JP5443565B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
静電チャック13の上面に形成される中央の第1の熱伝達用ガス拡散領域47の容積βと周縁部の第2の熱伝達用ガス拡散領域48の容積αについて試算した。図7に示すように、静電チャック13の半径Aを150mm、第2の熱伝達用ガス拡散領域48(環状)の外半径Bを148mm、内半径Cを145mm、第1の熱伝達用ガス拡散領域47(円形状)の半径Dを140mm、支持部50(円柱形状)の半径Eを0.5mm、第1の熱伝達用ガス拡散領域47と第2の熱伝達用ガス拡散領域48の深さFを50μm(0.05mm)、支持部50の個数Gを250個とした。
α=π×B2×F−π×C2×F=138.003
β=π×D2×F−π×E2×F×G=3067.3875
α/β=0.045
となった。
各種接着剤の耐ラジカル性確認のためのランニング評価結果を図8に示す。シリコン系の接着剤に比べて、アクリル系の接着剤では寿命が飛躍的に向上した。また、接着剤の厚さについて高温槽ランニング評価を行ったところ、ウェハの直径が200mmの場合は、接着剤の厚さを60μm以上、ウェハの直径が300mmの場合は、接着剤の厚さを90〜150μmとすることが好ましいことが分かった。ウェハの直径が200mmの場合は、接着剤の厚さを60μmにした場合が最も平面度変化量が少なく、ウェハの直径が300mmの場合は、接着剤の厚さを120μmにした場合が最も平面度変化量が少なくなった。また、接着剤の直径は、ウェハの直径が200mmの場合は195.6mm、ウェハの直径が300mmの場合は、295.2mmが最適であった。
1 プラズマ処理装置
10 処理室
11 載置台
12 載置台本体
13 静電チャック
18 排気装置
21 高周波電源
24 シャワーヘッド
30 処理ガス供給部
35 冷媒室
36 チラーユニット
40 電極板
47 第1の熱伝達用ガス拡散領域
48 第2の熱伝達用ガス拡散領域
50 支持部
51 第1の熱伝達用ガス供給部
52 第2の熱伝達用ガス供給部
55 接着剤
56 絶縁材料
70 制御部
Claims (6)
- 処理室内において載置台に基板を載置させ、前記処理室内に供給された処理ガスをプラズマ化させて、基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
前記載置台は、所定の温度に温度調節される載置台本体と、前記載置台本体の上部に配置された、基板を吸着するための静電チャックを備え、
前記静電チャックは、前記載置台本体の上部に、厚さ90〜150μmのアクリル系の接着剤で接着され、
前記静電チャックの上面に、中央に配置される第1の熱伝達用ガス拡散領域と、周縁部に配置される第2の熱伝達用ガス拡散領域とが形成され、
前記第1の熱伝達用ガス拡散領域に熱伝達用ガスを供給する第1の熱伝達用ガス供給部と、前記第2の熱伝達用ガス拡散領域に熱伝達用ガスを供給する第2の熱伝達用ガス供給部とを備え、
前記第1の熱伝達用ガス拡散領域と前記第2の熱伝達用ガス拡散領域において、冷却能力をそれぞれ任意に設定して別々に制御し、
前記第2の熱伝達用ガス拡散領域は、前記静電チャックの上面の周縁部に形成された環状の凹部であることを特徴とする、プラズマ処理装置。 - 前記第1の熱伝達用ガス拡散領域は、前記静電チャックの上面の中央に形成された1または2以上の凹部であり、前記第1の熱伝達用ガス拡散領域には、複数の凸部が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の熱伝達用ガス供給部に対する前記第2の熱伝達用ガス供給部の供給圧比が2以上であることを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の熱伝達用ガス供給部に対する前記第2の熱伝達用ガス供給部の供給圧比が2.5〜4.0であることを特徴とする、請求項3に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の熱伝達用ガス供給部による熱伝達用ガスの供給が、前記第1の熱伝達用ガス供給部による熱伝達用ガスの供給よりも先に開始されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記載置台本体の上部周縁部には、前記静電チャックの側面よりも内側まで、絶縁材料が溶射されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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