JP5422346B2 - 多重電極を使用したビーム生成装置及び輸送装置 - Google Patents
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Description
所定の出力エネルギーより高エネルギーを有し、且つ所定の電流密度より高電流密度を有するビームを引き出す多重引出口を有するプラズマ電極とビーム引出電極とを含むイオン源と、前記イオン源と離隔して平行に配置され、前記ビームを減速させながらエネルギーを減らす多重口構造の第1減速電極と、前記第1減速電極と離隔して平行に配置され、前記減速されたビームを集束する多重口構造の静電レンズと、前記静電レンズと離隔して平行に配置され、前記集束されたビームを再び減速させながら、印加された電圧によって前記ビームの最終エネルギーを制御する多重口構造の第2減速電極とを含む。
また、前記第1減速電極によってつくられるビームのエネルギーは、700eV〜1200eV間に維持することが好ましい。
また、前記第1及び第2減速電極の厚さは、2mm〜3mmであることが好ましい。
また、前記生成装置は、少なくとも3個以上の減速電極と2個以上の静電レンズを含み、前記減速電極と静電レンズは相互に離隔して平行に配置することもできる。
また、前記低エネルギービームを集束するために使用される電圧は、1000V以下が好ましい。
また、前記イオンビームレンズ間の間隔は、10mm以上であることが好ましい。
また、前記加速・減速電極を構成する物質は、銅またはステンレススチールであることが好ましい。
また、イオンビームの面積と形状を多様にすることができ、大面積のイオンビームを得ることができる電極構造を維持するために、電極の厚さを充分に厚くでき、また電極の間隔も余裕をもって維持することができる効果がある。
前記イオン源10は、多重引出口を有するプラズマ電極11とビーム引出電極12とからなり、所望するエネルギーより高いエネルギーを有する高エネルギービームを引き出す。ここで、引き出されるエネルギービームは、最終的につくろうとするビームのエネルギーよりさらに大きいエネルギーのビームを意味する。したがって、高エネルギー・低エネルギーの基準は、可変的であるが、高エネルギービームの場合、エネルギーが2000eV以上のビームであることが好ましく、最終的につくろうとするビームのエネルギーは100eV以下であることが好ましい。
本発明の他の実施例によると、多重電極を使用した低エネルギー・大電流・大面積ビーム生成装置は、少なくとも3個以上の減速電極と2個以上の静電レンズを含み、前記減速電極と静電レンズは、相互に離隔して平行に配置することもできる。前記減速電極の種類と厚さ、そして前記静電レンズと減速電極間の間隔は、前記したとおりで、これに対する説明は省略する。
プラズマ電極11には、50V、ビーム引出電極12には−2950V、第1減速電極20には−950V、静電レンズ30の中心には−50V、両サイドには−950V、第2減速電極40には0V、集束電極51には700V、接地電極52には0Vをそれぞれ印加する。
Claims (5)
- 所定の出力エネルギーより高エネルギーを有し、且つ所定の電流密度より高電流密度を有するビームを引き出す多重引出口を有するプラズマ電極とビーム引出電極とを含むイオン源と、
前記イオン源と離隔して平行に配置され、前記ビームを減速させながらエネルギーを減らす多重口構造の第1減速電極と、
前記第1減速電極と離隔して平行に配置されて前記減速されたビームを集束する多重口構造の静電レンズと、
前記静電レンズと離隔して平行に配置されて前記集束されたビームを再び減速させながら、印加された電圧によって前記ビームの最終エネルギーを制御する多重口構造の第2減速電極とを含み、
前記高エネルギービームは、2000eV以上のエネルギーを有し、前記所定の出力エネルギーは100eV以下であり、
前記第1及び第2減速電極の厚さが、2mm〜3mmである多重電極を使用したビーム生成装置を含む、ビームを輸送する装置であって、
前記第2減速電極と離隔して平行に配置されて、一対の多重口構造の加速電極及び減速電極で構成されたイオンビームレンズを連続的に配列してビーム電流の損失を減らしながら所定の位置まで輸送し、
前記第1減速電極と前記静電レンズとの間隔が、3mm〜5mmであり、前記静電レンズと前記第2減速電極との間隔が、3mm〜5mmであることを特徴とする、ビーム輸送装置。 - 前記イオンビームレンズの運転電圧が、1000V以下であることを特徴とする、請求項1に記載の多重電極を使用したビーム輸送装置。
- 前記第2減速電極と前記イオンビームレンズとの間隔が、5mm〜10mmで、連続的に配列される複数の前記イオンビームレンズ間の間隔は、10mm以上であることを特徴とする、請求項1に記載の多重電極を使用したビーム輸送装置。
- 前記第1及び第2減速電極を構成する物質が、銅またはステンレススチールであることを特徴とする、請求項1に記載の多重電極を使用したビーム輸送装置。
- 前記多重電極を使用したビーム生成装置が、少なくとも3個以上の減速電極と2個以上の静電レンズを含み、前記減速電極と静電レンズは相互に離隔して平行に配置されることを特徴とする、請求項1に記載の多重電極を使用したビーム輸送装置。
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JPH0582083A (ja) * | 1991-07-23 | 1993-04-02 | Nissin Electric Co Ltd | 質量分離機構を備えたイオン源 |
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JP2006004780A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Toshiba Corp | 負イオン源 |
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