JP5427915B2

JP5427915B2 - 電磁弁用マニホールドおよびマニホールド電磁弁

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Publication number: JP5427915B2
Application number: JP2012114707A
Authority: JP
Inventors: 聡明土澤; 周一保坂
Original assignee: Koganei Corp
Current assignee: Koganei Corp
Priority date: 2012-05-18
Filing date: 2012-05-18
Publication date: 2014-02-26
Anticipated expiration: 2032-05-18
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Description

本発明は、複数の電磁弁を搭載するための電磁弁用マニホールドの技術に関する。

複数の電磁弁が取付台に集合して搭載されるタイプの電磁弁は、マニホールド電磁弁または電磁弁マニホールドと言われる。マニホールド電磁弁には、共通の給気流路が設けられたマニホールドベースを取付台とするタイプがあり、マニホールドベースは、電磁弁用マニホールドまたはマニホールドブロックとも言われる。給気ポートと出力ポートとの間の流路を開閉する電磁弁がマニホールドベースに搭載されるタイプのマニホールド電磁弁においては、マニホールドベースに搭載された電磁弁の給気ポートは共通の給気流路に接続され、給気流路に接続された配管により外部の空気圧源から給気流路に供給される圧縮空気がそれぞれの電磁弁に供給される。マニホールドベースには、それぞれの電磁弁の出力ポートに連通する出力流路が形成されている。

特許文献１に記載されるマニホールド電磁弁においては、電磁弁の出力ポートから出力流路に流出される圧縮空気を外部に案内するために、それぞれの出力流路に連通する継手がマニホールドベースに取り付けられており、継手にはホースや管等からなる出力配管が取り付けられる。マニホールドベースに多数の電磁弁を集合して搭載するために、外形がほぼ直方体形状の電磁弁を幅方向に整列させてマニホールドベースに搭載している。

特開２００９−２０４００９号公報

出力流路が隣り合う複数の電磁弁の整列方向における間隔つまりピッチは、マニホールドベースに整列して搭載された電磁弁の幅寸法より小さくなることはない。したがって、出力流路のピッチを小さくするには、電磁弁の幅寸法を小さくする必要がある。しかし、電磁弁の幅寸法を小さくするには限度があるので、出力流路のピッチを小さくするには限度がある。このため、マニホールドベースに一体に設けられた噴射ノズルの噴射面に電磁弁の数に対応させて噴射口を設けて、それぞれの噴射口から電磁弁の開閉動作に応じたタイミングで圧縮空気を噴出するために使用されるマニホールド電磁弁においては、噴射口の間隔つまり噴射口のピッチを小さくすることには限度がある。

例えば、籾付き米の籾殻を剥離処理した後に、適正米と不良米や異物等とを選別するための選別装置は、籾殻が剥離処理された処理米を案内する多数の溝が設けられたシュートと、溝に対応する噴射ノズルが設けられたマニホールド電磁弁とを有している。シュートに案内されて落下した処理米における適正米と不良米とを選別するセンサからの信号に基づいて電磁弁を作動させることにより、不良米や異物を噴射ノズルの噴射口からの空気により吹き飛ばして適正米と不良米や異物とを分離している。このように籾殻が剥離処理された処理米等の粒状物を不良品と適正品とに分離するために使用されるマニホールド電磁弁においては、シュートを小型化するには、噴射ノズルに設けられた噴射口のピッチを小さくすることが望ましい。

しかしながら、電磁弁の出力ポートに連通させて噴射ノズルに設けられる噴射口相互の間隔つまり噴射口のピッチは、マニホールドに整列して搭載される電磁弁の搭載ピッチに対応させなければならず、噴射口のピッチを小さくすることができない。

本発明の目的は、電磁弁の出力ポートに連通して噴射ノズルに設けられる噴射口のピッチを小さくできるようにすることにある。

本発明の電磁弁用マニホールドは、複数の電磁弁を搭載する電磁弁用マニホールドであって、第１の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第１の給気流路と、前記第１の弁搭載面に対して反対側の第２の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第２の給気流路とをマニホールドベースに設け、前記第１の弁搭載面に長手方向に搭載されて第１の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートと前記第１の給気流路とを連通させる第１の給気孔を前記マニホールドベースに設け、前記第２の弁搭載面に長手方向に搭載されて第２の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートと前記第２の給気流路とを連通させる第２の給気孔を前記マニホールドベースに設け、前記マニホールドベースの噴射面に開口して形成された第１の噴射口と前記第１の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第１の出力流路を前記マニホールドベースに設け、前記第１の噴射口に対して前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第２の噴射口と前記第２電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第２の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とする。

本発明のマニホールド電磁弁は、複数の電磁弁を有するマニホールド電磁弁であって、第１の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第１の給気流路と、前記第１の弁搭載面に対して反対側の第２の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第２の給気流路とを備えたマニホールドベースと、前記第１の弁搭載面に長手方向に搭載される複数の電磁弁により構成される第１の電磁弁群と、前記第２の弁搭載面に長手方向に搭載される複数の電磁弁により構成される第２の電磁弁群とを有し、前記第１の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第１の給気流路を連通させる第１の給気孔を前記マニホールドベースに設け、前記第２の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第２の給気流路を連通させる第２の給気孔を前記マニホールドベースに設け、前記マニホールドベースの噴射面に開口して形成された第１の噴射口と前記第１の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第１の出力流路を前記マニホールドベースに設け、前記マニホールドベースの長手方向にずらして前記第１の噴射口に設けられる第２の噴射口と前記第２の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第２の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とする。

電磁弁マニホールドを構成するマニホールドベースには、両面に弁搭載面が設けられており、それぞれの弁搭載面には複数の電磁弁を整列して構成される電磁弁群が搭載されるようになっている。一方の弁搭載面に設けられる電磁弁群における電磁弁の出力ポートを噴射面に設けられた噴射口に連通させる出力流路と、他方の弁搭載面に設けられる電磁弁群における電磁弁の出力ポートを噴射面に設けられた噴射口に連通させる出力流路とがマニホールドベースに設けられている。両方の電磁弁群の電磁弁に連通する噴射口は、マニホールドベースの長手方向にずらして配置されている。これにより、マニホールドベースの長手方向における噴射口相互間のピッチをそれぞれの電磁弁群を構成する電磁弁の配列ピッチよりも小さくすることができ、マニホールドベースに搭載される電磁弁の幅寸法を小さくすることなく、噴射口のピッチを小さくすることができ、噴射口の集合度を高めることができる。両方の弁搭載面の一方または両方に複数の電磁弁群を搭載すると、噴射口の集合度を高めることができる。

マニホールド電磁弁を示す正面図である。図１の平面図である。図１の底面図である。図１の右側面図である。図４の一部を拡大して示す一部切欠き側面図である。電磁弁の一部を示す拡大断面図である。（Ａ）は図１に示された第１のベースブロックの突き当て面を示す正面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。第１のベースブロックの弁搭載面を示す正面図である。（Ａ）は図１に示された第２のベースブロックの突き当て面を示す正面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。第２のベースブロックの弁搭載面を示す正面図である。図７（Ａ）の一部を拡大して示す正面図である。噴射ノズルの一部を拡大して示す正面図である。（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ変形例である電磁弁マニホールドにおける噴射ノズルの一部を拡大して示す正面図である。（Ａ）は出力流路を形成するための流路シートを示す平面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。変形例であるマニホールド電磁弁におけるＡ−Ａ線断面図である。図１５の右側面図である。図１５および図１６に示された第１のベースブロックの断面図である。（Ａ）は図１５に示された流路シートを示す平面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。（Ａ）は図１５に示された第１のベースブロックの側面図であり、（Ｂ）はベースブロックの突き当て面を示す平面図である。集合型のベースブロックを構成するブロック片とそれに搭載された電磁弁を示す側面図である。図２０に示されたブロック片の平面図である。マニホールド電磁弁の適用例を示す一部切欠き側面図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１〜図４に示されるマニホールド電磁弁１０は、それぞれほぼ長方形の板状の第１のベースブロック１１と第２のベースブロック１２とを備えた電磁弁用マニホールドとしてのマニホールドベース１３を有している。図１に示されるように、ベースブロック１１の内面は第１の突き当て面１４ａとなっており、この突き当て面１４ａにはベースブロック１２の内面の第２の突き当て面１４ｂが突き当てられて、２つのベースブロック１１，１２を組み合わせることによりマニホールドベース１３が形成される。ベースブロック１１の外面には第１の弁搭載面１５ａが設けられ、ベースブロック１２の外面には第２の弁搭載面１５ｂが設けられている。マニホールドベース１３の両面にはそれぞれ弁搭載面が設けられている。

マニホールドベース１３のうち両方の弁搭載面１５ａ，１５ｂの間の部分が弁搭載部１６となっている。ベースブロック１１，１２の側部には空気案内部１７ａ，１７ｂが一体に設けられており、両方の空気案内部１７ａ，１７ｂにより噴射ノズル１８が形成され、噴射ノズル１８の先端面は噴射面１９となっている。噴射ノズル１８の厚み寸法は、弁搭載部１６の厚み寸法よりも小さい。噴射ノズル１８をマニホールドベース１３の正面側とすると、弁搭載部１６は噴射ノズル１８に対して背面側となる。

ベースブロック１１には、図４に示されるように、第１の給気流路２１が設けられており、この給気流路２１はマニホールドベース１３の長手方向に伸びている。ベースブロック１２には、第２の給気流路２２が、マニホールドベース１３の長手方向に伸びて設けられている。給気流路２１を介して噴射ノズル１８の反対側つまりマニホールドベース１３の背面側に位置させてベースブロック１１には、第３の給気流路２３が第１の給気流路２１に平行となって設けられている。給気流路２２を介してマニホールドベース１３の背面側に位置させてベースブロック１２には、第４の給気流路２４が第２の給気流路２２に平行となって設けられている。

給気流路２１〜２４は、マニホールドベース１３に形成された貫通孔により形成されている。図４に示されるように、給気流路２１〜２４の一端部には管やホース等からなる給気配管２５ａ〜２５ｄがそれぞれ接続される。それぞれの給気流路２１〜２４の他端部はプラグにより閉塞されている。給気配管２５ａ〜２５ｄには図示しない空気圧供給源が接続されており、給気流路２１〜２４には空気圧供給源から圧縮空気が供給される。

図１に示されるように、ベースブロック１１の弁搭載面１５ａには、複数の電磁弁２６からなる第１の電磁弁群３１が設けられている。ベースブロック１２の弁搭載面１５ｂには、複数の電磁弁からなる第２の電磁弁群３２が第１の電磁弁群３１に向き合うように設けられている。第１の電磁弁群３１に対してマニホールドベース１３の背面側の弁搭載面１５ａには、複数の電磁弁２６からなる第３の電磁弁群３３が設けられている。第２の電磁弁群３２に対してマニホールドベース１３の背面側の弁搭載面１５ｂには、複数の電磁弁２６からなる第４の電磁弁群３４が第３の電磁弁群３３に向き合うように設けられている。それぞれの電磁弁群３１〜３４は、複数の電磁弁２６を弁搭載面１５ａ，１５ｂの長手方向に直線状に整列して搭載することにより構成される。それぞれの電磁弁２６は、同一形状の開閉弁であって、図２に示されるように、外形の幅寸法がＤであり、長さ寸法がＬとなったほぼ直方体形状となっている。

図２に示されるように、第１の電磁弁群３１と第３の電磁弁群３３は、それぞれ１５個の電磁弁２６により構成される。同様に第２の電磁弁群３２と第４の電磁弁群３４は、図３に示されるように、それぞれ１５個の電磁弁２６により構成される。このように、電磁弁用マニホールドとしてのマニホールドベース１３には、４列の電磁弁群３１〜３４からなる合計６０個の電磁弁２６を搭載することができる。マニホールド電磁弁１０は、２つのベースブロック１１，１２からなる電磁弁マニホールドとしてのマニホールドベース１３と、これに搭載される４列の電磁弁群３１〜３４により構成される。ただし、マニホールドベース１３に搭載される電磁弁２６の数は図示される数に限定されることなく、任意の数とすることができる。

第１の電磁弁群３１を構成する電磁弁２６は、図１および図２に示されるように、一定の中心線相互間の距離つまりピッチＰで、隙間Ｃを隔てて電磁弁２６の幅方向に直線状に整列してマニホールドベース１３に搭載される。第２の電磁弁群３２を構成する電磁弁２６は、図１および図３に示されるように、第１の電磁弁群３１と同一のピッチＰで電磁弁２６の幅方向に直線状に整列してマニホールドベース１３に搭載される。第１の電磁弁群３１の電磁弁２６と、第２の電磁弁群３２の電磁弁２６は、図１に示されるように、相互にＰ／２ずらしてマニホールドベース１３に取り付けられている。

第３の電磁弁群３３を構成する電磁弁２６は、図２に示されるように、第２の電磁弁群３２と同一のピッチＰで幅方向に直線状に整列されるとともに、第１の電磁弁群３１を構成する電磁弁２６に対して図２において左方向にＰ／４ずらしてマニホールドベース１３に取り付けられている。第４の電磁弁群３４を構成する電磁弁２６は、図３に示されるように、それぞれの電磁弁群３１〜３３と同一のピッチＰで幅方向に直線状に整列されるとともに、第２の電磁弁群３２を構成する電磁弁２６に対して図３において左方向にＰ／４ずらしてマニホールドベース１３に取り付けられている。

電磁弁群３１〜３４は、マニホールドベース１３の長手方向に直線状に整列されているが、各々の電磁弁群３１〜３４を構成する電磁弁２６をマニホールドベース１３の幅方向にずらして整列させるようにしても良い。

それぞれの電磁弁２６は、図５に示されるように、基部２７ａとこれに取り付けられるソレノイド収容部２７ｂとを備えたバルブケース２７を有し、基部２７ａにはマニホールドベース１３にねじ止めされるねじ部材２８が設けられている。バルブケース２７には、給気ポート３５が形成されており、給気ポート３５に隣り合って形成された取付孔には、ほぼ円筒形状の中空の弁座ねじ部材３６がねじ結合されている。この弁座ねじ部材３６の内部は給気ポート３５に連通する出力ポート３７となっており、弁座ねじ部材３６の給気ポート３５側の開口端部には弁座３８が設けられている。弁座３８に当接して給気ポート３５と出力ポート３７との連通を遮断する閉塞位置と、弁座３８から離れて給気ポート３５と出力ポート３７とを連通させる開放位置とに移動する弁体３９がバルブケース２７内に設けられている。弁座ねじ部材３６を回転させて弁座ねじ部材３６の軸方向位置を調整することにより、弁体３９と弁座３８との間の開度が調整される。

図６に示されるように、弁体３９には棒状の可動子４１が取り付けられている。弁体３９と可動子４１は、板ばね４２によりバルブケース２７内に装着され、板ばね４２は弁体３９に対して弁座３８に向かう方向のばね力を付勢する。ソレノイド収容部２７ｂ内にはＵ字形状の固定鉄心４３が組み込まれており、固定鉄心４３の平行部４３ａはコイル４４が巻き付けられたボビン４５内に挿入されている。、図５に示されるように、ソレノイド収容部２７ｂに設けられた配線カバー２７ｃには、ケーブル４６ａの先端に設けられたコネクタ４６が着脱自在に装着され、ケーブル４６ａはコネクタ４６によりコイル４４の端子に電気的に接続される。電磁弁２６のオン操作によりコイル４４に駆動電流が供給されると、可動子４１は板ばね４２のばね力に抗して固定鉄心４３に向けて移動する。これにより、弁体３９は弁座３８から離れて給気ポート３５と出力ポート３７が連通状態となる。一方、コイル４４への駆動電流の供給を停止すると、弁体３９が弁座３８に当接し、給気ポート３５と出力ポート３７との連通が遮断される。

第１のベースブロック１１には、図８に示されるように、ねじ孔４７ａが弁搭載面１５ａに開口して形成されており、ねじ孔４７ａには第１の電磁弁群３１における電磁弁２６のねじ部材２８がねじ結合される。ベースブロック１１には、第１の電磁弁群３１を構成する電磁弁２６の給気ポート３５と第１の給気流路２１とを連通させる第１の給気孔４８ａが弁搭載面１５ａに開口して形成されている。ベースブロック１１には、電磁弁群３１を構成する電磁弁２６の出力ポート３７に連通する第１の出力孔４９ａがベースブロック１１を貫通して形成されている。図５および図７（Ａ）に示されるように、出力孔４９ａは突き当て面１４ａと弁搭載面１５ａに開口している。給気孔４８ａと出力孔４９ａは、電磁弁群３１を構成する電磁弁２６の数に対応して１５個ずつベースブロック１１に設けられている。給気孔４８ａは上述したピッチＰに対応した一定の間隔でベースブロック１１に設けられている。同様に、出力孔４９ａもピッチＰに対応した一定間隔でベースブロック１１に設けられている。

第２のベースブロック１２には、図１０に示されるように、ねじ孔４７ｂが弁搭載面１５ｂに開口して形成されており、ねじ孔４７ｂには第２の電磁弁群３２の電磁弁２６のねじ部材２８がねじ結合される。ベースブロック１２には、第２の電磁弁群３２を構成する電磁弁２６の給気ポート３５と第２の給気流路２２とを連通させる第２の給気孔４８ｂが弁搭載面１５ｂに開口して形成されている。ベースブロック１２には、電磁弁群３２を構成する電磁弁２６の出力ポート３７に連通する第２の出力孔４９ｂがベースブロック１２を貫通して形成されている。図９に示されるように、出力孔４９ｂは突き当て面１４ｂと弁搭載面１５ｂに開口している。給気孔４８ｂと出力孔４９ｂは、電磁弁群３２を構成する電磁弁２６の数に対応して１５個ずつベースブロック１２に設けられている。給気孔４８ｂは、給気孔４８ａに対してマニホールドベース１３の長手方向に上述したピッチＰ／２ずれている。

第１のベースブロック１１には、図８に示されるように、ねじ孔４７ｃが弁搭載面１５ａに開口して形成されており、ねじ孔４７ｃには第３の電磁弁群３３の電磁弁２６のねじ部材２８がねじ結合される。ベースブロック１１には、第３の電磁弁群３３を構成する電磁弁２６の給気ポート３５と第３の給気流路２３とを連通させる第３の給気孔４８ｃが弁搭載面１５ａに開口して形成されている。ベースブロック１１には、電磁弁群３３を構成する電磁弁２６の出力ポート３７に連通する第３の出力孔４９ｃがベースブロック１１を貫通して形成されており、出力孔４９ｃは突き当て面１４ａと弁搭載面１５ａに開口している。給気孔４８ｃと出力孔４９ｃは、電磁弁群３３を構成する電磁弁２６の数に対応して１５個ずつベースブロック１１に設けられている。給気孔４８ｃは給気孔４８ａに対して図７においてベースブロック１１の左方向にピッチＰ／４ずれており、出力孔４９ｃも出力孔４９ａに対して同一方向にずれている。

第２のベースブロック１２には、図１０に示されるように、ねじ孔４７ｄが弁搭載面１５ｂに開口して形成されており、ねじ孔４７ｄには第４の電磁弁群３４の電磁弁２６のねじ部材２８がねじ結合される。ベースブロック１２には、第４の電磁弁群３４を構成する電磁弁２６の給気ポート３５と第４の給気流路２４とを連通させる第４の給気孔４８ｄが弁搭載面１５ｂに開口して形成されている。ベースブロック１２には、電磁弁群３４を構成する電磁弁２６の出力ポート３７に連通する第４の出力孔４９ｄがベースブロック１２を貫通して形成されており、出力孔４９ｄは突き当て面１４ｂと弁搭載面１５ｂに開口している。給気孔４８ｄと出力孔４９ｄは、電磁弁群３４を構成する電磁弁２６の数に対応して１５個ずつベースブロック１２に設けられている。給気孔４８ｄは、給気孔４８ｂに対して図９においてベースブロック１２の左方向にピッチＰ／４ずれており、出力孔４９ｄは出力孔４９ｂに対して同一方向にずれている。

マニホールドベース１３には、図７および図１１に示されるように、第１の電磁弁群３１の電磁弁２６の出力ポート３７に出力孔４９ａを介して連通する第１の出力流路５１が設けられている。出力流路５１は電磁弁群３１を構成する１５個の電磁弁２６に対応して１５個設けられている。それぞれの出力流路５１は、第１のベースブロック１１の突き当て面１４ａに形成された溝と、第２のベースブロック１２の突き当て面１４ｂとにより区画形成されている。出力流路５１は、噴射ノズル１８の先端の噴射面１９の開口部に形成される第１の噴射口５１ａにまで伸びており、出力流路５１により噴射口５１ａと電磁弁群３１の電磁弁２６の出力ポート３７とが連通している。

マニホールドベース１３には、図７および図１１に示されるように、第２の電磁弁群３２の電磁弁２６の出力ポート３７に出力孔４９ｂを介して連通する第２の出力流路５２が設けられている。出力流路５２は電磁弁群３２を構成する１５個の電磁弁２６に対応して１５個設けられている。それぞれの出力流路５２は、第１のベースブロック１１の突き当て面１４ａに形成された溝と、第２のベースブロック１２の突き当て面１４ｂとにより区画形成されている。出力流路５２は、噴射ノズル１８の噴射面１９の開口部に形成される第２の噴射口５２ａにまで伸びており、出力流路５２により噴射口５２ａと電磁弁群３２の電磁弁２６の出力ポート３７とが連通している。出力流路５１と出力流路５２は、マニホールドベース１３の長手方向に上述したピッチＰ／２ずれている。

マニホールドベース１３には、図７および図１１に示されるように、第３の電磁弁群３３の電磁弁２６の出力ポート３７に出力孔４９ｃを介して連通する第３の出力流路５３が設けられている。出力流路５３は電磁弁群３３を構成する１５個の電磁弁２６に対応して１５個設けられている。それぞれの出力流路５３は、出力流路５１，５２と同様に、第１のベースブロック１１の突き当て面１４ａと第２のベースブロック１２の突き当て面１４ｂとにより形成されている。出力流路５３は、噴射ノズル１８の噴射面１９の開口部に形成される第３の噴射口５３ａにまで伸びており、出力流路５３により噴射口５３ａと電磁弁群３３の電磁弁２６の出力ポート３７とが連通している。出力流路５３は、出力流路５１に対して、図１１においてマニホールドベース１３の左方向にピッチＰ／４ずれている。

マニホールドベース１３には、図７および図１１に示されるように、第４の電磁弁群３４の電磁弁２６の出力ポート３７に出力孔４９ｄを介して連通する第４の出力流路５４が設けられている。出力流路５４は電磁弁群３４を構成する１５個の電磁弁２６に対応して１５個設けられている。それぞれの出力流路５４は、出力流路５１〜５３と同様に、第１のベースブロック１１の突き当て面１４ａと第２のベースブロック１２の突き当て面１４ｂとにより形成されている。出力流路５４は、噴射ノズル１８の噴射面１９の開口部に形成される第４の噴射口５４ａにまで伸びており、出力流路５４により噴射口５４ａと電磁弁群３４の電磁弁２６の出力ポート３７とが連通している。出力流路５４は、出力流路５２に対して、図１１においてマニホールドベース１３の左方向にピッチＰ／４ずれている。

２つの板状のベースブロック１１，１２を締結するために、図１０に示されるように、ベースブロック１２にはその一方の側辺に沿って間隔を置いて複数のボルト取付孔５５が設けられている。ベースブロック１２の幅方向中央部には、間隔を置いて複数のボルト取付孔５６が設けられている。ベースブロック１２の他方の側辺の両端部にはボルト取付孔５７が設けられている。それぞれのボルト取付孔５５〜５７に対応させて、ベースブロック１１の突き当て面１４ａには図示しないボルトがねじ結合されるねじ孔５５ａ〜５７ａが図７に示されるように設けられている。

図１２は噴射ノズル１８の一部を拡大して示す正面図である。図示するように、全ての噴射口５１ａ〜５４ａは、噴射面１９に一直線状に配列して設けられている。第１の噴射口５１ａはマニホールドベース１３の長手方向に一定のピッチＰずれている。第２の噴射口５２ａは第１の噴射口５１ａに対して一定のピッチＰ／２ずれている。第３の噴射口５３ａは、第１の噴射口５１ａに対して一定のピッチＰ／４ずれており、第１の噴射口５１ａと第２の噴射口５２ａの中間に設けられている。第４の噴射口５４ａは、第２の噴射口５２ａに対して一定のピッチＰ／４ずれている。このように、隣り合う噴射口は、マニホールドベース１３の長手方向にＰ／４のピッチＰａとなって噴射ノズル１８に設けられている。例えば、幅寸法Ｄが１０ｍｍの電磁弁２６を１２ｍｍのピッチＰで整列させてそれぞれの電磁弁群３１〜３４を構成すると、隣り合う２つの噴射口のピッチＰａは３ｍｍとなる。それぞれの噴射口の幅寸法は２ｍｍに設定されている。電磁弁２６相互間には２ｍｍの隙間Ｃが形成されるので、隙間により電磁弁２６の放熱性が確保される。

このように、マニホールドベース１３の表裏両面の弁搭載面１５ａ，１５ｂに電磁弁群３１，３２が配置されるとともに、それぞれの弁搭載面１５ａ，１５ｂには前後にずらして電磁弁群３３，３４が配置されているので、噴射口のピッチＰａは電磁弁２６相互間のピッチＰの１／４となる。

これに対し、マニホールドベース１３の両方の弁搭載面１５ａ，１５ｂに１つずつ電磁弁群を搭載する形態においては、第１の電磁弁群３１と第２の電磁弁群３２とを有するマニホールド電磁弁１０となる。この場合には、図１３（Ａ）に示すように、電磁弁２６の整列ピッチＰを上述した場合と同様に１２ｍｍとすると、噴射口５１ａ，５２ａのピッチＰａは６ｍｍとなる。

さらに、マニホールドベース１３の両方の弁搭載面１５ａ，１５ｂに１組ずつ電磁弁群を搭載するとともに、一方の弁搭載面１５ａまたは１５ｂに第３の電磁弁群を設けた形態においては、３つの電磁弁群が設けられたマニホールド電磁弁１０となる。この場合には、図１３（Ｂ）に示すように、電磁弁２６の整列ピッチＰを上述した場合と同様に１２ｍｍとすると、噴射口５１ａ，５２ａ，５３ａのピッチＰａは４ｍｍとなる。いずれの形態においても、噴射口のピッチＰａを電磁弁２６のピッチＰよりも小さくすることができる。これにより、噴射ノズル１８の噴射面１９における噴射口の集合度を高めることができ、噴射ノズル１８のマニホールドベース１３の長手方向の寸法を大きくすることなく、多数の噴射口を噴射面１９に設けることができる。

マニホールドベース１３は２つのベースブロック１１，１２を突き当てることにより形成されている。一方のベースブロック１１の突き当て面１４ａに溝を形成し、他方のベースブロック１２の突き当て面１４ｂを突き当て面１４ａに突き当てて出力流路５１〜５４が形成されるので、一方のベースブロック１２に溝を機械加工することにより、容易にマニホールドベース１３の内部に出力流路を設けることができる。ただし、両方のベースブロック１１，１２の突き当て面１４ａ，１４ｂに溝を形成し、両方の溝により出力流路５１〜５４を形成するようにしても良い。また、スリットが形成された流路シートを両方のベースブロック１１，１２の突き当て面１４ａ，１４ｂの間に挟み込むことにより、スリットと両方の突き当て面とにより出力流路５１〜５４を形成するようにしても良い。

図１４（Ａ）は上述した流路シート６０を示す平面図であり、図１４（Ｂ）は（Ａ）の右側面図である。

この流路シート６０には、それぞれ上述した出力流路５１〜５４に対応させてスリット６１〜６４が形成されている。流路シート６０を両方のベースブロック１１，１２の突き当て面１４ａ，１４ｂの間に配置することによって、突き当て面１４ａ，１４ｂと流路シート６０のスリット６１〜６４により出力流路５１〜５４が形成される。流路シート６０は、金属、樹脂、またはゴムにより形成されており、突き当て面１４ａ，１４ｂに突き当てて接着剤により接着される。流路シート６０を金属製とする場合には、その両面にゴム製のシートをさらに積層させるようにしても良い。

図１５は変形例のマニホールド電磁弁１０を示す正面図であり、図１６は図１５の右側面図である。

図１に示したマニホールド電磁弁１０においては、２つのベースブロック１１，１３を突き合わせることにより、噴射ノズル１８と噴射口５１ａ〜５４ａが形成されている。これに対し、図１５および図１６に示す噴射ノズル１８は第１のベースブロック１１に一体に設けられており、それぞれの噴射口５１ａ〜５４ａはベースブロック１１に形成されている。噴射ノズル１８は噴射口に向けて細くなるようにテーパ形状となっている。

図１７は図１５および図１６に示された第１のベースブロック１１の断面図である。図１７に示すように、第２のベースブロック１２の突き当て面１４ｂに突き当てられる突き当て面１４ａにより形成される出力流路５１と噴射口５１ａとを連通させるために、ベースブロック１１には連通用の出力流路６５が形成されている。図１７は噴射口５１ａを示すが、他の噴射口５２ａ〜５４ａも同様に、ベースブロック１１に形成されており、それぞれの噴射口５２ａ〜５４ａに対応させてベースブロック１１には、出力流路５２〜５４と噴射口５２ａ〜５４ａとを連通させるための連通用の出力流路６５が形成されている。図１７に示すように、噴射ノズル１８をテーパ形状とすると、噴射口５１ａ〜５４ａから噴出される空気流の周囲における渦の発生が抑制される。これにより、噴出される空気流は、周囲の空気を巻き込んでシャープな噴射空気となる。なお、図１に示した形態においても、図１７に示す形態と同様に、噴射ノズル１８をテーパ形状とすると、噴射口５１ａ〜５４ａからシャープな噴出空気を噴出させることができる。

図１６に示すように、一方のベースブロック１１に噴射ノズル１８を一体に設け、連通用の出力流路６５をベースブロック１１内に屈曲させて形成すると、両方のベースブロック１１，１２の空気案内部１７ａ，１７ｂの部分を、図１６において二点鎖線で示すように、ねじ部材６６により締結することができる。ねじ部材６６をマニホールドベース１３に長手方向に多数取り付けることにより、それぞれの出力流路の先端部分からの空気漏れの防止を促進することができる。

図１５および図１６に示されるマニホールド電磁弁１０は、両方のベースブロック１１，１２の間に、流路シート６０が配置されている。図１８はこの流路シート６０を示す平面図である。

図１４に示した流路シート６０のスリット６１〜６４が噴射口５１ａ〜５４ａにまで伸びて端部が開口されているのに対し、図１８に示される流路シート６０は、スリット６１が出力孔４９ａと出力流路５１ａの流入端部との間の長さとなって形成されている。他のスリット６２〜６４も同様である。流路シート６０をベースブロック１１，１２の間に配置すると、ベースブロック１１の突き当て面１４ａには、出力流路５１〜５４を形成するための溝を設けることが不要となる。

図１９は図１５に示された第１のベースブロック１１の突き当て面１４ａを示す平面図であり、突き当て面１４ａには出力流路５１〜５４を形成するための溝が形成されていない。噴射ノズル１８の部分には、それぞれの出力流路５１〜５４に連通する連通用の出力流路６５の開口部６５ａが設けられている。なお、ベースブロック１１には、図１６に示したねじ部材６６がねじ結合されるねじ孔５７ａが多数設けられており、噴射ノズル１８と空気案内部１７ａとの締結強度が高められている。

上述したベースブロック１１，１２は、それぞれの弁搭載面１５ａ，１５ｂに電磁弁群３１〜３４を構成する全ての電磁弁２６が搭載される長さ寸法を有している。これに対し、ベースブロック１１，１２を複数のブロック片により形成すると、ベースブロック１１，１２は分割形つまりスタッキングタイプとなる。

図２０は集合型のベースブロックを構成するブロック片とそれに搭載された電磁弁とを示す側面図であり、図２１は図２０に示されたブロック片を示す平面図である。

図２０および図２１は、ベースブロック１１を構成するブロック片１１ａを示しており、このブロック片１１ａの弁搭載面１５ａには単一の電磁弁２６が搭載されている。このブロック片１１ａを１５個集合させると、１５個の電磁弁２６により電磁弁群３１が形成される。ブロック片１１ａとしては、図示される形態に限定されることなく、ブロック片１１ａに電磁弁群３１と電磁弁群３３とを構成する２つの電磁弁２６を搭載するようにしても良い。さらに、それぞれのベースブロック１１，１２を２つないし３つ等の複数のブロック片を集合させて形成するようにしても良い。

図２２はマニホールド電磁弁の適用例を示す一部切欠き側面図である。図２２はマニホールド電磁弁１０が組み込まれた米の選別装置７０を示している。マニホールド電磁弁１０の電磁弁群３１〜３４はケース７１により覆われている。この選別装置７０は、米を案内する溝が形成されたシュート７２を有し、例えば、籾摺り機に隣接して配置される。籾摺り機により籾殻が連続的に剥離された玄米Ｒは、シュート７２の溝に案内されて自重により落下する。噴射ノズル１８に、例えば６０個の噴射口が設けられている場合には、シュート７２には噴射口に対応させて６０個の溝が設けられている。図２２においては１つの溝に案内されて連続的に落下する玄米Ｒが示されている。選別装置７０は、複数の不良品判別センサ７３，７４を有しており、シュート７２から落下する玄米Ｒの中に、着色米などの不良米や籾殻、石などの異物が含まれていると、不良品判別センサ７３，７４は、色彩やサイズに応じて不良米や異物を検出する。不良品判別センサ７３，７４からの信号に基づいて、不良米や異物が落下する位置に対応した電磁弁２６が駆動される。これにより、不良米等は、噴射口から噴出される空気により図２２において左方向に吹き飛ばされ、良品のみが下方に落下して良品と不良品とが分離して回収される。

このような米の選別装置７０を小型化するには、多数の溝が形成されたシュート７２の幅を短くすることが望ましい。図示するように、マニホールドベース１３の両面に設けられた弁搭載面１５ａ，１５ｂに電磁弁群３１〜３４を設けると、電磁弁２６のピッチＰよりも狭いピッチＰａ（Ｐ／４）で噴射口を噴射ノズル１８に形成することができるので、シュート７２の幅を長くすることなく、多数の溝をシュート７２に設けることができ、選別装置７０を小型化することができる。選別機としては、米等の穀類の選別のみならず、大豆等の粒状物の選別としても適用することができる。

図２２の電磁弁用マニホールドは、図１６に示した形態となっており、第１のベースブロック１１に噴射ノズル１８が設けられている。噴射ノズル１８はテーパ形状となっているので、上述したように、噴射口５１ａ〜５４ａから噴出される空気流は、周囲の空気を巻き込んでシャープな噴射空気となる。なお、図２２に示した電磁弁用マニホールドは、ベースブロック１１，１２の間には流路シート６０が配置されていない形態となっているが、図１５および１６に示すように、流路シート６０を設けるようにしても良い。

本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。

１０マニホールド電磁弁
１１第１のベースブロック
１１ａブロック片
１２第２のベースブロック
１３マニホールドベース（電磁弁用マニホールド）
１４ａ第１の突き当て面
１４ｂ第２の突き当て面
１５ａ第１の弁搭載面
１５ｂ第２の弁搭載面
１８噴射ノズル
１９噴射面
２１第１の給気流路
２２第２の給気流路
２３第３の給気流路
２４第４の給気流路
２６電磁弁
３１第１の電磁弁群
３２第２の電磁弁群
３３第３の電磁弁群
３４第４の電磁弁群
３５給気ポート
３７出力ポート
３８弁座
３９弁体
４８ａ第１の給気孔
４８ｂ第２の給気孔
４８ｃ第３の給気孔
４８ｄ第４の給気孔
４９ａ第１の出力孔
４９ｂ第２の出力孔
４９ｃ第３の出力孔
４９ｄ第４の出力孔
５１第１の出力流路
５１ａ第１の噴射口
５２第２の出力流路
５２ａ第２の噴射口
５３第３の出力流路
５３ａ第３の噴射口
５４第４の出力流路
５４ａ第４の噴射口
６０流路シート
６１〜６４スリット
７０選別装置
７２シュート
７３，７４不良品判別センサ

Claims

複数の電磁弁を搭載する電磁弁用マニホールドであって、
第１の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第１の給気流路と、前記第１の弁搭載面に対して反対側の第２の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第２の給気流路とをマニホールドベースに設け、
前記第１の弁搭載面に長手方向に搭載されて第１の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートと前記第１の給気流路とを連通させる第１の給気孔を前記マニホールドベースに設け、
前記第２の弁搭載面に長手方向に搭載されて第２の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートと前記第２の給気流路とを連通させる第２の給気孔を前記マニホールドベースに設け、
前記マニホールドベースの噴射面に開口して形成された第１の噴射口と前記第１の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第１の出力流路を前記マニホールドベースに設け、
前記第１の噴射口に対して前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第２の噴射口と前記第２の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第２の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項１記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の一方に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第３の給気流路を前記マニホールドベースに設け、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の一方に搭載されて第３の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第３の給気流路を連通させる第３の給気孔と、前記第３の電磁弁群のそれぞれの電磁弁の出力ポートに連通する第３の出力孔とを前記マニホールドベースに設け、
前記第１の噴射口と前記第２の噴射口に対して前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第３の噴射口と前記第３の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第３の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項２記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の他方に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第４の給気流路を前記マニホールドベースに設け、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の他方に搭載されて第４の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第４の給気流路を連通させる第４の給気孔と、前記第４の電磁弁群のそれぞれの電磁弁の出力ポートに連通する第４の出力孔とを前記マニホールドベースに設け、
前記第１の噴射口と前記第２の噴射口と前記第３の噴射口に対して前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第４の噴射口と前記第４の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第４の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
前記第１の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に第１の突き当て面が形成された第１のベースブロックと、前記第２の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に前記第１の突き当て面が突き当てられる第２の突き当て面が形成された第２のベースブロックとを有し、両方の前記突き当て面の間で前記出力流路を形成することを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
前記第１の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に第１の突き当て面が形成された第１のベースブロックと、前記第２の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に前記第１の突き当て面が突き当てられる第２の突き当て面が形成された第２のベースブロックと、スリットが形成されて前記第１の突き当て面と前記第２の突き当て面との間に配置される流路シートとを有し、両方の前記突き当て面と前記スリットとにより前記出力流路を形成することを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
前記電磁弁群を構成する複数の前記電磁弁が搭載される第１のベースブロックと、前記電磁弁群を構成する複数の前記電磁弁が搭載される第２のベースブロックとを有し、前記第１のベースブロックと前記第２のベースブロックとによりマニホールドベースを形成することを特徴とする電磁弁用マニホールド。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電磁弁用マニホールドにおいて、
それぞれ前記電磁弁が搭載される複数のブロック片を集合して形成される第１のベースブロックと、それぞれ前記電磁弁が搭載される複数のブロック片を集合して形成される第２のベースブロックとを有し、前記第１のベースブロックと前記第２のベースブロックとによりマニホールドベースを形成することを特徴とする電磁弁用マニホールド。
複数の電磁弁を有するマニホールド電磁弁であって、
第１の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第１の給気流路と、前記第１の弁搭載面に対して反対側の第２の弁搭載面に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第２の給気流路とを備えたマニホールドベースと、
前記第１の弁搭載面に長手方向に搭載される複数の電磁弁により構成される第１の電磁弁群と、
前記第２の弁搭載面に長手方向に搭載される複数の電磁弁により構成される第２の電磁弁群とを有し、
前記第１の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第１の給気流路を連通させる第１の給気孔を前記マニホールドベースに設け、
前記第２の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第２の給気流路を連通させる第２の給気孔を前記マニホールドベースに設け、
前記マニホールドベースの噴射面に開口して形成された第１の噴射口と前記第１の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第１の出力流路を前記マニホールドベースに設け、
前記マニホールドベースの長手方向にずらして前記第１の噴射口に設けられる第２の噴射口と前記第２の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第２の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項８記載のマニホールド電磁弁において、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の一方に搭載される複数の電磁弁により構成される第３の電磁弁群を有し、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の一方に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第３の給気流路を前記マニホールドベースに設け、
前記第３の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第３の給気流路を連通させる第３の給気孔と、前記第３の電磁弁群のそれぞれの電磁弁の出力ポートに連通する第３の出力孔とを前記マニホールドベースに設け、
前記第１の噴射口および前記第２の噴射口に前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第３の噴射口と前記第３の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第３の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項９記載のマニホールド電磁弁において、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の他方に搭載される複数の電磁弁により構成される第４の電磁弁群を有し、
前記第１の弁搭載面と前記第２の弁搭載面の他方に沿って長手方向に伸びて形成されるとともに圧縮空気が供給される第４の給気流路を前記マニホールドベースに設け、
前記第４の電磁弁群を構成する複数の電磁弁のそれぞれの給気ポートに前記第４の給気流路を連通させる第４の給気孔と、前記第４の電磁弁群のそれぞれの電磁弁の出力ポートに連通する第４の出力孔とを前記マニホールドベースに設け、
前記第１の噴射口と前記第２の噴射口と前記第３の噴射口に対して前記マニホールドベースの長手方向にずらして形成される第４の噴射口と前記第４の電磁弁群の電磁弁の出力ポートとを連通させる第４の出力流路を前記マニホールドベースに設けることを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項８〜１０のいずれか１項に記載のマニホールド電磁弁において、
前記第１の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に第１の突き当て面が形成された第１のベースブロックと、前記第２の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に前記第１の突き当て面が突き当てられる第２の突き当て面が形成された第２のベースブロックとを有し、両方の前記突き当て面の間で前記出力流路を形成することを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項８〜１０のいずれか１項に記載のマニホールド電磁弁において、
前記第１の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に第１の突き当て面が形成された第１のベースブロックと、前記第２の弁搭載面が一方面に形成され、他方面に前記第１の突き当て面が突き当てられる第２の突き当て面が形成された第２のベースブロックと、スリットが形成されて前記第１の突き当て面と前記第２の突き当て面との間に配置される流路シートとを有し、両方の前記突き当て面と前記スリットとにより前記出力流路を形成することを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項８〜１２のいずれか１項に記載のマニホールド電磁弁において、
前記電磁弁群を構成する複数の前記電磁弁が搭載される第１のベースブロックと、前記電磁弁群を構成する複数の前記電磁弁が搭載される第２のベースブロックとを有し、前記第１のベースブロックと前記第２のベースブロックとによりマニホールドベースを形成することを特徴とするマニホールド電磁弁。
請求項８〜１２のいずれか１項に記載のマニホールド電磁弁において、
それぞれ前記電磁弁が搭載される複数のブロック片を集合して形成される第１のベースブロックと、それぞれ前記電磁弁が搭載される複数のブロック片を集合して形成される第２のベースブロックとを有し、前記第１のベースブロックと前記第２のベースブロックとによりマニホールドベースを形成することを特徴とするマニホールド電磁弁。