under severe conditions. The present inventors have found an unexpected effect that has sufficient printing durability and good anti-staining properties, and also good on-press developability, and has reached the present invention. In particular, it has been found that the above-mentioned effect is obtained when a specific polymer that has high printing durability against UV ink is used in the image recording layer.
Accordingly, the present invention provides a lithographic printing plate precursor having an image recording layer on an aluminum support, the image recording layer containing 0.01 to 10% by mass of a compound represented by the following general formula (I). A lithographic printing plate precursor characterized by the above.

Figure 0005444831

(式中、R1は炭素数2〜10の有機置換基を表し、R2〜R7はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜10の有機置換基を表す。)
Figure 0005444831

(In the formula, R 1 represents an organic substituent having 2 to 10 carbon atoms, and R 2 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an organic substituent having 1 to 10 carbon atoms.)

本発明の平版印刷版原版はネガ型の平版印刷版原版とすることができ、上記画像記録層は、さらに重合開始剤及び重合性化合物を含有することができる。また、光熱変換物質を含有することができる。
本発明の平版印刷版原版はまた、別の実施態様として、画像記録層の画像露光部分が現像後に非画像部となる、画像記録層に、水に不溶であり、かつアルカリ水溶液に可溶である高分子化合物を含有するポジ型の平版印刷版原版とすることができる。水に不溶であり、かつアルカリ水溶液に可溶である高分子化合物としては、ノボラック樹脂が好ましく、また、画像記録層には光熱変換物質を含有することができる。
本発明における画像記録層の実施態様として、スルホンアミド基、マレイミド基、及びウレア構造から選ばれる少なくとも一つの構造を含有する高分子化合物を含有する態様がある。
本発明の平版印刷版原版は中間層を有することができ、よって、本発明はさらに、アルミニウム支持体上に、中間層、及び上記の画像記録層をこの順に有することを特徴とする、平版印刷版原版に向けられている。
The lithographic printing plate precursor according to the invention may be a negative lithographic printing plate precursor, and the image recording layer may further contain a polymerization initiator and a polymerizable compound. Moreover, a photothermal conversion substance can be contained.
In another embodiment, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has an image-exposed portion of the image-recording layer that becomes a non-image portion after development. The image-recording layer is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution. A positive planographic printing plate precursor containing a polymer compound can be obtained. As the polymer compound that is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution, a novolak resin is preferable, and the image recording layer can contain a photothermal conversion substance.
As an embodiment of the image recording layer in the present invention, there is an embodiment containing a polymer compound containing at least one structure selected from a sulfonamide group, a maleimide group, and a urea structure.
The lithographic printing plate precursor according to the present invention can have an intermediate layer. Therefore, the present invention further includes an intermediate layer and the above-mentioned image recording layer in this order on an aluminum support. It is directed to the original edition.

本発明の平版印刷版原版によれば、良好な耐刷性と汚れ防止性とを両立できる平版印刷版を提供することができる。本発明の平版印刷版原版はまた、過酷条件で長期保存を行った場合にも、製版後、良好な耐刷性を維持しつつ、且つ、良好な汚れ防止性を達成できる平版印刷版を提供できる。また、本発明の平版印刷版原版によれば、優れた機上現像性を発揮でき、該平版印刷版原版を長期間保存したとしても機上現像性が悪化しない。本発明の平版印刷版原版は経時安定性の高いものである。   According to the lithographic printing plate precursor of the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate that can achieve both good printing durability and antifouling properties. The lithographic printing plate precursor of the present invention also provides a lithographic printing plate capable of achieving good antifouling properties while maintaining good printing durability after plate making even when stored for a long time under severe conditions. it can. The lithographic printing plate precursor according to the invention can exhibit excellent on-press developability, and the on-press developability does not deteriorate even if the lithographic printing plate precursor is stored for a long period of time. The lithographic printing plate precursor according to the invention has high temporal stability.

本発明の平版印刷版原版は、ラジカル重合によるネガ型の平版印刷版原版、及び露光部が現像後に非画像部になるポジ型の平版印刷版原版のいずれにも用いることが可能である。本発明の平版印刷版原版はまた、現像処理工程を経る平版印刷版原版、印刷機上で直接現像して印刷する機上現像型平版印刷版原版のいずれにも用いることが可能である。
本発明の平版印刷版原版は、ラジカル重合によるネガ型の平版印刷版原版に用いることが好ましく、特にラジカル重合によるネガ型の機上現像型平版印刷版に用いることが好ましい。
The lithographic printing plate precursor of the present invention can be used for both negative lithographic printing plate precursors by radical polymerization and positive lithographic printing plate precursors in which the exposed portion becomes a non-image portion after development. The lithographic printing plate precursor of the present invention can also be used for both a lithographic printing plate precursor that has undergone a development treatment step and an on-press development type lithographic printing plate precursor that is directly developed and printed on a printing press.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably used for a negative type lithographic printing plate precursor by radical polymerization, and particularly preferably used for a negative on-press development type lithographic printing plate by radical polymerization.

<一般式(I)の化合物>
本発明の平版印刷版原版の画像記録層における、下記一般式(I)の化合物の含有量は、0.01〜10質量%である。その含有量は、好ましくは0.05〜7質量%であり、更に好ましくは0.08〜5質量%であり、特に好ましくは0.10〜3質量%である。

Figure 0005444831

(式中、R1は炭素数2〜10の有機置換基を表し、R2〜R7はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜10の有機置換基を表す。)
一般式(I)において、R1は炭素数2〜10の置換基を表し、窒素原子に置換可能な基であれば任意のものを選択できるが、好ましくは、炭素数2〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数2〜10のアルキニル基又は炭素数6〜10のアリール基である。 <Compound of general formula (I)>
The content of the compound of the following general formula (I) in the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is 0.01 to 10% by mass. The content is preferably 0.05 to 7% by mass, more preferably 0.08 to 5% by mass, and particularly preferably 0.10 to 3% by mass.
Figure 0005444831

(In the formula, R 1 represents an organic substituent having 2 to 10 carbon atoms, and R 2 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an organic substituent having 1 to 10 carbon atoms.)
In the general formula (I), R 1 represents a substituent having 2 to 10 carbon atoms, and any group can be selected as long as it is a group that can be substituted with a nitrogen atom, but preferably an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

1で表されるアルキル基は、炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜4の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R1で表されるアルキル基は無置換でも、置換基を有していても良い。
1で表されるアルキル基が無置換であるとき、その具体例としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基などが挙げられる。
1が置換基を有する場合(すなわち、置換アルキル基である場合)、置換アルキル基のアルキル部分としては、上述した炭素数2〜10のアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましい炭素原子数の範囲についても上記アルキル基と同様である。
The alkyl group represented by R 1 is a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, and more preferably 2 to 4 carbon atoms. The alkyl group represented by R 1 may be unsubstituted or may have a substituent.
When the alkyl group represented by R 1 is unsubstituted, specific examples thereof include an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, and an isopropyl group. , Isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and the like.
When R 1 has a substituent (that is, a substituted alkyl group), the alkyl part of the substituted alkyl group is any one of the above-described hydrogen atoms on the alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. A divalent organic residue can be exemplified, and a preferable range of the number of carbon atoms is the same as that of the alkyl group.

1で表されるアルキル基に導入可能な置換基としては、以下に例示する非金属原子から構成される1価の置換基も挙げられる。好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N−アルキルウレイド基、N,N−ジアルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N,N−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、 Examples of the substituent that can be introduced into the alkyl group represented by R 1 include monovalent substituents composed of nonmetallic atoms exemplified below. Preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, amino groups, N-alkylamino groups, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N-alkylureido group, N, N-dialkylureido group, N-arylurei group Group, N, N-diaryl ureido group, N'- alkyl -N- alkylureido group, N'- alkyl -N- arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group Group, N, N-diarylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, Aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinaimoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, sulfa Yl group, N- alkylsulfamoyl group, N, N- dialkylsulfamoyl group, N- aryl sulfamoyl group,

シアノ基、ニトロ基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基など)、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基などが挙げられる。   Cyano group, nitro group, aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylaminophenyl Group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, etc.) Alkenyl group, alkynyl group, heterocyclic group, silyl group, hydroxyalkoxy group, alkoxyalkoxy group and the like.

上記置換アルキル基の好ましい具体例としては、メトキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、s−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、   Preferred examples of the substituted alkyl group include methoxymethyl group, methoxycarbonylmethyl group, isopropoxymethyl group, butoxymethyl group, s-butoxybutyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyl group. Oxymethyl, methylthiomethyl, tolylthiomethyl, pyridylmethyl, trimethylsilylmethyl, methoxyethyl, ethylaminoethyl, diethylaminopropyl, morpholinopropyl, acetyloxymethyl, benzoyloxymethyl, N- Cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxyl Propyl group, a methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonyl butyl group, chlorophenoxy carbonyl methyl group,

カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、ホスホノブチル基、ジエチルホスホノブチル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、p−メチルベンジル基などを挙げることができる。   Carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl Group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, phosphonobutyl group, diethylphosphonobutyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, phosphonooxypropyl group, phospho Examples include natooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, p-methylbenzyl group and the like.

1で表されるアルケニル基は炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、特に好ましくは炭素数2〜4の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基を挙げることができる。R1で表されるアルケニル基は無置換でも、更に置換基を有していても良い。
1で表されるアルケニル基が無置換であるとき、その具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、1−オクテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−ブテニル基、アリル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基などが挙げられる。
Examples of the alkenyl group represented by R 1 include linear, branched or cyclic alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 4 carbon atoms. The alkenyl group represented by R 1 may be unsubstituted or may further have a substituent.
When the alkenyl group represented by R 1 is unsubstituted, specific examples thereof include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 1-octenyl. Group, 1-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, allyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methyl-3-butenyl group , 3-methyl-2-butenyl group and the like.

1で表されるアルケニル基が置換基を有する場合(すなわち、置換アルケニル基である場合)、置換アルケニル基のアルケニル部分としては、上述した炭素数2〜10のアルケニル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましい炭素原子数の範囲についても上記アルケニル基と同様である。
1で表されるアルケニル基に導入可能な置換基としては、上記置換アルキル基の説明中に記載の置換基を挙げることができる。
When the alkenyl group represented by R 1 has a substituent (that is, when it is a substituted alkenyl group), the alkenyl part of the substituted alkenyl group includes any of the hydrogen atoms on the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms described above. The divalent organic residue can be exemplified by removing one of them, and the preferable range of the number of carbon atoms is the same as that of the alkenyl group.
Examples of the substituent that can be introduced into the alkenyl group represented by R 1 include the substituents described in the above description of the substituted alkyl group.

1で表されるアルキニル基は、炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、特に好ましくは炭素数2〜4の直鎖状、分岐状又は環状のアルキニル基を挙げることができる。R1で表されるアルキニル基は無置換でも、更に置換基を有していても良い。
1で表されるアルキニル基が無置換であるとき、その具体例としては、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基などが挙げられる。
1で表されるアルキニル基が置換基を有する場合(すなわち、置換アルキニル基である場合)、置換アルキニル基のアルキニル部分としては、上述した炭素数2〜10のアルキニル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましい炭素原子数の範囲についても上記アルキニル基と同様である。
1で表されるアルキニル基に導入可能な置換基としては、上記置換アルキル基の説明中に記載の置換基を挙げることができる。
Examples of the alkynyl group represented by R 1 include linear, branched or cyclic alkynyl groups having 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 4 carbon atoms. The alkynyl group represented by R 1 may be unsubstituted or may further have a substituent.
When the alkynyl group represented by R 1 is unsubstituted, specific examples thereof include a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.
When the alkynyl group represented by R 1 has a substituent (that is, when it is a substituted alkynyl group), the alkynyl part of the substituted alkynyl group includes any of the hydrogen atoms on the alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms described above. The divalent organic residue can be exemplified by removing one of them, and the preferable range of the number of carbon atoms is the same as that of the alkynyl group.
Examples of the substituent that can be introduced into the alkynyl group represented by R 1 include the substituents described in the description of the substituted alkyl group.

1で表されるアリール基は炭素数6〜10、好ましくは炭素数6〜9、特に好ましくは炭素数6〜8の無置換又は置換アリール基である。このようなアリール基の例としてフェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ジメチルフェニル基、クロロフェニル基などがある。
1で表されるアリール基が置換基を有する場合(すなわち、置換アリール基である場合)、置換アリール基のアリール部分としては、上述した炭素数6〜10のアリール基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましい炭素原子数の範囲についても上記アリール基と同様である。
1で表されるアリール基に導入可能な置換基としては、上記置換アルキル基の説明中に記載の置換基を挙げることができる。また、ベンゼン環に、更にベンゼン環や、ヘテロ環が縮合して縮合環を形成していてもよい。具体例としては、フェニル基、ナフチル基などを挙げることもできる。
The aryl group represented by R 1 is an unsubstituted or substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 9 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 8 carbon atoms. Examples of such aryl groups include phenyl, methylphenyl, methoxyphenyl, dimethylphenyl, chlorophenyl and the like.
When the aryl group represented by R 1 has a substituent (that is, when it is a substituted aryl group), the aryl part of the substituted aryl group includes any of the above-described hydrogen atoms on the aryl group having 6 to 10 carbon atoms. The divalent organic residue can be exemplified by removing one of these, and the preferable range of the number of carbon atoms is the same as that of the aryl group.
Examples of the substituent that can be introduced into the aryl group represented by R 1 include the substituents described in the above description of the substituted alkyl group. Further, a benzene ring or a hetero ring may be further condensed to the benzene ring to form a condensed ring. Specific examples include a phenyl group and a naphthyl group.

1は好ましくはアルキル基であり、より具体的にはエチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが好ましく、特にエチル基、プロピル基及びブチル基が好ましい。 R 1 is preferably an alkyl group, and more specifically, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and the like are preferable, and an ethyl group, a propyl group, and a butyl group are particularly preferable. .

2〜R7はそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜10の有機置換基を表す。R2〜R7が置換基を表すとき、炭素原子に置換可能な基であれば任意のものを選択できる。
2〜R7で表される有機置換基の例としては、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルケニル基、炭素数1〜10のアルキニル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数1〜10のヘテロ環基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N−アルキルウレイド基、N,N−ジアルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N,N−ジアリールウレイド基、N'−アルキル−N−アルキルウレイド基、N'−アルキル−N−アリールウレイド基、
R 2 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an organic substituent having 1 to 10 carbon atoms. When R 2 to R 7 represent a substituent, any group can be selected as long as the group can be substituted on a carbon atom.
Examples of the organic substituent represented by R 2 to R 7 include alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 10 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms, and 6 to 10 carbon atoms. Aryl group, C1-C10 heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diaryl Amino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group Group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, Raid group, N-alkylureido group, N, N-dialkylureido group, N-arylureido group, N, N-diarylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-aryl Ureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、などが挙げられる。
2〜R7は互いに結合して環を形成していても良い。
Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N , N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N -Alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-a Kill sulfamoyl group, N, N- dialkylsulfamoyl group, N- aryl sulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group, and the like.
R 2 to R 7 may be bonded to each other to form a ring.

2〜R7は、好ましくは水素原子、又は炭素数1〜8のアルキル基であり、更に好ましくは水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基であり、特に好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基など)である。 R 2 to R 7 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a carbon atom. A C 1-4 alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.).

一般式(I)において、R1、及びR2〜R7の特に好ましい組み合わせは、R1がエチル基、プロピル基、又はブチル基であり、R2〜R7が全て水素原子であるときである。
最も好ましくは、R1がエチル基であり、R2〜R7が全て水素原子であるときである。以下に、一般式(I)で表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the general formula (I), a particularly preferable combination of R 1 and R 2 to R 7 is when R 1 is an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and R 2 to R 7 are all hydrogen atoms. is there.
Most preferably, R 1 is an ethyl group and R 2 to R 7 are all hydrogen atoms. Although the preferable example of a compound represented by general formula (I) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 0005444831

(n)は分岐していない直鎖状の基を意味する。
Figure 0005444831

(N) means an unbranched linear group.

Figure 0005444831
Figure 0005444831

Figure 0005444831
Figure 0005444831

Figure 0005444831
Figure 0005444831

画像記録層中の上記一般式(I)の化合物の含有量は、作成された平版印刷版原版の所定の面積を適当な溶媒で、例えばメタノールで抽出し、該抽出物を試料としてガスクロマトグラフィー法を行うことで計測し、所定の面積における含有量を求める。これを所定の面積の、画像記録層の重量で割り、含有量(%)を求める。画像記録層中の上記一般式(I)の化合物の含有量の調整は、画像記録層塗布液における該化合物の量、及び該塗布液の乾燥時間を調整することによって実施することができる。   The content of the compound of the above general formula (I) in the image recording layer is determined by extracting a predetermined area of the prepared lithographic printing plate precursor with an appropriate solvent, for example with methanol, and using the extract as a sample for gas chromatography. Measured by performing the method, the content in a predetermined area is obtained. This is divided by the weight of the image recording layer of a predetermined area to determine the content (%). The content of the compound of the general formula (I) in the image recording layer can be adjusted by adjusting the amount of the compound in the image recording layer coating solution and the drying time of the coating solution.

以下、本発明の画像記録層における他の構成成分について、詳細に説明する。
<ラジカル重合性ネガ型平版印刷版原版の画像記録層>
ラジカル重合によるネガ型の平版印刷版原版の画像記録層として使用される光重合型感光性組成物(以下「光重合性組成物」という)は、重合性化合物、具体的には付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物(以下、単に「エチレン性不飽和結合含有化合物」という)と、重合開始剤とを必須成分として含有し、必要に応じて、バインダーとしての高分子化合物、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等の種々の化合物を含有する。
[エチレン性不飽和結合含有化合物]
光重合性組成物に含有されるエチレン性不飽和結合含有化合物は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合に、光重合開始剤の作用により付加重合し、架橋し硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する化合物である。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物の中から任意に選択することができ、例えば、モノマー、プレポリマー(即ち、2量体、3量体およびオリゴマー)、これらの混合物、これらの共重合体等の化学的形態を有する。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル系ラジカル重合性化合物、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド系ラジカル重合性化合物が挙げられる。またウレタン系ラジカル重合性化合物も好適である。
Hereinafter, other components in the image recording layer of the present invention will be described in detail.
<Image recording layer of radically polymerizable negative lithographic printing plate precursor>
A photopolymerizable photosensitive composition (hereinafter referred to as “photopolymerizable composition”) used as an image recording layer of a negative lithographic printing plate precursor by radical polymerization is a polymerizable compound, specifically, addition polymerization is possible. It contains an ethylenically unsaturated bond-containing compound (hereinafter simply referred to as “ethylenically unsaturated bond-containing compound”) and a polymerization initiator as essential components, and if necessary, a polymer compound as a binder, a colorant, Contains various compounds such as plasticizers and thermal polymerization inhibitors.
[Compound containing ethylenically unsaturated bond]
The ethylenically unsaturated bond-containing compound contained in the photopolymerizable composition is such that, when the photopolymerizable composition is irradiated with actinic rays, it undergoes addition polymerization by the action of the photopolymerization initiator, crosslinks and cures. It is a compound having an ethylenically unsaturated bond. The ethylenically unsaturated bond-containing compound can be arbitrarily selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more, such as monomers, prepolymers (ie, dimers). Trimers and oligomers), mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of monomers include ester-based radical polymerizable compounds of unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid) and aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids. Examples thereof include amide radical polymerizable compounds of an acid and an aliphatic polyvalent amine compound. A urethane radical polymerizable compound is also suitable.

[重合開始剤]
光重合性組成物に含有される重合開始剤としては、使用する光源の波長により、種々の重合開始剤または2種以上の重合開始剤の併用系(光開始系)を適宜選択して用いることができ、例えば、特開2001−22079号公報〔0021〕〜〔0023〕で示されている開始系が好ましい。また、オニウム塩が好ましく用いることができ、好適な具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号〔0030〕〜〔0033〕に記載されたものを挙げることができる。
[その他の成分]
光重合性組成物に含有される高分子化合物は、光重合性組成物の皮膜形成剤として機能するだけでなく、感光層をアルカリ現像液に溶解させる必要があるため、アルカリ水に可溶性または膨潤性であるものが使用される。上記高分子化合物としては同公報〔0036〕〜〔0063〕で示されている物が有用である。特に、エチレン性不飽和結合を側鎖に含有する高分子化合物が好ましい。
その他光重合性組成物には、同公報〔0079〕〜〔0088〕で示されている添加剤(例えば塗布性を良化するための界面活性剤)を加えることも好ましい。
[その他の層]
また、上記感光層の上に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性保護層を設けることが好ましい。酸素遮断性保護層に含有される重合体としては、ポリビニルアルコール又はその共重合体が挙げられる。さらにフォトポリマータイプの感光層の下層として特開2001−228608号公報〔0124〕〜〔0165〕で示されているような中間層もしくは接着層を設けるのも好ましい。
[Polymerization initiator]
As the polymerization initiator contained in the photopolymerizable composition, various polymerization initiators or a combination system (photoinitiation system) of two or more polymerization initiators may be appropriately selected and used depending on the wavelength of the light source used. For example, an initiation system shown in JP-A-2001-22079 [0021] to [0023] is preferable. Further, onium salts can be preferably used, and preferable specific examples include those described in paragraph numbers [0030] to [0033] of JP-A No. 2001-133969.
[Other ingredients]
The polymer compound contained in the photopolymerizable composition not only functions as a film-forming agent for the photopolymerizable composition but also needs to dissolve the photosensitive layer in an alkali developer, so that it is soluble or swelled in alkaline water. What is sex is used. As the polymer compound, those shown in the publications [0036] to [0063] are useful. In particular, a polymer compound containing an ethylenically unsaturated bond in the side chain is preferable.
In addition, it is also preferable to add the additive (for example, surfactant for improving applicability | paintability) shown by the same gazette [0079]-[0088] to a photopolymerizable composition.
[Other layers]
Further, it is preferable to provide an oxygen-blocking protective layer on the photosensitive layer in order to prevent the oxygen polymerization inhibiting action. Examples of the polymer contained in the oxygen barrier protective layer include polyvinyl alcohol or a copolymer thereof. Further, it is preferable to provide an intermediate layer or an adhesive layer as disclosed in JP-A-2001-228608 [0124] to [0165] as the lower layer of the photopolymer type photosensitive layer.

<赤外線レーザーに感応するラジカル重合性画像記録層>
赤外線レーザーに感応する重合性ネガ型画像記録層は、(A)光熱変換物質、(B)重合開始剤、(C)エチレン性不飽和結合含有化合物、および必要により(D)バインダーとして高分子化合物とを含有する。
光熱変換物質である赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等の重合開始剤が分解し、ラジカルが発生する。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物から選ばれ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起し、硬化する。
(A)光熱変換物質である赤外線吸収剤としては、例えば、前述したサーマルポジタイプの感熱層に含有される後述する光熱変換物質が挙げられるが、特にシアニン色素の具体例としては特開2001−133969号公報の段落番号〔0017〕〜〔0019〕に記載されたものを挙げることができる。
(B)重合開始剤、(C)エチレン性不飽和結合含有化合物、および必要により(D)バインダーとして高分子化合物関しては、同公報〔0036〕〜〔0060〕に詳しく記載された物が使用できる。その他の添加物としては、同公報〔0061〕〜〔0068〕で示されている添加剤(例えば塗布性を良化するための界面活性剤)を加えることも好ましい。
<Radically polymerizable image recording layer sensitive to infrared laser>
A polymerizable negative image recording layer sensitive to an infrared laser comprises: (A) a photothermal conversion substance, (B) a polymerization initiator, (C) an ethylenically unsaturated bond-containing compound, and (D) a polymer compound as a binder if necessary. Containing.
The infrared rays absorbed by the infrared absorbent, which is a photothermal conversion substance, are converted into heat, and the generated heat decomposes a polymerization initiator such as an onium salt to generate radicals. The ethylenically unsaturated bond-containing compound is selected from compounds having a terminal ethylenically unsaturated bond, and a polymerization reaction is caused in a chain by the generated radicals to be cured.
(A) As an infrared absorber which is a photothermal conversion substance, for example, a photothermal conversion substance described later contained in the above-described thermal positive type heat-sensitive layer can be mentioned. Examples thereof include those described in paragraph Nos. [0017] to [0019] of JP-A-133969.
For (B) a polymerization initiator, (C) an ethylenically unsaturated bond-containing compound, and if necessary, (D) a polymer compound as a binder, those described in detail in the publications [0036] to [0060] are used. it can. As other additives, it is also preferable to add an additive (for example, a surfactant for improving coating properties) shown in the publications [0061] to [0068].

<機上現像に対応したラジカル重合性画像記録層>
上記赤外線レーザーに感応するラジカル重合性画像記録層において、印刷機上で、湿し水及びインキにより現像する方式の画像記録層がある。この方式の重合性画像記録層においては、特定の(C)重合性化合物、(D)バインダーとしての高分子化合物、および必要により疎水化前駆体を使用する必要がある。
<Radically polymerizable image recording layer for on-press development>
In the radically polymerizable image recording layer that is sensitive to the infrared laser, there is an image recording layer that is developed on a printing machine with dampening water and ink. In the polymerizable image recording layer of this system, it is necessary to use a specific (C) polymerizable compound, (D) a polymer compound as a binder, and, if necessary, a hydrophobized precursor.

[重合性化合物]
機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。
ラジカル重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。
[Polymerizable compound]
Modified with isocyanuric acid ethylene oxide such as tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate and bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate because of its excellent balance of hydrophilicity involved in on-press development and polymerization ability involved in printing durability Acrylates are particularly preferred.
The radical polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.

[バインダーとしての高分子化合物]
バインダーとしての高分子化合物は、親水性基を有することが好ましい。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と現像性の両立が可能になる。
親水性基としては、たとえば、炭素数2または3のアルキレンオキシド単位を1〜100個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。特に好ましくは、2〜12個有するアルキレンオキシド構造が好ましく、最も好ましくは、2〜8個有するアルキレンオキシド構造である。バインダーポリマーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。
なかでも好適な高分子化合物としては、特開2008−195018号公報に記載のような、画像部の皮膜強度を向上するための架橋性官能基を主鎖または側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。架橋性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
[Polymer compound as binder]
The polymer compound as the binder preferably has a hydrophilic group. The hydrophilic group contributes to imparting on-press developability to the image recording layer. In particular, the coexistence of the crosslinkable group and the hydrophilic group makes it possible to achieve both printing durability and developability.
As the hydrophilic group, for example, an alkylene oxide structure having 1 to 100 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms is preferable. An alkylene oxide structure having 2 to 12 is particularly preferable, and an alkylene oxide structure having 2 to 8 is most preferable. In order to impart a hydrophilic group to the binder polymer, a monomer having a hydrophilic group may be copolymerized.
Among them, suitable polymer compounds include a crosslinkable functional group for improving the film strength of the image area as described in JP-A-2008-195018 in the main chain or side chain, preferably in the side chain. What you are doing. Crosslinking is formed between the polymer molecules by the crosslinkable group, and curing is accelerated.

架橋性官能基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。
バインダーポリマーは特に、皮膜性を有するポリマーが好ましく、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
なお、バインダーポリマーは質量平均モル質量(Mw)が2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
The crosslinkable functional group is preferably an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryl group, a vinyl group or an allyl group, or an epoxy group, and these groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. . For example, a reaction between an acrylic polymer or polyurethane having a carboxy group in the side chain and polyurethane and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.
The content of the crosslinkable group in the binder polymer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0 to 7.0 mmol, and most preferably 2.0 to 5.5 mmol per 1 g of the binder polymer. .
In particular, the binder polymer is preferably a polymer having film properties, and is preferably an acrylic resin, a polyvinyl acetal resin, or a polyurethane resin.
In addition, it is preferable that mass average molar mass (Mw) is 2000 or more, as for a binder polymer, it is more preferable that it is 5000 or more, and it is more preferable that it is 10,000-300,000.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(C)重合性化合物と(D)バインダーポリマーは、質量比で0.4/1〜1.8/1となる量で用いることが好ましい。さらに好ましくは0.7/1〜1.5/1である。この範囲で本発明の効果である、耐刷性を維持したまま、機上現像性またはガム現像性を向上させる効果が顕著に発現する。
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use (C) a polymeric compound and (D) binder polymer in the quantity used as 0.4 / 1-1.8 / 1 by mass ratio. More preferably, it is 0.7 / 1 to 1.5 / 1. Within this range, the effect of improving the on-press developability or gum developability is remarkably exhibited while maintaining the printing durability, which is the effect of the present invention.

[疎水化前駆体]
機上現像性を向上させるため、画像記録層に疎水化前駆体を用いることができる。疎水化前駆体とは、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつの粒子が好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
[Hydrophobic precursor]
In order to improve the on-press developability, a hydrophobized precursor can be used in the image recording layer. The hydrophobized precursor means fine particles capable of converting the image recording layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are preferably at least one particle selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, heat-reactive polymer fine particles, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable.

疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレートまたはメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include Research Disclosure No. 1 of January 1992. 33303, hydrophobic thermoplastic polymer fine particles described in JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 and European Patent No. 931647 are suitable. Can be cited as
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferred are polystyrene and polymethyl methacrylate.

疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。
熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など)、付加反応を行うイソシアナート基またはそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基またはヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。
The average particle diameter of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles is preferably 0.01 to 2.0 μm.
Examples of the heat-reactive polymer fine particles include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by crosslinking due to a heat reaction and a functional group change at that time.
The heat-reactive group in the polymer fine particle having a heat-reactive group may be any functional group that performs a reaction as long as a chemical bond is formed, but an ethylenically unsaturated group that performs a radical polymerization reaction (for example, Acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationic polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, etc.), isocyanate group that performs addition reaction or its block, epoxy group, vinyloxy group, and these reactions Functional group having an active hydrogen atom as a partner (for example, amino group, hydroxy group, carboxy group, etc.), carboxy group for performing a condensation reaction, hydroxy group or amino group as a reaction partner, an acid anhydride for performing a ring-opening addition reaction In addition, an amino group or a hydroxy group which is a reaction partner can be preferably mentioned.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。さらに、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中及び/または表面に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、(C)ラジカル重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。
上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
疎水化前駆体の含有量としては、画像記録層の固形分濃度で5〜90質量%の範囲であることが好ましい。
As the microcapsule, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsule. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, the image recording layer containing microcapsules is preferably a mode in which hydrophobic constituent components are encapsulated in microcapsules and hydrophilic constituent components are contained outside the microcapsules.
The aspect containing a crosslinked resin particle, ie, a microgel, may be sufficient. This microgel can contain a part of the constituents of the image recording layer in and / or on the surface thereof. In particular, the microgel is a reactive microgel having (C) a radical polymerizable compound on the surface thereof. Is particularly preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability.
As a method for microencapsulating or microgelling the constituent components of the image recording layer, known methods can be applied.
The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
The content of the hydrophobizing precursor is preferably in the range of 5 to 90% by mass in terms of the solid content concentration of the image recording layer.

その他の成分として、感脂化剤、本発明以外の現像促進剤の併用、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]に記載の化合物及び添加量が好ましい。   Other components include a sensitizer, a combination of a development accelerator other than the present invention, a surfactant, a colorant, a bake-out agent, a polymerization inhibitor, a higher fatty acid derivative, a plasticizer, inorganic fine particles, an inorganic layered compound, and the like. Can be added. Specifically, compounds and addition amounts described in paragraph numbers [0114] to [0159] of JP-A-2008-284817 are preferable.

<ポジ型画像記録層>
ポジ型画像記録層とは、画像露光部分が現像される画像記録層であり、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する。
[アルカリ可溶性高分子化合物]
アルカリ可溶性高分子化合物は、高分子中に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、およびこれらの混合物を包含し、特にフェノール性ヒドロキシ基(−Ar−OH)を有することが好ましく、ノボラック樹脂などが挙げられる。具体的には、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−およびm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂;ピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。さらに詳しくは特開2001−305722号公報の〔0023〕〜〔0042〕で示されている高分子が好ましく用いられる。
本発明においては、画像記録層がノボラック樹脂を50質量%以上有することが好ましい。
<Positive image recording layer>
The positive type image recording layer is an image recording layer in which an image exposed portion is developed, and contains an alkali-soluble polymer compound and a photothermal conversion substance.
[Alkali-soluble polymer compound]
The alkali-soluble polymer compound includes a homopolymer containing an acidic group in the polymer, a copolymer thereof, and a mixture thereof, and particularly preferably has a phenolic hydroxy group (—Ar—OH). And novolak resin. Specifically, for example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p- and m- / p-mixed). Any may be used) Novolak resins such as mixed formaldehyde resins; pyrogallol acetone resins are preferred. More specifically, the polymers shown in [0023] to [0042] of JP-A No. 2001-305722 are preferably used.
In the present invention, the image recording layer preferably has 50% by mass or more of novolak resin.

[光熱変換物質]
光熱変換物質は、露光エネルギーを熱に変換して感熱層の露光部領域の相互作用解除を効率よく行うことを可能とする。記録感度の観点から、波長700〜1200nmの赤外域に光吸収域がある顔料または染料が好ましい。染料としては。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体(例えば、ニッケルチオレート錯体)等の染料を用いることができる。中でも、シアニン染料が好ましく、特開2001−305722号公報の一般式(I)で示されたシアニン染料を挙げることができる。サーマルポジタイプの組成物中には、前記コンベンショナルポジタイプで記述した物と同様の感度調節剤、焼出剤、染料等の化合物や塗布性を良化するための界面活性剤を加えることが好ましく、詳しくは特開2001−305722号公報の〔0053〕〜〔0059〕で示されている化合物が好ましい。
[Photothermal conversion material]
The photothermal conversion substance converts exposure energy into heat and can efficiently cancel the interaction of the exposed area of the heat sensitive layer. From the viewpoint of recording sensitivity, a pigment or dye having a light absorption region in the infrared region with a wavelength of 700 to 1200 nm is preferable. As a dye. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes (for example, A dye such as a nickel thiolate complex) can be used. Among these, cyanine dyes are preferable, and examples thereof include cyanine dyes represented by general formula (I) in JP-A No. 2001-305722. In the thermal positive type composition, it is preferable to add a compound such as a sensitivity adjusting agent, a baking agent, a dye, etc., and a surfactant for improving the coating property, similar to those described for the conventional positive type. Specifically, the compounds shown in [0053] to [0059] of JP-A No. 2001-305722 are preferable.

サーマルポジタイプの感熱層は単層でもよいし、特開平11−218914号公報に記載されているような2層構造として設けてもよい。
サーマルポジタイプの感熱層と支持体との間には、下塗層を設けることが好ましい。下塗層に含有される成分としては特開2001−305722号公報の〔0068〕で示された種々の有機化合物が挙げられる。
これらアルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する感熱性組成物を支持体上に設けたサーマルポジ型感熱性平版印刷版原版は赤外線レーザを用いて画像様露光された後、アルカリ性現像液で現像される。かかる現像液としては、特公昭57−7427号公報、特許第3086354号公報、特開平11−216962号公報、特開2001−51406号公報、特開2001−174981号公報、および特開2002−72501号公報記載の現像液などが好ましい例として挙げられる。
The thermal positive type heat-sensitive layer may be a single layer or a two-layer structure as described in JP-A-11-218914.
An undercoat layer is preferably provided between the thermal positive type heat-sensitive layer and the support. Examples of the component contained in the undercoat layer include various organic compounds described in JP-A-2001-305722, [0068].
A thermal positive type heat-sensitive lithographic printing plate precursor provided with a heat-sensitive composition containing these alkali-soluble polymer compound and a photothermal conversion substance on a support is imagewise exposed using an infrared laser, and then an alkaline developer. Developed with Examples of the developer include Japanese Patent Publication No. 57-7427, Japanese Patent No. 3086354, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-216962, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-51406, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-174981, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-72501. As a preferred example, a developing solution described in Japanese Patent Publication No. JP-A No. 2004-259561 can be given.

<特定構造基を有する高分子化合物>
本発明に従って一般式(I)で表される化合物を含ませる画像記録層は、とりわけ、スルホンアミド基、マレイミド基及びウレア構造から選ばれる少なくとも一つの構造を含有する高分子化合物を用いるときに、特にUVインキを使用した場合の耐刷性と汚れ防止性を良好に両立させることができる。
すなわち、スルホンアミド基、マレイミド基及びウレア構造といった特定構造基は、一般に凝集性が高く皮膜性が高くなり、高耐刷性を示すと考えられる。一方で、凝集性が高いために、現像性が悪くなる。このようなバインダーに、上記一般式(I)の化合物を添加することで、高分子間に水素結合性の上記化合物が存在するようになり、現像性が向上し、汚れ防止性が高くなる。さらに、一般式(I)で表される化合物は、耐刷性の低下に関与することは殆どなく、特にUVインキにおける耐刷性低下を引き起こすことが極めて少ない。
本発明において画像記録層に用いることができる特定構造基を有する高分子化合物として、例えば下記(1)〜(3)に挙げる基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する樹脂が好適に挙げられる。
<Polymer compound having specific structural group>
The image recording layer containing the compound represented by the general formula (I) according to the present invention, in particular, when a polymer compound containing at least one structure selected from a sulfonamide group, a maleimide group and a urea structure is used. In particular, printing durability and stain resistance when UV ink is used can be satisfactorily achieved.
That is, specific structural groups such as sulfonamide groups, maleimide groups, and urea structures are generally considered to have high cohesiveness and high film properties and high printing durability. On the other hand, the developability deteriorates due to the high cohesiveness. By adding the compound of the above general formula (I) to such a binder, the above-mentioned compound having hydrogen bonding properties is present between the polymers, the developability is improved, and the antifouling property is enhanced. Furthermore, the compound represented by the general formula (I) hardly participates in the decrease in printing durability, and causes very little deterioration in printing durability particularly in UV ink.
As the polymer compound having a specific structural group that can be used in the image recording layer in the present invention, for example, a resin having the following groups (1) to (3) in the main chain and / or side chain of the polymer is suitable. It is mentioned in.

(1)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(2)マレイミド基
(3)ウレア構造(−NR−C(=O)−NR−)
上記(1)〜(3)中、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
上記(1)〜(3)より選ばれるポリマーの中でも、(1)スルホンアミド基が、皮膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
(1) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(2) Maleimide group (3) Urea structure (-NR-C (= O) -NR-)
In said (1)-(3), R represents the hydrocarbon group which may have a hydrogen atom or a substituent.
Among the polymers selected from the above (1) to (3), (1) a sulfonamide group is most preferable from the viewpoint of sufficiently securing the film strength.

(1)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。
上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物が挙げられる。
(1) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned.
Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule is preferable. For example, the following general formula (i) to general formula ( and a compound represented by v).

Figure 0005444831
Figure 0005444831

上記一般式(i)〜(v)中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−または−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8 、R10、R14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 In the general formulas (i) to (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 , and R 16 each independently represent an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group, or an aralkylene group. . R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represents a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group which may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

一般式(i)〜一般式(v)で表される化合物のうち、本発明に用いうるアルカリ可溶性樹脂としては、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formula (i) to the general formula (v), examples of the alkali-soluble resin that can be used in the present invention include m-aminosulfonylphenyl methacrylate and N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(2)マレイミド基を有するポリマーとしては、例えば、マレイミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表されるマレイミド基を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。 (2) As a polymer which has a maleimide group, the polymer comprised by using as a main structural component the minimum structural unit derived from the compound which has a maleimide group can be mentioned, for example. Examples of such compounds include compounds each having one or more maleimide groups represented by the following structural formula in the molecule.

Figure 0005444831
一般式(1)において、R1は任意の置換基を表す。R1は、好ましくは、水素;非置換若しくは任意に置換された(C6−C12)アリール;非置換若しくは任意に置換された(C1−C12)アルキル;非置換若しくは任意に置換された(C3−C10)シクロアルキル;非置換若しくは任意に置換されたアリールスルホンアミド基;または非置換若しくは任意に置換されたスルホンアミド基である。前記各基における任意の置換基としては、ハロゲン、アルキル、−NO2及び−OHから選択される一つ以上の置換基が好ましい。特に好ましくは、R1は、水素、フェニル、シクロヘキシル、またはヒドロキシフェニルである。
また、一般式(1)において、R2、R3も同様に、任意の置換基を表すが、好ましくは、R2及びR3は、独立に、水素、ハロゲン、(C1−C4)アルキル、及びフェニルからなる群より選択される。特に好ましくは、R2及びR3は、両者とも水素である。
Figure 0005444831
In the general formula (1), R 1 represents an arbitrary substituent. R 1 is preferably hydrogen; unsubstituted or optionally substituted (C 6 -C 12 ) aryl; unsubstituted or optionally substituted (C 1 -C 12 ) alkyl; unsubstituted or optionally substituted (C 3 -C 10 ) cycloalkyl; an unsubstituted or optionally substituted arylsulfonamido group; or an unsubstituted or optionally substituted sulfonamido group. The optional substituent in each group is preferably one or more substituents selected from halogen, alkyl, —NO 2 and —OH. Particularly preferably R 1 is hydrogen, phenyl, cyclohexyl or hydroxyphenyl.
In the general formula (1), R 2 and R 3 also represent an arbitrary substituent. Preferably, R 2 and R 3 are independently hydrogen, halogen, (C 1 -C 4 ) Selected from the group consisting of alkyl and phenyl. Particularly preferably, R 2 and R 3 are both hydrogen.

(3)ウレア構造を有するポリマーとしては、例えば、下記の構造を繰返し単位として有するポリマーをあげることができる。

Figure 0005444831

式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はカルボキシル基、もしくはその塩を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基を表し、Xは2価の連結基を表し、Yは置換基を有してもよい2価の芳香族基を表す。 (3) Examples of the polymer having a urea structure include polymers having the following structure as a repeating unit.
Figure 0005444831

In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a carboxyl group, or a salt thereof; R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group; Represents a divalent linking group, and Y represents a divalent aromatic group which may have a substituent.

具体例としては、以下のモノマーに由来する繰返し単位を有するものである。
1−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、2−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、4−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、1−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、2−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、4−(N'−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N'−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルメタクリレート、2−(N'−(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N'−(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N'−(2−ヒドロキシ−5−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートの如きメタクリレート誘導体等が挙げられる。
As a specific example, it has a repeating unit derived from the following monomers.
1- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 4- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) butyl acrylate, 1- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl Methacrylate, 1- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) Ethyl methacrylate, 4- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate Relate, 4- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(3-hydroxy-4-methyl) Phenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) butyl methacrylate, 2- (N ′) -(4-sulfamoylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N '-(4-sulfamoylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N'-(2-hydroxy-5-sulfamoylphenyl) And methacrylate derivatives such as ureido) ethyl methacrylate.

前記(1)〜(3)より選ばれる基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の基を有する最小構成単位を2種以上、または異なる基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。
上記高分子化合物において、上記のような特定構造基を有する繰り返し単位が10モル%以上含まれていることが好ましく、20モル%以上含まれていることがより好ましい。10モル%未満であると、UVインキにおける耐刷性を十分に向上させることができない傾向がある。
The minimum structural unit having a group selected from the above (1) to (3) is not particularly limited to one kind, and the minimum structural unit having two or more minimum structural units having the same group or different groups. What copolymerized 2 or more types can also be used.
The polymer compound preferably contains 10 mol% or more of repeating units having the specific structural group as described above, and more preferably contains 20 mol% or more. If it is less than 10 mol%, the printing durability in UV ink tends not to be sufficiently improved.

上記の特定構造基を有する繰り返し単位をもたらすモノマーは、例えば、下記(m1)〜(m12)に上げるモノマーと共重合させることができる。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
The monomer which brings about the repeating unit which has said specific structural group can be copolymerized with the monomer raised to the following (m1)-(m12), for example.
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

印刷機上で湿し水及びインキにより現像する場合、すなわち機上現像する場合には、特定構造基を有するポリマーバインダーにおいて、親水性基として炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜100個有するアルキレンオキシド構造を有するアクリレートまたはメタクリレートが共重合していることが好ましい。このようなアルキレンオキシド構造は、特に好ましくは、2〜12個有するアルキレンオキシド構造が好ましく、最も好ましくは、2〜8個有するアルキレンオキシド構造である。ポリマーバインダーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。
特定構造基を有するポリマーバインダーの具体例として以下の構造が挙げられる。
When developing with dampening water and ink on a printing press, that is, when developing on press, 1 to 100 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms as a hydrophilic group in a polymer binder having a specific structural group The acrylate or methacrylate having an alkylene oxide structure is preferably copolymerized. Such an alkylene oxide structure is particularly preferably an alkylene oxide structure having 2 to 12, and most preferably an alkylene oxide structure having 2 to 8. In order to impart a hydrophilic group to the polymer binder, a monomer having a hydrophilic group may be copolymerized.
Specific examples of the polymer binder having a specific structural group include the following structures.

Figure 0005444831
Figure 0005444831

Figure 0005444831
Figure 0005444831

Figure 0005444831
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上記ポリマーの繰返し単位としては、特にm−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等の、スルホンアミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体のものが好ましい。
また、該ポリマーバインダーの重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
As the repeating unit of the above polymer, a polymerizable monomer having a sulfonamide group, such as m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, etc. Homopolymers or copolymers are preferred.
The polymer binder preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. .

画像記録層中におけるバインダーポリマーの添加量は、画像記録層全固形分中、10〜80質量%が適当であり、好ましくは20〜70質量%、特に好ましくは25〜60質量%である。   The addition amount of the binder polymer in the image recording layer is suitably 10 to 80% by mass, preferably 20 to 70% by mass, particularly preferably 25 to 60% by mass in the total solid content of the image recording layer.

<画像記録層の形成>
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、本発明の一般式(I)で表される化合物、ならびに、必要に応じて上記各成分を公知の溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、中間層を塗設してもよい支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。
本発明における画像記録層塗布液は、取扱い性、塗布適性、乾燥性の観点から、1気圧における沸点が50℃〜130℃の有機溶剤を、含有することが好ましい。好ましい例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロパン−2−イル・アセテート、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノールなどを挙げることができる。これらの中で、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノールが好ましい。これらの溶媒は、単独で用いても、複数の混合物として用いても良い。
塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer in the present invention includes, for example, a compound represented by the general formula (I) of the present invention as described in paragraphs [0142] to [0143] of JP-A-2008-195018, and a necessary component. In accordance with the above, each of the above components is dispersed or dissolved in a known solvent to prepare a coating solution, which is applied by a known method such as bar coater coating on a support on which an intermediate layer may be coated and dried. It is formed.
The image recording layer coating solution in the present invention preferably contains an organic solvent having a boiling point at 1 atm of 50 ° C. to 130 ° C. from the viewpoints of handleability, coating suitability, and drying properties. Preferred examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy. -2-propan-2-yl acetate, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol and the like. Among these, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and 1-methoxy-2-propanol are preferable. These solvents may be used alone or as a mixture.
The image recording layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.

<中間層>
本発明の平版印刷版原版は、支持体と画像記録層との間に中間層を有していても良い。中間層は、高分子化合物を含有することが好ましく、該高分子化合物はアルミニウム支持体吸着性の官能基を少なくとも1種有する繰返し単位を含むことが更に好ましい。
中間層用高分子化合物としては、アルミニウム支持体吸着性の官能基の他に、親水性基、架橋性基、疎水性基の少なくとも一つを有する化合物が好ましい。中間層用高分子化合物としては、アルミニウム支持体吸着性基を有するモノマー及び親水性基を有するモノマーを共重合してなる高分子化合物であることが更に好ましく、ラジカル重合ネガ型の場合は、アルミニウム支持体吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーを共重合してなる高分子化合物であることが特に好ましい。
中間層用化合物としては、また、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物なども好適に用いられる。
<Intermediate layer>
The lithographic printing plate precursor according to the invention may have an intermediate layer between the support and the image recording layer. The intermediate layer preferably contains a polymer compound, and the polymer compound further preferably contains a repeating unit having at least one functional group capable of adsorbing to an aluminum support.
As the polymer compound for the intermediate layer, a compound having at least one of a hydrophilic group, a crosslinkable group, and a hydrophobic group in addition to the aluminum support adsorptive functional group is preferable. The polymer compound for the intermediate layer is more preferably a polymer compound obtained by copolymerizing a monomer having an aluminum support adsorptive group and a monomer having a hydrophilic group, and in the case of a radical polymerization negative type, A polymer compound obtained by copolymerizing a monomer having a support-adsorbing group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is particularly preferable.
Examples of the intermediate layer compound include a silane coupling agent having an addition polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, and JP-A-2-304441. A phosphorus compound having an ethylenic double bond reactive group is also preferably used.

化合物におけるアルミニウム支持体表面への吸着性に関しては、例えば、以下の方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布液を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に、試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば、蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。本発明においてアルミニウム支持体吸着性がある化合物とは、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
The adsorptivity of the compound to the surface of the aluminum support can be determined, for example, by the following method.
A coating solution is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, after the support coated with the test compound is sufficiently washed with an easily soluble solvent, the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the support adsorption amount. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. In the present invention, the compound having an aluminum support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even when the above washing treatment is performed.

アルミニウム支持体の表面への吸着性基は、アルミニウム支持体表面に存在する物質(例えば、アルミニウム、アルミニウム酸化物、シリケートなど)と、相互作用(例えば、イオン結合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。吸着性基としては、酸基又はカチオン性基が好ましい。
酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基(−CO2H)、スルホン酸基(−SO3H)、硫酸エステル基(−OSO3H)、ホスホン酸基(−PO32)、リン酸エステル基(−OPO32)、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−C=O-CH2-C=O−などが挙げられる。酸基は、酸解離定数(pKa)が10以下であることが好ましく、8以下であることが更に好ましく、6以下であることが特に好ましい。
酸基として、更に好ましくは、カルボキシル基、ホスホン酸基、リン酸エステル基、または、−C=O-CH2-C=O−であり、特に好ましくは、ホスホン酸基、またはリン酸エステル基である。これらの基は、単独でも2種類以上が組み合わされていてもよく、対イオンを有していてもよい。
The adsorptive group on the surface of the aluminum support can interact with a substance (eg, aluminum, aluminum oxide, silicate, etc.) existing on the surface of the aluminum support (eg, ionic bond, hydrogen bond, coordination bond, molecule). It is a functional group that can cause (bonding by interstitial force). As the adsorptive group, an acid group or a cationic group is preferable.
Examples of acid groups include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups (—CO 2 H), sulfonic acid groups (—SO 3 H), sulfate ester groups (—OSO 3 H), phosphonic acid groups (—PO 3 H 2 ). , Phosphate group (—OPO 3 H 2 ), —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 —, —C═O—CH 2 —C═O— and the like. The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 10 or less, more preferably 8 or less, and particularly preferably 6 or less.
The acid group is more preferably a carboxyl group, a phosphonic acid group, a phosphate ester group, or —C═O—CH 2 —C═O—, and particularly preferably a phosphonic acid group or a phosphate ester group. It is. These groups may be used alone or in combination of two or more, and may have a counter ion.

カチオン性基は、オニウム基、あるいはN−オキシド基であることが好ましい。オニウム基の例としては、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基が挙げられる。中でも、アンモニウム基、ホスホニウム基、及びスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基、及びホスホニウム基が更に好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。カチオン性基として特に好ましくは、アンモニウム基、あるいはN−オキシド基である。これらの基は、単独でも2種類以上が組み合わされていてもよく、対イオンを有していてもよい。   The cationic group is preferably an onium group or an N-oxide group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. Among these, an ammonium group, a phosphonium group, and a sulfonium group are preferable, an ammonium group and a phosphonium group are more preferable, and an ammonium group is most preferable. Particularly preferred as the cationic group is an ammonium group or an N-oxide group. These groups may be used alone or in combination of two or more, and may have a counter ion.

中間層用高分子化合物としては、更に、親水性基を有することが好ましい。好ましい親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシアルキル基(ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基など)、ポリオキシアルキレン基(ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アルキルポリオキシエチル基、アルキルポリオキシプロピル基)、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホンアミド基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、およびその塩などが挙げられる。
更に好ましくは、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシアルキル基(ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基など)、ポリオキシアルキレン基(ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アルキルポリオキシエチル基、アルキルポリオキシプロピル基)、アミド基、スルホンアミド基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、およびその塩などが挙げられる。
特に好ましくは、ポリオキシアルキレン基(ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アルキルポリオキシエチル基、アルキルポリオキシプロピル基)、スルホン酸基、およびその塩などが挙げられる。
The polymer compound for the intermediate layer preferably further has a hydrophilic group. Preferred examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxy group, a hydroxyalkyl group (hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, etc.), a polyoxyalkylene group (polyoxyethyl group, polyoxypropyl group, alkylpolyoxyethyl group, Alkyl polyoxypropyl group), amino group, ammonium group, amide group, sulfonamido group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, phosphonic acid group, and salts thereof.
More preferably, a hydroxy group, a carboxy group, a hydroxyalkyl group (hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, etc.), a polyoxyalkylene group (polyoxyethyl group, polyoxypropyl group, alkylpolyoxyethyl group, alkylpolyoxypropyl group) ), Amide group, sulfonamido group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, phosphonic acid group, and salts thereof.
Particularly preferred are polyoxyalkylene groups (polyoxyethyl group, polyoxypropyl group, alkylpolyoxyethyl group, alkylpolyoxypropyl group), sulfonic acid groups, and salts thereof.

ポリオキシアルキレン基を有するモノマーの好ましい例としては、メタクリル酸(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−(2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−メトキシエトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−メトキシエトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)エチル)、アクリル酸(2−(2−(2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ)エトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−メトキシエトキシ)エチル)、メタクリル酸(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロポキシ)プロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−(2−(2−ヒドロキシプロポキシ)プロポキシ)プロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−メトキシプロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−メトキシプロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−(2−メトキシプロポキシ)プロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−(2−メトキシプロポキシ)プロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−(2−(2−メトキシプロポキシ)プロポキシ)プロポキシ)プロピル)、アクリル酸(2−(2−(2−(2−メトキシプロポキシ)プロポキシ)プロポキシ)プロピル)、メタクリル酸(2−(2−メトキシプロポキシ)プロピル)などを挙げることができる。   Preferred examples of the monomer having a polyoxyalkylene group include methacrylic acid (2- (2-hydroxyethoxy) ethyl), acrylic acid (2- (2-hydroxyethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2- (2- ( 2-hydroxyethoxy) ethoxy) ethyl), acrylic acid (2- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) ethoxy) Ethyl), acrylic acid (2- (2- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) ethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2-methoxyethoxy) ethyl), acrylic acid (2- (2-methoxy) Ethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2- (2-methoxyethoxy) ethoxy) ethyl), acrylic acid (2- (2- 2-methoxyethoxy) ethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2- (2- (2-methoxyethoxy) ethoxy) ethoxy) ethyl), acrylic acid (2- (2- (2- (2-methoxyethoxy)) ) Ethoxy) ethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2-methoxyethoxy) ethyl), methacrylic acid (2- (2-hydroxypropoxy) propyl), acrylic acid (2- (2-hydroxypropoxy) propyl), Methacrylic acid (2- (2- (2-hydroxypropoxy) propoxy) propyl), acrylic acid (2- (2- (2-hydroxypropoxy) propoxy) propyl), methacrylic acid (2- (2- (2- (2- ( 2-hydroxypropoxy) propoxy) propoxy) propyl), acrylic acid (2- (2- (2- (2-hydroxypropyl)) Poxy) propoxy) propoxy) propyl), methacrylic acid (2- (2-methoxypropoxy) propyl), acrylic acid (2- (2-methoxypropoxy) propyl), methacrylic acid (2- (2- (2-methoxypropoxy)) ) Propoxy) propyl), acrylic acid (2- (2- (2-methoxypropoxy) propoxy) propyl), methacrylic acid (2- (2- (2- (2-methoxypropoxy) propoxy) propoxy) propyl), acrylic Examples include acid (2- (2- (2- (2-methoxypropoxy) propoxy) propoxy) propyl), methacrylic acid (2- (2-methoxypropoxy) propyl), and the like.

スルホン酸基を有するモノマーの好ましい例としては、メタリロイルオキシベンゼンスルホン酸,アクリロイルオキシベンゼンスルホン酸,アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、4−ビニルベンゼンスルホン酸、メタリルスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸、およびその塩が挙げられる。更に好ましくは、ビニルスルホン酸、4−ビニルベンゼンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、およびその塩が挙げられる。   Preferred examples of the monomer having a sulfonic acid group include methallyloyloxybenzenesulfonic acid, acryloyloxybenzenesulfonic acid, allylsulfonic acid, vinylsulfonic acid, 4-vinylbenzenesulfonic acid, methallylsulfonic acid, 2-acrylamide-2. -Methylpropanesulfonic acid, (3-acryloyloxypropyl) butylsulfonic acid, and salts thereof. More preferred are vinyl sulfonic acid, 4-vinylbenzene sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, and salts thereof.

親水性基を有するモノマーとして特に好ましくは、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩である。   Particularly preferred as the monomer having a hydrophilic group is 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and a salt thereof.

本発明におけるラジカル重合性のネガ型平版印刷版原版に用いられる中間層用高分子化合物は、更に架橋性基を有することが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。中間層用高分子化合物に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The intermediate layer polymer compound used in the radically polymerizable negative lithographic printing plate precursor according to the invention preferably further has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to give the polymer compound for the intermediate layer a crosslinkability, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer, or the polar substituent of the polymer resin is countercharged. It can introduce | transduce by forming a salt structure with the compound which has the substituent which has, and an ethylenically unsaturated bond.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物の例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又は−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物を挙げることができる。
エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2nCR1=CR23、−(CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2nNH−CO−O−CH2CR1=CR23、−(CH2n−O−CO−CR1=CR23、及び−(CH2CH2O)2−X(式中、R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基を表し、R1とR2又はR3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2CH=CH2(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2NHCOO−CH2CH=CH2、及び−CH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2O−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2OCO−CH=CH2が挙げられる。
中間層用の高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドが好適である。
Examples of the polymer compound having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule include an ester or amide polymer of acrylic acid or methacrylic acid, and an ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR ) Is a polymer compound having an ethylenically unsaturated bond.
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group. Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadi An enyl residue).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2 , and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—CH═CH 2. Is mentioned.
As the monomer having a crosslinkable group of the polymer resin for the intermediate layer, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the crosslinkable group is preferable.

中間層用高分子化合物の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、及び良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group of the polymer compound for the intermediate layer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1 g per 1 g of the polymer resin. Is 1.0 to 7.0 mmol, most preferably 2.0 to 5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

中間層用高分子化合物は、重量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
中間層用高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
中間層用化合物は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
中間層用塗布液中の中間層用化合物の含有量は、好ましく0.01〜50質量%であり、更に好ましくは0.1〜40質量%であり、特に好ましくは0.5〜30質量%である。
The intermediate layer polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1000 or more, preferably 2000 to 250,000. It is more preferable that The dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The intermediate layer polymer compound may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.
The intermediate layer compounds may be used alone or in combination of two or more.
The content of the intermediate layer compound in the intermediate layer coating solution is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass, and particularly preferably 0.5 to 30% by mass. It is.

以下に、中間層用高分子化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

Figure 0005444831
Figure 0005444831
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Although the example of the high molecular compound for intermediate | middle layers is shown below, this invention is not limited to these.
Figure 0005444831
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中間層用塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
中間層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
Various known methods can be used as a method of applying the intermediate layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating amount (solid content) of the intermediate layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

<支持体>
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
<Support>
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known support is used. Of these, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferred.
In addition, the above aluminum plate is optionally subjected to micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365, and US Pat. 714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734, or alkali metal silicates as described in U.S. Pat. Surface hydrophilization treatment with polyvinylphosphonic acid or the like as described in each specification of 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is appropriately performed and performed. be able to.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm.

本発明で用いる支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平5−45885号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。   If necessary, the support used in the present invention has an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a silicon alkoxy compound described in JP-A-5-45885 on the back surface. A backcoat layer can be provided.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることが好ましい。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、および高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (overcoat layer) is preferably provided on the image recording layer. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.
The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.

また、保護層には酸素遮断性を高めるため、特開2005−119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することが好ましい。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を保護層に含有させることもできる。特に無機質の層状化合物を含有させる場合には、変性ポリビニルアルコール、特にスルホン酸変性のポリビニルアルコールを用いることが、無機質の層状化合物を分散させる上で、好ましい。
Further, in order to enhance the oxygen barrier property, the protective layer preferably contains an inorganic layered compound such as natural mica and synthetic mica as described in JP-A-2005-119273.
Further, the protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coating properties, and inorganic fine particles for controlling surface slipperiness. Further, the protective layer can contain the sensitizer described in the description of the image recording layer. In particular, when an inorganic layered compound is contained, it is preferable to use modified polyvinyl alcohol, particularly sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol, in order to disperse the inorganic layered compound.

保護層は、公知の方法で塗布される。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .

<製版−画像形成>
平版印刷版原版に対する画像様の露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザー、250〜420nmの光を照射する高圧水銀灯などの紫外線、アルゴンレーザー、紫外線レーザー、半導体レーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。250〜420nmの光を照射する半導体レーザーにおいては、出力は0.1mW以上であることが好ましい。いずれのレーザーにおいても、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
これらは、画像様露光された後、現像液で現像される。好ましい現像液としては、必要に応じアルカリ剤、有機溶剤、界面活性剤、硬水軟化剤、還元剤、有機カルボン酸、無機塩、消泡剤や更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤を含有した水溶液が用いられる。特に好ましい例としては、特公昭58−54341号公報、特開平8−248643号公報、特開2002−91015号公報、および特開平8−171214号公報記載の現像液などが挙げられる。
<Plate making-Image formation>
As the light source used for imagewise exposure to the lithographic printing plate precursor, a laser is preferable. The laser used in the present invention is not particularly limited, but ultraviolet rays, argon lasers, ultraviolet lasers, semiconductor lasers such as solid lasers and semiconductor lasers that irradiate infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm, high-pressure mercury lamps that emit light of 250 to 420 nm, etc. Etc. are preferable.
Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In a semiconductor laser that emits light of 250 to 420 nm, the output is preferably 0.1 mW or more. In any laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.
These are imagewise exposed and then developed with a developer. Preferred developers include alkali agents, organic solvents, surfactants, hard water softeners, reducing agents, organic carboxylic acids, inorganic salts, antifoaming agents, and various other types known in the art as necessary. An aqueous solution containing an additive is used. Particularly preferred examples include developers described in JP-B-58-54341, JP-A-8-248643, JP-A-2002-91015, and JP-A-8-171214.

機上現像を行う場合、露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合には、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像様に露光してもよい。
平版印刷版原版を赤外線レーザー等で画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び/又は印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。
When performing on-press development, the exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, the lithographic printing plate precursor may be imagewise exposed after being mounted on the plate cylinder of the printing press.
After the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise with an infrared laser or the like, printing is performed by supplying printing ink and fountain solution without going through a development process such as a wet development process, and the like in the exposed part of the image recording layer The image recording layer cured by exposure forms a printing ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion by the supplied dampening water and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.

ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層の構成成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。湿し水及び印刷インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but the dampening water is prevented from being contaminated by the components of the image recording layer from which the dampening water has been removed. It is preferable to supply printing ink. As the fountain solution and printing ink, normal lithographic fountain solution and printing ink are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

なお、本発明の平版印刷版原版は、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経る態様で製版されてもよく、その場合には、前述の露光工程と、印刷工程との間に、現像処理を行う。適用する現像処理の方式は特に限定されるものではなく、画像形成層の種類によって適宜決定することができる。   Note that the lithographic printing plate precursor according to the present invention may be made in a form through a development process such as a wet development process, in which case the development process is performed between the exposure process and the printing process. I do. The development processing method to be applied is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the type of the image forming layer.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1〜16、及び比較例1〜4]
1.平版印刷版原版の作製
(1)支持体(1)の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
[Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 4]
1. Preparation of lithographic printing plate precursor (1) Preparation of support (1) In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm, a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution was used. After degreasing treatment at 30 ° C. for 30 seconds, the aluminum surface was sanded using three bundled nylon brushes with a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) with a median diameter of 25 μm. Conspicuous and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave AC with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて70℃で12秒間、シリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、水洗して、支持体(1)を得た。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying.
Next, after a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 to the plate 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 mass% of aluminum ion) at a current density of 15A / dm 2 as the electrolytic solution, washing with water, Dried.
Then, in order to ensure the hydrophilic property of a non-image part, the silicate process was performed for 12 second at 70 degreeC using 2.5 mass% 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, it washed with water and the support body (1) was obtained. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(2)中間層の形成
次に、上記支持体上に、下記中間層用塗布液を乾燥塗布量が28mg/m2になるよう塗布して、中間層を設けた。
<中間層用塗布液>
・下記の中間層(下塗り層)用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g

Figure 0005444831
(2) Formation of Intermediate Layer Next, the following intermediate layer coating solution was applied on the support so that the dry coating amount was 28 mg / m 2 to provide an intermediate layer.
<Coating liquid for intermediate layer>
-0.18 g of the following intermediate layer (undercoat layer) compound (1)
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g
Figure 0005444831

(3)画像記録層の形成
上記のようにして形成された中間層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布した後、100℃でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。なお、下記組成中、表1に示される一般式(I)の量(含有率)は、完成された平版印刷版原版の画像記録層の質量に基づく。
上記の乾燥時間を調整することにより、一般式(I)の化合物または比較化合物の画像記録層における量(含有率)の調整を行った。
画像記録層塗布液は下記感光液(1)およびミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
<感光液(1)>
・一般式(I)の化合物又は比較化合物 (下記表1に記載の種類と量)
・高分子化合物(1)〔下記構造〕 0.108g
・特定構造基を有する高分子化合物(表1参照) 0.054g
(上述の特定構造基を有する高分子化合物の具体例(1)〜(20)より選択したもの)
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造〕 0.030g
・ラジカル重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.162g
・重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・トリメチルグリシン 0.01g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
(3) Formation of image recording layer An image recording layer coating solution having the following composition was bar-coated on the intermediate layer formed as described above, followed by oven drying at 100 ° C., and a dry coating amount of 1.0 g / m. Two image recording layers were formed. In the following composition, the amount (content) of the general formula (I) shown in Table 1 is based on the mass of the image recording layer of the finished lithographic printing plate precursor.
By adjusting the drying time, the amount (content ratio) of the compound of the general formula (I) or the comparative compound in the image recording layer was adjusted.
The image recording layer coating solution was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microgel solution (1) immediately before coating.
<Photosensitive solution (1)>
Compound of general formula (I) or comparative compound (type and amount described in Table 1 below)
-High molecular compound (1) [following structure] 0.108g
-High molecular compound having a specific structural group (see Table 1) 0.054 g
(Selected from specific examples (1) to (20) of the polymer compound having the above-mentioned specific structural group)
Infrared absorber (1) [the following structure] 0.030 g
-Radical polymerization initiator (1) [the following structure] 0.162 g
Polymerizable compound tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.192 g
・ Low molecular weight hydrophilic compound Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate 0.062g
・ Low molecular weight hydrophilic compound (1) [the following structure] 0.050 g
-Sensitizing agent Phosphonium compound (1) [the following structure] 0.055 g
・ Sensitizer Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt 0.018g
・ Trimethylglycine 0.01g
・ Fluorosurfactant (1) [The following structure] 0.008g
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

<ミクロゲル液(1)>
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Microgel solution (1)>
・ Microgel (1) 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

上記の、高分子化合物(1)、赤外線吸収剤(1)、ラジカル重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物(1)、及びおよびフッ素系界面活性剤(1)、および比較用化合物C-1、C-2の構造は、以下に示す通りである。
高分子化合物(1)

Figure 0005444831
The above-described polymer compound (1), infrared absorber (1), radical polymerization initiator (1), phosphonium compound (1), low molecular weight hydrophilic compound (1), and fluorine-based surfactant (1) The structures of the comparative compounds C-1 and C-2 are as shown below.
Polymer compound (1)
Figure 0005444831

Figure 0005444831
Figure 0005444831
Figure 0005444831
Figure 0005444831

上記に記載のミクロゲル(1)は、以下のようにして合成されたものである。
<ミクロゲル(1)の合成>
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート〔(C)成分〕(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
The microgel (1) described above is synthesized as follows.
<Synthesis of Microgel (1)>
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate [(C) component] (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g and Piionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.1 g were dissolved in ethyl acetate 17 g. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The microgel solution thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and this was designated as the microgel (1). When the average particle size of the microgel was measured by a light scattering method, the average particle size was 0.2 μm.

(一般式(I)の化合物又は比較用化合物の定量)
作成された平版印刷版原版100cm2をメタノールで抽出し、ガスクロマトグラフィー法により、画像記録層中の該化合物を定量し、画像記録層中のその含有量を質量%で表した。
(ガスクロマトグラフィー測定条件)
平版印刷版材料10cm*10cmを特級メタノールに浸漬し、室温で3時間攪拌して、感光層成分を抽出する。得られた試料溶液1μLをGCに注入し、絶対検量線法により定量する。
GC条件 装置 Agilent 6890 (Agilent Technologies 社製)
カラム DB-17MS 30m*0.25mmID 膜厚0.25μm(J&W Scientific社製)
オーブン温度 50℃(5分保持)→10℃/分で昇温→280℃(2分保持)
注入口温度 280℃
スプリット 10
キャリアガス He=1mL/min
検出器 FID
検出器温度 300℃
(Quantification of compound of general formula (I) or comparative compound)
The prepared lithographic printing plate precursor 100 cm 2 was extracted with methanol, the compound in the image recording layer was quantified by gas chromatography, and the content in the image recording layer was expressed in mass%.
(Gas chromatography measurement conditions)
The lithographic printing plate material 10cm * 10cm is immersed in special grade methanol and stirred at room temperature for 3 hours to extract the photosensitive layer components. 1 μL of the obtained sample solution is injected into the GC and quantified by the absolute calibration curve method.
GC conditions Equipment Agilent 6890 (Agilent Technologies)
Column DB-17MS 30m * 0.25mmID film thickness 0.25μm (manufactured by J & W Scientific)
Oven temperature 50 ° C (5 minutes hold) → Temperature rise at 10 ° C / minute → 280 ° C (2 minutes hold)
Inlet temperature 280 ℃
Split 10
Carrier gas He = 1mL / min
Detector FID
Detector temperature 300 ° C

(4)保護層(1)の形成
上記のようにして形成された画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層(1)を形成した。
<保護層用塗布液(1)>
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、 重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 8.60g
・イオン交換水 6.0g
(4) Formation of protective layer (1) On the image recording layer formed as described above, a protective layer coating solution (1) having the following composition was further bar-coated, followed by oven drying at 120 ° C for 60 seconds. A protective layer (1) having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 was formed.
<Coating liquid for protective layer (1)>
・ Inorganic layered compound dispersion (1) 1.5 g
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol% degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1 mass% aqueous solution 8.60 g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

2.平版印刷版原版の評価
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
2. Evaluation of lithographic printing plate precursor The obtained lithographic printing plate precursor was exposed under the conditions of an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi using Fujifilm's Luxel PLASETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. did. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method of LITHRONE 26 and developed on the machine, 100 sheets were printed on Tokuhishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.

(A)機上現像性
上記のように印刷を行い、画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。この枚数が少ないほど機上現像性が良好であると判断する。
(B)経時後の機上現像性
得られた平版印刷版原版を、45℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した後、上記と同様にして露光し、印刷して機上現像性を求めた。
上記(A)の強制経時しない場合の機上現像枚数に近い枚数であるほど経時安定性が良好であると判断できる。
(A) On-press developability Printing was performed as described above, and it was necessary until the on-press development on the printing press of the unexposed portion of the image recording layer was completed and the ink was not transferred to the non-image portion. The number of print sheets was measured as on-press developability. The smaller the number, the better the on-press developability.
(B) On-machine developability after time The obtained lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 3 days, then exposed and printed in the same manner as described above. The on-press developability was determined.
It can be determined that the aging stability is better as the number is closer to the on-press development number when the forced aging is not performed in the above (A).

(C)通常耐刷性
上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
(C) Normal printing durability Printing was continued after the above-described evaluation of on-press developability. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Printing durability was evaluated using the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer for the 50% halftone dot area ratio of the FM screen in the printed material was 5% lower than the measured value for the 100th printed sheet. .

(D)経時後の汚れ防止性
得られた平版印刷版原版を、45℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した後、上記と同様にして露光し、(C)の条件で印刷して非画像部の汚れ防止性を3段階で評価した。
汚れ防止性が実用上問題がないものを○、汚れ防止性が条件によっては問題となるものを△、汚れ防止性が悪く、実用上問題となるものを×で示した。
(E)UVインキ耐刷性
得られた露光済み原版を現像処理することなく、三菱重工業社製ダイヤIF−2印刷機のシリンダーに取り付けた。IF102湿し水2容量%水溶液(富士フイルム製)と、ベストキュアーUV−BF−WRO標準墨インキ(T&K TOKA社製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時10000枚の印刷速度で印刷を行った。
耐刷性の評価は、得られた印刷物の画像濃度が刷り始めより5%低下した枚数を刷了と判断した。
(F)UVインキ経時後の汚れ防止性
得られた平版印刷版原版を、45℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した後、上記と同様にして露光し、(E)の条件で印刷して非画像部の汚れ防止性を3段階で評価した。
汚れ防止性について、実用上問題がないものを○、汚れ防止性が条件によっては問題となるものを△、汚れ防止性が悪く、実用上問題となるものを×で示した。
(D) Antifouling property after elapse of time The obtained lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 3 days, and then exposed in the same manner as described above. (C) The anti-staining property of the non-image area was evaluated in three stages.
The case where the antifouling property has no practical problem is indicated by ◯, the case where the antifouling property is problematic depending on the conditions is indicated by Δ, and the case where the antifouling property is poor and which is practically problematic is indicated by ×.
(E) UV ink printing durability The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a Dia IF-2 printing machine manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. without developing. After supplying fountain solution and ink using IF102 2% aqueous solution of fountain solution (Fuji Film) and Best Cure UV-BF-WRO standard black ink (T & K TOKA), printing 10,000 sheets per hour Printing was performed at speed.
In the evaluation of printing durability, the number of sheets in which the image density of the obtained printed matter was reduced by 5% from the start of printing was judged to be finished.
(F) Antifouling property after UV ink aging The obtained lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 3 days, and then exposed in the same manner as above ( Printing was performed under the conditions of E), and the anti-staining property of the non-image area was evaluated in three stages.
With respect to the antifouling property, “◯” indicates that there is no problem in practical use, “Δ” indicates that the antifouling property is problematic depending on conditions, and “x” indicates that the antifouling property is poor and causes practical problems.

Figure 0005444831
上記の結果より、本発明の平版印刷版原版が、経時後の機上現像性、耐刷性、及び汚れ防止性の点で優れたものであることが判る。
なお、実施例14においては、特定構造基を有する高分子化合物を含有しないため、高分子化合物(1)の添加量を0.162gとした。
使用した特定構造基を有する高分子化合物の分子量は、(1):Mw=55000、(7):Mw=53000、及び(20):Mw=55000である。
Figure 0005444831
From the above results, it can be seen that the lithographic printing plate precursor of the present invention is excellent in terms of on-press development property, printing durability and antifouling properties after aging.
In Example 14, since the polymer compound having a specific structural group was not contained, the amount of polymer compound (1) added was 0.162 g.
The molecular weight of the polymer compound having the specific structural group used is (1): Mw = 55000, (7): Mw = 53000, and (20): Mw = 55000.

[実施例17〜23及び比較例5〜8]
<サーマルネガ型平版印刷版原版>
特開2001−264991号公報の実施例1の画像形成層に、一般式(I)の化合物又は比較用化合物(表2に記載の種類と量)を追加した以外は、特開2001−264991号公報の実施例1と全く同様にして、平版印刷版原版(実施例17〜23、比較例5〜8)を作成し、非画像部の残色、密着性及び耐刷性の評価を行った。なお、表中に示される一般式(I)の量(含有率)は、完成された平版印刷版原版の画像記録層の質量に基づく。
また、経時後の汚れ防止性について以下のように評価した。
<経時後の汚れ防止性>
平版印刷版原版を、45℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に4日間放置した後、上記と同様にして露光し、印刷して非画像部の汚れ防止性を3段階で評価した。未露光部に残色があるか現像後、平版印刷版用原版をハイデル製印刷機SOR−Mに装着し、50枚印刷した際、未露光部にインキの汚れがあるか目視で確認し、以下のように評価した。
経時後の汚れ防止性:○…実用上問題がないもの、×…実用上問題となるもの
結果を表2に示す。
本発明に従って一般式(I)の化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版は、特に耐刷性が高く、かつ、汚れ防止性とのバランスの点で優れていることがわかる。
[Examples 17 to 23 and Comparative Examples 5 to 8]
<Thermal negative planographic printing plate precursor>
JP-A-2001-264991 except that the compound of general formula (I) or the comparative compound (type and amount shown in Table 2) was added to the image forming layer of Example 1 of JP-A-2001-264991. A lithographic printing plate precursor (Examples 17 to 23, Comparative Examples 5 to 8) was prepared in the same manner as in Example 1 of the publication, and the remaining color of non-image areas, adhesion and printing durability were evaluated. . The amount (content) of the general formula (I) shown in the table is based on the mass of the image recording layer of the finished lithographic printing plate precursor.
Moreover, the antifouling property after aging was evaluated as follows.
<Stain prevention after time>
The lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 4 days, then exposed and printed in the same manner as described above, and the anti-staining property of the non-image area was evaluated in three stages. did. After developing whether there is a residual color in the unexposed area, when the lithographic printing plate precursor is mounted on a Heidel printer SOR-M and printed 50 sheets, it is visually confirmed whether there is ink stains in the unexposed area, Evaluation was performed as follows.
Antifouling property after aging: .largecircle .: no problem in practical use, x: practical problem. Table 2 shows the results.
It can be seen that the lithographic printing plate precursor having an image recording layer containing the compound of the general formula (I) according to the present invention has particularly high printing durability and is excellent in terms of balance with antifouling properties.

Figure 0005444831
非画像部の残色:○…実用上問題がないもの、△…条件によっては問題となるもの
密着性:○…実用上問題がないもの、△…条件によっては問題となるもの
Figure 0005444831
Residual color of non-image part: ○: No problem in practical use, Δ: Problem in some conditions Adhesion: ○: No problem in practical use, Δ: Problems in some conditions

[実施例24〜30及び比較例9〜12]
<サーマルネガ型・簡易現像処理平版印刷版原版>
特開2007−316598号公報の実施例1の画像形成層に、一般式(I)の化合物又は比較用化合物(表3に記載の種類と量)を追加した以外は全く同様にして、平版印刷版原版(実施例24〜30及び比較例9〜12)を作成し、特開2007−316598号公報の実施例記載の方法により、現像性(非画像部の残膜の有無)及び耐刷性の評価を行った。なお、表中に示される一般式(I)の量(含有率)は、完成された平版印刷版原版の画像記録層の質量に基づく。
なお、経時後の汚れ防止性については、45℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に4日間放置した後、特開2007−316598号公報[0338]記載の条件により印刷を行い、印刷物の非画像部へのインキの付着を評価し、以下のように判定した。
経時後の汚れ防止性:○…実用上問題がないもの、△…条件によっては問題となるもの
結果を表3に示す。本発明に従った画像記録層を有する平版印刷版原版は、耐刷性が高く、かつ、現像性とのバランスの点でも優れていて、また経時後の汚れ防止性にも優れていることが判る。
[Examples 24 to 30 and Comparative Examples 9 to 12]
<Thermal negative type, simplified development lithographic printing plate precursor>
Lithographic printing was carried out in exactly the same manner except that the compound of the general formula (I) or the comparative compound (type and amount described in Table 3) was added to the image forming layer of Example 1 of JP-A-2007-316598. Plate original plates (Examples 24 to 30 and Comparative Examples 9 to 12) were prepared, and developability (presence or absence of remaining film in non-image areas) and printing durability by the method described in Examples of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-316598. Was evaluated. The amount (content) of the general formula (I) shown in the table is based on the mass of the image recording layer of the finished lithographic printing plate precursor.
In addition, as for the anti-stain property after aging, after being left in a constant temperature and humidity chamber set at 45 ° C. and a relative humidity of 75% for 4 days, printing is performed under the conditions described in JP-A-2007-316598 [0338], The adhesion of the ink to the non-image area of the printed material was evaluated and determined as follows.
Antifouling property after aging: .largecircle .: no problem in practical use, .DELTA .: problematic depending on conditions. The lithographic printing plate precursor having an image recording layer according to the present invention has high printing durability, is excellent in balance with developability, and is excellent in stain resistance after aging. I understand.

Figure 0005444831
現像性 ○:残膜なし △:わずかに残膜
Figure 0005444831
Developability ○: No remaining film △: Slightly remaining film

[実施例31〜39及び比較例13〜15]
<サーマルポジ型平版印刷版原版>
Si:0. 06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0. 014質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmのアルミニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理を連続的に行った。
[Examples 31 to 39 and Comparative Examples 13 to 15]
<Thermal positive lithographic printing plate precursor>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.014 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: Containing 0.03% by mass, the balance is prepared using Al and an inevitable impurity aluminum alloy, and after performing the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Further, after heat treatment was performed at 500 ° C. using a continuous annealing machine, an aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was finished by cold rolling. After making this aluminum plate 1030 mm in width, the following surface treatment was continuously performed.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment While a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied to the surface of the aluminum plate as a polishing slurry liquid, it is mechanically rotated by a roller nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリ剤によるエッチング処理
上記で得られた機械的粗面化処理後のアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2 溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(B) Etching treatment with alkali agent The aluminum plate after the mechanical roughening treatment obtained above is subjected to etching treatment by spraying at caustic soda concentration 2.6 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%, and temperature 70 ° C. The aluminum plate was dissolved at 6 g / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、温度80℃であった。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で130C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions and 0.007 mass% of ammonium ions) at a temperature of 80 ° C. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 130 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2 溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(f)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.20 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.
(F) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(g)陽極酸化処理
二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一および第二電解部長各6m、第一および第二給電部長各3m、第一および第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一および第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度43℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(G) Anodizing treatment Anodizing device of two-stage feeding electrolytic treatment method (first and second electrolytic section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrode length 2.4 m each) Anodizing was performed using this. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 43 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

(h)アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali metal silicate treatment An aluminum support obtained by anodizing treatment was immersed in a treatment layer of a 1% by weight aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds to immerse the alkali metal silica. Acid salt treatment (silicate treatment) was performed. Then, water washing by spraying was performed.

(i)下塗層の形成
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥した。
<下塗液組成>
・下記の高分子化合物 0.3 g
・メタノール 100 g
・水 1 g

Figure 0005444831
(I) Formation of undercoat layer On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C for 15 seconds.
<Undercoat liquid composition>
・ The following polymer compound 0.3 g
・ Methanol 100 g
・ Water 1 g
Figure 0005444831

j)画像記録層(下層および上層)の形成
ついで、下塗層を設けた平版印刷版用支持体に、下記組成の下層用塗布液を乾燥後の塗布量が0.85g/m2となるように塗布した後、TABAI社製のPERFECT OVEN PH200をWind Controlを7に設定して用い、140℃で50秒間乾燥させた。その後、下記組成の上層用塗布液を塗布量が0.15g/m2となるように塗布した後、120℃で乾燥し、感熱性平版印刷版を得た。乾燥時間を調整することにより、一般式(I)の化合物又は比較化合物の量の調整を行った。
j) Formation of image recording layer (lower layer and upper layer) Next, the coating amount after drying the lower layer coating solution having the following composition on the lithographic printing plate support provided with the undercoat layer becomes 0.85 g / m 2. After coating, the TARFAI PERFECT OVEN PH200 was used with a Wind Control set to 7, and dried at 140 ° C. for 50 seconds. Then, after apply | coating the coating liquid for upper layers of the following composition so that an application quantity might be set to 0.15 g / m < 2 >, it dried at 120 degreeC and obtained the heat-sensitive lithographic printing plate. The amount of the compound of general formula (I) or the comparative compound was adjusted by adjusting the drying time.

<下層用塗布液>
・一般式(I)の化合物又は比較化合物 (表4に記載の種類と量)
・特定構造を有するポリマーバインダー
N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド /アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体(モノマー比=36/34/30、重量平均分子量50,000) 1.896g
・m,p−クレゾールノボラック
(m/p比=6/4、重量平均分子量4,500、
未反応クレゾール0.8質量%含有) 0.237g
・下記構造式で表されるシアニン染料A 0.109g

Figure 0005444831

・4,4'−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.063g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)
ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート 0.03g
・エチルバイオレットの対イオンを
6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホンに変えたもの 0.05g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業社製) 0.035g
・メチルエチルケトン 26.6g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g
・γ−ブチロラクトン 13.8g <Coating liquid for lower layer>
Compound of general formula (I) or comparative compound (type and amount described in Table 4)
Polymer binder N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate copolymer (monomer ratio = 36/34/30, weight average molecular weight 50,000) 1.896 g having a specific structure
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4,500,
0.237 g containing 0.8% by mass of unreacted cresol)
-Cyanine dye A represented by the following structural formula 0.109 g
Figure 0005444831

・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.063g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
2-methoxy-4- (N-phenylamino)
Benzenediazonium hexafluorophosphate 0.03g
-Ethyl violet counter ion changed to 6-hydroxy-β-naphthalene sulfone 0.05 g
・ Fluorosurfactant (Megafac F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.035g
・ Methyl ethyl ketone 26.6g
1-methoxy-2-propanol 13.6 g
・ Γ-Butyrolactone 13.8g

<上層用塗布液>
・m,p−クレゾールノボラック
(m/p比=6/4、重量平均分子量4,500、
未反応クレゾール0.8質量%含有) 0.237g
・上記構造式で表されるシアニン染料A 0.047g
・ステアリン酸ドデシル 0.060g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート
0.030g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業社製) 0.110g
・フッ素系界面活性剤
(ディフェンサMCF−312 (固形分30質量%)、大日本インキ化学工業社製)
0.120g
・メチルエチルケトン 15.1g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g
<Upper layer coating solution>
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4,500,
0.237 g containing 0.8% by mass of unreacted cresol)
-Cyanine dye A represented by the above structural formula 0.047 g
・ Dodecyl stearate 0.060g
・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate
0.030g
・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.110 g
Fluorosurfactant (Defenser MCF-312 (solid content 30% by mass), manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
0.120g
・ Methyl ethyl ketone 15.1g
-1-methoxy-2-propanol 7.7g

通常インキとしてGEOS−G(N)(大日本インキ社製)を、UVインキとして、ベストキュアーUV−BF−WRO標準墨インキ(T&K TOKA社製)、を用い、汚れ性および耐刷性を以下のように評価した。
(汚れ性(非画像部の残色))
未露光部に残色があるか現像後、平版印刷版用原版をハイデル製印刷機SOR−Mに装着し、50枚印刷した際、未露光部にインキの汚れがあるか目視で確認し、以下のように評価した。
〇:インキの汚れなし。 △:条件によっては問題となるもの。
Using GEOS-G (N) (manufactured by Dainippon Ink, Inc.) as normal ink and Best Cure UV-BF-WRO standard black ink (manufactured by T & K TOKA) as UV ink, stain resistance and printing durability are as follows: It was evaluated as follows.
(Dirty (non-image area remaining color))
After developing whether there is a residual color in the unexposed area, when the lithographic printing plate precursor is mounted on a Heidel printer SOR-M and printed 50 sheets, it is visually confirmed whether there is ink stains in the unexposed area, Evaluation was performed as follows.
◯: No ink stains (Triangle | delta): It becomes a problem depending on conditions.

(耐刷性評価)
印刷機として、ハイデル製印刷機SOR−Mを使用して、上質紙に印刷した。得られた印刷物のベタ画像部を観察し、本来インキが付着する画像部がかすれはじめた枚数をカウントした。枚数が多いほど耐刷性が良好であることを表わす。
(Evaluation of printing durability)
As a printing machine, a printing machine SOR-M manufactured by Heidel was used to print on high-quality paper. The solid image portion of the obtained printed matter was observed, and the number of images where the image portion to which ink originally adhered began to fade was counted. The larger the number, the better the printing durability.

Figure 0005444831
*一般式(I)の化合物又は比較化合物の含有率は、画像記録層下層の質量に対する含有率である。
(A)** N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドを2−(N'−(4−スルファモイルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートに置き換えたポリマーバインダー
(B)*** N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドをN−(4−スルファモイルフェニル)マレイミドに置き換えたポリマーバインダー
Figure 0005444831
* The content of the compound of the general formula (I) or the comparative compound is a content relative to the mass of the lower layer of the image recording layer.
(A) ** Polymer binder in which N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide is replaced with 2- (N ′-(4-sulfamoylphenyl) ureido) ethyl methacrylate
(B) *** Polymer binder obtained by replacing N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide with N- (4-sulfamoylphenyl) maleimide

以上の結果からわかるように、本発明の平版印刷版原版によって、良好な耐刷性と汚れ防止性を両立できる平版印刷版を提供することができ、特に、耐刷性と汚れ防止性の両立が困難とされているUVインキによる印刷において、その両立が可能となる。本発明の平版印刷版原版はまた、過酷条件で長期保存を行った場合にも、製版後、良好な汚れ防止性を達成できる平版印刷版を提供できる。また、本発明の平版印刷版原版によれば、優れた機上現像性を発揮でき、経時保存後でも機上現像性が悪化しない。   As can be seen from the above results, the lithographic printing plate precursor according to the present invention can provide a lithographic printing plate capable of satisfying both good printing durability and antifouling properties, and in particular, compatibility between printing durability and antifouling properties. In the printing with UV ink, which is difficult to achieve, it is possible to achieve both. The lithographic printing plate precursor of the present invention can also provide a lithographic printing plate that can achieve good antifouling properties after plate making even when stored for a long time under severe conditions. Moreover, according to the planographic printing plate precursor of the present invention, excellent on-press developability can be exhibited, and on-press developability does not deteriorate even after storage over time.

Claims (4)

アルミニウム支持体上に、画像記録層を有するネガ型の平版印刷版原版であって、該画像記録層が下記一般式(I)で表される化合物を0.01〜10質量%含有し、さらに重合開始剤及び重合性化合物を含有する、前記ネガ型の平版印刷版原版。
Figure 0005444831

(式中、R1は炭素数2〜10の有機置換基を表し、R2〜R7はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数1〜10の有機置換基を表す。)
On an aluminum support, a lithographic printing plate precursor of the negative type having an image recording layer, the image recording layer, the compound represented by the following general formula (I) containing 0.01 to 10 wt%, The negative lithographic printing plate precursor further comprising a polymerization initiator and a polymerizable compound .
Figure 0005444831

(In the formula, R 1 represents an organic substituent having 2 to 10 carbon atoms, and R 2 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an organic substituent having 1 to 10 carbon atoms.)
該画像記録層が、さらに光熱変換物質を含有する、請求項に記載のネガ型の平版印刷版原版。 The negative lithographic printing plate precursor according to claim 1 , wherein the image recording layer further contains a photothermal conversion substance. 該画像記録層が、スルホンアミド基、マレイミド基、及びウレア構造から選ばれる少なくとも一つの構造を有する高分子化合物を含有する、請求項1又は2記載のネガ型の平版印刷版原版。 The negative lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2 , wherein the image recording layer contains a polymer compound having at least one structure selected from a sulfonamide group, a maleimide group, and a urea structure. アルミニウム支持体上に、中間層及び画像記録層をこの順に有する、請求項1〜3のいずれか1項記載のネガ型の平版印刷版原版。 The negative planographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3 , further comprising an intermediate layer and an image recording layer in this order on an aluminum support.
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