JP5414497B2 - Manufacturing method of rubber roller - Google Patents

Manufacturing method of rubber roller Download PDF

Info

Publication number
JP5414497B2
JP5414497B2 JP2009281732A JP2009281732A JP5414497B2 JP 5414497 B2 JP5414497 B2 JP 5414497B2 JP 2009281732 A JP2009281732 A JP 2009281732A JP 2009281732 A JP2009281732 A JP 2009281732A JP 5414497 B2 JP5414497 B2 JP 5414497B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
roller
conductive
mask member
shape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009281732A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011123357A5 (en
JP2011123357A (en
Inventor
之則 永田
敏郎 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2009281732A priority Critical patent/JP5414497B2/en
Publication of JP2011123357A publication Critical patent/JP2011123357A/en
Publication of JP2011123357A5 publication Critical patent/JP2011123357A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5414497B2 publication Critical patent/JP5414497B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electrophotography Configuration And Component (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は電子写真プロセスを利用した画像形成装置に用いる導電性のゴムローラの製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a conductive rubber roller used in an image forming apparatus using an electrophotographic process.

電子写真プロセスを用いた画像形成装置において帯電ローラ等に使用される、芯金の周囲に導電性加硫ゴム層を有する導電性ゴムローラが有する課題として、苛酷な環境(40℃/90%RH)に置かれたときに、導電性加硫ゴム層から低分子量の成分が染み出してくる、所謂ブリードがある。ゴムローラの表面にブリードした低分子量成分が、感光体ドラムの表面に移行した場合、感光体ドラム周面の均一な帯電を妨げ、高品位な電子写真画像の形成に影響を与えることがある。かかる課題に対して、特許文献3は、ゴムローラの周面に電子線を照射して導電性加硫ゴム層の表面に固化層を形成する方法を開示している。   As a problem of a conductive rubber roller having a conductive vulcanized rubber layer around a core metal used for a charging roller or the like in an image forming apparatus using an electrophotographic process, a harsh environment (40 ° C./90% RH) There is a so-called bleed in which low-molecular-weight components ooze out from the conductive vulcanized rubber layer when placed on the surface. When the low molecular weight component bleed on the surface of the rubber roller migrates to the surface of the photosensitive drum, it may interfere with uniform charging of the peripheral surface of the photosensitive drum and affect the formation of a high-quality electrophotographic image. In response to this problem, Patent Document 3 discloses a method of forming a solidified layer on the surface of a conductive vulcanized rubber layer by irradiating the peripheral surface of a rubber roller with an electron beam.

特開平8−292640号公報JP-A-8-292640 特開平8−283578号公報JP-A-8-283578 特開平9−160355号公報JP-A-9-160355 特開2002−3651号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3651

しかしながら、本発明者らの検討によれば、表面に電子線を照射して固化層を形成してなる導電性加硫ゴム層を有するゴムローラは、表面硬度が上昇してしまうことがあった。その結果、導電性ゴムローラの長期の使用に伴って、表面においてトナーや外添剤等の固着物の層が形成されていき、高品位な電子写真画像の形成に良くない影響を与えることがあった。
そこで、本発明の目的は、導電性加硫ゴム層の硬度上昇を抑えつつ、導電性加硫ゴム層中の低分子量成分が導電性ゴムローラの表面への染み出しを抑制することのできる導電性ローラの製造方法を提供することにある。
However, according to the study by the present inventors, the surface hardness of a rubber roller having a conductive vulcanized rubber layer formed by irradiating the surface with an electron beam to form a solidified layer sometimes increases. As a result, with the long-term use of the conductive rubber roller, a layer of fixed matter such as toner and external additives is formed on the surface, which may adversely affect the formation of high-quality electrophotographic images. It was.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a conductive material capable of suppressing the seepage of the conductive rubber roller to the surface of the conductive rubber roller while suppressing an increase in the hardness of the conductive vulcanized rubber layer. It is in providing the manufacturing method of a roller.

本発明に係る導電性ローラの製造方法は、芯金と、表面に硬度の異なる領域をパターン状に有する導電性加硫ゴム層とを有する導電性ローラの製造方法であって、
芯金の周囲に形成した導電性加硫ゴム層の周面に、電子線の透過率の異なる部分がパターン状に配置されてなるマスク部材を介して電子線を照射し、該導電性加硫ゴム層の表面に電子線の照射強度の差に由来する硬度の異なる領域を形成する工程を有することを特徴とする。
The method for producing a conductive roller according to the present invention is a method for producing a conductive roller having a cored bar and a conductive vulcanized rubber layer having a pattern of regions having different hardness on the surface,
The conductive vulcanized rubber layer formed around the core metal is irradiated with an electron beam through a mask member in which portions having different electron beam transmittances are arranged in a pattern on the peripheral surface of the conductive vulcanized rubber layer. It has the process of forming the area | region where hardness differs derived from the difference of the irradiation intensity | strength of an electron beam on the surface of a rubber layer.

本発明によれば、トナー等の導電性ローラの表面への付着、および、低分子量化合物等の表面への染み出しを抑制した導電性ローラを製造できる。   According to the present invention, it is possible to manufacture a conductive roller that suppresses adhesion of toner or the like to the surface of the conductive roller and exudation of a low molecular weight compound or the like to the surface.

押出機の模式図である。It is a schematic diagram of an extruder. 電子線照射装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of an electron beam irradiation apparatus. 電子線照射装置の回転、搬送機構の概略を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the outline of rotation of an electron beam irradiation apparatus and a conveyance mechanism. 電子線照射装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of an electron beam irradiation apparatus. マスク部材の一例を表す模式図(スリット形状)である。It is a schematic diagram (slit shape) showing an example of a mask member. マスク部材の一例を表す模式図(凹凸形状)である。It is a schematic diagram (uneven shape) showing an example of a mask member. マスク部材の一例を表す模式図(円孔形状)である。It is a schematic diagram (circular hole shape) showing an example of a mask member. マスク部材の一例を表す模式図(メッシュ形状)である。It is a schematic diagram (mesh shape) showing an example of a mask member. 本発明に係る帯電ゴムローラ断面と、表面の硬度分布の示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the charged rubber roller cross section which concerns on this invention, and the hardness distribution of the surface. 画像形成装置の概略を示す構成図である。1 is a configuration diagram illustrating an outline of an image forming apparatus.

以下、本発明の導電性ローラ(帯電ローラ)の実施形態について詳細に説明する。まず、導電性ローラとしては芯金上に導電性弾性層が設けられた構成を有する。その導電性ローラの成形方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、円筒金型に同心に軸状の芯金を保持する2つの円筒駒を組み、ゴム材料を注入後加熱することにより材料を硬化させて導電性ローラを成形する射出成形が挙げられる。また、例えば、ゴム材料をチューブ状に押出した後、芯金にチューブ状のゴム材料を被せる、或いは芯金とゴム材料を一体に押出して円筒状の導電性ローラを成形する押出成形、トランスファー成形、プレス成形等が挙げられる。製造時間の短縮を考えるとゴム材料を芯金と一体に押出して導電性ローラを成形する押出成形が好ましい。   Hereinafter, embodiments of the conductive roller (charging roller) of the present invention will be described in detail. First, the conductive roller has a configuration in which a conductive elastic layer is provided on a cored bar. The method for forming the conductive roller is not particularly limited. For example, two cylindrical pieces concentrically holding a shaft core are assembled in a cylindrical mold, and heated after injecting a rubber material. Injection molding in which the material is cured to form a conductive roller. Also, for example, after extrusion of a rubber material into a tube shape, the core metal is covered with the tube-shaped rubber material, or the core metal and the rubber material are integrally extruded to form a cylindrical conductive roller. And press molding. In view of shortening the manufacturing time, extrusion molding in which a rubber material is extruded integrally with a core metal to form a conductive roller is preferable.

ここで、図1には押出機の模式図を示す。押出機1はクロスヘッド2を備える。クロスヘッドは芯金送りローラ3によって送られた芯金4を後ろから挿入でき、芯金と同時に円筒状のゴム材料を一体に押出すことができる。ゴム材料を芯金の周囲に円筒状に成形した後に、端部を切断・除去処理5を行い、導電性ローラ6を得る。上記の芯金として使用する材質は、ニッケルメッキしたSUM材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒が好ましい。   Here, FIG. 1 shows a schematic diagram of an extruder. The extruder 1 includes a crosshead 2. The crosshead can insert the cored bar 4 fed by the cored bar feed roller 3 from behind, and can simultaneously extrude the cylindrical rubber material simultaneously with the cored bar. After the rubber material is formed into a cylindrical shape around the core metal, the end portion is cut and removed 5 to obtain the conductive roller 6. The material used as the metal core is preferably a stainless steel bar, a phosphor bronze bar, an aluminum bar, or a heat-resistant resin bar containing a steel material such as nickel-plated SUM.

また、芯金上に設けられたゴム層は導電性の弾性層である。ゴム材料としては天然ゴム、ブタジエンゴム、ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ブチルゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッソゴム、塩素ゴム等が挙げられる。また、ゴム層中に分散させる導電粉としてはカーボンブラックや金属粉が挙げられる。   The rubber layer provided on the cored bar is a conductive elastic layer. Examples of the rubber material include natural rubber, butadiene rubber, hydrin rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, ethylene-propylene rubber, butyl rubber, silicone rubber, urethane rubber, fluorine rubber, and chlorine rubber. Examples of the conductive powder dispersed in the rubber layer include carbon black and metal powder.

導電性ローラの加熱方法に関しては、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法でも良く、更に加熱状態の円筒状または平面状の部材に回転させながら押し当てる方法を用いても良い。   As for the method of heating the conductive roller, any method such as a hot stove, vulcanizer, hot platen, far / near infrared ray, induction heating, etc. may be used, and further, it is pushed while rotating on a heated cylindrical or planar member. A hitting method may be used.

次に、本発明に用いることのできる電子線照射装置の概略構成図を図2に示して詳細に説明する。図2は、本発明に用いることのできる電子線照射装置の例の概略構成図である。また、図2に示す装置は、導電性ローラを回転させながらローラ表面に電子線を照射する機構を有する。図2に示すように、電子線照射装置は電子線発生部7と電子線照射室8と電子線照射口9とを備えている。電子線照射口には照射口箔13が設けられている。   Next, a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus that can be used in the present invention will be described in detail with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of an electron beam irradiation apparatus that can be used in the present invention. The apparatus shown in FIG. 2 has a mechanism for irradiating the surface of the roller with an electron beam while rotating the conductive roller. As shown in FIG. 2, the electron beam irradiation apparatus includes an electron beam generator 7, an electron beam irradiation chamber 8, and an electron beam irradiation port 9. An irradiation port foil 13 is provided at the electron beam irradiation port.

電子線発生部は、電子線を発生するターミナル10と、ターミナルで発生した電子線を真空空間(加速空間)で加速する加速管11とを有するものである。また電子線発生部の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、真空ポンプ等により10-6〜10-7Torrの真空に保たれている。 The electron beam generator includes a terminal 10 that generates an electron beam, and an acceleration tube 11 that accelerates the electron beam generated at the terminal in a vacuum space (acceleration space). Further, the inside of the electron beam generating part is kept at a vacuum of 10 −6 to 10 −7 Torr by a vacuum pump or the like in order to prevent electrons from colliding with gas molecules and losing energy.

電源によりフィラメント12に電流を通じて加熱するとフィラメントは熱電子を放出し、この熱電子のうち、ターミナルを通過したものだけが電子線として有効に取り出される。そして、電子線の加速電圧により加速管内の加速空間で加速された後、照射口箔13を突き抜け、照射口の下方の照射室内を搬送されるローラに照射される。   When the filament 12 is heated by a power source through current, the filament emits thermoelectrons, and only those thermoelectrons that have passed through the terminal are effectively taken out as electron beams. Then, after being accelerated in an accelerating space in the accelerating tube by an accelerating voltage of an electron beam, it penetrates the irradiation port foil 13 and is irradiated to a roller conveyed in an irradiation chamber below the irradiation port.

ローラに電子線を照射する場合、照射室の内部雰囲気は特に限定しないが、一般的には窒素雰囲気又は空気雰囲気である。また、ローラは後述する機構で回転させながら、照射室内を搬送手段により、図2において左側から右側に移動する。ローラの搬送方法としては、順送りでもピッチ送りでもよいが、連続的に電子線を照射させることを考慮すると順送りの方が好ましい。ローラの回転数としては、電子線の照射時間にもよるが、照射時間が短いことを考慮すると100〜3000rpmが好ましい。尚、電子線発生部及び照射室の周囲は電子線照射時に二次的に発生するX線が外部へ漏出しないような材料で遮蔽されている。一般的には鉛で遮蔽されている。   When irradiating an electron beam to a roller, the internal atmosphere of the irradiation chamber is not particularly limited, but is generally a nitrogen atmosphere or an air atmosphere. In addition, the roller is moved from the left side to the right side in FIG. As a method for conveying the rollers, either forward feed or pitch feed may be used, but forward feed is preferable in consideration of continuous electron beam irradiation. The number of rotations of the roller is preferably 100 to 3000 rpm in consideration of the short irradiation time, although it depends on the irradiation time of the electron beam. Note that the periphery of the electron beam generator and the irradiation chamber is shielded by a material that does not leak X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation. Generally it is shielded with lead.

照射口箔は金属箔からなり、電子線発生部内の真空雰囲気と照射室内の空気雰囲気とを仕切るものであり、また照射口箔を介して照射室内に電子線を取り出すものである。ローラの照射に電子線を応用する場合においては、ローラに電子線を照射する照射室の内部は窒素雰囲気又は空気雰囲気である。したがって、電子線発生部と照射室との境界に設ける照射口箔としては、ピンホールがなく、電子線発生部内の真空雰囲気を十分維持できる機械的強度があり、しかも、電子線が透過しやすいように比重が小さく、肉厚の薄い金属が望ましい。例えば、照射口箔に使用される金属として厚さ約5〜15μm程度のチタンがよく使用される。なお、本実施例では、最大加速電圧150kV・最大電子電流40mAの電子線照射装置(岩崎電気株式会社製)を用いて行った。   The irradiation port foil is made of a metal foil, and partitions the vacuum atmosphere in the electron beam generator and the air atmosphere in the irradiation chamber, and takes out the electron beam into the irradiation chamber through the irradiation port foil. When an electron beam is applied to the irradiation of the roller, the inside of the irradiation chamber for irradiating the roller with the electron beam is a nitrogen atmosphere or an air atmosphere. Therefore, the irradiation opening foil provided at the boundary between the electron beam generating part and the irradiation chamber has no pinhole, has a mechanical strength that can sufficiently maintain the vacuum atmosphere in the electron beam generating part, and easily transmits the electron beam. Thus, a metal having a small specific gravity and a small thickness is desirable. For example, titanium having a thickness of about 5 to 15 μm is often used as a metal used for the irradiation port foil. In this example, an electron beam irradiation apparatus (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) having a maximum acceleration voltage of 150 kV and a maximum electron current of 40 mA was used.

ここで、電子線の透過深さについて説明する。電子線の透過深さは、加速電圧と照射される物質の密度から算出され、下記で定義される。
透過深さ(μm)=0.0667×{加速電圧(kV)}5/3/物質の密度(g/cm3
Here, the transmission depth of the electron beam will be described. The penetration depth of the electron beam is calculated from the acceleration voltage and the density of the irradiated material, and is defined below.
Permeation depth (μm) = 0.0667 × {acceleration voltage (kV)} 5/3 / material density (g / cm 3 )

電子線の透過深さは、電子線による改質の指標の一つになる。算出された透過深さまで電子線が到達して改質が行われる。また、電子線の線量は下記で定義される。
線量(kGy)=[装置定数K×電子電流(mA)]/処理スピード(m/min)
The penetration depth of the electron beam is one of the indexes of modification by the electron beam. The electron beam reaches the calculated penetration depth and the modification is performed. The electron beam dose is defined below.
Dose (kGy) = [equipment constant K × electron current (mA)] / processing speed (m / min)

ここで、装置定数Kは、装置個々の効率を表す定数であって、装置の性能の指標となる。例えば本来、電子線照射装置では、K=18以上とする。したがって、一定の電子電流と処理スピードに対して、加速電圧を変えて線量を測定し、これから得られる装置定数Kが所定の値以上になるような加速電圧を求めることより、加速電圧についての制限が得られる。   Here, the device constant K is a constant representing the efficiency of each device, and serves as an index of device performance. For example, in an electron beam irradiation apparatus, K = 18 or more is inherently set. Therefore, for a certain electron current and processing speed, the acceleration voltage is changed, the dose is measured, and the acceleration voltage is determined by obtaining the acceleration voltage so that the device constant K obtained from this is a predetermined value or more. Is obtained.

電子線の線量については、表面処理の効果に応じて適宜選択すれば良い。その調節は、電子電流、処理スピードのいずれでも行うことが可能であり、所望の線量が得られるように決めればよい。本実施態様では、あらかじめ線量フィルムを用いてある電子電流・処理スピードでの線量を測定し装置定数Kを算出して、それを基に電子線の線量を算出した。また、導電性ローラの表面に直接、電子線を照射する場合には線量としては、100〜3000kGyが好ましい。   What is necessary is just to select suitably about the dose of an electron beam according to the effect of surface treatment. The adjustment can be performed by either the electronic current or the processing speed, and it may be determined so as to obtain a desired dose. In this embodiment, the dose at an electron current / processing speed is measured in advance using a dose film, the device constant K is calculated, and the dose of the electron beam is calculated based on the device constant K. In addition, when the surface of the conductive roller is directly irradiated with an electron beam, the dose is preferably 100 to 3000 kGy.

ここで、本発明の導電性ゴムローラの製造方法である電子線照射方法について更に詳細に説明する。導電性加硫ゴム層のゴム材料としては、上記に示しているが、電子線の照射によるゴムローラ表面の改質・硬化を考慮すると、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ヒドリンゴムが好ましい。これらのゴムに電子線が照射されると、ポリマーの結合が切断されると共に、架橋が進行することで、高架橋、高硬度になる。高架橋化することにより、低分子量化合物などの染み出しを少なくすることができる。   Here, the electron beam irradiation method, which is a method for producing the conductive rubber roller of the present invention, will be described in more detail. The rubber material for the conductive vulcanized rubber layer is shown above, but considering the modification and curing of the rubber roller surface by electron beam irradiation, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, ethylene-propylene rubber Hydrin rubber is preferred. When these rubbers are irradiated with an electron beam, the bonds between the polymers are broken and the crosslinking proceeds, resulting in high crosslinking and high hardness. By carrying out high crosslinking, it is possible to reduce the seepage of low molecular weight compounds.

電子線の加速電圧については、50〜300kVが好ましい。加速電圧が300kV以下とすることにより、導電性ローラ表面の硬度が大きくなりすぎない。そのため、導電性ローラの表面とトナー又はトナーに付着している外添剤等との圧力が大きくなって押し潰されることがなくなり、導電性ローラが汚れないように容易にすることができる。更に電子線照射装置としても小型化を図ることができる。また、加速電圧が50kV以上とすることにより、導電性ローラ表面からの電子線の透過深さを深くでき、硬度を十分に上げることができる。そのため、導電性弾性層からの低分子量化合物等の染み出しを容易に防ぐことができ、導電性ローラ表面及び感光体ドラム表面が汚れないように容易にすることができる。   The acceleration voltage of the electron beam is preferably 50 to 300 kV. By setting the acceleration voltage to 300 kV or less, the hardness of the surface of the conductive roller does not become too large. For this reason, the pressure between the surface of the conductive roller and the toner or the external additive attached to the toner does not become crushed and the conductive roller can be easily prevented from becoming dirty. Further, the electron beam irradiation apparatus can be downsized. Moreover, by setting the acceleration voltage to 50 kV or more, the penetration depth of the electron beam from the surface of the conductive roller can be increased, and the hardness can be sufficiently increased. Therefore, it is possible to easily prevent the low molecular weight compound or the like from seeping out from the conductive elastic layer, and it is possible to easily prevent the surface of the conductive roller and the surface of the photosensitive drum from being soiled.

マスク部材を配置する場合の電子線照射装置内の導電性ローラの送り、回転機構としては、図2,3或いは図4に模式的に示すような装置を用いることができる。なお、図3には図2の搬送部分だけを抜き出した平面図を示したものである。   As the feeding and rotating mechanism of the conductive roller in the electron beam irradiation apparatus when the mask member is disposed, an apparatus schematically shown in FIG. 2, 3 or FIG. 4 can be used. FIG. 3 shows a plan view in which only the conveying portion of FIG. 2 is extracted.

図3において、14はマスク部材であり、円筒形状を有する。マスク部材14は、円筒形状に部材を形成したもの、又はシート状のマスク部材をまるめて円筒形状にしたものでもよい。ワーク保持部材15はワークを保持すると共に同軸上に円筒形状のマスク部材を保持することができる。また、片端に設けられたスプロケット18をチェーン17で駆動することによって、ワークと同期して回転することが可能である。以上からなるワーク保持冶具は搬送用のチェーン16に複数個取り付けられ、電子線照射口9を一定速度でとおりぬけることができる。また、ワークの回転速度はチェーン16と17の速度差によって任意に調整可能である。ワークの回転速度としては200rpm以上1000rpm以下が好ましく、ワークの送り速度は0.1m/min以上5m/min以下に調整できることが好ましい。   In FIG. 3, reference numeral 14 denotes a mask member having a cylindrical shape. The mask member 14 may be a member in which a member is formed in a cylindrical shape, or a member in which a sheet-like mask member is rounded into a cylindrical shape. The work holding member 15 can hold a work and can hold a cylindrical mask member coaxially. Further, by driving the sprocket 18 provided at one end with the chain 17, it is possible to rotate in synchronization with the workpiece. A plurality of workpiece holding jigs as described above are attached to the transfer chain 16 and can pass through the electron beam irradiation port 9 at a constant speed. Further, the rotation speed of the workpiece can be arbitrarily adjusted by the speed difference between the chains 16 and 17. The rotation speed of the workpiece is preferably 200 rpm or more and 1000 rpm or less, and the workpiece feeding speed is preferably adjustable to 0.1 m / min or more and 5 m / min or less.

また、図4には、別の構造の照射装置を示した。図4において、マスク部材14は平板状であり、電子線照射口の下部に固定して置かれる。ワーク保持冶具の回転速度(周速)はワーク送り速度と同一に設定し、かつ回転方向を電子線照射口から見てワーク送り方向と逆方向にワークを回転させることで、マスク部材の位置とローラの表面の位置は概ね一対一の対応になる。つまり、マスク部材のパターンをほぼ転写させた照射強度分布を持つ電子線でローラを処理することと同等のことが可能となる。ワーク回転方向のパターンがきちんと転写されるようにするため、ワーク保持冶具の回転速度とワーク送り速度を同一に設定することが好ましい。また、二重にパターンが転写されることを防ぐため、マスク部材の幅はワークの外周と同一長さにすることが好ましい。さらにはマスク部材以外の部分から電子線が照射されないように覆いをつけることが好ましい。   FIG. 4 shows an irradiation apparatus having another structure. In FIG. 4, the mask member 14 has a flat plate shape and is fixedly placed under the electron beam irradiation port. The rotation speed (peripheral speed) of the workpiece holding jig is set to be the same as the workpiece feed speed, and the workpiece is rotated in the direction opposite to the workpiece feed direction when the rotation direction is viewed from the electron beam irradiation port. The position of the surface of the roller has a one-to-one correspondence. That is, it is possible to perform the same operation as processing a roller with an electron beam having an irradiation intensity distribution to which a pattern of a mask member is almost transferred. In order to transfer the pattern in the workpiece rotation direction properly, it is preferable to set the rotation speed of the workpiece holding jig and the workpiece feeding speed to be the same. In order to prevent the pattern from being transferred twice, the width of the mask member is preferably the same as the outer circumference of the workpiece. Furthermore, it is preferable that a cover is provided so that an electron beam is not irradiated from a portion other than the mask member.

また、電子線照射口は矩形であることが好ましく、電子線照射口の長手方向の長さは、導電性加硫ゴム層の長手方向の長さ以上であることが好ましい。特に好ましくは、ローラの全長よりも20mmから100mm程度長いと良い。つまり、搬送するゴムローラと平行方向の電子線照射口の幅を導電性加硫ゴム層の長手方向の長さ以上とすることにより、一度のゴムローラの通過で導電性加硫ゴム層に電子線照射を行うことができる。また、電子線照射口の短手方向の長さは、導電性加硫ゴム層の外周と同一の長さにすることが好ましい。これは、上述のように、二重にパターンが転写されることを防ぐためである。   The electron beam irradiation port is preferably rectangular, and the length of the electron beam irradiation port in the longitudinal direction is preferably equal to or longer than the length of the conductive vulcanized rubber layer in the longitudinal direction. Particularly preferably, the length is about 20 mm to 100 mm longer than the entire length of the roller. In other words, by setting the width of the electron beam irradiation port in the direction parallel to the rubber roller to be conveyed to be equal to or longer than the length of the conductive vulcanized rubber layer in the longitudinal direction, the conductive vulcanized rubber layer is irradiated with the electron beam once through the rubber roller. It can be performed. Moreover, it is preferable that the length of the electron beam irradiation port in the short direction is the same as the outer circumference of the conductive vulcanized rubber layer. This is to prevent the pattern from being transferred twice as described above.

ただし、図5のようにローラ送り方向に同一断面形状となるパターンのマスク部材を用いる場合には、ワーク回転速度とワーク送り速度を同一に設定しなくてもマスク部材のパターンを転写させることが可能である。   However, when using a mask member having a pattern having the same cross-sectional shape in the roller feed direction as shown in FIG. 5, the mask member pattern can be transferred without setting the work rotation speed and the work feed speed to be the same. Is possible.

また、ローラを回転させなくても、ローラの円周方向から均一に電子線を照射する装置を用いて処理を行っても良い(例えば、アイリングビーム 岩崎電気株式会社製)。その場合には、円筒状のマスク部材をローラの周囲に配置し、円筒状の照射空間を通すだけでローラ全面にマスク部材のパターンを転写させることができる。   Further, the treatment may be performed using an apparatus that uniformly irradiates an electron beam from the circumferential direction of the roller without rotating the roller (for example, Eyring Beam manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.). In that case, the pattern of the mask member can be transferred to the entire surface of the roller simply by disposing the cylindrical mask member around the roller and passing the cylindrical irradiation space.

マスク部材は、同じ形状の穴や凹凸が少なくとも一つの方向に等間隔で繰り返されている、つまり構成部及び開口部又は薄膜部及び厚膜部からなる構成単位が少なくとも一つの方向に繰り返されるパターン形状を有する。   The mask member has a pattern in which holes and irregularities of the same shape are repeated at equal intervals in at least one direction, that is, a structural unit consisting of a constituent part and an opening part or a thin film part and a thick film part is repeated in at least one direction. Has a shape.

パターンの形状としては、例えば図5〜図8に示す構成例を挙げることができる。   Examples of the shape of the pattern include configuration examples shown in FIGS.

例えば図5に示すマスク部材19は、スリット形状に開口部が設けられている。また、線AA’の間の構成単位が繰り返し並べて形成されたパターン形状を有する。図5に示すマスク部材を用いることにより、上述のように、電子線の照射を容易に行うことができる。つまり、例えば図4に示す電子線照射装置の電子線照射口にマスク部材19を配置しておくことにより、ゴムローラを回転させながら電子線照射口の下を通過させるだけで、導電性加硫ゴム層に高硬度領域と低硬度領域を形成することができる。この際、ゴムローラの搬送速度や回転速度を調整したり、電子線照射口の寸法を選択したりする必要はない。したがって、マスク部材は、その薄膜部又は開口部はスリット形状に設けられていることが好ましい。   For example, the mask member 19 shown in FIG. 5 is provided with an opening in a slit shape. Further, the structural units between the lines AA ′ have a pattern shape formed by repeatedly arranging them. By using the mask member shown in FIG. 5, the electron beam can be easily irradiated as described above. That is, for example, by arranging the mask member 19 at the electron beam irradiation port of the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 4, the conductive vulcanized rubber can be passed only by passing under the electron beam irradiation port while rotating the rubber roller. High hardness regions and low hardness regions can be formed in the layer. At this time, it is not necessary to adjust the conveyance speed or rotation speed of the rubber roller or to select the size of the electron beam irradiation port. Therefore, the mask member is preferably provided with a slit shape in the thin film portion or opening.

例えば図6に示すマスク部材20は、薄膜部と厚膜部からなる凹凸形状であって、格子形状に厚膜部を設けたパターン形状を有する。また、線AA’BB’で囲まれた構成単位が繰り返し並べて形成されたパターン形状を有する。なお、マスク部材20は、四角形状の薄膜部を等間隔に繰り返し並べたパターン形状としても認識できる。   For example, the mask member 20 shown in FIG. 6 has an uneven shape composed of a thin film portion and a thick film portion, and has a pattern shape in which the thick film portion is provided in a lattice shape. In addition, it has a pattern shape in which structural units surrounded by a line AA'BB 'are repeatedly arranged. The mask member 20 can also be recognized as a pattern shape in which rectangular thin film portions are repeatedly arranged at equal intervals.

例えば図7に示すマスク部材21は、円形状の開口部が等間隔に設けられている。また、線AA’BB’で囲まれた構成単位が繰り返し並べて形成されたパターン形状を有する。   For example, the mask member 21 shown in FIG. 7 has circular openings provided at equal intervals. In addition, it has a pattern shape in which structural units surrounded by a line AA'BB 'are repeatedly arranged.

例えば図8に示すマスク部材22は、構成部はメッシュ形状であり、開口部は四角形状である。また、線AA’BB’で囲まれた構成単位が繰り返し並べて形成されたパターン形状を有する。また、四角形状としては、例えば正方形、長方形などが挙げられる。   For example, as for the mask member 22 shown in FIG. 8, a structure part is mesh shape and an opening part is square shape. In addition, it has a pattern shape in which structural units surrounded by a line AA'BB 'are repeatedly arranged. In addition, examples of the quadrangular shape include a square and a rectangle.

図5乃至8に示すように、開口部又は薄膜部は、例えば、スリット形状、円形状(楕円も含む)、四角形状にすることができる。また、構成部は、例えばメッシュ形状、格子形状とすることができる。厚膜部は、例えば格子形状とすることができる。   As shown in FIGS. 5 to 8, the opening or the thin film portion can be formed in, for example, a slit shape, a circular shape (including an ellipse), or a rectangular shape. Moreover, a structure part can be made into mesh shape and a lattice shape, for example. The thick film portion can be formed in a lattice shape, for example.

マスク部材は電子線の透過率が異なる部分がパターン状に配置されている。すなわち、マスク部材の開口部又は薄膜部は、マスク部材の構成部又は厚膜部よりも電子線の透過率が高い。そのため、マスク部材の開口部又は薄膜部においては電子線がより透過し、導電性加硫ゴム層表面における電子線の照射強度に差を設けることができる。したがって、マスク部材の膜厚差あるいは開口形状によって電子線の照射強度の差に由来するパターン状に差を設けることができるため、マスク部材の開口部或いは薄膜部のパターンと近似するパターンの高硬度領域がローラ表面に形成される。つまり、電子線の照射により、ローラ表面の開口部又は薄膜部に対応する位置に高硬度領域を形成することができる。マスク部材の厚膜部に相当する部分では内部とほぼ同一か、僅かに高硬度の状態となるが、本明細書中では高硬度領域との比較という意味合いで低硬度領域と呼ぶ。   In the mask member, portions having different electron beam transmittances are arranged in a pattern. That is, the opening or thin film portion of the mask member has a higher electron beam transmittance than the constituent portion or thick film portion of the mask member. Therefore, an electron beam is more permeate | transmitted in the opening part or thin film part of a mask member, and a difference can be provided in the irradiation intensity | strength of the electron beam in a conductive vulcanized rubber layer surface. Therefore, since the difference in pattern derived from the difference in electron beam irradiation intensity can be provided depending on the difference in film thickness of the mask member or the shape of the opening, the high hardness of the pattern approximating the pattern of the opening or thin film in the mask member A region is formed on the roller surface. That is, a high hardness region can be formed at a position corresponding to the opening or thin film portion on the roller surface by irradiation with an electron beam. The portion corresponding to the thick film portion of the mask member is substantially the same as or slightly harder than the inside, but is referred to as a low hardness region in the present specification in the sense of comparison with the high hardness region.

なお、メッシュ形状とは、線材を編んだものを指し、編み方としては一般的な平織、綾織や、平畳織、トンキャップ織、フラットトップ織が挙げられ、或いは亀甲金網や菱形金網などの形状でも良い。   The mesh shape refers to a knitted wire, and examples of the knitting method include general plain weave, twill weave, flat tatami weave, ton cap weave, flat top weave, etc. It may be in shape.

硬度分布を形成するパターンの大きさとしては、パターンの繰り返し幅が20μm以上500μm以下が好ましく、40μm以上200μm以下が特に好ましい。パターンの繰り返し幅を20μm以上とすることにより、繰り返し幅が小さすぎて硬度差が正確に転写されないために表面の柔軟性が不足することを防ぎ易くなる。また、パターンの繰り返し幅を500μm以下とすることにより、繰り返し幅が大きすぎて高硬度の分布が汚れムラなどを引き起こすために画像上に欠陥が現れることを防ぎ易くなる。   As the size of the pattern forming the hardness distribution, the repeating width of the pattern is preferably 20 μm or more and 500 μm or less, and particularly preferably 40 μm or more and 200 μm or less. By making the pattern repeat width 20 μm or more, it becomes easy to prevent the surface flexibility from being insufficient because the repeat width is too small and the hardness difference is not accurately transferred. Also, by setting the pattern repetition width to 500 μm or less, it becomes easy to prevent defects from appearing on the image because the repetition width is too large and the distribution of high hardness causes stain unevenness.

ここで、パターンの繰り返し幅とは、繰り返されるパターンの最小単位形状一つ(開口、凹凸など)を抜き取ったときに、隣に存在するパターンとの距離を指す。方向によって距離が異なる場合には、もっともその距離が小さくなる長さを最小繰り返し長さとする。ある方向にしか繰り返されていない場合には、繰り返されている方向の繰り返し長さである。また、パターンが複雑な形状であったりする場合には、パターンの重心位置を計算し、重心位置同士の距離を計算することで導き出せる。異なるパターンを複数個組み合わせて、組み合わされたパターンを連続的に配置しても良いが、この場合の繰り返し幅は、組み合わされた異なるパターンの重心位置の距離を隣り合うパターン間で求め、平均化した値を代表値とすることができる。   Here, the repeated width of the pattern refers to the distance from the adjacent pattern when one minimum unit shape (opening, unevenness, etc.) of the repeated pattern is extracted. When the distance varies depending on the direction, the length with the smallest distance is set as the minimum repetition length. When repeated only in a certain direction, it is the repeat length in the repeated direction. If the pattern has a complicated shape, it can be derived by calculating the centroid position of the pattern and calculating the distance between the centroid positions. It is possible to combine multiple different patterns and arrange the combined patterns continuously. In this case, the repetition width is obtained by calculating the distance of the center of gravity of different combined patterns between adjacent patterns and averaging them. The value obtained can be used as a representative value.

マスク部材とワークとの距離は、マスク部材のパターンをより正確に転写させるためには、近いほうが良い。ただし、あまり近すぎると接触する恐れがあるため、好ましくは0.5mm〜10mm、より好ましくは0.5mm〜2mmである。   The distance between the mask member and the workpiece is preferably close in order to transfer the mask member pattern more accurately. However, since it may contact if it is too close, it is preferably 0.5 mm to 10 mm, more preferably 0.5 mm to 2 mm.

マスク部材によって表面近傍に微細な硬度分布をパターン状に形成することで、高硬度の部分、つまり高架橋な部分ではゴムローラからの低分子量化合物等の染み出しが低減される。また、高硬度部と比較して低硬度な部分、つまり低架橋な部分が存在することで、ゴムローラの表面近傍の過度の高硬度化を抑制して、トナー及びトナーに付着している外添剤等のゴムローラ表面の汚れ防止を図ることができる。   By forming a fine hardness distribution in the vicinity of the surface with the mask member, the seepage of a low molecular weight compound or the like from the rubber roller is reduced in a high hardness portion, that is, a highly crosslinked portion. In addition, the presence of a portion having a low hardness compared to the high hardness portion, that is, a low cross-linking portion, suppresses excessively high hardness in the vicinity of the surface of the rubber roller, and externally attached to the toner and the toner. It is possible to prevent dirt on the surface of the rubber roller such as an agent.

表面近傍の硬度が抑制されるのは、高硬度領域が膜として振舞うのではなく、高硬度領域の間にある低硬度領域が柔軟さを有し、容易に変形できるためと考えられる。したがって、ミクロ的に見ると高硬度領域が多く存在するが、マクロ的な挙動としては低硬度で柔軟性があると考えられる。   The reason why the hardness in the vicinity of the surface is suppressed is that the high hardness region does not behave as a film, but the low hardness region between the high hardness regions has flexibility and can be easily deformed. Therefore, although there are many high hardness regions when viewed microscopically, it is considered that the macroscopic behavior is low hardness and flexible.

また、本発明に係る製造方法により得られる導電性ローラの表面硬度は、測定端子が大きいと、同じ照射条件で全面に電子線を照射して高硬度化した場合よりも小さい値が得られる。   In addition, the surface hardness of the conductive roller obtained by the manufacturing method according to the present invention is smaller when the measurement terminal is large than when the entire surface is irradiated with an electron beam under the same irradiation conditions to increase the hardness.

以上のような特性は、全面に電子線を1回照射して製造する方法では条件を調整しても達成できない。   The above characteristics cannot be achieved by adjusting the conditions in the method of manufacturing by irradiating the entire surface with an electron beam once.

また、高硬度の材料と低硬度の材料をブレンドしてローラを形成したものと比較すると、ブレンドしたものだと内部まで高硬度の部分が存在するため、本発明により得られるローラと比較すると全体としての硬度が高くなってしまう。そのため、ローラによっては柔軟性が足りない場合もある。また、ロットによるばらつきや、ローラ一本内でのばらつきが大きい場合もあるため、本発明の方がよりローラ表面の硬度を最適化することができる。   In addition, when compared with a roller formed by blending a high hardness material and a low hardness material, the blended material has a portion with high hardness to the inside. As a result, the hardness will increase. Therefore, some rollers may not have enough flexibility. In addition, since there may be large variations among lots or within a single roller, the present invention can further optimize the hardness of the roller surface.

マスク部材の材質としては特に制限は無いが、電子線に対して耐久強度があり、電子線透過方向の厚みの加工精度が出しやすいもので、チタン、ステンレス、アルミニウム、銀、セラミック、ガラス、ポリスチレン等が好ましい。また、耐久強度を考慮するとチタンがより好ましい。   There are no particular restrictions on the material of the mask member, but it has durability against electron beams and is easy to achieve processing accuracy in the direction of electron beam transmission. Titanium, stainless steel, aluminum, silver, ceramic, glass, polystyrene Etc. are preferred. In view of durability, titanium is more preferable.

これらの材質の比重と膜厚から透過する電子線の強さが計算できるため、所望の強度で照射されるように、膜厚部と薄膜部の厚さを選択することができる。   Since the intensity of the transmitted electron beam can be calculated from the specific gravity and the film thickness of these materials, the thickness of the film thickness portion and the thin film portion can be selected so that irradiation is performed with a desired intensity.

また、電子線の照射は、マスク部材を介して照射した後に、再びマスク部材を介さないで照射しても良い。また、マスク部材を介して照射する前に、予め若干の電子線照射を実施してもよい。さらには、紫外線照射、プラズマ照射等と組合せても良い。   Further, the electron beam may be irradiated through the mask member and then again without the mask member. Moreover, you may carry out some electron beam irradiation previously before irradiating through a mask member. Furthermore, you may combine with ultraviolet irradiation, plasma irradiation, etc.

マスク部材のパターンは長手方向に異なるものを組み合わせても良く、また一部に異なるパターンの領域を設けても良い。また、規則性のある繰り返しパターンそれぞれの位置にランダム状のばらつきをわざと与えてずらしたものを用いても良い。   Different mask member patterns may be combined in the longitudinal direction, or regions of different patterns may be provided in part. Alternatively, a pattern in which random variations are intentionally shifted at the positions of regular repeating patterns may be used.

また、マスク部材が平板状の場合は、その形状が長方形であるものを配しても良いし、繋ぎ目が目立たないように平行四辺形であるものを配しても良い。   In addition, when the mask member is flat, a mask having a rectangular shape may be arranged, or a parallelogram may be arranged so that the joint is not conspicuous.

本発明の実施の形態である導電性ローラの製造方法により得られた導電性ローラは、LBP(Laser Beam Printer)、複写機又はファクシミリ等の画像形成装置の電子写真用部材として用いられる。ここでは、帯電ローラとして用いた場合の使用形態を図10に示した。画像形成装置は、回転ドラム型・転写方式の電子写真装置であって、26は像担持体としての電子写真感光体(感光ドラム)であり、時計方向に所定の周速度(プロセススピード)をもって回転駆動される。感光ドラムは、その回転過程で帯電手段としての電源E1から帯電バイアスを印加した帯電ローラ27により周面が所定の極性・電位(本実施例では−500V)に一様帯電処理される。次いで、露光系28により目的の画像情報に対応したネガ画像露光(原稿像のアナログ露光、デジタル走査露光)を受けて周面に目的画像情報の静電潜像が形成される。次いで、その静電潜像がマイナストナーによる反転現像方式のトナー現像ローラ29によりトナー画像として現像される。そして、感光ドラムと転写手段としての転写ローラ30との間の転写部に不図示の給紙手段から所定のタイミングで転写材が給送され、感光ドラム面の反転現像されたトナー像が転写材に対して順次転写されていく。転写ローラに対しては電源E2から約+2〜3KVの転写バイアスが印加される。トナー画像の転写を受けた転写材は、感光ドラム面から分離されて不図示の定着手段へ導入されて像定着処理を受ける。トナー画像転写後の感光ドラム面は、クリーニング手段31で転写残りトナー等の付着汚染物の除去処理を受けて清浄面化されて繰り返して作像に供される。   The conductive roller obtained by the conductive roller manufacturing method according to the embodiment of the present invention is used as an electrophotographic member of an image forming apparatus such as an LBP (Laser Beam Printer), a copying machine, or a facsimile. Here, FIG. 10 shows a usage pattern when used as a charging roller. The image forming apparatus is a rotating drum type / transfer type electrophotographic apparatus, and 26 is an electrophotographic photosensitive member (photosensitive drum) as an image carrier, which rotates clockwise with a predetermined peripheral speed (process speed). Driven. The photosensitive drum is uniformly charged to a predetermined polarity and potential (-500 V in this embodiment) by a charging roller 27 to which a charging bias is applied from a power source E1 as a charging means during the rotation process. Next, the exposure system 28 receives negative image exposure (analog exposure of the original image, digital scanning exposure) corresponding to the target image information, and an electrostatic latent image of the target image information is formed on the peripheral surface. Next, the electrostatic latent image is developed as a toner image by a toner developing roller 29 of a reverse developing method using minus toner. Then, a transfer material is fed at a predetermined timing from a sheet feeding means (not shown) to a transfer portion between the photosensitive drum and a transfer roller 30 as a transfer means, and a toner image that is reversely developed on the surface of the photosensitive drum is transferred to the transfer material. Are sequentially transferred. A transfer bias of about +2 to 3 KV is applied to the transfer roller from the power source E2. The transfer material that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the photosensitive drum and introduced into fixing means (not shown) to undergo image fixing processing. The surface of the photosensitive drum after the transfer of the toner image is subjected to a removal process of adhering contaminants such as transfer residual toner by the cleaning unit 31 to be cleaned and repeatedly used for image formation.

本発明の実施の形態で述べた帯電ローラは、芯金と、芯金上に形成した導電性弾性層を有する導電性ローラである。本発明では、芯金上の導電性加硫ゴム層の表面にマスク部材を介して電子線を、加速電圧50〜300kVの範囲内で、マスク部材を介して電子線を照射することが好ましい。その結果、帯電ローラの表面近傍の硬度分布を制御して、トナー及びトナーに付着している外添剤等のローラ表面の汚れを防ぎ、且つローラからの低分子量化合物等の染み出しを防止して感光体ドラムに対しても汚染しない帯電ローラを提供することができる。また、本発明は芯金上の導電性弾性層の表面に電子線を照射するだけで帯電ローラを提供できるので量産性にも優れる。さらには、同一の加硫ゴムローラから照射条件、マスク部材の変更等で種々の導電性ローラを得ることが可能であり、高品質な導電性ローラを安定して低コストで製造することが可能である。   The charging roller described in the embodiment of the present invention is a conductive roller having a cored bar and a conductive elastic layer formed on the cored bar. In the present invention, it is preferable to irradiate the surface of the conductive vulcanized rubber layer on the core metal with an electron beam through a mask member and an electron beam through the mask member within an acceleration voltage range of 50 to 300 kV. As a result, the hardness distribution near the surface of the charging roller is controlled to prevent contamination of the roller surface such as toner and external additives adhering to the toner, and also prevent the low molecular weight compound from exuding from the roller. Thus, it is possible to provide a charging roller that does not contaminate the photosensitive drum. In addition, the present invention can provide a charging roller only by irradiating the surface of the conductive elastic layer on the core metal with an electron beam, and thus is excellent in mass productivity. Furthermore, it is possible to obtain various conductive rollers from the same vulcanized rubber roller by changing irradiation conditions, mask members, etc., and it is possible to stably manufacture high-quality conductive rollers at low cost. is there.

図9に本発明で得られた帯電ローラ断面と表面の硬度分布の概念図を示す。23は芯金、25は導電性弾性層、24はマスク部材を介して電子線が強く照射され、高硬度化した部分を示している。マスク部材として例えばメッシュ形状のものを使用した場合、内部或いは電子線が強く照射されなかった部分に関しては高硬度化はしておらず、ほぼ照射前の硬度を維持しているものと考えられる。   FIG. 9 is a conceptual diagram of the charging roller cross section and surface hardness distribution obtained in the present invention. Reference numeral 23 denotes a metal core, 25 denotes a conductive elastic layer, and 24 denotes a portion hardened by electron beam irradiation through a mask member. For example, when a mesh member having a mesh shape is used as the mask member, the hardness of the inside or the portion where the electron beam is not strongly irradiated is not increased, and it is considered that the hardness before irradiation is substantially maintained.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

[実施例1〜6]
〈ゴムローラの作製〉
以下の原料を加圧式ニーダーで15分間混練した。
・NBR 100質量部
(商品名「Nipol DN219」:日本ゼオン社製)
・カーボンブラック1 14質量部
(商品名「旭HS−500」:旭カーボン社製)
・カーボンブラック2 4質量部
(商品名「ケッチェンブラックEC600JD」:ライオン社製)
・ステアリン酸亜鉛 1質量部
・酸化亜鉛 5質量部
・炭酸カルシウム 30質量部
(商品名「ナノックス#30」:丸尾カルシウム社製)
[Examples 1 to 6]
<Production of rubber roller>
The following raw materials were kneaded with a pressure kneader for 15 minutes.
・ NBR 100 parts by mass (trade name “Nipol DN219”: manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
・ 14 parts by mass of carbon black 1 (trade name “Asahi HS-500” manufactured by Asahi Carbon Co., Ltd.)
Carbon black 2 4 parts by mass (trade name “Ketjen Black EC600JD” manufactured by Lion)
-1 part by weight of zinc stearate-5 parts by weight of zinc oxide-30 parts by weight of calcium carbonate (trade name "Nanox # 30" manufactured by Maruo Calcium Co., Ltd.)

更に、加硫促進剤(DM:ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド)1質量部、加硫促進剤(TBzTD:テトラベンジルチウラムジスルフィド)3質量部及び加硫剤(イオウ)1.2質量部を加え、15分間オープンロールで混練して未加硫ゴム組成物を得た。次いで、外径φ6mm、長さ252mmのステンレス棒の芯金を用意した。次いで、クロスヘッド押出機を用いて上記芯金と未加硫ゴム組成物とを一体に押出してゴムローラを成形した。その後、160℃、1時間の加熱加硫を行い、更に回転砥石を用いた乾式研磨、端部の切断・除去処理により、厚み1.25mm、長さ232mmのゴムローラを得た(ゴムローラ外径φ8.5mm)。   Furthermore, 1 part by mass of a vulcanization accelerator (DM: di-2-benzothiazolyl disulfide), 3 parts by mass of a vulcanization accelerator (TBzTD: tetrabenzylthiuram disulfide) and 1.2 parts by mass of a vulcanization agent (sulfur) And kneaded with an open roll for 15 minutes to obtain an unvulcanized rubber composition. Subsequently, a stainless bar core bar having an outer diameter of 6 mm and a length of 252 mm was prepared. Next, the core metal and the unvulcanized rubber composition were integrally extruded using a crosshead extruder to form a rubber roller. Thereafter, heat vulcanization was performed at 160 ° C. for 1 hour, and further, dry polishing using a rotating grindstone and cutting / removal processing of the end portion were performed to obtain a rubber roller having a thickness of 1.25 mm and a length of 232 mm (rubber roller outer diameter φ8 .5 mm).

〈電子線照射方法〉
得られた加硫ゴムローラの表面に電子線を照射して帯電ローラを得た。電子線の照射には、最大加速電圧150kV・最大電子電流40mAの電子線照射装置(岩崎電気株式会社製)を用い、照射時には窒素ガスパージ(酸素濃度は約200ppm)を行った。電子線照射条件は、表1に示す電子線照射条件(加速電圧/電子電流)を用い、約1secの間電子線が照射されるように送り速度を1.5m/minに設定した。ゴムローラの回転速度は500rpmで回転させながら搬送した(ただし、実施例2のみ送り速度0.75m/minとした)。
<Electron beam irradiation method>
The surface of the obtained vulcanized rubber roller was irradiated with an electron beam to obtain a charging roller. For the electron beam irradiation, an electron beam irradiation apparatus (manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) having a maximum acceleration voltage of 150 kV and a maximum electron current of 40 mA was used, and nitrogen gas purge (oxygen concentration was about 200 ppm) was performed during irradiation. As the electron beam irradiation conditions, the electron beam irradiation conditions (acceleration voltage / electron current) shown in Table 1 were used, and the feed rate was set to 1.5 m / min so that the electron beam was irradiated for about 1 sec. The rubber roller was conveyed while being rotated at a rotation speed of 500 rpm (however, only Example 2 was set at a feeding speed of 0.75 m / min).

なお、電子線照射は、ローラの回転と搬送には図2及び3に模式的に示す装置を用い、表1に示すパターンを有する円筒形状のマスク部材を配置して行った。マスク部材の形状はメッシュ形状であり、メッシュの線径と目開き、材質を共に表1に示した。メッシュ形状は図8に模式的に示すように、長さ8a、8bが同一である形状を用いた。網目は平織りである。繰り返し長さは、線径8cと目開き8dを足し合わせたものとなる。円筒形状のマスク部材の直径はφ10mm、長さは240mmのものを用い、加硫ゴムローラと接触させずに全面を覆い、かつ同軸上に配置した。電子線照射孔9からの距離は30mmとした。なお、電子線照射孔9は加硫ゴムローラの長手方向に450mm、送り方向に30mmの開口部を持つ。   The electron beam irradiation was performed by using a device schematically shown in FIGS. 2 and 3 for rotation and conveyance of the roller and arranging a cylindrical mask member having a pattern shown in Table 1. The shape of the mask member is a mesh shape, and the wire diameter, mesh size, and material of the mesh are shown in Table 1. As the mesh shape is schematically shown in FIG. 8, the shapes having the same lengths 8a and 8b were used. The mesh is plain weave. The repetition length is the sum of the wire diameter 8c and the opening 8d. The cylindrical mask member had a diameter of 10 mm and a length of 240 mm, covered the entire surface without being in contact with the vulcanized rubber roller, and was arranged coaxially. The distance from the electron beam irradiation hole 9 was 30 mm. The electron beam irradiation hole 9 has an opening of 450 mm in the longitudinal direction of the vulcanized rubber roller and 30 mm in the feed direction.

Figure 0005414497
Figure 0005414497

〈耐久画像汚れ評価〉
得られた帯電ローラを図10に示す画像形成装置に組込み、感光体ドラムの両端に500gずつの荷重を負荷した状態で圧接し、23.5℃/60%の環境でハーフトーン画像による連続6000枚(6Kと表すことがある)を通して耐久画像汚れ評価を行った。この耐久画像汚れ評価において、下記事項を評価した。得られた結果を表5に示した。
<Durable image dirt evaluation>
The obtained charging roller is incorporated in the image forming apparatus shown in FIG. 10, and is pressed against each end of the photosensitive drum with a load of 500 g applied, and continuously 6000 by a halftone image in an environment of 23.5 ° C./60%. Durability image stain evaluation was performed through sheets (sometimes referred to as 6K). In this durable image stain evaluation, the following items were evaluated. The obtained results are shown in Table 5.

連続通紙6000枚間を耐久画像とした。帯電ローラに固着したトナーや外添剤による、点状もしくは線状の画像不良、或いは帯電ムラによる黒または白の横スジ状の画像不良の有無を目視で観察して検査した。得られた検査結果に基づき、下記基準で画像評価を行った。
A:帯電ローラにトナーや外添剤の付着が起因の画像不良が全く出ていないもの
B:上記の画像不良が極わずかに発生したもの
C:上記の画像不良がわずかに発生したもの
D:上記の画像不良がはっきりと発生したもの
A continuous image of 6000 sheets was used as a durable image. The presence or absence of image defects in the form of dots or lines due to toner or external additives fixed to the charging roller, or image defects in the form of black or white horizontal stripes due to charging unevenness was visually observed and inspected. Based on the obtained inspection results, image evaluation was performed according to the following criteria.
A: No defective image due to adhesion of toner or external additive to the charging roller B: Very little image defect described above C: Some image defect described above D: The above-mentioned image defects clearly occurred

〈Cset画像評価〉
また、上記とは別の帯電ローラを図10に示す画像形成装置に組込み、感光体ドラムの両端に500gずつの荷重を負荷した状態で圧接し、40℃/95%の環境で30日間放置した。放置後、23.5℃/60%の環境でハーフトーン画像による通紙1〜10枚間を初期画像としてCset画像評価を行った。このCset画像評価において、下記事項を評価した。得られた結果を表5に示した。
<Cset image evaluation>
Further, a charging roller different from the above is incorporated in the image forming apparatus shown in FIG. 10, and is pressed with a load of 500 g applied to both ends of the photosensitive drum, and left in an environment of 40 ° C./95% for 30 days. . After standing, Cset image evaluation was performed using 1 to 10 sheets of halftone images as an initial image in an environment of 23.5 ° C./60%. In this Cset image evaluation, the following items were evaluated. The obtained results are shown in Table 5.

帯電ローラの導電性弾性層からの低分子量化合物等の染み出しによる、帯電ローラピッチ及び感光体ドラムピッチの帯電ムラによる黒または白のピッチスジ画像不良の有無を目視で観察して検査した。得られた検査結果に基づき、下記基準で画像評価を行った。
A:帯電ローラからの染み出しが起因の画像不良が全く出ていないもの
B:上記の画像不良が極わずかに発生したもの
C:上記の画像不良がわずかに発生したもの
D:上記の画像不良がはっきりと発生したもの
The presence or absence of black or white pitch streak image defects due to charging roller pitch and photosensitive drum pitch charging unevenness due to seepage of low molecular weight compounds or the like from the conductive elastic layer of the charging roller was visually inspected and inspected. Based on the obtained inspection results, image evaluation was performed according to the following criteria.
A: No image defect due to seepage from the charging roller. B: Very little image defect. C: Some image defect. D: Image defect. What happened clearly

[実施例7〜9]
マスク部材の形状を表2に示すような形状に変更した以外は、実施例1と同様の手順で、加硫ゴムローラを作製し、電子線照射を行って帯電ローラを得た。電子線照射条件等は表1に示した。マスク部材の形状は、図6に模式的に示すような形状であり、四角の形状の凹部を図に示すようなパターンで配置したものである。今回用いたものは6c、6dが等しい正方形形状の凹部であり、厚い部分の厚さを厚さA、薄い部分の厚さを厚さBとし、表1に併せて示した。なお、繰り返し長さとしては6a、6b共に等しいものである。材質としてはポリスチレンのシートを用いた。なお、マスク部材の外寸サイズ、装置内の配置等も実施例と同様である。また、上記の帯電ローラを使用して実施例1と同様に耐久画像汚れ評価とCset画像評価を行った。結果を表5に示す。
[Examples 7 to 9]
A vulcanized rubber roller was produced in the same procedure as in Example 1 except that the shape of the mask member was changed to the shape shown in Table 2, and an electron beam was irradiated to obtain a charging roller. The electron beam irradiation conditions are shown in Table 1. The shape of the mask member is a shape as schematically shown in FIG. 6, and square-shaped concave portions are arranged in a pattern as shown in the drawing. What was used this time is a concave portion having a square shape in which 6c and 6d are equal, and the thickness of the thick portion is A, and the thickness of the thin portion is B, which are also shown in Table 1. Note that the repetition length is the same for both 6a and 6b. A polystyrene sheet was used as the material. The outer size of the mask member, the arrangement in the apparatus, and the like are the same as in the embodiment. Further, using the above charging roller, durability image stain evaluation and Cset image evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

Figure 0005414497
Figure 0005414497

[実施例10]
マスク部材の形状を表3に示すような形状に変更した以外は、実施例1と同様の手順で、加硫ゴムローラの作製し、電子線照射を行って帯電ローラを得た。電子線照射条件等は表1に示した。マスク部材の形状は、図7に模式的に示すような形状であり、円孔が繰り返し長さ7a(=7b)で繰り返し配置されており、円孔の直径7cと併せて表1に示した。マスク部材の外寸サイズ、配置等は実施例1と同様である。また、上記の帯電ローラを使用して実施例1と同様に耐久画像汚れ評価とCset画像評価を行った。結果を表5に示す。
[Example 10]
Except that the shape of the mask member was changed to the shape shown in Table 3, a vulcanized rubber roller was prepared and irradiated with an electron beam in the same procedure as in Example 1 to obtain a charging roller. The electron beam irradiation conditions are shown in Table 1. The shape of the mask member is a shape as schematically shown in FIG. 7, in which circular holes are repeatedly arranged with a repetition length 7a (= 7b), and are shown in Table 1 together with the diameter 7c of the circular holes. . The outer size and arrangement of the mask member are the same as in the first embodiment. Further, using the above charging roller, durability image stain evaluation and Cset image evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

Figure 0005414497
Figure 0005414497

[実施例11〜12]
実施例1と同様の手順でローラを作製した後、図4に模式的に示すような搬送、回転機構を用いた装置を用いて電子線照射を行い、帯電ロールを得た。図4において、マスク部材は平板状の形状であり、ローラ上端からは距離0.5mmの高さに配置してある。ローラがφ8.5mmの外径を持つため、送り速度1m/min、回転速度37.45rpmに設定した。マスク部材の送り方向の幅はローラ外周約一周分である27mmとした。マスク部材の形状は、実施例11では実施例1と同様の形状を持つメッシュを平板状に配置した。実施12では図5に模式的に示すように平板状にローラ送り方向と平行なスリットが開けられた形状のものを用いた。スリット形状の寸法は表4に示すように、繰り返し幅5aで線径5bの金属線が張ってあるものである。平板状のマスク部材は、電子線照射孔から30mmはなれた位置に電子線照射孔と平行に配置し、加硫ゴムローラはその位置から0.75mm下方に電子線照射孔と平行に配置した。また、上記の帯電ローラを使用して実施例1と同様に耐久画像汚れ評価とCset画像評価を行った。結果を表5に示す。
[Examples 11 to 12]
After producing a roller in the same procedure as in Example 1, electron beam irradiation was performed using an apparatus using a conveyance and rotation mechanism as schematically shown in FIG. 4 to obtain a charging roll. In FIG. 4, the mask member has a flat plate shape and is arranged at a height of 0.5 mm from the upper end of the roller. Since the roller had an outer diameter of φ8.5 mm, the feed speed was set to 1 m / min and the rotation speed was set to 37.45 rpm. The width of the mask member in the feed direction was set to 27 mm, which is about one circumference of the roller outer periphery. As for the shape of the mask member, in Example 11, meshes having the same shape as in Example 1 were arranged in a flat plate shape. In Example 12, as shown schematically in FIG. 5, a flat plate having a slit parallel to the roller feeding direction was used. As shown in Table 4, the slit-shaped dimensions are those in which a metal wire having a repetition width 5a and a wire diameter 5b is stretched. The flat mask member was arranged parallel to the electron beam irradiation hole at a position 30 mm away from the electron beam irradiation hole, and the vulcanized rubber roller was arranged 0.75 mm below the position and parallel to the electron beam irradiation hole. Further, using the above charging roller, durability image stain evaluation and Cset image evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

Figure 0005414497
Figure 0005414497

[比較例1〜2]
マスク部材を用いないで電子線を照射した以外は、実施例1と同様の手順で帯電ローラを得た。電子線の照射条件は、比較例1は80KV、35mA、比較例2は150KV、35mAとした。また、上記の帯電ローラを使用して実施例1と同様に耐久画像汚れ評価とCset画像評価を行った。結果を表5に示す。
[Comparative Examples 1-2]
A charging roller was obtained in the same procedure as in Example 1 except that the electron beam was irradiated without using a mask member. The electron beam irradiation conditions were 80 KV and 35 mA for Comparative Example 1 and 150 KV and 35 mA for Comparative Example 2. Further, using the above charging roller, durability image stain evaluation and Cset image evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

[比較例3]
実施例1と同様の手順で加硫ゴムローラを得た。得られた加硫ゴムローラに対し、本比較例では電子線照射は行わずに、紫外線照射を下記に示すような条件で行った。紫外線照射は低圧水銀ランプ(ハリソン東芝ライティング製)を用い、加硫ゴムローラを回転させながらランプと並行に配置して5分間行った。紫外線ランプからの距離は約30mmであり、回転速度は30rpmとした。低圧水銀ランプに関しては、主に254nmの波長を代表とする紫外線で、この時の紫外線積算光量は約10000mJ/cm2であった(紫外線強度は35mW/cm2)。その後、上記の帯電ローラを使用して実施例1と同様に耐久画像汚れ評価とCset画像評価を行った。結果を表5に示す。
[Comparative Example 3]
A vulcanized rubber roller was obtained in the same procedure as in Example 1. In the present comparative example, the obtained vulcanized rubber roller was not irradiated with an electron beam, but irradiated with ultraviolet rays under the following conditions. Ultraviolet irradiation was performed for 5 minutes by using a low-pressure mercury lamp (manufactured by Harrison Toshiba Lighting) and rotating the vulcanized rubber roller in parallel with the lamp. The distance from the ultraviolet lamp was about 30 mm, and the rotation speed was 30 rpm. Regarding the low-pressure mercury lamp, the ultraviolet ray mainly represented by a wavelength of 254 nm was used, and the ultraviolet ray integrated light quantity at this time was about 10,000 mJ / cm 2 (the ultraviolet ray intensity was 35 mW / cm 2 ). Thereafter, using the above-described charging roller, durability image stain evaluation and Cset image evaluation were performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

Figure 0005414497
Figure 0005414497

1 押出機
2 押出機のクロスヘッド
3 芯金送りローラ
4 芯金
5 切断・除去処理
6 ゴムローラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Extruder 2 Extruder crosshead 3 Core metal feed roller 4 Core metal 5 Cutting / removal processing 6 Rubber roller

Claims (6)

芯金と、表面に硬度の異なる領域をパターン状に有する導電性加硫ゴム層とを有する導電性ゴムローラの製造方法であって、
芯金の周囲に形成した導電性加硫ゴム層の周面に、電子線の透過率の異なる部分がパターン状に配置されてなるマスク部材を介して電子線を照射し、該導電性加硫ゴム層の表面に電子線の照射強度の差に由来する硬度の異なる領域を形成する工程を有することを特徴とする導電性ゴムローラの製造方法。
A method for producing a conductive rubber roller having a cored bar and a conductive vulcanized rubber layer having a pattern of regions having different hardness on the surface,
The conductive vulcanized rubber layer formed around the core metal is irradiated with an electron beam through a mask member in which portions having different electron beam transmittances are arranged in a pattern on the peripheral surface of the conductive vulcanized rubber layer. A method for producing a conductive rubber roller, comprising a step of forming regions of different hardness derived from a difference in electron beam irradiation intensity on a surface of a rubber layer.
前記マスク部材が、スリット形状に開口が設けられている請求項1に記載の導電性ゴムローラの製造方法。  The method for manufacturing a conductive rubber roller according to claim 1, wherein the mask member is provided with an opening in a slit shape. 前記マスク部材が、薄膜部と厚膜部からなり、該厚膜部が格子形状に設けられている請求項1に記載の導電性ゴムローラの製造方法。  The method of manufacturing a conductive rubber roller according to claim 1, wherein the mask member includes a thin film portion and a thick film portion, and the thick film portion is provided in a lattice shape. 前記マスク部材が、円形状の開口部が等間隔に設けられている請求項1に記載の導電性ゴムローラの製造方法。  The method for producing a conductive rubber roller according to claim 1, wherein the mask member is provided with circular openings at equal intervals. 前記マスク部材が、メッシュ形状であり、四角形状の開口部を有する請求項1に記載の導電性ゴムローラの製造方法。  The method of manufacturing a conductive rubber roller according to claim 1, wherein the mask member has a mesh shape and has a quadrangular opening. 前記導電性加硫ゴム層が、カーボンブラックとニトリルゴムとを含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電性ゴムローラの製造方法。
The method for producing a conductive rubber roller according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductive vulcanized rubber layer contains carbon black and nitrile rubber.
JP2009281732A 2009-12-11 2009-12-11 Manufacturing method of rubber roller Expired - Fee Related JP5414497B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009281732A JP5414497B2 (en) 2009-12-11 2009-12-11 Manufacturing method of rubber roller

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009281732A JP5414497B2 (en) 2009-12-11 2009-12-11 Manufacturing method of rubber roller

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011123357A JP2011123357A (en) 2011-06-23
JP2011123357A5 JP2011123357A5 (en) 2013-01-24
JP5414497B2 true JP5414497B2 (en) 2014-02-12

Family

ID=44287283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009281732A Expired - Fee Related JP5414497B2 (en) 2009-12-11 2009-12-11 Manufacturing method of rubber roller

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5414497B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6053354B2 (en) * 2011-07-06 2016-12-27 キヤノン株式会社 Charging member, method for manufacturing the same, and electrophotographic apparatus
JP5876684B2 (en) * 2011-08-08 2016-03-02 キヤノン株式会社 Method for manufacturing charging roller and conductive roller
JP6270471B2 (en) * 2013-12-27 2018-01-31 キヤノン株式会社 Method for producing elastic roller
JP2016206457A (en) * 2015-04-23 2016-12-08 住友ゴム工業株式会社 Semiconductive roller
CN110204747A (en) * 2019-06-21 2019-09-06 江南大学 A method of improving rubber roller cushion rubber performance

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08283578A (en) * 1995-04-18 1996-10-29 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive rubber roll and production thereof
JP3714740B2 (en) * 1996-09-30 2005-11-09 信越ポリマー株式会社 Semi-conductive roll
JPH11208921A (en) * 1998-01-27 1999-08-03 Seiko Epson Corp Printer paper feed roller and manufacture thereof
JP2005212372A (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Canon Inc Method and equipment for surface treatment of elastic member
JP4012171B2 (en) * 2004-05-24 2007-11-21 キヤノン株式会社 Conductive member for electrophotography, electrophotographic apparatus and process cartridge
JP4781381B2 (en) * 2008-03-31 2011-09-28 東海ゴム工業株式会社 Elastic material for electrophotographic equipment and member for electrophotographic equipment
JP2010014887A (en) * 2008-07-02 2010-01-21 Canon Chemicals Inc Method for manufacturing conductive roller

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011123357A (en) 2011-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9372429B2 (en) Charging member, manufacturing method for charging member, electrophotographic apparatus, and process cartridge
JP5414497B2 (en) Manufacturing method of rubber roller
JP5220230B1 (en) Charging member, method for manufacturing the same, and electrophotographic apparatus
US8923732B2 (en) Charging member, manufacturing method therefor, and electrophotographic apparatus
JP5875264B2 (en) Method for manufacturing charging member
US8532535B2 (en) Charging member, manufacturing method for charging member, and electrophotographic apparatus
KR101652614B1 (en) Charging member, electrophotographic apparatus, and process cartridge
JP2010256617A (en) Method of manufacturing surface modified rubber roller
JP2007167711A (en) Surface treatment method for rubber roller
JP5511408B2 (en) Method for manufacturing charging member
JP2011053536A (en) Method of manufacturing elastic member
JP2014228800A (en) Method of manufacturing charging member
US9008552B2 (en) Charging member and electrophotographic apparatus
JP5436163B2 (en) Method for manufacturing charging member
JP5876684B2 (en) Method for manufacturing charging roller and conductive roller
JP5075560B2 (en) Ring head and method of manufacturing roller member using the same
JP2005212372A (en) Method and equipment for surface treatment of elastic member
JP6223068B2 (en) Charging member, process cartridge, electrophotographic apparatus, and method of manufacturing charging member
JP2010260256A (en) Method for manufacturing conductive elastic roller
JP2009109737A (en) Method of manufacturing roller member

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121129

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131010

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131015

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131112

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5414497

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees