JP5238179B2 - Negative-type planographic printing plate precursor and planographic printing method using the same - Google Patents

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本発明は、平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法に関する。詳しくは、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて、例えば300〜1200nmの波長を有するレーザーを走査することにより直接製版することができる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型平版印刷版原版、及び、現像処理工程を経ることなく前記平版印刷版原版を印刷機上で直接現像して印刷する平版印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method using the same. Specifically, based on a digital signal from a computer or the like, for example, a negative lithographic printing plate precursor capable of direct plate making that can be directly made by scanning a laser having a wavelength of 300 to 1200 nm, and a development processing step The present invention relates to a lithographic printing method in which the lithographic printing plate precursor is directly developed and printed on a printing machine without going through the process.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lithographic film, and then the portion that becomes the image portion of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is made alkaline solution or organic The lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of exposing the surface of the hydrophilic support by dissolving and removing with a solvent.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を画像記録層に応じた現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化し又は簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like corresponding to the image recording layer is necessary after the exposure. One of the problems is to make wet processing unnecessary or simplified. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で画像記録層の不要部分を除去し、平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤又は湿し水とインキとの乳化物に溶解し又は分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力又は画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、画像記録層のレーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキ及び/又は湿し水)を接触させることにより、画像記録層のレーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法及び工程を指す。
On the other hand, as one simple plate making method, an image recording layer that can remove an unnecessary portion of the image recording layer in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which unnecessary portions are removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in an fountain solution, an ink solvent, or an emulsion of a fountain solution and an ink. , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion force of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc., or between the image recording layer and the support. There is a method in which after the adhesive force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket cylinder.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to the step of removing the unexposed portion of the image recording layer from the laser and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink and / or wet) using a printing press. This refers to a method and a process for removing the laser unexposed portion of the image recording layer and exposing the hydrophilic support surface by contacting with water.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。
上述したように、近年、製版作業の簡素化、乾式化及び無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。
On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.
As described above, in recent years, simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of both consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.

平版印刷版原版のうち走査露光可能な平版印刷版原版としては、親水性支持体上にレーザー露光によりラジカルやブレンステッド酸などの活性種を発生しうる感光性化合物を含有した親油性感光性樹脂層が提案され、既に上市されている。この平版印刷版原版をデジタル情報に基づきレーザー走査し活性種を発生せしめ、その作用によって感光層に物理的、或いは化学的な変化を起こし不溶化させ、引き続き現像処理することによってネガ型の平版印刷版を得ることができる。特に、親水性支持体上に感光スピードに優れる光重合開始剤、付加重合可能なエチレン性不飽和化合物、及びアルカリ現像液に可溶なバインダーポリマーとを含有する光重合型の感光層、及び必要に応じて酸素遮断性の保護層とを設けた平版印刷版原版は、生産性に優れ、さらに現像処理が簡便であり、解像度や着肉性もよいといった利点から、望ましい印刷性能を有する刷版となりうる。
また、機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1には、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献1には、上記平版印刷版原版を赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水及び/又はインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。
このような微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度(支持体との密着性)が極めて弱く、耐刷性が不十分であるという問題を有していた。
Among the lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursor capable of scanning exposure is an oleophilic photosensitive resin containing a photosensitive compound capable of generating active species such as radicals and Bronsted acids on a hydrophilic support by laser exposure. Tiers have been proposed and are already on the market. This lithographic printing plate precursor is laser-scanned based on digital information to generate active species, which causes physical or chemical changes in the photosensitive layer to insolubilize it, followed by development processing, thereby developing a negative lithographic printing plate Can be obtained. In particular, a photopolymerization type photosensitive layer containing a photopolymerization initiator excellent in photosensitive speed on a hydrophilic support, an ethylenically unsaturated compound capable of addition polymerization, and a binder polymer soluble in an alkali developer, and necessary A lithographic printing plate precursor provided with an oxygen-blocking protective layer in accordance with the printing plate having desirable printing performance from the advantages that it is excellent in productivity, is easy to develop, and has good resolution and inking properties. It can be.
Further, as an on-press developable lithographic printing plate precursor, for example, in Patent Document 1, an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support. The planographic printing plate precursor is described. In this Patent Document 1, the above lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing press and moistened. It is described that it is possible to perform on-press development with water and / or ink.
Such a method of forming an image by merging by simple thermal fusion of fine particles exhibits good on-press developability, but the image strength (adhesion with the support) is extremely weak and the printing durability is insufficient. Had the problem of being.

また、特許文献2及び3には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版が記載されている。
また、特許文献4には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている。
このような重合反応を用いる方法は、重合体微粒子の熱融着により形成される画像部に比べ、画像部の化学結合密度が高いため画像強度が比較的良好であるという特徴を有するが、実用的な観点から見ると、機上現像性、細線再現性及び耐刷性のいずれも未だ不十分であり、特にUVインキを使用すると耐刷性が極めて不十分であった。
Patent Documents 2 and 3 describe lithographic printing plate precursors having an image recording layer (thermosensitive layer) containing microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support.
Patent Document 4 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support.
The method using such a polymerization reaction has a feature that the image strength is relatively good because the chemical bond density of the image portion is higher than that of the image portion formed by thermal fusion of polymer fine particles. From a general point of view, all of the on-press developability, fine line reproducibility and printing durability were still insufficient, and particularly when UV ink was used, printing durability was extremely insufficient.

さらに、特許文献5には、支持体上に、重合性化合物と、ポリエチレンオキシド鎖を側鎖に有するグラフトポリマー又はポリエチレンオキシドブロックを有するブロックポリマーを含有する画像記録層を設けた機上現像可能な平版印刷版原版が記載されている。
しかし、この技術は、機上現像性は良好ではあるが、細線再現性及び耐刷性は未だ不十分である。
Further, in Patent Document 5, on-press development is possible in which an image recording layer containing a polymerizable compound and a graft polymer having a polyethylene oxide chain in the side chain or a block polymer having a polyethylene oxide block is provided on a support. A planographic printing plate precursor is described.
However, this technology has good on-press developability, but fine line reproducibility and printing durability are still insufficient.

特許第2938397号公報Japanese Patent No. 2938397 特開2001−277740号公報JP 2001-277740 A 特開2001−277742号公報JP 2001-277742 A 特開2002−287334号公報JP 2002-287334 A 米国特許出願公開第2003/0064318号明細書US Patent Application Publication No. 2003/0064318

したがって、本発明の目的は、レーザー露光により画像記録が可能であるネガ型平版印刷版原版を提供することである。また、本発明の目的は現像処理工程を行うことなく、機上現像可能なネガ型平版印刷版原版及びする平版印刷方法を提供することである。さらに、本発明の目的は、耐薬品性に優れ、UVインキ(紫外線硬化インキ)を用いた印刷を行っても耐刷力の大きいネガ型平版印刷版原版を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate precursor capable of image recording by laser exposure. Another object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate precursor capable of on-press development without performing a development processing step, and a lithographic printing method. Furthermore, an object of the present invention is to provide a negative lithographic printing plate precursor which has excellent chemical resistance and has a large printing durability even when printing using UV ink (ultraviolet curable ink) is performed.

本発明者らは、種々の高分子化合物を検討した結果、複数の特定の官能基を有する高分子化合物を光重合層(画像記録層)に用いることにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明に到達した。本発明は以下の通りである。   As a result of studying various polymer compounds, the present inventors have found that the above object can be achieved by using a polymer compound having a plurality of specific functional groups in a photopolymerization layer (image recording layer). The invention has been reached. The present invention is as follows.

〔1〕支持体上に、スルホンアミド基及び下記一般式(II)で示されるアルキレンオキサイド構造を分子内に有する高分子化合物、重合開始剤並びに重合性モノマーを含有する光重合層を有し、該光重合層がUVインキ及び/又は湿し水により除去可能であることを特徴とするネガ型平版印刷版原版。

Figure 0005238179

式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは1、3又は5であり、lは1〜9の整数を表す。
〔2〕前記スルホンアミド基が、下記一般式(Ia)〜(Ie)のいずれかで示されるモノマーから誘導される単位中のスルホンアミド基であることを特徴とする〔1〕記載のネガ型平版印刷版原版。
Figure 0005238179

〔式中、X 1 はO又はNRを示す。R 1 は水素原子又はメチル基を示す。R 2 、R 及びR 10 はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を示す。R 、R 、R 、R 11 、R 12 、及びR 13 はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。R 及びR 14 はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。R は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を示す。R は単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基もしくはアラルキレン基を示す。Rは水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。Y 1 は単結合又はカルボニル基を示す。〕
〔3〕前記一般式(II)で示されるアルキレンオキサイド構造が、ポリオキシエチレンモノメタクリレート、ポリオキシエチレンモノアクリレート、ポリオキシプロピレンモノメタクリレート若しくはポリオキシプロピレンモノアクリレートから誘導される単位中のアルキレンオキサイド構造であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載のネガ型平版印刷版原版。
〔4〕該光重合層が、さらに赤外線吸収剤を含有することを特徴する〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
〔5〕該光重合層が、マイクロカプセル又はミクロゲル含有することを特徴する〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
〔6〕該光重合層中に含有するスルホンアミド基及びアルキレンオキサイド構造を分子内に有する高分子化合物と重合性モノマーの質量比が、1/1〜1/3であることを特徴とする〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
〔7〕〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該ネガ型平版印刷版原版にUVインキと水性成分とを供給して、光重合層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
本発明は、上記〔1〕〜〔7〕項に関するものであるが、その他の事項についても参考のために記載した。
(1)支持体上に、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を含有する光重合層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。
(2)前記高分子化合物が、下記一般式(Ia)〜(Ie)で示されるスルホンアミド基を有するモノマーから誘導される単位を有することを特徴とする前記1記載のネガ型平版印刷版原版。 [1] On a support, it has a photopolymerization layer containing a polymer compound having a sulfonamide group and an alkylene oxide structure represented by the following general formula (II) in the molecule, a polymerization initiator, and a polymerizable monomer, A negative lithographic printing plate precursor, wherein the photopolymerizable layer is removable with UV ink and / or fountain solution.
Figure 0005238179

In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, a is 1, 3 or 5, and 1 represents an integer of 1 to 9.
[2] The negative type according to [1], wherein the sulfonamide group is a sulfonamide group in a unit derived from a monomer represented by any of the following general formulas (Ia) to (Ie) A lithographic printing plate precursor.
Figure 0005238179

[Wherein, X 1 represents O or NR. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 , R 8 and R 10 each independently represent an alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 3 , R 4 , R 5 , R 11 , R 12 , and R 13 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, An aryl group or an aralkyl group is shown. R 6 and R 14 each independently represents an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group. R 9 represents a single bond or an optionally substituted alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents a single bond or a carbonyl group. ]
[3] An alkylene oxide structure in a unit in which the alkylene oxide structure represented by the general formula (II) is derived from polyoxyethylene monomethacrylate, polyoxyethylene monoacrylate, polyoxypropylene monomethacrylate, or polyoxypropylene monoacrylate The negative lithographic printing plate precursor as described in [1] or [2], wherein
[4] The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of [1] to [3], wherein the photopolymerization layer further contains an infrared absorber.
[5] The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of [1] to [4], wherein the photopolymerizable layer contains a microcapsule or a microgel.
[6] The mass ratio of the polymer compound having a sulfonamide group and an alkylene oxide structure in the molecule and the polymerizable monomer contained in the photopolymerization layer is 1/1 to 1/3. The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of 1] to [5].
[7] The negative lithographic printing plate precursor according to any one of [1] to [6] is mounted on a printing press and imagewise exposed with a laser, or imagewise exposed with a laser. After that, a lithographic printing method for mounting in a printing machine, supplying UV ink and an aqueous component to the negative lithographic printing plate precursor, removing an unexposed portion of the photopolymerization layer, and printing.
The present invention relates to the above items [1] to [7], but other matters are also described for reference.
(1) A negative lithographic printing plate precursor comprising a photopolymerization layer containing a polymer compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group in the molecule on a support.
(2) The negative lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the polymer compound has a unit derived from a monomer having a sulfonamide group represented by the following general formulas (Ia) to (Ie): .

Figure 0005238179

〔式中、X1はO又はNRを示す。R1は水素原子又はメチル基を示す。R2、R及びR10はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基又はアラルキレン基を示す。R、R、R、R11、R12、及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。R及びR14はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を示す。Rは単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基もしくはアラルキレン基を示す。Rは水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。Y1は単結合又はカルボニル基を示す。〕
Figure 0005238179

[Wherein, X 1 represents O or NR. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. The R 2, R 8 and R 10 each independently represent 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R 3 , R 4 , R 5 , R 11 , R 12 , and R 13 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, An aryl group or an aralkyl group is shown. R 6 and R 14 each independently represents an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group. R 9 represents a single bond or a substituent a good 1 to 12 carbon atoms which may have an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents a single bond or a carbonyl group. ]

(3)前記親水性基が、下記一般式(II)で示されるアルキレンオキサイド構造であることを特徴とする前記1又は2に記載のネガ型平版印刷版原版。   (3) The negative lithographic printing plate precursor as described in 1 or 2 above, wherein the hydrophilic group has an alkylene oxide structure represented by the following general formula (II).

Figure 0005238179
Figure 0005238179

式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは1、3又は5であり、lは1〜9の整数を表す。   In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, a is 1, 3 or 5, and 1 represents an integer of 1 to 9.

(4)該光重合層が、赤外線吸収剤、重合開始剤及び重合性モノマーを含有することを特徴する前記1〜3のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
(5)該光重合層が、マイクロカプセル又はミクロゲル含有することを特徴する前記1〜4のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
(6)該光重合層中に含有するスルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物と重合性モノマーの質量比が、1/1〜1/3であることを特徴とする前記1〜5のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
(7)該光重合層が印刷インキ及び/又は湿し水により除去可能であることを特徴とする前記1〜6のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
(8)該光重合層がUVインキ及び/又は湿し水により除去可能であることを特徴とする前記1〜7のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。
(9)前記7に記載のネガ型平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該ネガ型平版印刷版原版に油性インキと水性成分とを供給して、光重合層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
(10)前記8に記載のネガ型平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該ネガ型平版印刷版原版にUVインキと水性成分とを供給して、光重合層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
(4) The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (3) above, wherein the photopolymerization layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, and a polymerizable monomer.
(5) The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above, wherein the photopolymerizable layer contains a microcapsule or a microgel.
(6) The mass ratio of the polymer compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group contained in the photopolymerizable layer and a polymerizable monomer in the molecule is 1/1 to 1/3. The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5.
(7) The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (6) above, wherein the photopolymerizable layer can be removed with printing ink and / or fountain solution.
(8) The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (7) above, wherein the photopolymerizable layer can be removed with UV ink and / or fountain solution.
(9) The negative lithographic printing plate precursor as described in 7 above is mounted on a printing press and imagewise exposed with a laser or imagewise exposed with a laser and then mounted on a printing press. A lithographic printing method in which an oil-based ink and an aqueous component are supplied to a lithographic printing plate precursor to remove an unexposed portion of the photopolymerization layer and print.
(10) The negative lithographic printing plate precursor as described in 8 above is mounted on a printing press and imagewise exposed with a laser, or after imagewise exposure with a laser and then mounted on a printing press. A lithographic printing method in which UV ink and an aqueous component are supplied to a lithographic printing plate precursor to remove an unexposed portion of the photopolymerization layer and print.

本発明では、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を用いることによって前記課題の解決を達成できた。その作用機構は定かではないが、スルホンアミド基を有することによって、(1)該官能基がもつ高い極性により、また、(2)化合物同士の相互作用により、薬品やUVインキの浸透を妨げていることが考えられる。また、親水性基を分子内に有することで、湿し水が速やかに光重合層中に浸透し、速やかな機上現像性が得られると推定される。   In the present invention, the above-mentioned problems can be solved by using a polymer compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group in the molecule. The mechanism of action is not clear, but by having a sulfonamide group, (1) the high polarity of the functional group, and (2) the interaction between the compounds prevents the penetration of chemicals and UV ink. It is possible that Further, it is presumed that by having a hydrophilic group in the molecule, the fountain solution quickly penetrates into the photopolymerization layer, and quick on-press developability can be obtained.

本発明によれば、機上現像性に優れ、細線再現性及び耐刷性も良好であり、さらにUVインキを使用した印刷を行った場合においても良好な印刷物が多数枚得られ、耐刷性に優れる平版印刷版及び、それを用いた平版印刷方法を提供することができる。   According to the present invention, the on-press developability is excellent, the fine line reproducibility and the printing durability are good, and even when printing using UV ink is performed, a large number of good printed matter can be obtained, and the printing durability. Can be provided, and a lithographic printing method using the same.

[ネガ型平版印刷版原版]
本発明のネガ型平版印刷版原版は親水性支持体上にレーザー感受性の光重合層を有することを前提とする。以下、光重合層及びその他の構成要素について詳細に説明する。
[Negative lithographic printing plate precursor]
The negative planographic printing plate precursor of the present invention is premised on having a laser-sensitive photopolymerization layer on a hydrophilic support. Hereinafter, the photopolymerization layer and other components will be described in detail.

<光重合層>
〔スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物〕
本発明の光重合層は、バインダーポリマーとして、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物(以下、適宜、特定高分子化合物と称する。)を必須成分として含有する。
この特定高分子化合物を含有することにより、耐薬品性及びUVインキを使用した印刷における耐刷性の向上、及び良好な機上現像性が得られる。
<Photopolymerization layer>
[High molecular compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group in the molecule]
The photopolymerization layer of the present invention contains, as an essential component, a polymer compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group in the molecule (hereinafter appropriately referred to as a specific polymer compound) as a binder polymer.
By containing this specific polymer compound, chemical resistance and improvement in printing durability in printing using UV ink and good on-press developability can be obtained.

上記特定高分子化合物としては、側鎖又は主鎖中に−SO2−N−結合を含有する高分子化合物が好ましく、さらに好ましくは、側鎖中に−SO2−N−結合を含有する高分子化合物である。親水性基は、側鎖に有することが好ましい。 Examples of the specific polymer compound, a polymer compound containing a -SO 2-N-bond is preferable in the side chain or main chain, more preferably, higher containing -SO 2-N-bond in the side chain It is a molecular compound. It is preferable to have a hydrophilic group in the side chain.

このような特定高分子化合物は、例えば、スルホンアミド基を有する重合性モノマーと、親水性基を有する重合性モノマーとを公知の重合開始剤を用いて適当な溶媒中で共重合することにより得られる。   Such a specific polymer compound is obtained, for example, by copolymerizing a polymerizable monomer having a sulfonamide group and a polymerizable monomer having a hydrophilic group in a suitable solvent using a known polymerization initiator. It is done.

好適に使用されるスルホンアミド基を有する重合性モノマーとしては、一般式(Ia)〜(Ie)(総称して一般式(I)ともいう)で示される化合物が挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group preferably used include compounds represented by the general formulas (Ia) to (Ie) (also collectively referred to as the general formula (I)).

Figure 0005238179
Figure 0005238179

式中、X1はO又はNRを示す。R1は水素原子又はメチル基を示す。R2、R及びR10はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基又はアラルキレン基を示す。R、R、R、R11、R12、及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。R及びR14はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を示す。Rは単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基もしくはアラルキレン基を示す。Rは水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。Y1は単結合又はカルボニル基を示す。 In the formula, X 1 represents O or NR. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. The R 2, R 8 and R 10 each independently represent 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R 3 , R 4 , R 5 , R 11 , R 12 , and R 13 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, An aryl group or an aralkyl group is shown. R 6 and R 14 each independently represents an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group. R 9 represents a single bond or a substituent a good 1 to 12 carbon atoms which may have an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents a single bond or a carbonyl group.

一般式(Ia)又は(Ib)で示されるモノマーのうち、本発明において特に好適に使用されるモノマーは、R2がC2〜C6のアルキレン基、シクロアルキレン基、又は置換基を有していてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基であり、R3、R、及びRが水素原子、C1〜C6のアルキル基、シクロアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基もしくはナフチル基であり、RがC1〜C6のアルキル基、シクロアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基もしくはナフチル基であり、Rが水素原子、C1〜C6のアルキル基、シクロアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基もしくはナフチル基である化合物である。 Among the monomers represented by the general formula (Ia) or (Ib), the monomer particularly preferably used in the present invention has an alkylene group, a cycloalkylene group, or a substituent in which R 2 is a C 2 to C 6. An optionally substituted phenylene group or naphthylene group, and R 3 , R 4 , and R 5 are a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a cycloalkyl group, or a phenyl group optionally having a substituent, A naphthyl group, R 6 is a C 1 -C 6 alkyl group, a cycloalkyl group, or an optionally substituted phenyl group or naphthyl group, R is a hydrogen atom, C 1 -C 6 alkyl Group, a cycloalkyl group, or a phenyl group or naphthyl group which may have a substituent.

このようなモノマーとしては、例えばN−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−エチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−エチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−n−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−n−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−i−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−i−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−n−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−t−ブルチアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−フェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−フェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−フェニルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(m−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(o−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(m−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(1−(3−メチルアミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(o−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(o−エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−エチルスルホニルアミフェニル)メタクリルアミド、N−(o−フェニルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(m−フェニルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−フェニルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(o−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(m−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−ナフチルスルホニルアミノ)フェニルメタクリルアミド、N−(p−(β−ナフチルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(2−メチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−エチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−フェニルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−p−メチルフェニルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−α−ナフチルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−β−ナフチルスルホニルアミノ)エチルメタクリルアミド、N−(m−ジメチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ジメチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−ジエチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−ジエチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ジエチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド等のメタクリルアミド類、上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類、   Examples of such monomers include N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-methyl). Aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-methylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-methylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m -Ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (on-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mn-propylaminosulfonylphenyl) ) Methacrylamide, N- (pn-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mi-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N -(P-i-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (on-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mn-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pn -Butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mi-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pi-butylaminosulfonylphenyl) ) Methacrylami N- (o-sec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-sec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-sec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o -T-Burtiaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mt-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pt-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-phenylaminosulfonylphenyl) ) Methacrylamide, N- (m-phenylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-phenylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- ( m- (α-naphthyl Minosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (p- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (o- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (m- (β- Naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (p- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (1- (3-aminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (1- (3- Methylaminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (1- (3-ethylaminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (o-methylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (m-methylsulfonylaminophenyl) methacryl Amide, N- (p-methylsulfonyl) Minophenyl) methacrylamide, N- (o-ethylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (m-ethylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (p-ethylsulfonylamiphenyl) methacrylamide, N- (o-phenyl) Sulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (m-phenylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (p-phenylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (o- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide N- (m- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (p- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (p- (α-naphthylsulfonylamino) Phenylmethacrylamide, N- (p- (β-naphthylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (2-methylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-ethylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- ( 2-phenylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-p-methylphenylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-α-naphthylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-β-naphthylsulfonyl) Amino) ethyl methacrylamide, N- (m-dimethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-dimethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-diethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-di Acrylamides having chill-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N-(p-diethylamino aminosulfonylphenyl) methacrylamide such as methacrylamide, the same substituents as above,

またo−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−メチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−メチメアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−メチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−エチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−n−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−i−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−i−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−i−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−sec−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−sec−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−t−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニルメタクリレート、p−(α−ナフチルアミノスルホニルフェニル)メタクリレート、m−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、1−(3−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレート、o−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、o−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、o−フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニルメタクリレート、o−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、m−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p−(α−ナフチルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−エチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−フェニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフェニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−β−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、o−ジメチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ジメチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−ジメチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−ジエチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ジエチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−ジエチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、等のメタクリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアクリル酸エステル類などが挙げられる。   Also, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, o-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, o-ethyl Aminosulfonylphenyl methacrylate, m-ethylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-ethylaminosulfonylphenyl methacrylate, on-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, mn-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, pn-propylaminosulfonylphenyl methacrylate O-i-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, mi Propylaminosulfonylphenyl methacrylate, on-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, mn-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pn-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, mi-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pi- Butylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-sec-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-sec-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, mt-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pt-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, o-phenylamino Sulfonylphenyl methacrylate, m-phenylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-phenylaminosulfonate Phenyl methacrylate, m- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate, p- (α-naphthylaminosulfonylphenyl) methacrylate, m- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate, p- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate 1- (3-aminosulfonyl) naphthyl methacrylate, 1- (3-methylaminosulfonyl) naphthyl methacrylate, 1- (3-ethylaminosulfonyl) naphthyl methacrylate, o-methylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-methylsulfonylaminophenyl Methacrylate, p-methylsulfonylaminophenyl methacrylate, o-ethylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-ethylsulfonylaminophenyl methacrylate Acrylate, p-ethylsulfonylaminophenyl methacrylate, o-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, p-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, o- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate, m- ( p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate, p- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate, p- (α-naphthylsulfonylamino) phenyl methacrylate, p- (β-naphthylsulfonylamino) phenyl methacrylate, 2-methyl Sulfonylaminoethyl methacrylate, 2-ethylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-phenylsulfonylaminoethyl Tacrylate, 2-p-methylphenylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-α-naphthylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-β-naphthylsulfonylaminoethyl methacrylate, o-dimethylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-dimethylaminosulfonylphenyl methacrylate, p -Methacrylic acid esters such as dimethylaminosulfonylphenyl methacrylate, o-diethylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-diethylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-diethylaminosulfonylphenyl methacrylate, and acrylic acid esters having the same substituents as above. It is done.

また、一般式(Ic)〜(Ie)で示されるモノマーにおいて、好ましい置換基は、それぞれ、Rは水素原子であり、Rは置換されていてもよいメチレン基、フェニレン基又はナフチレン基であり、Rは単結合又はメチレン基であり、R10は炭素数1〜6のアルキレン基又は置換されていてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基であり、R11、R12及びR13は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、シクロアルキル基又は置換されていてもよいフェニル基もしくはナフチル基であり、R14は炭素数1〜6のアルキル基、シクロアルキル基、又は置換されていてもよいフェニル基もしくはナフチル基である。 Further, in the monomers represented by the general formulas (Ic) to (Ie), preferable substituents are respectively R 7 is a hydrogen atom, and R 8 is an optionally substituted methylene group, phenylene group or naphthylene group. R 9 is a single bond or a methylene group, R 10 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an optionally substituted phenylene group or naphthylene group, and R 11 , R 12 and R 13 are hydrogen atoms. , An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group, or an optionally substituted phenyl group or naphthyl group, and R 14 may be an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group, or a substituted group. Good phenyl or naphthyl group.

上記のような一般式(Ic)〜(Ie)で示される化合物の具体例としては、p−アミノスルホニルスチレン、p−アミノスルホニル−α−メチルスチレン、p−アミノスルホニルフェニルアリルエーテル、p−(N−メチルアミノスルホニル)フェニルアリルエーテル、p−(N−ジメチルアミノスルホニル)フェニルアリルエーテル、メチルスルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ酢酸アリルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸アリルエステル、p−メチルスルホニルアミノフェニルアリルエーテルなどがある。   Specific examples of the compounds represented by the above general formulas (Ic) to (Ie) include p-aminosulfonylstyrene, p-aminosulfonyl-α-methylstyrene, p-aminosulfonylphenylallyl ether, p- ( N-methylaminosulfonyl) phenyl allyl ether, p- (N-dimethylaminosulfonyl) phenyl allyl ether, methylsulfonylaminoacetic acid vinyl ester, phenylsulfonylaminoacetic acid vinyl ester, methylsulfonylaminoacetic acid allyl ester, phenylsulfonylaminoacetic acid allyl ester P-methylsulfonylaminophenyl allyl ether.

スルホンアミド基を有する構造単位は、本発明に係る特定高分子化合物中に、1種のみが用いられていてもよく、2種以上を含んでいてもよい。 これらのスルホンアミド基を有する構造単位は、耐刷性と耐薬品性の観点から、特定高分子化合物中に、1〜80mol%含まれていることが好ましく、10〜80mol%含有されていることがより好ましく、最も好ましくは20〜70mol%の範囲である。   As for the structural unit having a sulfonamide group, only one type may be used in the specific polymer compound according to the present invention, or two or more types may be included. From the viewpoint of printing durability and chemical resistance, these structural units having a sulfonamide group are preferably contained in the specific polymer compound in an amount of 1 to 80 mol%, and 10 to 80 mol%. Is more preferable, and most preferably in the range of 20 to 70 mol%.

また、本発明の特定高分子は親水性基を有する。親水性基は光重合層に機上現像性を付与するのに寄与する。このような親水性基としては、たとえば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、アルキレンオキサイド構造、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシエチル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等などがあり、好ましいのはアミド基、ヒドロキシル基、ポリオキシエチル基、アルキレンオキサイド構造、が挙げられ、下記一般式(II)で表されるアルキレンオキサイド構造が最も好ましい。   The specific polymer of the present invention has a hydrophilic group. The hydrophilic group contributes to imparting on-press developability to the photopolymerizable layer. Examples of such hydrophilic groups include hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, alkylene oxide structure, hydroxypropyl group, polyoxyethyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, There are aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, etc., preferably amide group, hydroxyl group, polyoxyethyl group, alkylene oxide structure, and the following general An alkylene oxide structure represented by the formula (II) is most preferable.

Figure 0005238179
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式(II)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは1、3又は5であり、lは1〜9の整数を表す。lは好ましくは1〜8の整数であり、より好ましくは1〜7の整数、さらに好ましくは1〜6の整数、最も好ましくは1〜4の整数である。   In formula (II), R represents a hydrogen atom or a methyl group, a is 1, 3 or 5, and 1 represents an integer of 1 to 9. l is preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 7, still more preferably an integer of 1 to 6, and most preferably an integer of 1 to 4.

上記親水性基を有するモノマーの具体例としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、N−アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ポリオキシエチレンモノメタクリレート、ポリオキシエチレンモノアクリレート、ポリオキシプロピレンモノメタクリレート、ポリオキシプロピレンモノアクリレートが挙げられる。これらを1種あるいは2種以上用いることができ、これらの親水性基を有する構造単位の好適に使用される含有量は、特定高分子化合物中の1〜85mol%であり、特に好ましくは5〜70mol%である。   Specific examples of the monomer having a hydrophilic group include acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, N-acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl acrylate. 2-hydroxyethyl methacrylate, polyoxyethylene monomethacrylate, polyoxyethylene monoacrylate, polyoxypropylene monomethacrylate, polyoxypropylene monoacrylate. These can be used alone or in combination of two or more. The content of these structural units having a hydrophilic group is preferably 1 to 85 mol% in the specific polymer compound, particularly preferably 5 to 5 mol%. 70 mol%.

本発明の特定高分子化合物は画像強度などの諸性能を向上する目的で、本発明の効果を損なわない限りにおいて、前述の置換基を有するモノマーに加えて、さらに、他のラジカル重合性モノマーを共重合させることも好ましい態様である。本発明において特定高分子化合物に共重合させることができるモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるモノマーが挙げられる。   The specific polymer compound of the present invention is used for the purpose of improving various performances such as image strength, and in addition to the above-mentioned monomer having a substituent, in addition to the above-described monomer having a substituent, as long as the effects of the present invention are not impaired. Copolymerization is also a preferred embodiment. Examples of the monomer that can be copolymerized with the specific polymer compound in the present invention include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, N, N-2 substituted acrylamides, N, N-2 substituted methacrylamides, and styrene. And monomers selected from acrylonitriles, methacrylonitriles and the like.

具体的には、例えば、アルキルアクリレート(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ましい)等のアクリル酸エステル類、(具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリヌリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレートなど)、アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクゾレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど)、スチレン、アルキルスチレン等のスチレン(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲンスチレン(例えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、プロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Specifically, for example, acrylic esters such as alkyl acrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms) (specifically, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic Propyl butyl, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate , Pentaerynuritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (e.g., phenyl Methacrylic acid esters (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl). Methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, Glycidyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate Styrene) such as methyl methacrylate, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl, aryl methacrylate (for example, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, etc.), styrene, alkyl styrene, etc. Styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, etc.), alkoxy styrene (for example, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, dimethoxy) Styrene), halogen styrene (e.g. chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlors) Styrene, pentachlorostyrene, prom styrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene, etc.), acrylonitrile, Examples include methacrylonitrile.

また、本発明の特定高分子化合物は、下記式(III)で表されるエステル基又は下記式(IV)で表されるアミド基を分子内に有していてもよい。   Moreover, the specific polymer compound of the present invention may have an ester group represented by the following formula (III) or an amide group represented by the following formula (IV) in the molecule.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

式中、bは2〜5の整数であり、cは2〜7の整数であり、m及びnはそれぞれ独立に1〜100の整数を表す。   In formula, b is an integer of 2-5, c is an integer of 2-7, m and n represent the integer of 1-100 each independently.

これらラジカル重合性モノマーのうち、好適に使用されるのは、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン類である。これらを1種あるいは2種以上用いることができ、これら共重合成分の好適に使用される含有量は、0〜95mol%であり、特に好ましくは、20〜90mol%である。   Among these radical polymerizable monomers, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and styrenes are preferably used. These can be used singly or in combination of two or more. The content of these copolymerization components is preferably 0 to 95 mol%, particularly preferably 20 to 90 mol%.

また、本発明の特定共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。   The specific copolymer of the present invention may be any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合してもよい。   Examples of the solvent used for synthesizing such a polymer compound include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxy. Examples include ethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate. It is done. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る特定高分子化合物は、質量平均分子量Mwで、好ましくは2,000以上であり、さらに好ましくは、5,000〜500,000の範囲である。また、本発明に係る特定高分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、高分子化合物中に占める単量体の割合は、15質量%以下が望ましい。   The specific polymer compound according to the present invention has a mass average molecular weight Mw, preferably 2,000 or more, and more preferably 5,000 to 500,000. Moreover, the specific polymer compound according to the present invention may contain an unreacted monomer. In this case, the proportion of the monomer in the polymer compound is desirably 15% by mass or less.

本発明の光重合層に含まれる特定高分子化合物の含有量は固形分で好ましくは約5〜95質量%であり、より好ましくは、約10〜85質量%である。この範囲内で良好な画像部強度と画像形成性が得られる。   The content of the specific polymer compound contained in the photopolymerization layer of the present invention is preferably about 5 to 95% by mass, more preferably about 10 to 85% by mass in terms of solid content. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

本発明におけるバインダーポリマーとして用いられる特定高分子化合物の構成単位の具体例を以下に示すがこれらに限定されない。   Although the specific example of the structural unit of the specific polymer compound used as a binder polymer in this invention is shown below, it is not limited to these.

Figure 0005238179
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〔その他のバインダーポリマー〕
本発明には上記特定高分子化合物に加えて、従来公知のバインダーポリマーを制限なく使用できるが、なかでも皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
[Other binder polymers]
In the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation in addition to the specific polymer compound, and among these, linear organic polymers having film properties are preferred. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。   The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又はCONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, where the ester or amide residue (R of -COOR or CONHR) is ethylene. Examples thereof include polymers having a polymerizable unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CHCR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CHNH−CO−O−CHCR=CR、−(CH−O−CO−CR=CR及び(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、RとR又はRとは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and an alkoxy group. R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. Represents a group).

エステル残基の具体例としては、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCH−NHCOO−CHCH=CH及びCHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CHCH=CH、−CHCH−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCH−OCO−CH=CHが挙げられる。
Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (described in JP-B-7-21633), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C. (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性モノマーの重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性モノマーの重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The binder polymer having crosslinkability, for example, has a free radical (polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable monomer) added to the crosslinkable functional group, and the polymerization chain of the polymerizable monomer is directly formed between the polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together, thereby causing cross-linking between polymer molecules. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキ及び/又は湿し水に対する溶解性又は分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。
From the viewpoint of improving the on-press developability, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably oleophilic, and in order to improve solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of the hydrophilic binder polymer include hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, and ammonium. Preferred examples include those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60mol%以上、好ましくは80mol%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol Alcohols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, methacryl Homopolymers and polymers of amides, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyethers of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. It is done.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマーのいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。また、バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。   The binder polymer may be either a random polymer or a block polymer, but is preferably a random polymer. Moreover, a binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーは、市販品を購入するか、従来公知の方法により合成することにより、入手できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独で又は2種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。
The binder polymer can be obtained by purchasing a commercial product or synthesizing it by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーの含有量は、光重合層の全固形分に対して、0〜90質量%であり、0〜80質量%であるのが好ましく、0〜70質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。   Content of a binder polymer is 0-90 mass% with respect to the total solid of a photopolymerization layer, It is preferable that it is 0-80 mass%, and it is more preferable that it is 0-70 mass%. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

〔赤外線吸収剤〕
本発明の平版印刷版原版を、例えば760〜1200nmの赤外線を発するレーザー光源により画像形成する場合には、赤外線吸収剤を光重合層中に含有させることが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)が熱分解し、ラジカルを発生する。本発明において使用される赤外線吸収剤としては、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料が挙げられる。
[Infrared absorber]
When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the invention with a laser light source that emits infrared rays of 760 to 1200 nm, for example, it is preferable to contain an infrared absorber in the photopolymerization layer. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. Due to the heat generated at this time, a polymerization initiator (radical generator) described later is thermally decomposed to generate radicals. Examples of the infrared absorber used in the present invention include dyes or pigments having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等の公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, The methine dyes described in JP-A-58-181690 and JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and the like, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and the like; And cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号の各公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)及び(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and Pyrlium compounds described in JP-A-59-216146. And pentamethine thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds shown also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 0005238179
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これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 0005238179
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一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。 In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below.

Figure 0005238179
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2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
-は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se.
X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

一般式(i)におけるR1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 in the general formula (i) each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Z -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ -は必要ない。好ましいZ -は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by the general formula (i) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary, Z a is not necessary. Preferred Z a is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of cyanine dyes represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の光重合層塗布液中での良好な安定性と光重合層の良好な均一性が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the photopolymerization layer coating solution and good uniformity of the photopolymerization layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used for ink production, toner production or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、光重合層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、光重合層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
光重合層の吸光度は、光重合層に添加する赤外線吸収剤の量と光重合層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの光重合層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer, but photopolymerization is performed when a negative lithographic printing plate precursor is prepared. The layer is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the photopolymerization layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The light absorbency of a photopolymerization layer can be adjusted with the quantity of the infrared absorber added to a photopolymerization layer, and the thickness of a photopolymerization layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photopolymerization layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is determined as the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

〔重合開始剤〕
本発明の光重合層には重合開始剤を用いることができる。用いられる重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であり、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の重合開始剤、又は2種以上の重合開始剤の併用系(重合開始系)を適宜選択して使用することができる。
(Polymerization initiator)
A polymerization initiator can be used in the photopolymerization layer of the present invention. The polymerization initiator used is a compound that generates radicals by the energy of light, heat, or both, and initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. Various polymerization initiators known in the literature or the like, or a combination system (polymerization initiation system) of two or more polymerization initiators can be appropriately selected and used.

ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of radical generating compounds include organic halides, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfone compounds, and oxime esters. Compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt”Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」筆に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:S−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halide include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP 62 -212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, M.S. P. Hut "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No3), (1970) "The compound described in a brush is mentioned, Especially the oxazole compound substituted by the trihalomethyl group: S-triazine compound is mentioned.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−イソプロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。   More preferably, an s-triazine derivative having at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl)- s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, -(3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1 -(P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-isopropyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) ) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-pheni Thio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylpheny ) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p And benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。
As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include, for example, Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbi Midazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5 Examples include 5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の各公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、及び、Kunz,Martin”Rad Tech’98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compounds include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, and JP-A-9-188710. 2000-131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago. Organic borate salts or organic boron oxosulfonium complexes described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-175554, JP-A-6-17 Organoboron iodonium complexes described in JP-A No. 553, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A 6-348011, JP-A 7-128785, JP-A 7-140589, Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as JP-A-7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号、特開2003−328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。
上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.
Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、具体的には下記の構造式で示される化合物が挙げられる。
Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.
Examples of the oxime ester compounds include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCS
Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, compounds described in JP 2000-66385 A, compounds described in JP 2000-80068 A, specifically, Examples include compounds represented by the structural formula.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055 and 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, 2-150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297,442 U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,73 No. 4,444, No. 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581

J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物、あるいはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−IVで表されるオニウム塩である。
In particular, from the viewpoint of reactivity and stability, the above oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and ammonium salts are exemplified. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
The onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-IV).

Figure 0005238179
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式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像の視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and 1 carbon atom. -12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C12 An alkylamino group, a C1-C12 dialkylamino group, a C1-C12 alkylamide group or arylamide group, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a C1-C12 thioalkyl group, A C1-C12 thioaryl group is mentioned. Z 11- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, Perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of the visibility of the printout image.

式(RI−II)中、Ar21、Ar22は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents have 1 to 12 carbon atoms. An alkyl group, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom An alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, and 1 carbon atom -12 thioalkyl group and C1-C12 thioaryl group are mentioned. Z 21- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, From the surface, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable.

式(RI−III)中、R31、R32、R33は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましくは特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。 In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group which may have 1 to 6 substituents. In view of reactivity and stability, an aryl group is desirable. Preferred substituents are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, Perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferred from the standpoint of printout image visibility, and more preferred are those described in JP-A-2001-343742. Carboxylic acid ions, particularly preferably those described in JP-A No. 2002-148790.

式(RI−IV)中、 R41は置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基を表す。R42、R43、R44、R45、R46は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。R41とR43、R42とR43、R43とR44、R44とR45、R45とR46はそれぞれ互いに連結し環を形成していてもよい。Z31−は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像視認性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
以下に、本発明において重合開始剤として好適に用いられるオニウム塩の例を挙げるが、本発明はこれら制限されるものではない。
In the formula (RI-IV), R 41 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 each independently represents an aryl group or alkyl group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents, Is preferably an aryl group from the viewpoint of reactivity and stability. Preferred substituents are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. R 41 and R 43 , R 42 and R 43 , R 43 and R 44 , R 44 and R 45 , and R 45 and R 46 may be connected to each other to form a ring. Z 31- represents a monovalent anion, which is a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, Perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferred from the standpoint of printout image visibility.
Examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 0005238179
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これらの重合開始剤の中でも焼き出し画像視認性向上の観点からは、オニウム塩であって、対イオンとして無機アニオン、例えば、PF 、BF など、を有するものが好ましい。さらに、耐刷に優れていることから、オニウムとしては、ジアリールヨードニウム及びアンモニウムが好ましい。 Among these polymerization initiators, from the viewpoint of improving the printed image visibility, an onium salt having an inorganic anion such as PF 6 or BF 4 as a counter ion is preferable. Furthermore, diaryliodonium and ammonium are preferable as onium because of excellent printing durability.

これらの重合開始剤は、光重合層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These polymerization initiators are added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content constituting the photopolymerization layer. Can do. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

〔重合性モノマー〕
本発明の光重合層には、効率的な硬化反応を行うため重合性モノマーを含有させることが好ましい。本発明に用いることができる重合性モノマーは、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Polymerizable monomer)
The photopolymerizable layer of the present invention preferably contains a polymerizable monomer in order to perform an efficient curing reaction. The polymerizable monomer that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートとヒドロキシル基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(ii)で示されるヒドロキシル基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples of such compounds are described in, for example, Japanese Patent Publication No. 48-41708. It contains two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (ii) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule. A vinyl urethane compound etc. are mentioned.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH (ii)
(ただし、R及びRは、H又はCHを示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (ii)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号、各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and acrylic acid or methacrylic acid described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, specific unsaturated compounds described in each gazette, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性モノマーについて、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。また、光重合層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable monomers, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective. Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the photopolymerization layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

重合性モノマーは、光重合層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、重合性モノマーの使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
また、重合性モノマーとバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1となる量で用いるのが好ましく、1/1〜3/1がより好ましく、1.5/1〜2.5/1であることが最も好ましい。
The polymerizable monomer is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably 25 to 75% by mass with respect to the nonvolatile component in the photopolymerization layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable monomer can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.
The polymerizable monomer and the binder polymer are preferably used in an amount of 0.5 / 1 to 4/1 in terms of mass ratio, more preferably 1/1 to 3/1, and more preferably 1.5 / 1 to 2. Most preferably, it is 5/1.

〔マイクロカプセル・ミクロゲル〕
本発明においては、上記の光重合層構成成分及び後述のその他の成分を光重合層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型光重合層である。他の一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させて光重合層に含有させるマイクロカプセル型光重合層である。さらに、マイクロカプセル型光重合層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型光重合層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。さらに他の態様として、光重合層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中及び/又は表面に該構成成分の一部を含有することが出来る。特に重合性モノマーをその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
光重合層が印刷インキ及び/又は湿し水により除去可能、すなわち機上現像可能な光重合層であるためには、マイクロカプセル又はミクロゲルを含有することが好ましい。
[Microcapsule / Microgel]
In the present invention, several modes can be used as a method for causing the photopolymerization layer to contain the above-described photopolymerization layer constituent components and other components described later. One is a molecular dispersion type photopolymerization layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the photopolymerization layer. It is a microcapsule type photopolymerization layer. Further, in the microcapsule type photopolymerization layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule type photopolymerization layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. Still another embodiment includes an embodiment in which the photopolymerization layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel. The microgel may contain a part of the constituent component in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a polymerizable monomer on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability.
In order for the photopolymerization layer to be removable by printing ink and / or dampening water, that is, a photopolymerization layer that can be developed on-press, it is preferable to contain microcapsules or microgels.

光重合層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。
例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号明細書、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号明細書、特公昭38−19574号公報、同42−446号公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号明細書、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号明細書、同第4087376号明細書、同第4089802号明細書にみられる尿素−ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号公報、同51−9079号公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号明細書、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号明細書、同第967074号明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for microencapsulating or microgelling the photopolymerization layer constituent components, known methods can be applied.
For example, as a method for producing microcapsules, US Pat. No. 2,800,547, US Pat. No. 2,800,498, a method using coacervation, US Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574, The method by the interfacial polymerization method found in US Pat. No. 42-446, the method by the precipitation of polymer found in US Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, the isocyanate found in US Pat. No. 3,796,669 Method using polyol wall material, method using isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, urea found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802 -Formaldehyde or urea formaldehyde A method using a resorcinol-based wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc. found in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method by monomer polymerization, spraying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling seen in British Patent Nos. 952807 and 967074 There are laws, but it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond capable of introducing a binder polymer may be introduced into the microcapsule wall.

一方、ミクロゲルを調製する方法としては、特公昭38−19574号公報、同42−446号公報に記載されている界面重合による造粒、特開平5−61214号公報に記載されているような非水系分散重合による造粒を利用することが可能である。但し、これらの方法に限定されるものではない。
上記界面重合を利用する方法としては、上述した公知のマイクロカプセル製造方法を応用することができる。
On the other hand, as a method for preparing the microgel, granulation by interfacial polymerization described in JP-B-38-19574 and JP-A-42-446, non-patent document as described in JP-A-5-61214, and the like. Granulation by aqueous dispersion polymerization can be used. However, it is not limited to these methods.
As the method using the interfacial polymerization, the known microcapsule production method described above can be applied.

本発明に用いられる好ましいミクロゲルは、界面重合により造粒され3次元架橋を有するものである。このような観点から、使用する素材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。   Preferred microgels used in the present invention are those granulated by interfacial polymerization and having three-dimensional crosslinking. From such a viewpoint, the material to be used is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable.

上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

〔界面活性剤〕
本発明において、光重合層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、及び、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Surfactant]
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photopolymerization layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号及び同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

〔着色剤〕
本発明では、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
[Colorant]
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The addition amount is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

〔焼き出し剤〕
本発明の光重合層には、焼き出し画像生成のため、酸又はラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
[Bake-out agent]
In the photopolymerization layer of the present invention, a compound that is discolored by an acid or a radical can be added in order to generate a printout image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p’,p”−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethylphosphoric triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (Ciba Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸又はラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、光重合層固形分に対して0.01〜10質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or a radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content of the photopolymerization layer.

〔重合禁止剤〕
本発明の光重合層には、光重合層の製造中又は保存中において(C)ラジカル重合性モノマーの不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
A small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the photopolymerization layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the (C) radical polymerizable monomer during the production or storage of the photopolymerization layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

〔高級脂肪酸誘導体等〕
本発明の光重合層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
[Higher fatty acid derivatives, etc.]
In order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to the photopolymerization layer of the present invention, and the surface of the photopolymerization layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.

〔可塑剤〕
本発明の光重合層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
[Plasticizer]
The photopolymerizable layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the photopolymerization layer.

〔無機微粒子〕
本発明の光重合層は、画像部の硬化皮膜強度向上及び非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム又はこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、光重合層中に安定に分散して、光重合層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、光重合層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
[Inorganic fine particles]
The photopolymerizable layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area and to improve the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, or a mixture thereof is preferably exemplified. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the photopolymerization layer, sufficiently retains the film strength of the photopolymerization layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the photopolymerization layer.

〔低分子親水性化合物〕
本発明の光重合層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩等が上げられる。
[Low molecular hydrophilic compounds]
The photopolymerizable layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

〔光重合層の形成〕
本発明の光重合層は、上記感光性組成物の必要な成分を溶剤に分散、又は溶かして塗布液を調製し、支持体上に塗布、乾燥して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の光重合層は、同一又は異なる上記各成分を同一又は異なる溶剤に分散又は溶解した塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
(Formation of photopolymerization layer)
The photopolymerization layer of the present invention is formed by dispersing or dissolving the necessary components of the photosensitive composition in a solvent to prepare a coating solution, and coating and drying on a support. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photopolymerization layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の光重合層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/mが好ましい。この範囲で、良好な感度と光重合層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Moreover, although the application amount (solid content) of the photopolymerization layer on the support obtained after application | coating and drying changes with uses, generally 0.3-3.0 g / m < 2 > is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the photopolymerization layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<支持体>
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム及びアルミニウム板が挙げられる。なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
<Support>
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. A preferable support includes a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのがさらに好ましい。   The thickness of the support is preferably 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and still more preferably 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上及び光重合層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photopolymerization layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、さらに、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/mであるのが好ましく、1.5〜4.0g/mであるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

陽極酸化処理を施した後、必要に応じて、アルミニウム板の表面に親水化処理を施す。親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、又は電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   After the anodizing treatment, the surface of the aluminum plate is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、光重合層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photopolymerization layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

<バックコート層>
支持体に表面処理を施した後又は下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。なかでも、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OC等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
<Back coat layer>
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Of these, the use of silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 is inexpensive. It is preferable in that it is easily available.

<下塗り層>
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、光重合層と支持体との間に下塗り層を設けることができる。下塗り層は、未露光部において、光重合層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像型平版印刷版原版の場合、機上現像性が向上する利点がある。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。
下塗り層用化合物(下塗り化合物)としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
最も好ましい下塗り化合物としては、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーを共重合した高分子樹脂が挙げられる。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the photopolymerizable layer and the support, if necessary. In the case of an on-press development type lithographic printing plate precursor, there is an advantage that on-press developability is improved because the undercoat layer tends to cause peeling of the photopolymerizable layer from the support in the unexposed area. In addition, in the case of infrared laser exposure, since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, the heat generated by the exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that the sensitivity can be increased. There is.
Specific examples of the undercoat layer compound (undercoat compound) include silane coupling agents having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, Preferable examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in Kaihei 2-304441.
The most preferable undercoat compound includes a polymer resin obtained by copolymerizing a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.

下塗り用高分子樹脂の必須成分は、親水性支持体表面への吸着性基である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
An essential component of the undercoat polymer resin is an adsorptive group on the hydrophilic support surface. The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.
A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the adsorbed amount of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. The compound having support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even after the above-described washing treatment.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、ヒドロキシル基)と、化学結合(例えば、イオン結合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。吸着性基は、酸基又はカチオン性基が好ましい。
酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性ヒドロキシル基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−及びCOCHCOCHを含む。なかでもOPO及びPOが特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基及びスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基及びホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen). Bond, coordination bond, bond by intermolecular force). The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.
The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of the acid group include a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 - and COCH 2 COCH 3 is included. Of these, OPO 3 H 2 and PO 3 H 2 are particularly preferable. These acid groups may be metal salts.
The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. An ammonium group, a phosphonium group and a sulfonium group are preferred, an ammonium group and a phosphonium group are more preferred, and an ammonium group is most preferred.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(iii)又は(iv)で表される化合物が挙げられる。   Particularly preferred examples of the monomer having an adsorptive group include compounds represented by the following formula (iii) or (iv).

Figure 0005238179
Figure 0005238179

上式中、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子又はメチル基であることが最も好ましい。R及びRは、水素原子であることが特に好ましい。Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。
式(iii)において、Xは、酸素原子(−O−)又はイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。式(iii)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)又は2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基又は複素環基)又はカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
脂肪族基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基及び複素環基を含む。
芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環又は6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基又は複素環基)、脂肪族基、芳香族基及び複素環基を含む。
Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCHCH)−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(iv)において、Yは炭素原子又は窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではなく、Zが水素原子でもよい。Lは式(iii)の場合と同じ2価の連結基又は単結合を表す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom. Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support.
In the formula (iii), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom. In the formula (iii), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group), a divalent aromatic group (Ali alkarylene group, substituted ants alkarylene group) Or a divalent heterocyclic group, or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, R is an aliphatic group , An aromatic group or a heterocyclic group) or a combination with carbonyl (—CO—).
The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. Another heterocyclic ring, an aliphatic ring or an aromatic ring may be condensed with the heterocyclic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.
L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).
In the formula (iv), Y is a carbon atom or a nitrogen atom. When Y is a nitrogen atom and L is connected to Y to form a quaternary pyridinium group, Z itself is adsorbable, so Z is not essential, and Z may be a hydrogen atom. L represents the same divalent linking group or single bond as in formula (iii).

吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(iii)又は(iv)で表される代表的な化合物の例を示す。
The adsorptive functional group is as described above.
Examples of typical compounds represented by formula (iii) or (iv) are shown below.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

本発明に用いることができる下塗り用高分子樹脂の親水性基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ酸基、リン酸基等が好適に挙げられる。なかでも高親水性を示すスルホ基を有するモノマーが好ましい。スルホ基を有するモノマーの具体例としては、メタリルオキシベンゼンスルホン酸, アリルオキシベンゼンスルホン酸 , アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、メタリルスルホン酸、アクリルアミドt-ブチルスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸のナトリウム塩、アミン塩が挙げられる。なかでも親水性能及び合成の取り扱いから2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。   Examples of the hydrophilic group of the undercoat polymer resin that can be used in the present invention include a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, a polyoxyethyl group, a hydroxypropyl group, a polyoxypropyl group, and an amino group. Preferred examples include a group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, and phosphoric acid group. Among these, a monomer having a sulfo group exhibiting high hydrophilicity is preferable. Specific examples of the monomer having a sulfo group include methallyloxybenzenesulfonic acid, allyloxybenzenesulfonic acid, allylsulfonic acid, vinylsulfonic acid, p-styrenesulfonic acid, methallylsulfonic acid, acrylamide t-butylsulfonic acid, Examples include 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, (3-acryloyloxypropyl) butylsulfonic acid sodium salt, and amine salt. Of these, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt is preferred in view of hydrophilic performance and handling of synthesis.

本発明の下塗り層用の高分子樹脂は、架橋性基を有すことが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。下塗り層用の高分子樹脂に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The polymer resin for the undercoat layer of the present invention preferably has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to make the polymer resin for the undercoat layer crosslinkable, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer, or the polar substituent of the polymer resin is countercharged. Or a compound having an ethylenically unsaturated bond may be introduced by forming a salt structure.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又はCONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, where the ester or amide residue (R of -COOR or CONHR) is ethylene. Examples thereof include polymers having a polymerizable unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH)CR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CH)NH−CO−O−CHCR=CR、−(CH)−O−CO−CR=CR、及び(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、RとR又はRとは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCHNHCOO−CHCH=CH、及びCHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CHCH=CH、−CHCHO−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCHOCO−CH=CHが挙げられる。
下塗り層用高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドが好適である。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO -CR 1 = CR 2 R 3, and (CH 2 CH 2 O) in 2 -X (wherein, R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 (described in JP-B-7-21633), —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C. (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2, and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—CH═CH 2. Is mentioned.
As the monomer having a crosslinkable group of the polymer resin for the undercoat layer, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the crosslinkable group is preferable.

下塗り層用高分子樹脂中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、及び良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the polymer resin for the undercoat layer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per 1 g of the polymer resin. Preferably it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

下塗り層用の高分子樹脂は、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
下塗り層用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The polymer resin for the undercoat layer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1000 or more, preferably 2000 to 25 More preferably, it is 10,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The polymer resin for the undercoat layer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

下塗り用高分子樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。下塗り層用塗布液は、上記下塗り用の高分子樹脂を有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトンなど)及び/又は水に溶解して得られる。下塗り層用塗布液には、赤外線吸収剤を含有させることもできる。
下塗り層塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
The undercoat polymer resin may be used alone or in combination of two or more. The undercoat layer coating solution is obtained by dissolving the above-described undercoat polymer in an organic solvent (for example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, etc.) and / or water. The undercoat layer coating solution may contain an infrared absorber.
Various known methods can be used as a method of applying the undercoat layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版には、酸素遮断性付与、光重合層での傷等の発生防止、高照度レーザー露光時に生じるアブレーション防止等のために、必要に応じて光重合層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることができる。
通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる光重合層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が光重合層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、光重合層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。
<Protective layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is protected on the photopolymerization layer as necessary to impart oxygen barrier properties, prevent scratches in the photopolymerization layer, prevent ablation that occurs during high-illuminance laser exposure, and the like. A layer (overcoat layer) can be provided.
Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image formation reaction in the photopolymerization layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the photopolymerization layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the property desired for the protective layer is to reduce the permeability of low molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the photopolymerization layer is excellent. And it can be easily removed in an on-press development process after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

保護層に用いられる材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用することもできる。   As a material used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified product of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch Examples thereof include water-soluble polymers such as derivatives and gum arabic, and polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required.

上記材料中で比較的有用な素材としては、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、かつ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾールが好ましい。その中でも、ポリビニルアルコール(PVA)は、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。   A relatively useful material among the above materials includes water-soluble polymer compounds having excellent crystallinity. Specifically, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are suitable. Among these, water can be applied as a solvent, and at the time of printing Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl imidazole are preferable from the viewpoint that they are easily removed by the fountain solution. Among them, polyvinyl alcohol (PVA) gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、さらにはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等も好ましく用いられる。   The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains a substantial amount of an unsubstituted vinyl alcohol unit having the required water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, etc. at the polymer chain end is also preferably used.

これら変性ポリビニルアルコールは71〜100mol%加水分解された重合度300〜2400の範囲の化合物が好適に挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105,PVA−110, PVA−117, PVA−117H,PVA−120,PVA−124, PVA−124H, PVA−CS, PVA−CST, PVA−HC, PVA−203, PVA−204, PVA−205, PVA−210, PVA−217, PVA−220, PVA−224, PVA−217EE, PVA−217E, PVA−220E, PVA−224E, PVA−405, PVA−420, PVA−613, L−8等が挙げられる。また変性ポリビニルアルコールとしては、アニオン変性部位を有すKL−318、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、カチオン変性部位を有すC−318、C−118、CM−318、末端チオール変性部位を有すM−205、M−115、末端スルフィド変性部位を有すMP−103、MP−203、MP−102、MP−202、高級脂肪酸とのエステル変性部位を末端に有すHL−12E、HL−1203、その他反応性シラン変性部位を有すR−1130、R−2105、R−2130等が挙げられる。   Suitable examples of these modified polyvinyl alcohols include compounds having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like. Examples of the modified polyvinyl alcohol include KL-318, KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102 having an anion-modified site, C-318, C-118, and CM-318 having a cation-modified site. M-205 and M-115 having terminal thiol modification sites, MP-103, MP-203, MP-102 and MP-202 having terminal sulfide modification sites, and ester modification sites with higher fatty acids HL-12E, HL-1203, and other reactive silane-modified R-1130, R-2105, R-2130, and the like.

また保護層には層状化合物を含有することが好ましい。層状化合物とは薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2−5D10(OH,F,O)
〔ただし、AはLi,K,Na,Ca,Mg,有機カチオンの何れか、B及びCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSi又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
上記天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg/5Li/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。また合成スメクタイトも有用である。
The protective layer preferably contains a layered compound. The layered compound is a particle having a thin plate-like shape. For example, the following general formula A (B, C) 2-5D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of Li, K, Na, Ca, Mg, organic cation, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
Examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. Further, as the synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / 5Li 1/8 (Si 4 O 10) swelling mica F 2. Synthetic smectite is also useful.

上記の層状化合物の中でも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Åの厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Among the above layered compounds, fluorine-based swellable mica which is a synthetic layered compound is particularly useful. That is, swellable clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite and bentonite have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of 10 to 15 mm, and the substitution of metal atoms in the lattice has other viscosity. It is significantly larger than minerals. As a result, the lattice layer has a shortage of positive charges, and in order to compensate for this, organic cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts are provided between the layers. Adsorbs cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swelling synthetic mica have this tendency.

層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
層状化合物の粒子径は、その平均径が1〜20μm、好ましくは1〜10μm、特に好ましくは2〜5μmである。粒子径が1μmよりも小さいと酸素や水分の透過の抑制が不十分であり、効果を十分に発揮できない。また20μmよりも大きいと塗布液中での分散安定性が不十分であり、安定的な塗布を行うことができない問題が生じる。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μmである。
As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the planar size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
The average particle diameter of the layered compound is 1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm, particularly preferably 2 to 5 μm. When the particle diameter is smaller than 1 μm, the suppression of permeation of oxygen and moisture is insufficient and the effect cannot be exhibited sufficiently. On the other hand, if it is larger than 20 μm, the dispersion stability in the coating solution is insufficient, resulting in a problem that stable coating cannot be performed. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is 1 to 50 nm in thickness and 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。
保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。
When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.
It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

保護層に上記無機質の層状化合物を用いる場合は、着肉性向上のため、光重合層及び/又は保護層にホスホニウム化合物を添加することが好ましい。該ホスホニウム化合物としては、下記一般式(v)又は(vi)で表されるホスホニウム化合物が好ましい。なかでも、一般式(v)で表されるホスホニウム化合物が好ましい。   When the inorganic layered compound is used for the protective layer, it is preferable to add a phosphonium compound to the photopolymerization layer and / or the protective layer in order to improve the inking property. The phosphonium compound is preferably a phosphonium compound represented by the following general formula (v) or (vi). Especially, the phosphonium compound represented by general formula (v) is preferable.

Figure 0005238179
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式(v)中、Ar1〜Ar6は、各々独立してアリール基又は複素環基を表し、Lは2価の連結基を表し、Xはn価のカウンターアニオンを表し、nは1〜3の整数を表し、mはn x m=2を満たす数を表す。ここでアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジメチルアミノフェニル基などが好適なものとして挙げられる。複素環基としては、ピリジル基、キノリル基、ピリミジニル基、チエニル基、フリル基などが挙げられる。 In formula (v), Ar 1 to Ar 6 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group, L represents a divalent linking group, X represents an n-valent counter anion, and n represents 1 to 1 3 represents an integer, and m represents a number satisfying nxm = 2. Here, as the aryl group, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dimethylaminophenyl A group and the like are preferable. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a quinolyl group, a pyrimidinyl group, a thienyl group, and a furyl group.

Lは2価の連結基を表す。連結基中の炭素数は6〜15が好ましく、より好ましくは、炭素数6〜12の連結基である。   L represents a divalent linking group. 6-15 are preferable and, as for carbon number in a coupling group, More preferably, it is a C6-C12 coupling group.

-はカウンターアニオンを表し、好ましいものとしては、Cl、Br、Iなどのハロゲンアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、硫酸エステルアニオン、PF 、BF 、過塩素酸アニオンなどが挙げられる。なかでも、Cl、Br、Iなどのハロゲンアニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。 X represents a counter anion, and preferred examples include halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, carboxylate anions, sulfate anions, PF 6 , BF 4 , perchlorate anions. Etc. Of these, halogen anions such as Cl , Br and I , sulfonate anions, and carboxylate anions are particularly preferable.

本発明に用いられる上記一般式(v)で表されるホスホニウム塩の具体例を以下に示す。   Specific examples of the phosphonium salt represented by the general formula (v) used in the present invention are shown below.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

Figure 0005238179
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上記一般式(vi)において、R1〜R4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、複素環基又は水素原子を表す。R1〜R4の少なくとも2つが結合して環を形成してもよい。Xはカウンターアニオンを示す。
ここで、R1〜R4がアルキル基、アルコキシ基又はアルキルチオ基であるときの炭素数は通常1〜20、アルケニル基又はアルキニル基であるときの炭素数は通常2〜15、シクロアルキル基であるときの炭素数は通常3〜8であり、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が、アリールオキシ基としてはフェノキシ基、ナフチルオキシ基等が、アリールチオ基としてはフェニルチオ基等が、複素環基としてはフリル基、チエニル基等が、それぞれ挙げられる。また、これらの有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、スルフィノ基、スルホ基、ホスフィノ基、ホスホリル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子等が挙げられる。なお、これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。
- の表すアニオンとしては、Cl、Br、Iなどのハロゲン化物イオン、ClO4 -、PF6 -、SO −2などの無機酸アニオン、有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオンが挙げられる。有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオンの有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリル等が挙げられる。これらの中で、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、PF6 - 等が好ましい。本発明において好適なホスホニウム化合物の具体例を以下に示す。
In the general formula (vi), R 1 to R 4 are each independently an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group which may have a substituent. Represents an alkylthio group, a heterocyclic group or a hydrogen atom. At least two of R 1 to R 4 may be bonded to form a ring. X represents a counter anion.
Here, when R 1 to R 4 are an alkyl group, an alkoxy group or an alkylthio group, the carbon number is usually 1 to 20, and when R 1 to R 4 is an alkenyl group or an alkynyl group, the carbon number is usually 2 to 15 and a cycloalkyl group. In some cases, the number of carbon atoms is usually 3 to 8, the aryl group is a phenyl group, a naphthyl group, etc., the aryloxy group is a phenoxy group, a naphthyloxy group, etc., the arylthio group is a phenylthio group, etc. Examples of the group include a furyl group and a thienyl group. Examples of the substituent that may be present include, for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, Examples include arylthio group, sulfino group, sulfo group, phosphino group, phosphoryl group, amino group, nitro group, cyano group, hydroxyl group, and halogen atom. These substituents may further have a substituent.
Examples of the anion represented by X include halide ions such as Cl , Br and I , inorganic acid anions such as ClO 4 , PF 6 and SO 4 −2 , organic carboxylate anions and organic sulfonate anions. Can be mentioned. Examples of the organic group of the organic carboxylate anion and organic sulfonate anion include methyl, ethyl, propyl, butyl, phenyl, methoxyphenyl, naphthyl, fluorophenyl, difluorophenyl, pentafluorophenyl, thienyl, pyrrolyl and the like. Among these, Cl , Br , I , ClO 4 , PF 6 − and the like are preferable. Specific examples of phosphonium compounds suitable for the present invention are shown below.

Figure 0005238179
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光重合層又は保護層へのホスホニウム塩の添加量としては、各層の固形分中0.01〜20質量%が好ましく、0.05〜10質量%がさらに好ましく、0.1〜5質量%がもっとも好ましい。これらの範囲内で良好なインキ着肉性が得られる。   As addition amount of the phosphonium salt to a photopolymerization layer or a protective layer, 0.01-20 mass% is preferable in solid content of each layer, 0.05-10 mass% is more preferable, 0.1-5 mass% is 0.1-5 mass% Most preferred. Within these ranges, good ink fillability can be obtained.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を添加することができる。これら活性剤の添加量は(共)重合体に対して0.1〜100質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers can be added. These activators can be added in an amount of 0.1 to 100% by mass relative to the (co) polymer.

また、画像部との密着性を良化させるため、例えば、特開昭49−70702号公報及び英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、光重合層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   In order to improve the adhesion to the image area, for example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic polymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a water-based emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, and the like, and laminating on a photopolymerization layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.

さらに、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

次に、保護層に用いる層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method of the layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable laminar compound mentioned above as a preferred laminar compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

この保護層塗布液には、塗布性を向上させためのアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤や皮膜の物性改良のため水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、光重合層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。   This protective layer coating solution includes known anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, fluorosurfactants and water-soluble plasticizers for improving the physical properties of the coating. Additives can be added. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, you may add to this coating liquid the well-known additive for improving the adhesiveness with a photopolymerization layer and the temporal stability of a coating liquid.

このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた光重合層の上に塗布し、乾燥することで保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書又は特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/mの範囲であることが好ましく、0.02〜3g/mの範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/mの範囲である。
The protective layer coating solution thus prepared is applied on the photopolymerization layer provided on the support and dried to form the protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.
The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. in the range of 02~1g / m 2.

[平版印刷方法]
本発明の平版印刷版原版を露光する光源としては、公知のものを用いることができる。具体的には各種レーザーを光源として用いることが好適である。本発明の平版印刷方法においては、平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光する。用いられる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適なものとして挙げられる。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。赤外線レーザーの出力は、100mW以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。1画素あたりの露光時間は、20μs以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。
[Lithographic printing method]
As the light source for exposing the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known light source can be used. Specifically, various lasers are preferably used as the light source. In the planographic printing method of the present invention, the planographic printing plate precursor is imagewise exposed with an infrared laser. The infrared laser used is not particularly limited, and a solid laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm are preferable.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure time per pixel is preferably within 20 μs. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.

本発明の平版印刷方法においては、本発明の平版印刷版原版を上述のように赤外線レーザーで画像様に露光した後、何らの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する。
具体的には、平版印刷版原版を赤外線レーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上において赤外線レーザーで露光し、印刷する方法等が挙げられる。
In the lithographic printing method of the present invention, after exposing the lithographic printing plate precursor of the present invention imagewise with an infrared laser as described above, oil-based ink and aqueous component are supplied without any development processing steps. Print.
Specifically, after exposing the lithographic printing plate precursor with an infrared laser, it is mounted on a printing machine without passing through a development process, and after printing the lithographic printing plate precursor on the printing machine, Examples of the method include printing with exposure using an infrared laser.

平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、機上現像型の平版印刷版原版の場合は、光重合層の露光部においては、露光により硬化した光重合層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分及び/又は油性インキによって、未硬化の光重合層が溶解し又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の光重合層に着肉し、印刷が開始される。
ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、本発明の機上現像型の平版印刷版原版では、水性成分が未露光部の光重合層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分及び油性インキとしては、通常の平版印刷用の、湿し水と印刷インキが用いられる。
After the lithographic printing plate precursor is imagewise exposed with an infrared laser, the aqueous component and the oil-based ink are supplied and printed without going through a development processing step such as a wet development processing step. In this case, in the exposed portion of the photopolymerization layer, the photopolymerization layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured photopolymerization layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in the area. As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the photopolymerized layer in the exposed area, and printing is started.
Here, an aqueous component or oil-based ink may be first supplied to the plate surface. However, in the on-press development type lithographic printing plate precursor according to the present invention, the aqueous component is contaminated by the photopolymerized layer in the unexposed area. In order to prevent this, it is preferable to supply oil-based ink first. As the aqueous component and oil-based ink, dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.

本発明の平版印刷版原版を用いることにより、UVインキを用いる場合においても上記平版印刷方法と同様にして、機上現像及び引き続いての印刷を行うことでき、良好な耐刷性が得られる。UVインキは、通常市販のインキを用いることができる。   By using the lithographic printing plate precursor according to the present invention, even when UV ink is used, on-press development and subsequent printing can be performed in the same manner as in the lithographic printing method, and good printing durability can be obtained. As the UV ink, a commercially available ink can be usually used.

このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。   In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

以下、実施例及び比較例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例9は参考例と読み替える。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail, this invention is not limited to these. Note that Example 9 is read as a reference example.

〔実施例1〜8および比較例1〕
1.平版印刷版原版の作製
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温は50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
[Examples 1 to 8 and Comparative Example 1]
1. Preparation of lithographic printing plate precursor (1) Preparation of support In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution is used at 50 ° C for 30 seconds. After degreasing, the aluminum surface is grained using three bundled nylon brushes with a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension with a median diameter of 25 μm (specific gravity: 1.1 g / cm 3 ). Washed well with. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass aluminum ions), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

さらに、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。さらに、下記下塗り液(1)を乾燥塗布量が6mg/mになるよう塗布して支持体とした。 Further, in a 0.5% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C., nitric acid electrolysis is performed under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode An electrochemical surface roughening treatment was performed in the same manner, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water and dried. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm. Furthermore, the following undercoat liquid (1) was applied so that the dry coating amount was 6 mg / m 2 to obtain a support.

−下塗り液(1)−
・下塗り化合物(1)(質量平均分子量:60,000) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
-Undercoat liquid (1)-
Undercoat compound (1) (mass average molecular weight: 60,000) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 0005238179
Figure 0005238179

(2)光重合層及び保護層の形成
上記下塗り層形成済みの支持体上に、下記組成の光重合層塗布液をバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの光重合層を形成した。
引き続き、下記組成の保護層塗布液を前記光重合層上にバー塗布し、120℃、60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成することで平版印刷版原版(1)〜(6)及び比較用平版印刷版原版(R1)を得た。
光重合層塗布液は、表1記載の感光液と下記ミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し、攪拌することにより得た。
なお、比較例1に使用した感光液(R1)においては、本発明の特定高分子化合物に代えて、下記構造の比較特定高分子(R−1)を用いた。
(2) Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer A photopolymerization layer coating solution having the following composition was bar-coated on the support on which the undercoat layer had been formed, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds. A photopolymerization layer of 0 g / m 2 was formed.
Subsequently, a protective layer coating solution having the following composition is bar-coated on the photopolymerization layer, and oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. (1) to (6) and a comparative lithographic printing plate precursor (R1) were obtained.
The photopolymerization layer coating solution was obtained by mixing and stirring the photosensitive solution shown in Table 1 and the microgel solution (1) below immediately before coating.
In the photosensitive solution (R1) used in Comparative Example 1, instead of the specific polymer compound of the present invention, a comparative specific polymer (R-1) having the following structure was used.

−感光液(1)〜(9)及び(R1)−
バインダーポリマー(表1記載の本発明の例示化合物) 0.177g
赤外線吸収剤(1) 0.031g
重合性モノマー(アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 0.319g
重合開始剤 0.213g
ホスホニウム化合物(1) 0.035g
フッ素系界面活性剤(1) 0.004g
アニオン系界面活性剤 0.125g
(パイオニンA−24−EA(竹本油脂(株)製、40質量%水溶液)
メチルエチルケトン 2.554g
1−メトキシ−2−プロパノール 7.023g
−ミクロゲル液(1)−
ミクロゲル液分散液(1) 1.800g
水 1.678g
-Photosensitive solutions (1) to (9) and (R1)-
Binder polymer (Exemplary compounds of the present invention described in Table 1) 0.177 g
Infrared absorber (1) 0.031g
Polymerizable monomer (Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)) 0.319 g
Polymerization initiator 0.213g
Phosphonium compound (1) 0.035 g
Fluorosurfactant (1) 0.004g
Anionic surfactant 0.125g
(Pionine A-24-EA (Takemoto Yushi Co., Ltd., 40% by mass aqueous solution)
Methyl ethyl ketone 2.554g
1-methoxy-2-propanol 7.023 g
-Microgel solution (1)-
Microgel liquid dispersion (1) 1.800 g
1.678 g of water

−ミクロゲル分散液(1)の合成−
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10.0g、重合性モノマーとしてアロニックスM−215(東亜合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、21質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、ミクロゲル分散液(1)を得た。平均粒径は0.23μmであった。
-Synthesis of microgel dispersion (1)-
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75% by mass ethyl acetate solution) 10.0 g, as a polymerizable monomer Aronix M-215 (Toa Synthesis Co., Ltd.) 6.00 g and Piionin A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.12 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microcapsule liquid thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 21% by mass to obtain a microgel dispersion (1). The average particle size was 0.23 μm.

前記感光液に使用する各化合物の構造を以下に示す。   The structure of each compound used in the photosensitive solution is shown below.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

Figure 0005238179
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保護層塗布液
・下記無機層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール 0.06g
(PVA105、(株)クラレ製、けん化度98.5mol%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 0.01g
(ポリビニルピロリドンK30、東京化成工業(株)製、分子量Mw=4万)
・ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体 0.01g
(LUVITEC VA64W、ISP社製、共重合比=6/4)
1.5 g of protective layer coating solution / inorganic layered compound dispersion (1) below
・ Polyvinyl alcohol 0.06g
(PVA105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)
・ Polyvinylpyrrolidone 0.01g
(Polyvinylpyrrolidone K30, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight Mw = 40,000)
・ Vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer 0.01g
(LUVITEC VA64W, manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4)

−無機層状化合物分散液(1)の調製−
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた層状化合物分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
-Preparation of inorganic layered compound dispersion (1)-
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained layered compound dispersed particles was 100 or more.

2.平版印刷版原版の露光、印刷及び評価
上記実施例及び比較例で得られた各平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像には細線チャートを含むようにした。
2. Exposure, printing and evaluation of lithographic printing plate precursor Each lithographic printing plate precursor obtained in the above Examples and Comparative Examples was output by a Creo Trendsetter 3244VX equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, The exposure was performed under the condition of a resolution of 2400 dpi. The exposure image includes a thin line chart.

一般に、ネガ型平版印刷版原版の場合、露光量が少ないと感光層(本発明では光重合層)の硬化度が低くなり、露光量が多いと硬化度が高くなる。光重合層の硬化度が低すぎる場合には、平版印刷版の耐刷性が低くなり、また、小点や細線の再現性が不良となる。一方、光重合層の硬化度が高い場合には、耐刷性が高くなり、また、小点や細線の再現性が良好となる。
本実施例では、以下に示すように、上記で得られたネガ型平版印刷版原版を、上述した同一の露光量条件で耐刷性及び細線再現性を評価することにより、平版印刷版原版の感度の指標とした。すなわち、耐刷性における印刷枚数が高いほど、また、細線再現性における細線幅が細いほど、平版印刷版原版の感度が高いと言える。
In general, in the case of a negative type lithographic printing plate precursor, when the exposure amount is small, the degree of cure of the photosensitive layer (photopolymerization layer in the present invention) becomes low, and when the amount of exposure is large, the degree of cure increases. If the photopolymerization layer has a too low degree of curing, the printing durability of the lithographic printing plate will be low, and the reproducibility of small dots and fine lines will be poor. On the other hand, when the degree of curing of the photopolymerization layer is high, the printing durability is increased, and the reproducibility of small dots and fine lines is improved.
In this example, as shown below, the negative lithographic printing plate precursor obtained as described above was evaluated for printing durability and fine line reproducibility under the same exposure amount conditions described above. It was used as an index of sensitivity. That is, it can be said that the sensitivity of the lithographic printing plate precursor is higher as the number of printed sheets in printing durability is higher and the fine line width in fine line reproducibility is thinner.

(1)機上現像性
得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。この時、光重合層の未露光部(非画像部)に、インキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数(機上現像性)を評価した。枚数が少ないほど、機上現像性に優れると評価する。評価結果を表1に示す。
(1) On-press developability Without exposing the obtained exposed original plate to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, dampening water (EU-3 (Effect manufactured by Fuji Film Co., Ltd.)) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and after supplying dampening water and ink, Printing was performed at a printing speed of 6,000 sheets per hour. At this time, the number of print sheets (on-press developability) required until the ink was not transferred to the unexposed portion (non-image portion) of the photopolymerization layer was evaluated. The smaller the number, the better the on-press developability. The evaluation results are shown in Table 1.

(2)細線再現性
上述したように、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100及び200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。評価結果を表1に示す。
(2) Fine line reproducibility As described above, after 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. A thin line chart (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100, and 200 μm fine line exposed charts) of a total of 600 printed sheets with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated by observing and fine line width reproduced with ink without interruption. The evaluation results are shown in Table 1.

(3)通常インキ耐刷性
上述したように、細線再現性の評価において印刷を行った後、さらに印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に光重合層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。評価結果を表1に示す。
(3) Normal ink printing durability As described above, after printing was performed in the evaluation of fine line reproducibility, printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the photopolymerization layer was gradually worn out and the ink receptivity was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The evaluation results are shown in Table 1.

(4)UVインキ耐刷性
得られた露光済み原版を現像処理することなく、三菱重工業社製ダイヤIF−2印刷機のシリンダーに取り付けた。IF102湿し水2容量%水溶液(富士フイルム製)と、ベストキュアーUV−BF−WRO標準墨インキ(T&K TOKA社製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時10000枚の印刷速度で印刷を行った。
耐刷性の評価は、得られた印刷物の画像濃度が刷り始めより5%低下した枚数を刷了と判断した。評価結果を表1に示す。
(4) UV ink printing durability The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a Dia IF-2 printer manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. without developing. After supplying fountain solution and ink using IF102 2% aqueous solution of fountain solution (Fuji Film) and Best Cure UV-BF-WRO standard black ink (T & K TOKA), printing 10,000 sheets per hour Printing was performed at speed.
In the evaluation of printing durability, the number of sheets in which the image density of the obtained printed matter was reduced by 5% from the start of printing was judged to be finished. The evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0005238179
Figure 0005238179

表1の結果より、スルホンアミド基及び親水性基を分子内に有する高分子化合物を光重合層に含有する本発明のネガ型平版印刷版原版は、通常インキ耐刷性及び機上現像性のみならずUVインキ耐刷性も優れていることが確認された。   From the results in Table 1, the negative lithographic printing plate precursor of the present invention containing a polymer compound having a sulfonamide group and a hydrophilic group in the molecule in the photopolymerization layer is usually only ink printing durability and on-press developability. It was also confirmed that the UV ink printing durability was excellent.

Claims (7)

支持体上に、スルホンアミド基及び下記一般式(II)で示されるアルキレンオキサイド構造を分子内に有する高分子化合物、重合開始剤並びに重合性モノマーを含有する光重合層を有し、該光重合層がUVインキ及び/又は湿し水により除去可能であることを特徴とするネガ型平版印刷版原版。
Figure 0005238179

式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、aは1、3又は5であり、lは1〜9の整数を表す。
On a support, it possesses high molecular compound having an alkylene oxide structure represented by the sulfonamide group and the following general formula (II) in the molecule, a photopolymerizable layer containing a polymerization initiator and polymerizable monomer, the photopolymerization A negative lithographic printing plate precursor, wherein the layer is removable with UV ink and / or fountain solution .
Figure 0005238179

In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, a is 1, 3 or 5, and 1 represents an integer of 1 to 9.
前記スルホンアミド基が、下記一般式(Ia)〜(Ie)のいずれかで示されるモノマーから誘導される単位中のスルホンアミド基であることを特徴とする請求項1記載のネガ型平版印刷版原版。
Figure 0005238179

〔式中、X1はO又はNRを示す。R1は水素原子又はメチル基を示す。R2、R及びR10はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基又はアラルキレン基を示す。R、R、R、R11、R12、及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。R及びR14はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。Rは水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を示す。Rは単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリレン基もしくはアラルキレン基を示す。Rは水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。Y1は単結合又はカルボニル基を示す。〕
The sulfonamide group, negative lithographic according to claim 1, wherein the sulfonamide group in the unit derived from the indicated makes the chromophore at the distal end Nomar by any of the following general formula (Ia) ~ (Ie) A printing plate master.
Figure 0005238179

[Wherein, X 1 represents O or NR. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. The R 2, R 8 and R 10 each independently represent 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R 3 , R 4 , R 5 , R 11 , R 12 , and R 13 are each independently a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, An aryl group or an aralkyl group is shown. R 6 and R 14 each independently represents an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group. R 9 represents a single bond or a substituent a good 1 to 12 carbon atoms which may have an alkylene group, a cycloalkylene group, an ant alkarylene group or an aralkylene group. R represents a hydrogen atom or an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Y 1 represents a single bond or a carbonyl group. ]
前記一般式(II)で示されるアルキレンオキサイド構造が、ポリオキシエチレンモノメタクリレート、ポリオキシエチレンモノアクリレート、ポリオキシプロピレンモノメタクリレート若しくはポリオキシプロピレンモノアクリレートから誘導される単位中のアルキレンオキサイド構造であることを特徴とする請求項1又は2に記載のネガ型平版印刷版原版。  The alkylene oxide structure represented by the general formula (II) is an alkylene oxide structure in a unit derived from polyoxyethylene monomethacrylate, polyoxyethylene monoacrylate, polyoxypropylene monomethacrylate, or polyoxypropylene monoacrylate. The negative lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein: 該光重合層が、さらに赤外線吸収剤を含有することを特徴する請求項1〜3のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。  The negative lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerization layer further contains an infrared absorber. 該光重合層が、マイクロカプセル又はミクロゲル含有することを特徴する請求項1〜4のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。   The negative lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 4, wherein the photopolymerization layer contains microcapsules or microgels. 該光重合層中に含有するスルホンアミド基及びアルキレンオキサイド構造を分子内に有する高分子化合物と重合性モノマーの質量比が、1/1〜1/3であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版。 The mass ratio of the polymer compound having a sulfonamide group and an alkylene oxide structure contained in the photopolymerization layer and a polymerizable monomer in the molecule is 1/1 to 1/3. The negative lithographic printing plate precursor as described in any one of 5 above. 請求項1〜6のいずれか一項に記載のネガ型平版印刷版原版を、印刷機に装着し、レーザーで画像様に露光した後、又は、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該ネガ型平版印刷版原版にUVインキと水性成分とを供給して、光重合層の未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。 After the negative lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6 is mounted on a printing machine and imagewise exposed with a laser, or after imagewise exposure with a laser, the printing machine A lithographic printing method comprising mounting, supplying UV ink and an aqueous component to the negative lithographic printing plate precursor, removing an unexposed portion of the photopolymerization layer, and printing.
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