JP5425344B2 - 処置システム及び処置システムの作動方法 - Google Patents

処置システム及び処置システムの作動方法 Download PDF

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Description

本発明の実施形態は、把持した生体組織に高周波電力エネルギと熱エネルギとを切り替えて順に印加する一対の把持部材を具備する処置システム及び前記処置システムの作動方法に関する。
米国特許出願公開第2009/076506号明細書には、把持した生体組織に高周波電力エネルギと熱エネルギとを印加する一対の把持部材と、高周波電力エネルギを印加するための高周波電力を出力する高周波電源と、熱エネルギを印加するための発熱用電力を出力する発熱用電源と、高周波電力エネルギ印加と熱エネルギの印加とを切り替えるために高周波電源及び発熱用電源を制御する制御部と、を具備する処置システムが開示されている。
また、米国特許出願公開第2009/0248002号明細書には、生体組織に対して、最初に高周波電力エネルギを印加し、その後、熱エネルギの印加を開始する処置システムが開示されている。高周波電力エネルギは、生体組織の細胞膜を破壊することによってタンパク質をはじめとする高分子化合物を含んだ細胞内成分を放出し、コラーゲンをはじめとする細胞外成分と均一化させる作用を有する。そして、生体組織の均一化により、その後に行われる熱エネルギの印加による生体組織の接合が促進されている。
ここで、熱エネルギの印加のときには、検知した温度に基づいて、発熱素子を所定温度まで上昇した後、所定温度に保持するように定温制御することが知られている。
そして、米国特許出願公開第2005/022560号明細書には、熱エネルギの印加、すなわち、発熱用電力の出力を間欠的に行うことで、温度制御を行う処置具が開示されている。
ここで、熱エネルギは、適正時間以上、生体組織に印加しても、効果の向上は見られないだけでなく、処置面への生体組織の張り付き等の悪影響がでる。このため、熱エネルギ印加は、適正なタイミングで終了する必要がある。しかし、処置している生体組織の種類及び大きさ等により、適正な印加終了時間は異なる。このため、使用者は処置状態を監視し、経験等に基づいて熱エネルギ印加を終了する必要があった。このため、公知の処置システムは操作性がよいとはいえない場合があった。
本発明の実施形態は、熱エネルギ印加を適正な時間に停止できる、操作性の良い処置システム及び操作性の良い処置システムの作動方法を提供することを目的とする。
実施形態の処置システムは、高周波電力を出力する高周波電源と、発熱用電力を出力する発熱用電源と生体組織に前記高周波電力を高周波電力エネルギとして印加す導電体と、前記生体組織に前記発熱用電力を熱エネルギとして印加す発熱素子と、を有する把持部材と、前記高周波電力エネルギ印加終了後に、前記熱エネルギの印加を開始するように前記高周波電源及び前記発熱用電源を制御するとともに、前記熱エネルギの印加開始後は、前記発熱素子が第1の温度となるように制御する第1制御モードと、前記発熱素子が第1の温度よりも低くなるように制御する第2制御モードと、を繰り返し、前記第1制御モードまたは前記第2制御モードにおける前記発熱素子の温度変化に基づいた温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加を終了するように前記発熱用電源を制御する制御部と、を具備する。
別の実施形態の処置システムの作動方法は、高周波電力エネルギと熱エネルギとを印加する把持部材と、前記高周波電力エネルギを印加するための高周波電力を出力する高周波電源と、前記熱エネルギを印加するための発熱用電力を出力する発熱用電源と、を具備する処置システムの前記高周波電源が、前記高周波電力を、前記把持部材の電極に印加するように制御部が制御するステップと、前記制御部による前記高周波電力エネルギの印加終了制御後に、前記制御部が、前記熱エネルギを印加するための発熱素子が第1の温度となるように制御する第1制御モードと、前記発熱素子が第1の温度よりも低くなるように制御する第2制御モードと、を繰り返すことで、前記熱エネルギを印加しながら、前記第1制御モードまたは前記第2制御モードにおける前記発熱素子の温度変化に基づいて温度変化パラメータが前記制御部により取得されるステップと、前記制御部が、前記温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加終了するように前記発熱用電源を制御するステップと、を具備する。
第1実施形態の処置システムの外観図である。 第1実施形態の処置システムのジョーの構造を説明するための立体断面図である。 第1実施形態の処置システムの構成図である。 第1実施形態の変形例の処置システムの外観図である。 第1実施形態の処置システムの処理の流れを説明するフローチャートである。 高周波電力印加モードにおけるインピーダンス変化を示すグラフである。 第1実施形態の処置システムの発熱用電力印加モードにおける温度変化を示すグラフである。 第2実施形態の処置システムの発熱用電力印加モードにおける温度変化を示すグラフである。 第3実施形態の処置システムの発熱用電力印加モードにおける温度変化を示すグラフである。 第4実施形態の処置システムの構成図である。 第5実施形態の処置システムの構成図である。 第5実施形態の処置システムの発熱用電力印加モードにおける温度変化を示すグラフである。
<第1実施形態>
<処置システムの構成>
最初に第1実施形態の処置システム10について説明する。
図1に示すように処置システム10は、処置具11と、電力供給部12と、フットスイッチ13と、を具備する。処置システム10は、処置具11の1対の把持部材であるジョー36a、36bで把持した生体組織に、電力供給部12を用いて高周波電力エネルギと熱エネルギとを切り替えて印加する。なお、以下、高周波電力を「HF」と略記したり、発熱用電力を「TH」と略記したりする。例えば、高周波電力エネルギをHFエネルギという。
処置具11は、HF線22a、22bとTH線23とにより電力供給部12と接続されている。なお、HF線22a、22b及びTH線23等は、それぞれ2本の配線を有するが1本で表現している。フットスイッチ13は、スイッチ線21により電力供給部12と接続されている。
処置具11は、一対の鋏構成部材32a、32bと、一対のハンドル部34a、34bと、一対のジョー36a、36bと、を有する。ハンドル部34a、34bは鋏構成部材32a、32bの基端部に設けられ術者が手に持って操作する。ジョー36a、36bは鋏構成部材32a、32bの先端部に設けられ処置する生体組織を把持する。
鋏構成部材32a、32bはそれらの先端と基端との間で互いが略交差する状態に重ねられている。鋏構成部材32a、32bの交差部には、鋏構成部材32a、32bを回動自在に連結する支点ピン35が設けられている。
ハンドル部34a、34bには、術者が指をかけるリング33a、33bが設けられている。術者がリング33a、33bに、それぞれ親指と中指を通して開閉させる動作を行うと、その動作に連動してジョー36a、36bが開閉する。
ジョー36a、36bには、把持した生体組織にエネルギを印加するエネルギ放出要素が配設されている。すなわち、ジョー36aには、エネルギ放出要素として、把持面を有する導電体からなる電極52aが配設されている。ジョー36bには、エネルギ放出要素として、把持面を有する導電体からなる電極52bと、発熱素子であるヒーター部材53とが配設されている。ヒーター部材53は高熱伝導体からなる電極52bの裏面に配設された状態でジョー36bに埋め込まれている。
すなわち、図2に示すように、処置具11のジョー36bは、銅からなる基材54の把持面52Pの裏面にヒーター部材53が接合され、ヒーター部材53は、封止部材55とカバー部材56とで覆われている。なお、図2はジョー36bの一部を示しており、それぞれのジョー36bに3個以上のヒーター部材53が接合されていてもよい。
ヒーター部材53は、アルミナまたは窒化アルミニウム等の基板53aの上に薄膜抵抗体または厚膜抵抗体が発熱パターン53bとして配設されている。薄膜抵抗体は、PVD(Physical Vapor Deposition)またはCVD(Chemical Vapor Deposition)などの薄膜形成法により形成される導電性薄膜、または、SUS等の導電性金属箔等からなる。厚膜抵抗は、スクリーン印刷などの厚膜形成法により形成される。発熱パターン53bは温度に比例して電気抵抗が増加する正の抵抗温度係数を示すモリブデン等の高融点金属材料により形成されている。
なお、ヒーター部材53は、処置具11のジョー36aにも配設されていてもよい。すなわち、発熱素子は、少なくとも一方の把持部材に配設されていればよい。
鋏構成部材32a、32bの内部には、それぞれ電極52a、52bにHFを供給するためのHF線24a、24bが配設されている。HF線24a、24bは、それぞれジョー36a、36bからハンドル部34a、34bまで延びている。リング33a、33bにはそれぞれHF端子25a、25bが設けられている。HF端子25a、25bはそれぞれHF線24a、24bと接続されている。このため、ジョー36a、36bに生体組織を把持した状態で、電極52a、52bにHFが供給されると、電極52a、52b間の生体組織にHFが通電される。言い換えれば、生体組織にHFエネルギが印加される。
一方、鋏構成部材32bには、ヒーター部材53にTHを供給するためのTH線26が内部に配設されている。TH線26は、ジョー36bからハンドル部34bまで延びている。リング33bには、TH線26と接続されたTH端子27が設けられている。このため、TH線26を通してヒーター部材53にTHが供給されると、ヒーター部材53が発熱する。すなわち、THがヒーター部材53により熱エネルギに変換され、その熱エネルギが電極52bに伝熱され、電極52bの把持面に接触した生体組織に熱エネルギが印加される。
以上の説明のように、処置具11は、電極52a、52b間にHFを通電すると、ジョー36a、36b間に把持した生体組織にHFエネルギを印加する。また、処置具11は、ヒーター部材53にTHを通電するとTHが熱エネルギに変換され、生体組織に熱エネルギを印加する。
フットスイッチ13は、ペダル13aを有する。ペダル13aが押圧されているときには、電力供給部12は、HFまたはTHを、設定状態(出力値及び出力タイミングなどを制御した状態)に基づいて出力する。ペダル13aの押圧が解除されると電力供給部12は、電力出力を強制的に停止する。
図3に示すように、電力供給部12は、HFユニット72とTHユニット82とから構成されている。HFユニット72は、HFを出力する高周波電源73と、高周波電源73を制御するCPU等の半導体回路等からなるHF制御部74と、高周波電源73が出力するHFの電圧及び電流を測定する高周波電力測定部であるHFセンサ75と、操作パネル76と、を有する。
THユニット82は、THを出力する発熱用電源83と、発熱用電源83を制御するCPU等の半導体回路からなるTH制御部84と、発熱用電源83が出力するTHの電圧及び電流を測定する発熱電力測定部であるTHセンサ85と、操作パネル86と、を有する。
HF制御部74とTH制御部84とは、双方向に信号を伝達可能な通信線91により接続され制御部94を構成している。すなわち、制御部94は高周波電源73及び発熱用電源83を制御する。操作パネル76、86は術者が処置条件を設定する設定機能部と処置の状態を表示する表示機能とを有している。
HFセンサ75は、HF線22a、22bを介して処置具11に接続されている。HF制御部74には、高周波電源73とHFセンサ75とが接続されている。更に、HF制御部74は、操作パネル76に接続されている。HF制御部74は、HFセンサ75の情報をもとに、電力及びインピーダンス等のHF情報を算出し、制御信号を高周波電源73に送るとともに、表示する情報を操作パネル76に送る。HF制御部74により制御された高周波電源73が出力するHFは処置具11の電極52a、52bに伝達される。
一方、TH制御部84では、THセンサ85からの情報をもとに、TH情報として電力、抵抗値等に加えて、ヒーター部材53の温度も算出する。すなわち、すでに説明したように、ヒーター部材53の発熱パターンは正の抵抗温度係数の材料からなる。このため、TH制御部84は、THの電圧及び電流から算出したTH抵抗値からヒーター部材53の温度を算出することができる。TH制御部84は、TH情報を基づいて発熱用電源83に制御信号を送る。TH制御部84により制御された発熱用電源83が出力するTHは処置具11のヒーター部材53に伝達される。
なお、HF制御部74はHF印加終了時には、THの出力を開始するようにTH制御部84にも制御信号を送る。
以上の説明のように、処置具11は、バイポーラ型高周波処置具としての機能と、発熱用処置具としての機能と、を有する。
なお、実施形態の処置システムの処置具は、いわゆるリニアタイプの処置具であってもよい。例えば、図4に示す変形例の処置システム10Aは、リニアタイプの処置具11Aと、電力供給部12Aと、フットスイッチ13と、を具備する。
処置具11Aは、ハンドル36と、シャフト37と、生体組織を把持する把持部材である一対のジョー36aA、36bAと、を有する。ジョー36aA、36bAの構造は、ジョー36a、36bと同じである。
ハンドル36は、術者が握り易い形状、例えば略L字状である。ハンドル36は、開閉ノブ36Aを有する。開閉ノブ36Aは、術者が押圧操作すると、ジョー36a、36bが生体組織を把持するように設計されている。ジョー36aA、36bAのHV電極(不図示)及びヒーター部材(不図示)は、配線28を介して電力供給部12Aに接続されている。すなわち、配線28はHF線22a、22b及びTH線23からなる。電力供給部12Aの基本構成及び機能は電力供給部12と同じである。
すなわち、処置具は、把持した生体組織に高周波電力エネルギと熱エネルギとを印加可能であれば、各種の構造の処置具が使用可能である。
<処置システムの動作>
次に、処置システム10の作動方法について説明する。
処置システム10は、把持した生体組織に、まずHFエネルギを印加し、HFエネルギの印加終了後に、熱エネルギを印加する。言い換えれば、制御部94は、高周波電力エネルギ印加終了後に、熱エネルギの印加を開始するように高周波電源73及び発熱用電源83を制御する。
すなわち、HFエネルギの印加により生体組織の細胞膜の破壊処理が完了すると、HFエネルギ印加モードから熱エネルギ印加モードに切り替わる。熱エネルギ印加モードでは、生体組織の温度を更に上昇させることで水分を除去し、水素結合により生体組織の接合処理が行われる。
そして、接合処理が適切に終了したときに熱エネルギの印加を停止することで処置が完了する。処置システム10は、制御部94(TH制御部84)が、温度変化をもとに熱エネルギの印加を自動的に適正時間で終了するため、操作性が良い。
以下、図5に示すフローチャートに沿って、処置システム10の動作を詳細に説明する。
<ステップS10>
術者は、操作パネル76、86を用いて処置条件を制御部94に入力し設定する。処置条件は、例えば、HFエネルギ印加モードの設定電力Pset(W)、熱エネルギ印加モードの設定温度Tset(℃)、及びHFエネルギ印加モード終了を判断するためのHFインピーダンスZの閾値Z1(Ω)等である。なお、処置条件については後に詳述する。
<ステップS11>
術者は処置具11のハンドル部34a、34bのリング33a、33bに指をかけて、処置具11を操作して、ジョー36a、36bで処置する生体組織を把持する。
術者が、フットスイッチ13のペダル13aを足で押圧すると、処置具11のジョー36a、36bの電極52a、52b間の生体組織へのHVエネルギ印加を開始する。なお、処置中は、ペダル13aは押圧されたままである。術者が足をペダル13aから放した場合には、電力供給部12は強制的にエネルギ出力を停止する。
高周波電源73が出力するHVは、所定の設定電力Pset、例えば20W〜150W程度に定電力制御されている。
HFエネルギ印加モードでは、ジュール熱が発生し生体組織自体が加熱される。更に、HF作用による絶縁破壊及び放電等により、生体組織の細胞膜が破壊される。細胞膜の破壊により、放出された細胞膜内物質は、コラーゲンをはじめとする細胞外成分と均一化する。
そして、HFエネルギ印加モードでは、HFのインピーダンスZ、すなわち、把持した生体組織のインピーダンスZが、HFセンサ75からのHF情報をもとに算出される。図6に示すように、インピーダンスZは、HFエネルギ印加開始時には例えば60Ω程度であり、その後、減少し最小値Zminを示した後に増加する。
<ステップS12>
HFエネルギ印加が印加されると、生体組織の乾燥化が進むため、HFのインピーダンスZは上昇する。そして、インピーダンスZをもとに、把持した生体組織の細胞膜の破壊処理の完了が検知される。すなわち、破壊処理が完了すると、細胞膜内物質が放出されなくなるため、インピーダンスZの上昇が加速する。更にHFエネルギ印加はインピーダンスZが大きいと適切なエネルギ印加が困難となる。
このため、制御部94(HF制御部74)は、所定の閾値Z1を基準にHFエネルギ印加モードの終了を判断する。
閾値Z1は、例えば10Ω〜1500Ω程度である。なお、閾値Z1は、予め制御部94(HF制御部74)のプログラムに組み込まれている場合には術者が設定する必要はない。またHFエネルギ印加モードの終了判断を別の方法で行ってもよい。
HF制御部74は、インピーダンスZが閾値Z1、例えば1000Ωを超えたか否か判断する。HF制御部74は、インピーダンスZの値が閾値Z1よりも小さいと判断した場合(S12:No)、HFエネルギ印加を続ける。
<ステップS13>
一方、HF制御部74がインピーダンスZが閾値Z1を超えたと、判断した場合(S12:Yes)、HF制御部74は、HF出力を停止するように高周波電源73を制御する。
<ステップS14>
HF制御部74が、インピーダンスZが閾値Z1以上となったと判断した場合、HFユニット72のHF制御部74から通信線91を介してTHユニット82のTH制御部84に信号が伝達される。そして、HFエネルギ印加モードからTHエネルギ印加モードへの切り替えが行われる。
THエネルギ印加モードでは、ヒーター部材53の温度Tを更に上昇することで、生体組織のタンパク質を一体的に変性させるともに、タンパク質同士の水素結合の阻害要因である水分の除去が行われる。
処置システム10では、THエネルギ印加モードにおいてはTH制御部84が、ヒーター部材53の温度が第1の温度TAとなるように定温制御(フィードバック制御)する第1制御モードと、ヒーター部材53が第1の温度TAよりも低い第2の温度TBとなるように定温制御(フィードバック制御)する第2制御モードと、を繰り返す。
<ステップS15>
図7に、THエネルギ印加モードにおける、第1の温度TAが180℃、第2の温度TBが150℃の場合のヒーター部材53の温度変化を示す。
THエネルギ印加モード開始時、言い換えればHFエネルギ印加モード終了時(tf)のヒーター部材53の温度THFは、例えば100℃である。
第1制御モードの間(tA1〜tA6)、TH制御部84は、ヒーター部材53の温度が第1の温度TAとなるように発熱用電源83を制御する。
<ステップS16>
TH制御部84は、ヒーター部材53の温度が第1の温度TAとなるまでの時間ΔtAが、所定の閾値時間(ΔtAF)以下かどうかを判断する。
<ステップS17>
時間ΔtAが、所定の閾値時間(ΔtAF)以下の場合(S16:Yes)、すなわち、時間tTHにおいて、制御部94は熱エネルギの印加を終了するように発熱用電源83を制御する。
<ステップS18>
時間ΔtAが、所定の閾値時間(ΔtAF)を超える場合(S16:No)、制御部94は、第1制御モード設定時間(tAset)になるまでは(S18:No)、第1制御モードによる熱エネルギの印加を継続する。すなわち、ステップS16からの処理が繰り返される。
<ステップS19>
第1制御モード設定時間(tAset)が経過すると(S18:Yes)、TH制御部84は、ヒーター部材53の温度が第2の温度TBとなるように発熱用電源83を制御する第2制御モード(tB1〜tA5)に制御モードを変更する。
<ステップS20>
制御部94は、第2制御モード設定時間(tBset)になるまでは(S20:No)、第2制御モードによる熱エネルギの印加を継続する。すなわち、ステップS19からの処理が繰り返される。
一方、第2制御モード設定時間(tBset)が経過すると(S20:Yes)、ステップS15からの処理、すなわち、第1制御モードの処理が再び行われる。
以上の説明のように、処置システム10では、ステップS16において、ヒーター部材53の温度Tが第1の温度TAとなるまでの時間ΔtAが、所定の閾値時間(ΔtAF)以下かどうかを判断することにより、制御部94が熱エネルギの印加を終了するように発熱用電源83を制御する。
図7において、最初の第1制御モード(tA1)においては、ヒーター部材53の温度Tは、HFエネルギ印加モード終了時(t=0(tf))の温度THF(100℃)から上昇するが、第1の温度TAには到達していない。続く、最初の第2制御モード(tA2)においては、温度Tは、更に上昇し、第2の温度TBに到達している。
そして、第1制御モード(tA2)においては、温度Tは第2の温度TBから上昇するが、第1の温度TAには未だ到達していない。第2制御モード(tB2)においては、初期の温度Tが第2の温度TBよりも高いため、温度Tは減少している。第1制御モード(tA3)においては、温度Tは上昇し第1の温度TAに到達する。その後、第2制御モード(tB3、tB4、tB5)においては温度Tは減少し、第1制御モード(tA3、tA5、tA6)においては温度Tは上昇する。
図7に示すように、第1制御モードにおいて、温度Tが上昇し、第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)は、ΔtA4、ΔtA5、ΔtA6と短くなっている。これは、熱エネルギの印加により把持した生体組織の水分が減少し熱容量が小さくなったためである。すなわち、処置の進行による生体組織の状態変化は、第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)により判断可能である。
制御部94は、第1制御モードにおけるヒーター部材53の温度変化に基づいた温度変化パラメータとして、第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)を用いることで、熱エネルギの印加を終了するように発熱用電源83を制御する。
すなわち、処置システム10は、制御部94が、ヒーター部材53が第1の温度TAとなるように制御する第1制御モードと、ヒーター部材53が第1の温度TAよりも低くなるように制御する第2制御モードと、を繰り返し、第1制御モードにおけるヒーター部材53の温度変化に基づいた温度変化パラメータに基づき、熱エネルギの印加を終了する。
処置システム10は、処理している生体組織の種類、大きさ、及び初期水分量等が異なっていても、第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)が所定の閾値時間(ΔtAF)以下になったときに熱エネルギの印加を終了することで、適正な処置が可能である。
すなわち、処置システム10及び処置システム10の作動方法は、把持している生体組織の種類等が異なっていても、生体組織の水分を除去し水素結合により生体組織を接合した後、生体組織に過剰に熱を印加することなく、適切に処置を自動的に完了することができる。このため、処置システム10及び処置システム10の作動方法は、操作性がよい。
なお、第1の温度TAは処置温度、例えば、120℃〜300℃に設定され、第2の温度TBは、例えば、第1の温度TAよりも10℃〜100℃低い、120℃〜300℃に設定される。第2の温度TBが前記範囲内であれば、第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)の検出精度が高いため、適切に処置を完了することができる。また、第2制御モード設定時間(tBset)は、短時間で処理を完了するためには、第1制御モード設定時間(tAset)よりも短いことが好ましい。
なお、温度変化パラメータとして、第1制御モードにおける第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)に替えて、第1制御モードにおける温度変化速度(ΔT/Δt)を用いてもよい。
また、温度変化パラメータとして、第2制御モードにおける第2の温度TBに到達するまでの時間、または、第2制御モードにおける温度変化速度(ΔT/Δt)を用いてもよい。
また温度変化パラメータとして、説明した複数のパラメータを組み合わせて用いてもよい。すなわち、温度変化パラメータには、所定温度に到達するまでの時間、または、温度変化速度の少なくともいずれかを用いることができる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態の処置システム10Aについて説明する。処置システム10Aは、処置システム10と類似しているので、同じ機能の構成要素には同じ符号を付し、説明は省略する。
図8に示すように、処置システム10Aでは、THエネルギ印加モードにおいてはTH制御部84が、ヒーター部材53の温度が第1の温度TAとなるように第1制御モード設定時間(tAset)の間、制御する第1制御モードと、ヒーター部材53が第1の温度TAよりも低くなるように、発熱用電力(TH)の出力を第2制御モード設定時間(tCset)の間、休止するように発熱用電源83を制御する第2制御モードと、を繰り返す。
ヒーター部材53の温度Tは温度Tは、第1制御モード(tA1〜tA6)において上昇し、第2制御モード(tC1〜tC5)において減少する。
処置システム10Aは、処置システム10と同じように、ヒーター部材53の温度変化に基づいた温度変化パラメータとして、第1制御モードにおいて第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)もしくは温度上昇速度(ΔT/Δt)、または、第2制御モードにおいて所定温度TXに到達するまでの時間(ΔTX)もしくは温度減少速度(ΔT/Δt)、を用いることで、熱エネルギの印加を終了するように発熱用電源83を制御する。
処置システム10A及び処置システム10Aの作動方法は、処置システム10と同じ効果を有し、更に、発熱用電源83の制御が簡単である。
<第3実施形態>
次に、第3実施形態の処置システム10Bについて説明する。処置システム10Bは、処置システム10等と類似しているので、同じ機能の構成要素には同じ符号を付し、説明は省略する。
図9に示すように、処置システム10Bは、処置システム10、10Aと同様に、THエネルギ印加モードにおいてはTH制御部84が、ヒーター部材53の温度が第1の温度TAとなるように制御する第1制御モードと、ヒーター部材53が第1の温度TAよりも低い温度となるように制御する第2制御モードと、を繰り返す。
そして、処置システム10Bは、第2制御モードにおいてヒーター部材53の温度が所定の第2の温度TDになると、第1制御モードに切り替わる。このため、第2制御モードの時間(tD)が処置の進行につれて、短くなる。すなわち、図9において、tD5<tD4<tD3、tD2である。なお、第2の温度TDは、処置システム10Aの第2の温度TBと同様の条件で決定される。
処置システム10Bは、処置システム10と同じように、ヒーター部材53の温度変化に基づいた温度変化パラメータとして、第1制御モードにおいて第1の温度TAに到達するまでの時間(ΔTA)もしくは温度上昇速度(ΔT/Δt)、または、第2制御モードにおいて所定温度TXに到達するまでの時間(ΔTX)もしくは温度減少速度(ΔT/Δt)、を用いることで、熱エネルギの印加を終了するように発熱用電源83を制御する。また、処置システム10Bでは、温度変化パラメータとして、第2制御モードの時間(tD)を用いてもよい。
処置システム10B及び処置システム10Bの作動方法は、処置システム10Aと同じ効果を有し、更に、熱エネルギ印加量が小さい第2制御モードの時間(tD)が短いので、処置完了までの時間を短縮することができる
なお、処置システム10Aにおいても、処置システム10Bと同様に、第2制御モードにおいて、発熱用電力(TH)の出力を休止するようにしてもよい。
<第4実施形態>
次に、第4実施形態の処置システム10Cについて説明する。処置システム10Cは、処置システム10〜10Bと類似しているので、同じ機能の構成要素には同じ符号を付し、説明は省略する。
図10に示すように、処置システム10Cの電力供給部12Bは、高周波電源機能と発熱用電源機能とを有する共通電源93と、出力を切り替える切替スイッチ97と、を有する。更に、HFセンサ75の機能とTHセンサ85の機能を有する共通センサ95を有する。
すでに説明したように、実施形態の処置システム10〜10Bでも、高周波電源73と発熱用電源83とが同時に電力を出力することはない。このため、処置システム10Cでは、1台の共通電源93が、制御部94の制御により、高周波電源または発熱用電源として機能する。
すなわち、HF印加モードでは、共通電源93が出力したHFは、切替スイッチ97を介してHF線22a、22bに送られる。一方、TH印加モードでは共通電源93が出力したTHは、切替スイッチ97を介してTH線23に送られる。
なお、共通センサ95も、HFセンサまたはTHセンサとして機能し、共通パネル96は、HFパネルまたはTHパネルとして機能する。
処置システム10C及び処置システム10Cの作動方法は、処置システム10〜10Bと同様の機能を有し、更に構成が簡単である。
なお、処置具11のジョー36a及びジョー36bに、それぞれヒーター部材が配設されている処置システムでは、それぞれのヒーター部材の温度に基づき、それぞれの発熱用電源を制御してもよい。また、2つのヒーター部材の平均温度に基づき、1つの発熱用電源で制御してもよい。
<第5実施形態>
次に、第5実施形態の処置システム10Dについて説明する。処置システム10Dは、処置システム10等と類似しているので、同じ機能の構成要素には同じ符号を付し、説明は省略する。
図11に示すように、処置システム10Dでは、処置具11Dの一対の把持部材が、第1発熱素子(ヒーター部材53A)を有する第1把持部材(ジョー36a)と、第2発熱素子(ヒーター部材53B)を有する第2把持部材(ジョー36b)と、からなる。そして、処置システム10Dは、第1制御モードではヒーター部材53Aに、前記第2制御モードではヒーター部材53Bに、発熱用電極(TH)を供給するための切替スイッチ87を具備する。
図12に示すように、THエネルギ印加モードが進行すると、第1制御モード(t1set)ではヒーター部材53Aの温度が上昇し、ヒーター部材53Bの温度が下降する。一方、第2制御モード(t2set)ではヒーター部材53Bの温度が上昇し、ヒーター部材53Aの温度が下降する。
制御部94は、第1制御モードにおけるヒーター部材53Aまたは53bの温度変化パラメータに加えて、第2制御モードにおけるヒーター部材53Aまたは53bの温度変化パラメータに基づき、熱エネルギの印加を終了する。
すでに説明したように、温度変化パラメータとしては、ヒーター部材53A、53bの温度Tが第1の温度TAに上昇するまでの時間ΔtAまたは温度上昇速度(ΔT/Δt)等を用いることができる。更に、温度変化パラメータとしては、ヒーター部材53A、53bの温度Tが所定の温度にまで減少するまでの時間または減少速度等を用いることもできる。
処置システム10D及び処置システム10Dの作動方法は、処置システム10等と同じ効果を有し、更に発熱用電源からTHが連続して処置具に出力されるため、処置時間が短い。また、生体組織を両側から加熱するため、加熱むらが発生しにくい。
なお、処置システム10Dにおいても、処置システム10Cのように、高周波電源機能と発熱用電源機能とを有する共通電源93を用いることもできる。
すなわち、本発明は上述した実施形態等に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲において、種々の変更、改変等ができる。
本出願は、2011年12月12日に米国に出願された出願番号61/569、336を優先権主張の基礎として出願するものであり、上記の開示内容は、本願明細書、請求の範囲、図面に引用されたものとする。

Claims (18)

  1. 高周波電力を出力する高周波電源と、
    発熱用電力を出力する発熱用電源と、
    生体組織に前記高周波電力を高周波電力エネルギとして印加す導電体と、前記生体組織に前記発熱用電力を熱エネルギとして印加す発熱素子と、を有す把持部材と、
    前記高周波電力エネルギ印加終了後に、前記熱エネルギの印加を開始するように前記高周波電源及び前記発熱用電源を制御するとともに、前記熱エネルギの印加開始後は、前記発熱素子が第1の温度となるように制御する第1制御モードと、前記発熱素子が第1の温度よりも低くなるように制御する第2制御モードと、を繰り返し、前記第1制御モードまたは前記第2制御モードにおける前記発熱素子の温度変化に基づいた温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加を終了するように前記発熱用電源を制御する制御部と、を具備することを特徴とする処置システム。
  2. 前記温度変化パラメータが、前記発熱素子が所定温度に到達するまでの時間、または、前記発熱素子の温度変化速度の少なくともいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の処置システム。
  3. 前記高周波電力のインピーダンス変化に基づき前記生体組織の細胞膜の破壊処理の完了を検知すると高周波電力エネルギの印加を終了し、前記熱エネルギの印加により前記生体組織の水分を除去し水素結合により前記生体組織を接合することを特徴とする請求項2に記載の処置システム。
  4. 前記第2制御モードにおいて、前記発熱素子が第2の温度となるように制御することを特徴とする請求項に記載の処置システム。
  5. 前記第2制御モードにおいて前記発熱素子が所定温度になると、前記第1制御モードに切り替わることを特徴とする請求項に記載の処置システム。
  6. 前記温度変化パラメータが、前記第2制御モードの時間であることを特徴とする請求項5に記載の処置システム。
  7. 前記高周波電源と前記発熱用電源とが共通の電源からなることを特徴とする請求項2に記載の処置システム。
  8. 前記把持部材が、第1発熱素子を有する第1把持部材と、第2発熱素子を有する第2把持部材と、からなり、
    前記第1制御モードでは前記第1発熱素子に、前記第2制御モードでは前記第2発熱素子に、前記発熱用電力を供給するための切替スイッチを具備し、
    前記第1制御モードにおける前記第1発熱素子または前記第2発熱素子の前記温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加を終了することを特徴とする請求項2に記載の処置システム。
  9. 前記高周波電力のインピーダンス変化に基づき前記生体組織の細胞膜の破壊処理の完了を検知すると高周波電力エネルギの印加を終了し、前記熱エネルギの印加により前記生体組織の水分を除去し水素結合により前記生体組織を接合することを特徴とする請求項2に記載の処置システム。
  10. 前記高周波電源と前記発熱用電源とが共通の電源からなることを特徴とする請求項2に記載の処置システム。
  11. 高周波電力エネルギと熱エネルギとを印加する把持部材と、前記高周波電力エネルギを印加するための高周波電力を出力する高周波電源と、前記熱エネルギを印加するための発熱用電力を出力する発熱用電源と、を具備する処置システムの前記高周波電源が、前記高周波電力を、前記把持部材の電極に印加するように制御部が制御するステップと、
    前記制御部による前記高周波電力エネルギの印加終了制御後に、前記制御部が、前記熱エネルギを印加するための発熱素子が第1の温度となるように制御する第1制御モードと、前記発熱素子が第1の温度よりも低くなるように制御する第2制御モードと、を繰り返すことで、前記熱エネルギを印加しながら、前記第1制御モードまたは前記第2制御モードにおける前記発熱素子の温度変化に基づいて温度変化パラメータが前記制御部により取得されるステップと、
    前記制御部が、前記温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加終了するように前記発熱用電源を制御するステップと、を具備することを特徴とする処置システムの作動方法。
  12. 前記温度変化パラメータが、前記発熱素子が所定温度に到達するまでの時間、または、前記発熱素子の温度変化速度の少なくともいずれかであることを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法
  13. 前記第2制御モードにおいて、前記発熱素子が第2の温度となるように制御されることを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法。
  14. 前記第2制御モードにおいて前記発熱素子が所定温度になると、前記第1制御モードに切り替わることを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法。
  15. 前記温度変化パラメータが、前記第2制御モードの時間であることを特徴とする請求項14に記載の処置システムの作動方法。
  16. 前記高周波電源と前記発熱用電源とが共通の電源からなることを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法。
  17. 前記把持部材が、第1発熱素子を有する第1把持部材と、第2発熱素子を有する第2把持部材と、からなり、
    前記第1制御モードでは前記第1発熱素子に、前記第2制御モードでは前記第2発熱素子に、前記発熱用電力を供給するための切替スイッチを具備し、
    前記第1制御モードにおける前記第1発熱素子または前記第2発熱素子の前記温度変化パラメータに応じて、前記熱エネルギの印加終了することを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法。
  18. 前記高周波電源と前記発熱用電源とが共通の電源からなることを特徴とする請求項11に記載の処置システムの作動方法。
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