JP6270471B2 - Method for producing elastic roller - Google Patents
Method for producing elastic roller Download PDFInfo
- Publication number
- JP6270471B2 JP6270471B2 JP2013272757A JP2013272757A JP6270471B2 JP 6270471 B2 JP6270471 B2 JP 6270471B2 JP 2013272757 A JP2013272757 A JP 2013272757A JP 2013272757 A JP2013272757 A JP 2013272757A JP 6270471 B2 JP6270471 B2 JP 6270471B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- elastic layer
- rubber elastic
- rubber
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Electrophotography Configuration And Component (AREA)
Description
本発明は、電子写真画像形成装置に用いることのできる弾性ローラの製造方法に関する。
The present invention relates to the production how the elastic roller can be used in the electrophotographic image forming apparatus.
ゴム弾性層を有する弾性ローラの該ゴム弾性層の表面に電子線を照射することで、該ゴム弾性層の表面側を架橋させ、ゴム弾性層の表面改質を行う方法が知られている(特許文献1)。 A method is known in which the surface of a rubber elastic layer of an elastic roller having a rubber elastic layer is irradiated with an electron beam to crosslink the surface side of the rubber elastic layer, thereby modifying the surface of the rubber elastic layer ( Patent Document 1).
一方、電子線量を簡便に測定する方法として、電子線の照射により着色する透明フィルムを用い、透明フィルムの着色の程度によって照射された電子線量を求める方法が知られている(特許文献2)。 On the other hand, as a method for easily measuring the electron dose, a method is known in which a transparent film that is colored by irradiation with an electron beam is used, and the electron dose irradiated according to the degree of coloring of the transparent film is obtained (Patent Document 2).
本発明者らは、所定の長さのフィラメントを有する電子線照射装置を用いて、芯金の周面を被覆してなるゴム弾性層の表面に対して、芯金の軸方向の所定の幅で電子線を同時に照射することによって、ゴム弾性層の表面を効率的に改質することについて検討してきた。その過程において、電子線を照射したゴム弾性層の表面に、芯金の軸方向における硬度ムラが生じる場合があった。そこで、本発明者らは、かかる硬度ムラを生じさせる原因について究明した。その結果、電子線照射装置のフィラメントの経時的な劣化等により、当該フィラメントからの電子線量が、その長手方向において不均一となる場合があり、それによって、ゴム弾性層の表面改質の程度にムラが生じ、上記の硬度ムラがもたらされたことが分かった。 The inventors use an electron beam irradiation apparatus having a filament of a predetermined length, and have a predetermined width in the axial direction of the core metal with respect to the surface of the rubber elastic layer covering the peripheral surface of the core metal. In this study, the surface of the rubber elastic layer is efficiently modified by simultaneously irradiating with an electron beam. In the process, there was a case where the hardness unevenness in the axial direction of the core metal occurred on the surface of the rubber elastic layer irradiated with the electron beam. Therefore, the present inventors have investigated the cause of such hardness unevenness. As a result, due to deterioration of the filament of the electron beam irradiation device over time, the electron dose from the filament may become non-uniform in the longitudinal direction, thereby reducing the surface modification of the rubber elastic layer. It was found that unevenness occurred and the above hardness unevenness was brought about.
電子線を用いて表面改質を施した電子写真用の弾性ローラの品質向上のためには、上記の硬度ムラの発生を抑制することが必要である。そして、そのためには、ゴム弾性層に照射される電子線量をリアルタイムで観察することが重要であると本発明者らは認識した。 In order to improve the quality of an electrophotographic elastic roller whose surface has been modified using an electron beam, it is necessary to suppress the occurrence of the above-mentioned hardness unevenness. For this purpose, the present inventors have recognized that it is important to observe the electron dose irradiated to the rubber elastic layer in real time.
ここで、電子線量を測定する方法として、特許文献2のように電子線を照射により着色する透明フィルムを用いる方法が知られている。このフィルムの着色の程度から電子線量を算出することは可能である。しかしながら、上記特許文献2に係るフィルム型の線量計は、電子線が照射されたフィルムの着色が安定するまでに5分程度を要し、リアルタイムでの電子線量の測定には適さない。
Here, as a method for measuring the electron dose, a method using a transparent film that is colored by irradiation with an electron beam as in
そこで、本発明の目的は、ゴム弾性層の軸方向の所定の幅に対して電子線を同時に照射してゴム弾性層表面の硬化処理を行う際にゴム弾性層表面の軸方向における硬度ムラの発生を抑制し、高品質な弾性ローラを製造することのできる方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to prevent unevenness of hardness in the axial direction of the rubber elastic layer surface when the rubber elastic layer surface is cured by simultaneously irradiating an electron beam to a predetermined axial width of the rubber elastic layer. An object of the present invention is to provide a method capable of producing a high-quality elastic roller while suppressing generation .
本発明によれば、芯金と、該芯金の周囲に形成されたゴム弾性層とを有し、該ゴム弾性層の表面が電子線により硬化されている弾性ローラの製造方法であって、
芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面の、該芯金の軸方向の全幅に対して、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、照射する電子線照射工程を有し、
該電子線照射工程は、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間を、酸素濃度が1000体積ppm以下の窒素ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該ゴム弾性層の表面と該箔との間の空間部分における該窒素ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の全幅で発生させ、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間の空間部分における該励起光を、該ゴム弾性層の該軸方向の幅全体を含む範囲についてCCDカメラにてモニターすることにより、該ゴム弾性層の該軸方向の全幅における、該ゴム弾性層の表面への電子線の照射状態を観察する工程を含む、
ことを特徴とする弾性ローラの製造方法が提供される。
According to the present invention, there is provided a method for producing an elastic roller having a cored bar and a rubber elastic layer formed around the cored bar, the surface of the rubber elastic layer being cured by an electron beam ,
Of the surface of the rubber elastic layer covering around the metal core, with respect to the axial direction of the full width of the metal core, the electron beam from the electron beam source through the permeable foil electron beam, irradiation An electron beam irradiation process to radiate,
The electron beam irradiation step includes
By irradiating the electron beam between the surface of the rubber elastic layer and the foil in a nitrogen gas atmosphere having an oxygen concentration of 1000 ppm by volume or less, the surface of the rubber elastic layer and the foil Generating excitation light from the nitrogen gas in the space part between the rubber elastic layer in the full axial width ;
By monitoring the excitation light in the space portion between the surface of the rubber elastic layer and the foil with a CCD camera over a range including the entire width of the rubber elastic layer in the axial direction, Observing the irradiation state of the electron beam on the surface of the rubber elastic layer in the full width in the axial direction ,
An elastic roller manufacturing method is provided.
本発明によれば、照射される電子線量をリアルタイムに測定した結果を利用して、弾性ローラの軸方向の電子線量ムラを小さく制御することにより、高品質な弾性ローラを安定して、より簡便な製造工程で製造できる弾性ローラの製造方法を提供することができる。
According to the present invention, a high-quality elastic roller can be stably and more easily controlled by controlling the electron dose unevenness in the axial direction of the elastic roller to be small by using the result of measuring the irradiated electron dose in real time. it is possible to provide a manufacturing how the elastic roller can be produced by Do manufacturing process.
本発明者らは、上記の課題に対し鋭意検討を重ねた結果、電子線照射源と被照射物であるゴムローラとの間の空間を不活性ガスで満たし、電子線の照射による不活性ガスからの励起光を観察することで、ゴムローラの軸方向の所定の幅での電子線の強度分布をリアルタイムでモニターできることを見出し、本発明に至った。 As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have filled the space between the electron beam irradiation source and the rubber roller that is the object to be irradiated with an inert gas, and the inert gas generated by the irradiation of the electron beam. By observing the excitation light, it was found that the intensity distribution of the electron beam at a predetermined width in the axial direction of the rubber roller can be monitored in real time, and the present invention has been achieved.
すなわち、本発明に係る電子写真用の弾性ローラの製造方法は、芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面に、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、該芯金の軸方向の所定の幅の表面に照射する電子線照射工程を有する。そして、該電子線照射工程において、該ゴム弾性層の表面と該箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該不活性ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で発生させ、該励起光の該軸方向における強度分布をモニターする。これにより、例えば、モニター結果を、弾性ローラの軸方向の電子線の強度の調整に反映させることで、ゴム弾性層表面の、軸方向の所定の幅における表面改質の程度のバラつきを小さく抑えることができるようになる。その結果として、高品質な弾性ローラを安定して、効率よく製造することができる。 That is, in the method for producing an electrophotographic elastic roller according to the present invention, a foil capable of transmitting an electron beam from an electron beam source to the surface of a rubber elastic layer covering the periphery of a cored bar. Through an electron beam irradiation step of irradiating the surface of the core bar with a predetermined width in the axial direction. Then, in the electron beam irradiation step, excitation light from the inert gas is emitted by irradiating the electron beam in an inert gas atmosphere between the surface of the rubber elastic layer and the foil. The rubber elastic layer is generated with a predetermined width in the axial direction, and the intensity distribution of the excitation light in the axial direction is monitored. Thereby, for example, by reflecting the monitoring result in the adjustment of the intensity of the electron beam in the axial direction of the elastic roller, the variation in the degree of surface modification in the predetermined width in the axial direction on the surface of the rubber elastic layer is suppressed to a small level. Will be able to. As a result, a high-quality elastic roller can be manufactured stably and efficiently.
<弾性ローラ>
本発明により得られる弾性ローラは、芯金と、ゴム弾性層とを有し、そのゴム弾性層の表面(外周面)が電子線の照射による硬化によって改質されている。この弾性ローラは、例えば、電子写真画像形成装置に用いる電子写真用の弾性ローラとして使用することができる。なお、本明細書では、芯金とゴム弾性層とを有する電子線照射前のローラをゴムローラと称し、芯金と表面改質されたゴム弾性層とを有する電子線照射後のローラを弾性ローラと称する。
<Elastic roller>
The elastic roller obtained by the present invention has a cored bar and a rubber elastic layer, and the surface (outer peripheral surface) of the rubber elastic layer is modified by curing by electron beam irradiation. This elastic roller can be used, for example, as an electrophotographic elastic roller used in an electrophotographic image forming apparatus. In this specification, a roller before electron beam irradiation having a cored bar and a rubber elastic layer is called a rubber roller, and a roller after electron beam irradiation having a cored bar and a surface-modified rubber elastic layer is an elastic roller. Called.
(ゴムローラ)
本発明に用いるゴムローラは、芯金上にゴム弾性層が形成されていれば、芯金の外周面に直接ゴム弾性層が形成されていても良いし、芯金とゴム弾性層との間に他の層(例えば、接着層)が形成されていても良い。
・芯金
ゴムローラの芯金は、電子写真用弾性ローラに用いられる公知の芯金から適宜選択して使用することができるが、その中でも、ニッケルメッキしたSUM材等の鋼材を含むステンレススチール棒、リン青銅棒、アルミニウム棒、耐熱樹脂棒が好ましい。
・ゴム弾性層
ゴムローラのゴム弾性層には、通常、原料ゴムに硫黄等の架橋剤を配合した熱硬化性のゴム材料や、熱可塑性エラストマー等のポリマーから選択された材料からなるバインダー樹脂に、導電性粒子を分散及び複合し、所望の電気抵抗に調整したものが用いられる。
(Rubber roller)
In the rubber roller used in the present invention, as long as a rubber elastic layer is formed on the core metal, the rubber elastic layer may be formed directly on the outer peripheral surface of the core metal, or between the core metal and the rubber elastic layer. Other layers (for example, an adhesive layer) may be formed.
-Core metal The core metal of the rubber roller can be appropriately selected and used from known metal cores used for electrophotographic elastic rollers. Among them, a stainless steel rod containing a steel material such as nickel-plated SUM, Phosphor bronze bars, aluminum bars, and heat resistant resin bars are preferred.
・ Rubber elastic layer The rubber elastic layer of the rubber roller usually has a binder resin made of a material selected from a thermosetting rubber material in which a raw material rubber is blended with a crosslinking agent such as sulfur and a polymer such as a thermoplastic elastomer. A conductive particle dispersed and combined to have a desired electric resistance is used.
バインダー樹脂に用いる原料ゴムとしては、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、ブタジエンゴム(BR)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ブチルゴム(IIR)、エチレン−プロピレン−ジエン3元共重合体ゴム(EPDM)、エピクロルヒドリンホモポリマー(CHC)、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体(CHR)、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル3元共重合体(CHR−AGE)、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(NBR)、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体の水添物(H−NBR)、クロロプレンゴム(CR)、アクリルゴム(ACM、ANM)等を挙げることができる。 The raw rubber used for the binder resin is natural rubber (NR), isoprene rubber (IR), butadiene rubber (BR), styrene-butadiene rubber (SBR), butyl rubber (IIR), ethylene-propylene-diene terpolymer. Rubber (EPDM), epichlorohydrin homopolymer (CHC), epichlorohydrin-ethylene oxide copolymer (CHR), epichlorohydrin-ethylene oxide-allyl glycidyl ether terpolymer (CHR-AGE), acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR) ), Hydrogenated acrylonitrile-butadiene copolymer (H-NBR), chloroprene rubber (CR), acrylic rubber (ACM, ANM) and the like.
熱可塑性エラストマーとしては、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。 Examples of the thermoplastic elastomer include polyolefin-based thermoplastic elastomers, polystyrene-based thermoplastic elastomers, polyester-based thermoplastic elastomers, polyurethane-based thermoplastic elastomers, polyamide-based thermoplastic elastomers, and vinyl chloride-based thermoplastic elastomers.
バインダー樹脂用の材料は、1種を単独で用いても良いし、また2種類以上をブレンドして用いても良い。 As the material for the binder resin, one kind may be used alone, or two or more kinds may be blended and used.
ゴム弾性層中に分散させる導電性粒子としては、ケッチェンブラックEC、アセチレンブラック等の導電性カーボン;SAF、ISAF、HAF、FEF、GPF、SRF、FT、MT等のゴム用カーボン;酸化処理を施したカラー(インク)用カーボン、熱分解カーボン、天然グラファイト、人造グラファイト;酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、銅、銀、酸化スズ等の金属及び金属酸化物等、更にこれらの混合物が挙げられる。 The conductive particles dispersed in the rubber elastic layer include conductive carbon such as Ketjen Black EC and acetylene black; carbon for rubber such as SAF, ISAF, HAF, FEF, GPF, SRF, FT, and MT; oxidation treatment Color (ink) carbon applied, pyrolytic carbon, natural graphite, artificial graphite; metals such as tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, copper, silver, tin oxide, and metal oxides, and also mixtures thereof .
これらの導電性粒子の充填量(使用量)は、バインダー樹脂、導電性粒子、及びその他配合剤の種類に応じて適宜調整することができ、それによって、ゴム弾性層の電気抵抗を所望の値に調整することができる。導電性粒子の使用量は、バインダー樹脂100質量部に対して、例えば、0.5質量部以上100質量部以下とすることができ、さらに、バインダー樹脂100質量部に対して10質量部以上70質量部以下とすることが好ましい。 The filling amount (use amount) of these conductive particles can be appropriately adjusted according to the types of the binder resin, conductive particles, and other compounding agents, and thereby the electric resistance of the rubber elastic layer can be set to a desired value. Can be adjusted. The amount of the conductive particles used can be, for example, 0.5 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin, and further 10 parts by mass or more and 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. It is preferable to set it as a mass part or less.
<電子線照射装置>
本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置について図を用いて説明する。図1は、本発明の弾性ローラの製造方法を説明するための模式図であり、図2及び図3は、本発明の製造方法に用いることができる電子線照射装置の概略構成図である。
本発明の製造方法に用いることのできる電子線照射装置は、電子線源と、チャンバーと、不活性ガス供給手段と、検出手段とを備えることができる。
・電子線源
図2及び図3に示す電子線照射装置では、電子線を発生する電子線源としてのフィラメント11を、電子線発生部14内に有しており、この電子線発生部14は、さらに、このフィラメント11で発生した電子線5を真空空間(加速空間)で加速する加速管12を有している。また、この電子線発生部14の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、不図示の真空ポンプ等により、通常、10−6Pa以上10−7Pa以下の真空に保たれている。
・チャンバー
これらの電子線照射装置は、チャンバーとして、芯金2とゴム弾性層3とからなるゴムローラ1に対して電子線5による表面処理を行うための処理室4を有している。この処理室4は、被処理物が配置される領域と、フィラメント11からの電子線5を透過可能な箔(出射口箔13)とを有する。なお、この箔は、被処理物が配置される領域と、フィラメント11との間、具体的には、処理室4の壁面の一部である、図1に示す出射口8部分に配置されている。また、図2及び図3の装置では、被処理物が配置される領域を有し、この領域に被処理物としてのゴムローラ1が配置されている。
<Electron beam irradiation device>
An electron beam irradiation apparatus that can be used in the production method of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a method for producing an elastic roller of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are schematic configuration diagrams of an electron beam irradiation apparatus that can be used in the production method of the present invention.
The electron beam irradiation apparatus that can be used in the production method of the present invention can include an electron beam source, a chamber, an inert gas supply unit, and a detection unit.
-Electron beam source In the electron beam irradiation apparatus shown in FIG.2 and FIG.3, it has the
Chamber These electron beam irradiation apparatuses have a processing chamber 4 for performing surface treatment with the
出射口箔13は通常金属箔からなり、電子線発生部14内の真空雰囲気と、処理室4内の雰囲気とを仕切るものであり、また出射口箔13を介して処理室4内に電子線5を取り出すものである。よって、電子線発生部14と処理室4との境界に設ける出射口箔13は、ピンホールがなく目的とする気密性を確保でき、電子線発生部14内の真空雰囲気を十分維持できる機械的強度があり、電子線5が透過しやすいことが望ましい。その為、出射口箔13は比重が小さく、肉厚の薄い金属が望ましく、通常、アルミニウム箔やチタン箔、ベリリウム箔が使用される。例えば、厚さ5μm以上15μm以下程度のチタン箔が使用される。
The
被処理物となるゴムローラ1は、例えば、図1に示すように一対の保持軸6により保持され、回転機構7により回転させた状態で処理室4内を不図示の搬送手段により、図2及び3の装置において左側から右側(図1では、図奥方向(紙面垂直下方向))に向かって搬送される。なお、電子線発生部14及び処理室4の周囲は電子線5の照射時に二次的に発生するX線が外部へ漏出しないように、通常、不図示の鉛遮蔽が施されている。
The rubber roller 1 to be processed is, for example, held by a pair of holding shafts 6 as shown in FIG. 1, and is rotated by a
・不活性ガス供給手段
次に、電子線照射装置の不活性ガス供給手段について説明する。不活性ガス供給手段は、チャンバー内の被処理物(被処理物が配置される領域)と箔との間、具体的には、ゴム弾性層の表面と、箔との間の空間を不活性ガス雰囲気にするものである。本発明に用いる不活性ガス供給手段は、上記空間を不活性ガス雰囲気にすることができるものであれば使用することができる。不活性ガス供給手段(不活性ガス供給機構9)は、例えば図2に示すように、処理室4の壁面(例えば天井面)の一部にガス供給口を1箇所以上設ける構成とすることができる。また、不活性ガス供給手段は、例えば図3に示すように、電子線5の出射口箔13の直下(紙面下側)の位置であって、かつ、フィラメント11から照射される電子線5を挟み対向する位置から不活性ガスを供給する構成とすることもできる。
-Inert gas supply means Next, the inert gas supply means of the electron beam irradiation apparatus will be described. The inert gas supply means inactivates the space between the object in the chamber (area where the object is disposed) and the foil, specifically, the space between the surface of the rubber elastic layer and the foil. A gas atmosphere is created. The inert gas supply means used in the present invention can be used as long as the space can be made an inert gas atmosphere. The inert gas supply means (inert gas supply mechanism 9) has a configuration in which one or more gas supply ports are provided in a part of the wall surface (for example, the ceiling surface) of the processing chamber 4 as shown in FIG. it can. Further, the inert gas supply means, for example, as shown in FIG. 3, is an
本発明においては、図3に示す構成の不活性ガス供給機構9を用いることがより好ましい。図2に示す不活性ガス供給機構9では、ガス供給口から噴出される不活性ガスは、出射口箔13とゴムローラ1との間の空間に直に供給はされず、この不活性ガスが移動(図2では、紙面右側に移動)することで間接的にこの空間を不活性ガス雰囲気にしている。一方、図3に示す不活性ガス供給機構9では、不活性ガスが、出射口箔13とゴムローラ1との間の空間に直に供給されるため、移動することなく直接的にこの空間を不活性ガス雰囲気にすることができる。即ち、図3に示す不活性ガス供給機構を用いれば、図2に示す不活性ガス供給機構と比較して、処理室内の不活性ガス濃度が後述する検出手段(モニター機構10)により測定可能となる濃度範囲になるまでの待機時間を、短くすることができる。その結果、長い待機時間による、ゴム弾性層に対する電子線照射のタクトへの影響を一層減らすことができる。
In the present invention, it is more preferable to use the inert
また、図3に示す不活性ガス供給手段では、ガス供給口から供給される不活性ガスは、噴出直後にゴム弾性層3表面に向かって下降する流れとなり、ゴムローラ1のゴム弾性層上部に位置する電子線測定範囲15における不活性ガス濃度のブレをより小さくすることができる。電子線測定範囲15における不活性ガスの濃度変化が小さくなる事で、ゴムローラ1のゴム弾性層3に照射される電子線量をゴムローラの軸方向に亘って精度よく常時モニタリングすることが可能となる。なお、本発明では、図3に示す不活性ガス供給手段だけでなく、電子線測定範囲15での不活性ガス濃度ムラが小さくなる構成の不活性ガス供給手段であればいずれも好適に用いることができる。
Further, in the inert gas supply means shown in FIG. 3, the inert gas supplied from the gas supply port flows downward toward the surface of the rubber
なお、不活性ガスを噴出するガス供給口の形状や寸法は適宜選択することができる。ガス供給口の形状としては、例えば円形状スポットやスリット形状を挙げることができるが、供給する不活性ガスの流速の観点から、スリット形状のガス供給口とすることが好ましい。また、このスリット形状のガス供給口は、不活性ガスから発生する励起光の均一性の観点から、ゴムローラ1におけるゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有することが好ましく、さらに、ゴム弾性層の軸方向と平行(略平行の場合を含む)に配置することが好ましい。 In addition, the shape and dimension of the gas supply port which ejects an inert gas can be selected suitably. Examples of the shape of the gas supply port include a circular spot and a slit shape. From the viewpoint of the flow rate of the inert gas to be supplied, the gas supply port is preferably a slit-shaped gas supply port. The slit-shaped gas supply port preferably has a length equal to or greater than the axial width of the rubber elastic layer in the rubber roller 1 from the viewpoint of uniformity of excitation light generated from the inert gas. It is preferable to arrange in parallel (including the case of being substantially parallel) to the axial direction of the elastic layer.
以上より、本発明では、ゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有しかつこの軸方向と平行に配されるスリット形状のガス供給口から不活性ガスを噴出することによって、上記不活性ガス雰囲気を形成することが好ましい。なお、図3では、このガス供給口が2箇所配置されている。 As described above, in the present invention, the inert gas is ejected from a slit-shaped gas supply port having a length equal to or greater than the width of the rubber elastic layer in the axial direction and parallel to the axial direction. It is preferable to form an active gas atmosphere. In FIG. 3, two gas supply ports are arranged.
・不活性ガス
不活性ガス雰囲気を形成する不活性ガスは、電子線5により測定可能な発光(励起光を発生)するものであれば適宜用いることができる。具体例としては、例えば、窒素、ネオン、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、及びキセノン等が挙げられる。これらの中で、窒素及びネオンは電子線によって可視光域において発光する。また、ヘリウム、アルゴン、クリプトン及びキセノンは電子線によって深紫外光域において発光する。本発明では、これらの不活性ガスのうちの1種を選定し、使用する。上記不活性ガス種の中でも、ハンドリングの容易性、ランニングコスト面から、窒素が好ましい。
-Inert gas The inert gas which forms inert gas atmosphere can be suitably used if it emits light (excitation light is generated) measurable by the
本発明においては、芯金の軸方向の所定の幅で照射される電子線5による不活性ガスからの励起光の強度を安定させ、励起光の強度分布と電子線量の分布との一致度を高める為に、処理室4内の不活性ガス濃度を常に監視しておくことが好ましい。更に、この監視結果に基づいて処理室4内での不活性ガスを所定濃度に制御するための制御機構を電子線照射装置に設けてもよい。
In the present invention, the intensity of the excitation light from the inert gas by the
処理室4内の不活性ガス濃度を測定する方法としては、使用する不活性ガス濃度を測定する代わりに酸素濃度計により酸素濃度を測定する方法、及び、不活性ガス濃度を直接測定する方法等を挙げることができるが、通常、酸素濃度計による方法が使用される。 As a method for measuring the inert gas concentration in the processing chamber 4, a method for measuring the oxygen concentration with an oximeter instead of measuring the inert gas concentration to be used, a method for directly measuring the inert gas concentration, etc. Usually, an oximeter method is used.
不活性ガス濃度の測定方法の一例として、不活性ガスとして窒素を用い、酸素濃度計を使用して不活性ガス濃度を把握する方法について以下に記載する。処理室内に窒素をパージした場合、大気中の成分の大半を窒素と酸素が占めることから、酸素濃度計において、酸素濃度が1000体積ppmと測定されれば、窒素濃度はおおよそ99.9体積%であると言える。また、処理室4内に酸素が多く存在すると、電子線5を照射した際に電子線5のエネルギーにより酸素が分解、結合しオゾンを発生すると考えられる。このオゾンは、装置内の酸化劣化を促進するほか、またゴムローラ1におけるゴム弾性層3の最表面を酸化する場合があり、弾性ローラの所望の硬度等の性能を低下させることがある。
As an example of the measurement method of the inert gas concentration, a method of using nitrogen as the inert gas and grasping the inert gas concentration using an oxygen concentration meter will be described below. When nitrogen is purged into the processing chamber, nitrogen and oxygen occupy most of the components in the atmosphere, so if the oxygen concentration is measured as 1000 ppm by volume in the oxygen concentration meter, the nitrogen concentration is approximately 99.9% by volume. It can be said that. Further, if there is a large amount of oxygen in the processing chamber 4, it is considered that when the
そこで、本発明では、処理室における不活性ガス濃度の変化が、ゴムローラ1におけるゴム弾性層3の改質度合に与える影響を小さくするという観点から、処理室内の酸素濃度を1000体積ppm以下とすることが望ましい。また、この処理室内の酸素濃度は低ければ低いほど、即ち不活性ガス濃度は高ければ高いほど好ましい。
Therefore, in the present invention, from the viewpoint of reducing the influence of the change in the inert gas concentration in the processing chamber on the degree of modification of the rubber
ここで、不活性ガス供給手段からチャンバー内に供給する不活性ガスの流量は、ゴム弾性層3における最表面の改質度合や、電子線5の照射状態をモニターするモニター機構10の精度に応じて適宜選択することができる。この不活性ガスの流量は、例えば、室温(23℃)、圧力(標準大気圧101.325kPa)の条件下で、20L/min以上100L/min以下とすることができる。
Here, the flow rate of the inert gas supplied from the inert gas supply means into the chamber depends on the degree of modification of the outermost surface of the rubber
・励起光の検出手段
不活性ガスからの励起光の検出手段は、被処理物(被処理物が配置される領域)と箔との間の不活性ガスからの電子線による励起光をリアルタイムに検知するものであり、これにより例えば軸方向におけるゴム弾性層に対する電子線の照射状態をリアルタイムでモニターすることができる。図2及び図3に示す電子線照射装置では、この検出手段として、電子線測定範囲15における発光強度分布をモニターする発光強度分布モニター機構10を備えている。この電子線測定範囲15は、電子線5の出射口箔13と、ゴムローラ1におけるゴム弾性層3との間の空間部分に設定される。この電子線測定範囲15の長手方向(図2では紙面に対して垂直な方向)及び短手方向(図2では紙面左右方向)の長さ、並びにこの範囲15の厚さは、ゴムローラ1に照射される電子線5の照射範囲に応じて適宜設定することができる。例えば、電子線測定範囲15の長手方向の長さは、図1に示すように、電子線が照射されるゴム弾性層の軸方向の幅と同じ長さ、またはそれよりも長く設定することができる。
・ Excitation light detection means The excitation light detection means from the inert gas is the real-time excitation light by the electron beam from the inert gas between the object to be processed (area where the object is placed) and the foil. For example, the irradiation state of the electron beam on the rubber elastic layer in the axial direction can be monitored in real time. The electron beam irradiation apparatus shown in FIGS. 2 and 3 includes a light emission intensity
即ち、このモニター機構10では、電子線による不活性ガスの励起光をゴム弾性層の軸方向において、電子線が照射されたゴム弾性層の軸方向の幅全体を含む範囲、例えば、軸方向の長さ200〜350mmで検出することができる。そして、それによって、軸方向におけるゴム弾性層に対する電子線の照射状態、具体的には、ゴムローラ1に対して照射される電子線量を、例えば、このゴム弾性層の軸方向の発光強度分布(輝度分布)としてインラインでリアルタイムに観察できる。なお、電子線の照射状態をインラインで観察(モニター)するとは、製造過程(途中)において電子線の照射状態を自動で観察することを意味し、必要に応じて、その結果を製造操作にリアルタイムでフィードバックすることができる。このインラインのモニター機構では、電子線の照射状態を常時または定期的または断続的に観察することができる。
That is, in the
なお、モニター機構10は、図2及び図3に示すように、例えば、ゴムローラ1の搬送方向側(紙面右側)に配置することができる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
<弾性ローラの製造方法>
本発明に係る、表面改質されたゴム弾性層を有する弾性ローラの製造方法は、ゴムローラのゴム弾性層の表面において、このゴム弾性層の軸方向の所定の幅の領域に電子線源からの電子線を、この電子線を透過可能な箔を介して照射する工程(電子線照射工程)を有する。
そしてこの工程は、ゴムローラのゴム弾性層の表面と、前記箔との間を不活性ガス雰囲気とした状態で、ゴム弾性層の表面におけるゴム弾性層の軸方向の幅全体に同時に、前記電子線を前記箔を介して照射し、前記不活性ガスから励起光を該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で発生させ、該ゴム弾性層の軸方向の所定の幅で該励起光の強度分布をモニターする。
<Method for producing elastic roller>
According to the present invention, there is provided a method for producing an elastic roller having a surface-modified rubber elastic layer, wherein an electron beam source is applied to a region of a predetermined width in the axial direction of the rubber elastic layer on the surface of the rubber elastic layer of the rubber roller. It has the process (electron beam irradiation process) which irradiates an electron beam through the foil which can permeate | transmit this electron beam.
In this step, the electron beam is simultaneously applied to the entire axial width of the rubber elastic layer on the surface of the rubber elastic layer in an inert gas atmosphere between the surface of the rubber elastic layer of the rubber roller and the foil. The excitation light is generated from the inert gas with a predetermined width in the axial direction of the rubber elastic layer, and the intensity distribution of the excitation light with a predetermined width in the axial direction of the rubber elastic layer To monitor.
また、本発明においては、強度分布のモニター結果を電子線の照射条件にフィードバックする工程を有してもよい。 Moreover, in this invention, you may have the process of feeding back the monitoring result of intensity distribution to the irradiation conditions of an electron beam.
以下に、図を用いて、本発明の製造方法を詳細に説明する。 Below, the manufacturing method of this invention is demonstrated in detail using figures.
(表面改質ゴムローラの作製工程)
芯金2の周囲(図1では芯金2の外周面)にゴム弾性層3を有するゴムローラ1は、例えば、公知の成形方法によって芯金2の外周にゴム弾性層を形成し、必要に応じてこのゴム弾性層を加熱及び研磨することで作製することができる。ゴムローラの成形方法は、特に限定されるものではなく、例えば、射出成形、押出成形、トランスファー成形、プレス成形等を用いることができる。ゴムローラの加熱方法も特に限定されるものではなく、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱等のいずれの方法を用いても良く、更に、加熱状態の円筒状または平面状の部材にゴム弾性層を回転させながら押し当てる方法を用いても良い。また、得られたゴムローラを所望のローラ形状、ローラ表面粗さにするために、このゴムローラに回転砥石を用いた乾式研磨を行う場合もある。なお、研磨手段としては、特に限定しないが、砥石が移動して研磨する所謂トラバース方式や、より幅の広い砥石により移動することなしに一括で研磨するプランジ方式がある。
(Production process of surface-modified rubber roller)
The rubber roller 1 having the rubber
(工程a:電子線照射及び不活性ガス励起工程)
上記より得られたゴムローラ1のゴム弾性層3の表面において、このゴム弾性層の軸方向の表面硬化処理が必要とする所定の幅の領域、例えば軸方向のゴム弾性層の全幅に対して、電子線源から発生した電子線5を箔(出射口箔13)を透過させて照射する。この電子線の照射によってゴム弾性層3に表面改質を施す。本発明では、この際、ゴム弾性層3の表面と、出射口箔13との間を不活性ガス雰囲気とした状態で、ゴム弾性層の表面に電子線を照射し、ゴム弾性層の表面の改質を行うとともに、ゴム弾性層と箔との間の不活性ガスから励起光を発生させる。電子線を、ゴム弾性層の表面(具体的には外周面)全体に照射することよって目的とするゴム弾性層の表面改質を行うことができる。その際、ゴム弾性層の表面全体に同時に電子線を照射しても良いし、図1〜3に示すように、ゴム弾性層の周方向の一部かつゴム弾性層の軸方向の幅全体に電子線を照射しながらゴムローラを回転させることで、ゴム弾性層の表面全体に電子線を照射しても良い。また、このゴム弾性層の表面改質は、ゴム弾性層の表面からその近傍領域にまで及んでいても良い。
(Process a: Electron beam irradiation and inert gas excitation process)
On the surface of the rubber
図2及び図3に示す電子線照射装置では、まず、不図示の電源により、フィラメント11に電流を通じて加熱し、このフィラメントから熱電子を放出し、電子線5として有効に取り出す。そして、電子線5の加速電圧により、真空状態に保たれた加速管12内の加速空間で加速した後、電子線発生部14から放出され、出射口箔13を突き抜け(透過し)、出射口8の下方の処理室4内を搬送されるゴムローラ1に照射される。これによって、ゴムローラ1のゴム弾性層3が表面硬化されるとともに、不活性ガス供給機構9により供給された不活性ガスが、この電子線5により励起光を発生する。
In the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 2 and FIG. 3, first, the
なお、電子線5の照射条件は、電子線5の加速電圧と線量によって調整することができる。電子線の加速電圧は、ゴム弾性層3の表面硬化深さに関係し、本発明における加速電圧の条件としては、低エネルギー領域である40kV以上300kV以下の範囲が好ましい。40kV以上であれば、本発明の効果を容易に得る為の充分な硬化厚みを得ることができる。また、300kV以下であれば、電子線照射装置が大型化して装置コストが増大することを容易に抑えることができる。より好ましい電子線の加速電圧の条件としては70kV以上150kV以下の範囲である。
The irradiation condition of the
電子線照射における電子線5の線量は、下記式(1)で定義することができる。
D=(K・I)/V・・・・・・(1)
ここで、Dは線量(kGy)、Kは装置定数、Iは電子電流(mA)、Vは搬送スピード(m/min)である。装置定数Kは、装置個々の効率を表す定数であって、装置の性能の指標である。装置定数Kは一定の加速電圧の条件で、電子電流と搬送スピードを変えて線量を測定することによって求めることができる。
The dose of the
D = (KI) / V (1)
Here, D is a dose (kGy), K is an apparatus constant, I is an electron current (mA), and V is a conveyance speed (m / min). The device constant K is a constant representing the efficiency of each device, and is an index of device performance. The device constant K can be obtained by measuring the dose by changing the electron current and the transport speed under the condition of a constant acceleration voltage.
なお、電子線5の線量は、弾性ローラのゴム弾性層表面の望みの硬度に応じて適宜選択することができる。電子線量の調節は、電子電流、及び処理スピードのいずれでも行うことが可能であり、所望の線量が得られるように決めればよい。電子線量は、ゴムローラの性能、例えば表面硬度の観点から100kGy以上、5000kGy以下が好ましい。なお、従来の電子線量測定方法では困難とされてきた、電子線量が200kGyより多く5000kGy以下の範囲であれば本発明の効果をより一層認識することができる。
The dose of the
(工程b:モニター工程)
工程bでは、ゴムローラ1のゴム弾性層3上部の電子線測定範囲15における励起光をゴムローラ1の軸方向に渡ってモニター機構10により測定する。モニター機構10はゴム弾性層の軸方向の励起光の発光強度分布の測定を行う構成を有する。モニター機構10において、発光強度を観察あるいは計測するための受光部としては、例えば、モノクロまたはカラーのCCDカメラを使用することができる。測定した発光強度分布を電子線量分布へと変換することで、ゴムローラ1に照射された電子線量や、ゴムローラ1の軸方向における電子線量分布(ムラ)をモニターすることが出来る。
(Process b: Monitor process)
In step b, the excitation light in the electron
ここで、モニター方法としては、例えば、ゴムローラの電子線量分布を定期的にリアルタイムで測定する方法、1本のゴムローラにつき1回のみ画像を取得し電子線量分布をリアルタイムに測定する方法、及び、ゴムローラの電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法を挙げることができる。これらのモニター方法から、目的とする品質管理方法等に適したモニター方法を選択して用いることができる。これらの中でも、本発明では、ゴムローラの電子線量分布を常時リアルタイムに測定する方法が有効であり、これにより、ゴムローラのゴム弾性層の外周面全てについて電子線量分布をリアルタイムで測定することができる。この電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法であれば、突発的な異常時、例えば、フィラメントの劣化による電子線の停止などの発生時に即座に対応することができる。この方法によれば、非測定期間がないため上述した間隔を開けて電子線量分布を定期的に測定する方法と比較して、例えば全てのゴムローラにおいて電子線での照射処理がなされたことを直接確認することができる。また、この電子線量分布を常時リアルタイムで測定する方法であれば、1本のゴムローラにつき1枚の画像を取得する方法と比較して、非測定期間がないため、全てのゴムローラにおいて照射不良が発生の有無や、1本の弾性ローラ内での周方向の電子線量ムラの有無を確認することができる。 Here, as a monitoring method, for example, a method of periodically measuring an electron dose distribution of a rubber roller in real time, a method of acquiring an image only once per rubber roller and measuring an electron dose distribution in real time, and a rubber roller A method of always measuring the electron dose distribution in real time in real time can be mentioned. From these monitoring methods, a monitoring method suitable for the intended quality control method and the like can be selected and used. Among these, in the present invention, a method of constantly measuring the electron dose distribution of the rubber roller in real time is effective, whereby the electron dose distribution can be measured in real time for all the outer peripheral surfaces of the rubber elastic layer of the rubber roller. If this electron dose distribution is always measured in real time, it is possible to immediately cope with a sudden abnormality, for example, when an electron beam stops due to filament deterioration. According to this method, since there is no non-measurement period, compared to the method of periodically measuring the electron dose distribution with the interval described above, for example, all the rubber rollers are directly irradiated with the electron beam. Can be confirmed. Further, if this electron dose distribution is always measured in real time, there is no non-measurement period as compared with the method of acquiring one image per rubber roller, so that irradiation failure occurs in all rubber rollers. And the presence or absence of uneven electron dose in the circumferential direction within one elastic roller.
発光強度を電子線量に変換する変換式を導く方法としては、例えば、フィルム型の線量計を用いる方法や、熱の変化から導くカロリーメーターを用いる方法等がある。 Examples of a method for deriving a conversion formula for converting luminescence intensity into an electron dose include a method using a film-type dosimeter and a method using a calorimeter derived from a change in heat.
以下に、検出手段で検知した発光強度(輝度)分布を、電子線線量分布へ変換する方法の一例を、図5を用いて説明する。なお、図5では、平板状の線量測定フィルム16が記載されているが、このフィルム16をゴムローラの外周面に貼り付けて使用する。フィルム型の線量計としては、電子線の分野で一般的に使用されている、商品名「FWT−60」(Far West Technology社製)を用いることができる。この際、フィルム型の線量計は、フィルム厚さのバラツキの影響を含む各種の要因から高い測定精度が得られにくい傾向がある。その為、使用するフィルムの厚さを予め測定しておくことにより、測定精度を高めることができる。例えば、フィルムの厚さの分布を予め測定して10μm±2μmの厚さ分布を有するシートを選択して用いることによって、より一層の測定精度を図ることができる。
Hereinafter, an example of a method for converting the emission intensity (luminance) distribution detected by the detection means into an electron beam dose distribution will be described with reference to FIG. In addition, in FIG. 5, although the flat plate-shaped
具体的には、この厚みを測定したフィルム16を貼り付けたゴムローラの外周面に、電子線源(フィラメント11)から発生する電子線5を照射する。そして、電子線5を照射後、電子線5のエネルギーを吸収したフィルム16の着色度合が安定するまで、5分から10分間ほどエージングし、フィルムの着色濃度を不図示の測定器(商品名:FWT−92D型、Far West Technology社製)により測定する。これにより、用いる電子線照射装置側で設定される電子電流の値と、フィルムに照射された電子線量との関係を導出することができる。更に、電子照射装置側で設定される電子電流の値を変えて、フィルムに照射された対応する電子線量を求める。なお、上述したように、このフィルム型の線量計は、測定可能な電子線量範囲が200kGy以下であるが、この電子線照射装置側で設定された電子電流と、フィルムに照射された電子線量との関係とは、電子線量が200kGyを超える場合に対しても成立する。このため、導出した関係から、本発明におけるゴムローラの表面硬化に使用する所望の線量範囲内(例えば、500kGy以上5000kGy以下)になる電子電流値を算出することができる。
Specifically, the
次に、前記手法により導かれた電子線照射装置の初期における電子電流と電子線量の関係から、ゴムローラに対して電子線5を照射する際の不活性ガスの発光強度をモニター機構により観察する。その際、不活性ガスとして例えば窒素を供給し、処理室内の酸素濃度を例えば200体積ppmとする。そして、処理室内の不活性ガス濃度が安定したのを確認した後に、電子線をゴム弾性層に照射し、ゴムローラの軸方向における発光強度の平均値を算出する。そして、この平均値を用いることで、使用した電子線照射装置側で設定された電子電流の値に対応して上述のフィルムを用いて求めた電子線量と、発光強度との関係を導出することができる。その際、モニター機構による観察(測定)と並行して、電子線を照射したゴムローラのゴム弾性層の硬度を軸方向に3点(両端部と中央部)測定しておくとよい。この硬度測定の結果に基づいて、ゴム弾性層の表面が電子写真用の弾性ローラとして要望される硬度となるように、ゴムローラの軸方向における発光強度の分布、即ち、電子線量の分布を設定して置くことが好ましい。
Next, based on the relationship between the electron current and the electron dose at the initial stage of the electron beam irradiation apparatus guided by the above method, the emission intensity of the inert gas when the rubber beam is irradiated with the
なお、得られた弾性ローラのゴム弾性層表面の硬度分布を測定することによって、弾性ローラにおける表面改質の均一性を評価することができる。表面硬度を測定する装置の一例として、MD−1硬度計を挙げることができる。MD−1硬度計は、マイクロゴム硬度計であり、バネの力で針を試料表面に押し付けて変形を与え、試料の抵抗力とバネの力とが安定となった状態での針の押し込み深さを測定する装置である。 The uniformity of surface modification in the elastic roller can be evaluated by measuring the hardness distribution on the surface of the rubber elastic layer of the obtained elastic roller. An MD-1 hardness meter can be mentioned as an example of an apparatus for measuring the surface hardness. The MD-1 hardness tester is a micro rubber hardness tester, in which the needle is pressed against the surface of the sample by the force of the spring to cause deformation, and the needle push-in depth in a state where the resistance of the sample and the force of the spring are stabilized. It is a device that measures the thickness.
ここで、不活性ガスから発生する励起光の強度は不活性ガス濃度に依存する為、ゴム弾性層の軸方向に平行に配されかつゴム弾性層の軸方向の幅以上の長さを有するスリット形状のガス供給口を有する図3に示す電子線照射装置を用いることがより好ましい。即ち、図3に示す構造の電子線照射装置によれば、電子線測定範囲15における不活性ガスの濃度変化が小さく、ゴムローラ1のゴム弾性層3に照射される電子線量をゴムローラの軸方向に渡って精度よく常時モニタリングすることが可能となる。従って、ゴムローラの軸方向において電子線による改質度合が均一であり、製造の経時におけるローラの硬度変化の小さい、高品質な弾性ローラを安定して容易に製造することができる。
Here, since the intensity of the excitation light generated from the inert gas depends on the inert gas concentration, the slit is arranged in parallel to the axial direction of the rubber elastic layer and has a length equal to or greater than the axial width of the rubber elastic layer. It is more preferable to use the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 3 having a gas supply port having a shape. That is, according to the electron beam irradiation apparatus having the structure shown in FIG. 3, the concentration change of the inert gas in the electron
なお、上述したように、本発明では、前記モニター機構10により測定されるゴムローラ1のゴム弾性層3の軸方向に対して照射される電子線量分布を常時リアルタイムに測定出来ることから、例えば電子線照射の有無や、フィラメントの劣化による電子線量の低下等の電子線照射装置の状態を容易に判断することが可能である。
As described above, in the present invention, the electron dose distribution irradiated to the axial direction of the rubber
更には、これらの測定結果を、電子線照射装置にフィードバックすることにより、ゴムローラ1に照射される電子線量が安定するように制御することも可能である。例えば、電子線照射装置としては多数のフィラメントを並列して配置した構成を有する装置や、単一のフィラメントにより発生する電子線を走査する構成を有する装置を用いることができる。このような構成の電子線照射装置において、電子線量の低下や弾性ローラにおける軸方向の電子線量ムラを検知した際に電子線量ムラのない照射を行うことを指示する電子線照射装置の制御系を更に設けて電子線量のフィードバック制御を行うことができる。このフィードバック制御方法としては、フィラメントに入力する電子電流を大きくする方法、ローラの搬送スピードを遅くする方法等、目的とするフィードバック制御を行うことのできる方法の1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これにより、フィラメントの劣化に伴う電子線量の低下から生じる弾性ローラの表面改質ムラを、低減することが可能となる。しかし、弾性ローラの搬送スピードは、生産タクトに直接影響する為、フィラメントに入力する電子電流の値による電子線量制御が好ましい。また、フィラメントの寿命など突発的に電子線量に異常が生じた場合には装置を停止させることも考えられ、これらにより、電子写真用のゴムローラの軸方向における電子線による改質度合のバラツキが小さく、高品質な弾性ローラを安定して製造することが可能である。 Furthermore, by feeding back these measurement results to the electron beam irradiation apparatus, it is possible to control the electron dose irradiated to the rubber roller 1 so that it is stabilized. For example, as the electron beam irradiation device, a device having a configuration in which a large number of filaments are arranged in parallel, or a device having a configuration for scanning an electron beam generated by a single filament can be used. In the electron beam irradiation apparatus having such a configuration, a control system of the electron beam irradiation apparatus that instructs to perform irradiation without electron dose unevenness when detecting a decrease in electron dose or an electron dose unevenness in the axial direction of the elastic roller. In addition, feedback control of electron dose can be performed. As this feedback control method, one or a combination of two or more methods capable of performing the desired feedback control, such as a method of increasing the electron current input to the filament and a method of slowing the roller conveyance speed, are used. be able to. Thereby, it becomes possible to reduce the surface modification unevenness of the elastic roller resulting from the decrease of the electron dose accompanying the deterioration of the filament. However, since the conveyance speed of the elastic roller directly affects the production tact, it is preferable to control the electron dose based on the value of the electron current input to the filament. In addition, if the electron dose suddenly becomes abnormal, such as the life of the filament, it may be possible to stop the apparatus, which reduces the variation in the degree of modification by the electron beam in the axial direction of the rubber roller for electrophotography. It is possible to stably manufacture a high-quality elastic roller.
以下、実施例、比較例を示して、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to these.
〔実施例1〕
まず、外径φ5mm、長さ250mmのステンレス製の芯金の外周面に、この芯金の両端をそれぞれ11mm残して、厚さ1.25mmのゴム弾性層が配されたゴムローラに対して、電子線による表面硬化を施した。
[Example 1]
First, an electron is applied to a rubber roller in which a rubber elastic layer having a thickness of 1.25 mm is disposed on the outer peripheral surface of a stainless steel core having an outer diameter of 5 mm and a length of 250 mm, with both ends of the core being left at 11 mm. The surface was hardened with a wire.
このゴムローラに対する電子線の照射には、図3に示す電子線照射装置(商品名:「EC150/45/40mA」、岩崎電気株式会社製)を用いた。なお、この電子線照射装置は、不活性ガス供給機構9として、2つのスリット状のガス供給口が、電子線の出射口直下の位置にゴム弾性層の軸方向に対向した位置に有している。そして、電子線照射条件を、加速電圧80kV、電子電流を40mA、ゴムローラの搬送速度を10mm/sとすることで電子線の線量を1350kGyとした。この時、処理室内に、電子線により青から紫外光域において発光する窒素ガスを、このガス供給口から、流量=20L/min(温度23℃、圧力(標準大気圧101.325kPaにおける値)でパージした。そして、その際、窒素ガス濃度として酸素濃度計による酸素濃度の値を代用し、酸素濃度を500体積ppm、即ち、窒素ガス濃度約99.95体積%とした。
An electron beam irradiation apparatus (trade name: “EC150 / 45/40 mA”, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) shown in FIG. 3 was used for irradiation of the rubber roller with an electron beam. This electron beam irradiation apparatus has, as the inert
そして、このゴムローラ両端を保持軸により保持し、回転数100rpmで回転させて、ゴム弾性層の軸方向の幅全体に電子線を出射口箔を介して照射し、ゴム弾性層の表面全体に電子線による改質を行った。そして、ゴムローラを前記搬送速度により搬送し、電子線照射と同時にモニター機構としてカラーCCDカメラを用いて電子線の作用による窒素の発光(励起光)をゴムローラにおけるゴム弾性層の軸方向に渡って発光強度分布として測定した。その際の観察範囲は、ゴム弾性層の軸方向に沿って228mmとし、芯金の中心軸から半径方向の長さ(距離)3.75mm以上4.25mm以下の範囲とした。また、上記カラーCCDカメラによって測定した発光強度分布は、先に実施の形態中に記載した所定のフィルム厚分布精度を有するフィルム型線量計により算出した値を利用した換算方法により電子線量分布へと変換した。ここで、モニター機構によりインライン、すなわち製造装置の稼働中において常時モニタリングし、ゴムローラに対して照射される電子線量をフィラメントに入力する電子電流を調整することで制御しながら、弾性ローラを1000本製造した。 Then, both ends of the rubber roller are held by holding shafts and rotated at a rotation speed of 100 rpm, and the entire width in the axial direction of the rubber elastic layer is irradiated through the exit aperture foil, and the entire surface of the rubber elastic layer is irradiated with electrons. Modification by wire was performed. Then, the rubber roller is transported at the transport speed, and simultaneously with the electron beam irradiation, a color CCD camera is used as a monitor mechanism to emit light of nitrogen (excitation light) by the action of the electron beam along the axial direction of the rubber elastic layer in the rubber roller. The intensity distribution was measured. The observation range at that time was 228 mm along the axial direction of the rubber elastic layer, and the length (distance) in the radial direction from the central axis of the cored bar was 3.75 mm or more and 4.25 mm or less. The emission intensity distribution measured by the color CCD camera is converted into an electron dose distribution by a conversion method using a value calculated by a film type dosimeter having a predetermined film thickness distribution accuracy described in the above embodiment. Converted. Here, 1000 elastic rollers are manufactured while in-line monitoring is performed by the monitor mechanism, that is, during the operation of the manufacturing apparatus, and the electron dose applied to the rubber roller is controlled by adjusting the electronic current input to the filament. did.
(表面改質の均一性の評価)
得られた1000本の弾性ローラをそれぞれ、室温23℃、相対湿度45%の環境下に1日放置した後、各弾性ローラの軸方向でのゴム弾性層表面の硬度を測定した。その際、各弾性ローラについて、周方向に等間隔に測定した4点の平均値を各弾性ローラの軸方向でのある点における硬度として、ゴム弾性層における端部より軸方向に20mm間隔で計10点測定した(即ち、各弾性ローラについて合計40点の硬度測定を行った)。なお、硬度の測定には、MD−1硬度計(商品名:マイクロゴム硬度計MD−1型、TypeA、高分子設計社製)を用いた。
(Evaluation of surface modification uniformity)
Each of the obtained 1,000 elastic rollers was left in an environment of room temperature 23 ° C. and relative humidity 45% for one day, and then the hardness of the rubber elastic layer surface in the axial direction of each elastic roller was measured. At that time, for each elastic roller, the average value of four points measured at equal intervals in the circumferential direction is taken as the hardness at a certain point in the axial direction of each elastic roller, and measured at intervals of 20 mm in the axial direction from the end of the rubber elastic layer. Ten points were measured (that is, a total of 40 points of hardness were measured for each elastic roller). For the measurement of hardness, an MD-1 hardness meter (trade name: micro rubber hardness meter MD-1 type, Type A, manufactured by Polymer Design Co., Ltd.) was used.
具体的には、得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度、即ち、各弾性ローラの硬度測定値(40点)×弾性ローラ本数(100本)の平均値を求め、基準硬度とした。実施例1の場合、基準硬度は73°であった。なお、この40点の硬度測定位置は、ゴムローラの周方向に測定目的に応じた間隔で4点の測定位置を設け、かつ、かかる周方向4点測定位置をゴムローラの軸方向に測定目的に応じた間隔で10点とることにより設定した。 Specifically, the average hardness of 100 elastic rollers out of the 1000 obtained, that is, the average value of the hardness measurement value (40 points) of each elastic roller × the number of elastic rollers (100) is obtained as a reference. Hardness. In the case of Example 1, the reference hardness was 73 °. The 40 hardness measurement positions are provided in the circumferential direction of the rubber roller at four measurement positions at intervals according to the measurement purpose, and the circumferential four-point measurement position is set in the axial direction of the rubber roller according to the measurement purpose. It was set by taking 10 points at intervals.
また、各弾性ローラにおける上記40点の硬度平均値を、1000本の弾性ローラについて比較し、その硬度平均値のバラつきを算出し、生産安定性を評価した。 Moreover, the hardness average value of 40 points | pieces in each elastic roller was compared about 1000 elastic rollers, the dispersion | variation in the hardness average value was computed, and production stability was evaluated.
さらに、以下の表1に示す基準に従い、この1000本の弾性ローラについて改質度合の均一性を評価した。これらの結果を表2に示す。 Furthermore, according to the criteria shown in Table 1 below, the uniformity of the modification degree was evaluated for the 1000 elastic rollers. These results are shown in Table 2.
実施例1で製造した総数1000本の弾性ローラに対して、上記硬度測定を行った結果、弾性ローラの軸方向の硬度のバラツキが小さく、フィルム型線量計を用いた比較例1に比べて安定していることが確認できた。 As a result of performing the above hardness measurement on the total number of 1000 elastic rollers manufactured in Example 1, the variation in the hardness of the elastic roller in the axial direction is small and stable compared to Comparative Example 1 using a film-type dosimeter. I was able to confirm.
このように、前記モニター機構10により導かれるゴムローラの軸方向に渡って照射される電子線量分布を常時リアルタイムに測定出来ることから、例えば、電子線照射の有無や、フィラメントの劣化による電子線量の低下を判断することも可能と考えられる。そして、これらの測定結果を前記電子線照射装置にフィードバックすることよって、ゴムローラに照射される電子線量が安定するように制御し、弾性ローラの軸方向における硬度のバラツキが小さく、高品質な弾性ローラを安定して製造することが可能である。
As described above, since the electron dose distribution irradiated along the axial direction of the rubber roller guided by the
〔実施例2〕
電子線照射条件を加速電圧80kV、電子電流を20mA、ゴムローラの搬送速度を10mm/sとすることで電子線の線量を675kGyとした以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例2で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、71.5°であった。これらの結果を表2に示す。
[Example 2]
An elastic roller was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation condition was an acceleration voltage of 80 kV, the electron current was 20 mA, and the rubber roller conveyance speed was 10 mm / s, so that the electron beam dose was 675 kGy. evaluated. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 2 was 71.5 °. These results are shown in Table 2.
〔実施例3〕
電子線照射条件を加速電圧80kV、電子電流を40mA、ゴムローラの搬送速度を2.5mm/sとすることで電子線の線量を5400kGyとした以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例3で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、80°であった。これらの結果を表2に示す。
Example 3
An elastic roller is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation conditions are an acceleration voltage of 80 kV, an electron current of 40 mA, and a rubber roller conveyance speed of 2.5 mm / s to set the electron beam dose to 5400 kGy. And evaluated. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 3 was 80 °. These results are shown in Table 2.
〔実施例4〕
電子線照射装置の処理室内に供給する窒素ガスの流量を20L/min(温度23℃、圧力(標準大気圧101.325kPa)における値)とし、処理室内の酸素濃度を1000体積ppm(即ち、窒素ガス濃度約99.9体積%)とした以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例4で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、実施例1と同様に73°であった。これらの結果を表2に示す。
Example 4
The flow rate of nitrogen gas supplied into the processing chamber of the electron beam irradiation apparatus is 20 L / min (temperature 23 ° C., pressure (standard atmospheric pressure 101.325 kPa)), and the oxygen concentration in the processing chamber is 1000 ppm by volume (that is, nitrogen An elastic roller was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the gas concentration was about 99.9% by volume. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 4 was 73 ° as in Example 1. These results are shown in Table 2.
〔実施例5〕
電子線照射装置の処理室内に供給する窒素ガスの流量を、20L/min(温度23℃、標準大気圧101.325kPaにおける値)とし、処理室内の酸素濃度を2000体積ppm、即ち、窒素ガス濃度約99.8体積%とした以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造し、評価した。なお、実施例5で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、実施例1と同様に73°であった。これらの結果を表2に示す。
Example 5
The flow rate of nitrogen gas supplied into the processing chamber of the electron beam irradiation apparatus is 20 L / min (value at a temperature of 23 ° C. and a standard atmospheric pressure of 101.325 kPa), and the oxygen concentration in the processing chamber is 2000 ppm by volume, that is, the nitrogen gas concentration An elastic roller was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the amount was about 99.8% by volume. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 5 was 73 °, as in Example 1. These results are shown in Table 2.
〔実施例6〕
電子線により発光する特性を有する不活性ガスとしてネオンガスを用い、処理室内にこのネオンガスを20L/minで供給し、処理室内の酸素濃度を500体積ppmとすることでネオンガス濃度を約99.95体積%とした。また、モニター機構としてゴムローラの全体を観察出来るカラーのCCDカメラを使用した。これら以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造した。なお、実施例6で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、73°であった。これらの結果を表2に示す。
なお、ネオンガスは電子線により赤色域における光を発する。そのため、使用したCCDカメラにおいて十分な輝度変化を取得することが出来る。
Example 6
Neon gas is used as an inert gas that emits light by an electron beam, this neon gas is supplied into the processing chamber at 20 L / min, and the oxygen concentration in the processing chamber is set to 500 ppm by volume, so that the neon gas concentration is about 99.95 volumes. %. In addition, a color CCD camera capable of observing the entire rubber roller was used as a monitor mechanism. Except for these, an elastic roller was produced in the same manner as in Example 1. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 6 was 73 °. These results are shown in Table 2.
Neon gas emits light in the red region by an electron beam. Therefore, a sufficient luminance change can be acquired in the used CCD camera.
〔実施例7〕
処理室内の窒素濃度変化による弾性ローラへの影響と、モニター機構による観察精度を向上させるため、以下の不活性ガス供給機構を有する図3に示す電子線照射装置を使用し、処理室内に供給する窒素ガスの流量を20L/minとし、処理室内の酸素濃度を200体積ppm(即ち、窒素ガス濃度約99.98体積%)とした。それら以外は、実施例1と同様にして弾性ローラを製造した。なお、実施例7で得られた1000本のうちの100本の弾性ローラの平均硬度(基準硬度)は、実施例1と同様に73°であった。これらの結果を表2に示す。
Example 7
In order to improve the influence on the elastic roller due to the nitrogen concentration change in the processing chamber and the observation accuracy by the monitor mechanism, the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 3 having the following inert gas supply mechanism is used and supplied to the processing chamber. The flow rate of nitrogen gas was 20 L / min, and the oxygen concentration in the processing chamber was 200 ppm by volume (that is, the nitrogen gas concentration was about 99.98 volume%). Except for these, an elastic roller was produced in the same manner as in Example 1. The average hardness (reference hardness) of 100 elastic rollers out of 1000 obtained in Example 7 was 73 ° as in Example 1. These results are shown in Table 2.
実施例7で用いた電子線照射装置の不活性ガス供給機構9は、ゴムローラにおけるゴム弾性層の軸方向の幅と同じ長さ228mmのスリット形状のガス供給口をゴム弾性層の軸方向と平行に2箇所有する。また、この2箇所のガス供給口は、電子線の出射口の直下の位置であって、かつ、電子線源から発生される電子線を挟み対向する位置に配されている。この電子線照射装置によって、ゴムローラに対する電子線処理を行った場合、2箇所のスリット(ガス供給口)から供給される窒素ガスは、図3に示すように噴出直後にゴム弾性層表面に向かって下降する流れとなる。このため、この電子線照射装置では、モニター機構による測定範囲において不活性ガス濃度のフレが非常に小さくなる。
The inert
ここで、実施例1〜6で製造されるゴムローラの一例の軸方向発光強度分布を図4(b)に示し、実施例7で製造されるゴムローラの一例の軸方向発光強度分布を図4(c)に示す。これらのグラフの横軸(x軸)は、ゴムローラの軸方向における位置(例えば、d0やd1)を表し、縦軸(y軸)は、発光強度を表す。これらのグラフからも実施例7に用いた不活性ガス供給手段を用いることで、発光強度のフレ、即ち、不活性ガス濃度のフレを小さくできることがわかる。 Here, the axial light emission intensity distribution of an example of the rubber roller manufactured in Examples 1 to 6 is shown in FIG. 4B, and the axial light emission intensity distribution of an example of the rubber roller manufactured in Example 7 is shown in FIG. c). In these graphs, the horizontal axis (x-axis) represents the position (for example, d 0 or d 1 ) in the axial direction of the rubber roller, and the vertical axis (y-axis) represents the emission intensity. From these graphs, it can be seen that the use of the inert gas supply means used in Example 7 can reduce the emission intensity fluctuation, that is, the inert gas concentration fluctuation.
また、実施例7について、図4(a)に示すモニター機構における測定範囲15内の箇所aにおける発光強度(発光輝度)の一例の時系列変化を図4(d)に示す。この図4(d)より、経時的にも発光強度のフレ、即ち、不活性ガス濃度のフレが抑制できていることがわかる。
FIG. 4D shows a time-series change of an example of light emission intensity (light emission luminance) at the location a in the
〔比較例1〕
実施例1で用いた電子線照射装置において、モニター機構を使用せず、図6に示す電子線照射によるエネルギーによって着色する線量測定フィルム16を使用した線量測定法で、ゴムローラ1に照射される電子線量を測定した。そして、この方法によって、軸方向の硬度分布にバラツキのない弾性ローラを安定して製造できるかを確認した。具体的には、実施例1のモニター機構に代わり、100本毎に1回の割合でフィルム型の線量計を用い、その都度、電子線照射装置の調整を行うことで弾性ローラの軸方向の硬度にどれだけバラツキが生じたか確認した。この結果を表2に示す。電子線量の測定方法は、図6に示したようにゴムローラ1の表面にフィルム型の線量計を貼り付ける方法で、ゴムローラの周方向に2枚、軸方向に5枚(図6に示す枚数と異なる)貼り付け、回転数100rpmで回転させて電子線照射を行った。そして、測定した電子線量に基づき、設定した電子線量になるように電子電流を操作することで、電子線量を調整した。なお、弾性ローラを作製する際の電子線量は、実施例1と同様に、1350kGyであるが、フィルム型の線量計の測定可能な電子線量範囲が200kGy以下である為、フィルム型線量計による測定の際には、電子線照射条件を加速電圧80kV、電子電流5mA、搬送速度10mm/sとすることでゴムローラに照射される電子線量を168kGyとした。そして、得られた結果を、実施例1の電子線量である1350kGyに換算し、それに基づき、電子線照射装置の調整を行った。その結果、フィルムの厚さや換算による誤差等によるフィルム型線量計の電子線量値のバラツキから、電子線照射装置を電子電流40mA±2mAの範囲で調整する必要があった。その影響から表2に示すように、製造した総数1000本の弾性ローラに対して測定を行った結果、弾性ローラの軸方向の硬度のバラツキは、±1.2であった。
このように、フィルム型の線量計を用いた場合、測定のばらつきが大きいことだけでなく、照射、現像から数値化までに時間を必要とし、即座に電子線量を算出出来ない為、本発明の目的には適用困難であると考える。
[Comparative Example 1]
In the electron beam irradiation apparatus used in Example 1, the electron irradiated on the rubber roller 1 by the dosimetry method using the
As described above, when using a film-type dosimeter, not only the variation in measurement is large, but also time is required from irradiation and development to digitization, and the electron dose cannot be calculated immediately. I think it is difficult to apply to the purpose.
一方、実施例1〜7では、軸方向での硬度が均一で安定した高品質な弾性ローラを得ることができた。 On the other hand, in Examples 1 to 7, high-quality elastic rollers having uniform and stable hardness in the axial direction could be obtained.
以上より、本発明によって、ゴムローラ1におけるゴム弾性層3の軸方向での電子線5による改質ムラが小さく、高品質な弾性ローラを安定して、より簡便な製造工程で製造できる弾性ローラの製造方法を提供することができることが確認できた。
As described above, according to the present invention, an elastic roller that can stably manufacture a high-quality elastic roller in a simpler manufacturing process with less unevenness of modification by the
なお、表2における硬度平均値のバラツキは、各弾性ローラにおける全測定硬度の平均に対する各測定点での硬度の±の両方向への振れの最大値として示した。また、軸方向の硬度バラツキは、軸方向の10点の測定位置の全測定硬度の平均に対する各測定点での硬度の±の両方向への振れの最大値として示した。 The variation of the average hardness value in Table 2 is shown as the maximum value of the deflection in both directions of the hardness at each measurement point with respect to the average of all the measured hardnesses in each elastic roller. Further, the hardness variation in the axial direction is shown as the maximum value of the deflection in both directions of ± of the hardness at each measurement point with respect to the average of all the measured hardnesses at 10 measurement positions in the axial direction.
1・・・ゴムローラ(電子線照射前のローラ)
2・・・芯金
3・・・ゴム弾性層
4・・・処理室
5・・・電子線
6・・・保持軸
7・・・回転機構
8・・・出射口
9・・・不活性ガス供給機構
10・・モニター機構
11・・フィラメント
12・・加速管
13・・出射口箔
14・・電子線発生部
15・・電子線測定範囲
16・・線量測定フィルム
1 ... Rubber roller (roller before electron beam irradiation)
DESCRIPTION OF
Claims (4)
芯金の周囲を被覆しているゴム弾性層の表面の、該芯金の軸方向の全幅に対して、電子線源からの電子線を、該電子線を透過可能な箔を介して、照射する電子線照射工程を有し、
該電子線照射工程は、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間を、酸素濃度が1000体積ppm以下の窒素ガス雰囲気とした状態で該電子線の照射を行うことによって、該ゴム弾性層の表面と該箔との間の空間部分における該窒素ガスからの励起光を該ゴム弾性層の軸方向の全幅で発生させ、
該ゴム弾性層の表面と該箔との間の空間部分における該励起光を、該ゴム弾性層の該軸方向の幅全体を含む範囲についてCCDカメラにてモニターすることにより、該ゴム弾性層の該軸方向の全幅における、該ゴム弾性層の表面への電子線の照射状態を観察する工程を含むことを特徴とする弾性ローラの製造方法。 A method for producing an elastic roller comprising a core metal and a rubber elastic layer formed around the core metal, the surface of the rubber elastic layer being cured by an electron beam ,
Of the surface of the rubber elastic layer covering around the metal core, with respect to the axial direction of the full width of the metal core, the electron beam from the electron beam source through the permeable foil electron beam, irradiation An electron beam irradiation process to radiate,
The electron beam irradiation step includes
By irradiating the electron beam between the surface of the rubber elastic layer and the foil in a nitrogen gas atmosphere having an oxygen concentration of 1000 ppm by volume or less, the surface of the rubber elastic layer and the foil excitation light from the nitrogen gas in the space portion between generated in total width in the axial direction of the rubber elastic layer,
By monitoring the excitation light in the space portion between the surface of the rubber elastic layer and the foil with a CCD camera over a range including the entire width of the rubber elastic layer in the axial direction, A method for producing an elastic roller, comprising a step of observing an irradiation state of an electron beam on the surface of the rubber elastic layer over the entire width in the axial direction .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013272757A JP6270471B2 (en) | 2013-12-27 | 2013-12-27 | Method for producing elastic roller |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013272757A JP6270471B2 (en) | 2013-12-27 | 2013-12-27 | Method for producing elastic roller |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015127736A JP2015127736A (en) | 2015-07-09 |
JP6270471B2 true JP6270471B2 (en) | 2018-01-31 |
Family
ID=53837765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013272757A Expired - Fee Related JP6270471B2 (en) | 2013-12-27 | 2013-12-27 | Method for producing elastic roller |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6270471B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107971191A (en) * | 2017-12-04 | 2018-05-01 | 江苏久瑞高能电子有限公司 | A kind of electron accelerator for curing of coatings |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3814179B2 (en) * | 2001-10-10 | 2006-08-23 | 日立電線株式会社 | Brazing composite material and brazing product using the same |
JP2010014887A (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Canon Chemicals Inc | Method for manufacturing conductive roller |
JP2010256617A (en) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Canon Inc | Method of manufacturing surface modified rubber roller |
JP5522440B2 (en) * | 2009-10-29 | 2014-06-18 | 岩崎電気株式会社 | Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiation method |
JP5414497B2 (en) * | 2009-12-11 | 2014-02-12 | キヤノン株式会社 | Manufacturing method of rubber roller |
JP6053354B2 (en) * | 2011-07-06 | 2016-12-27 | キヤノン株式会社 | Charging member, method for manufacturing the same, and electrophotographic apparatus |
-
2013
- 2013-12-27 JP JP2013272757A patent/JP6270471B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015127736A (en) | 2015-07-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8712291B2 (en) | Charging member, electrophotographic apparatus, and process cartridge | |
WO2017158895A1 (en) | Coated membrane inspection device, coated membrane inspection method, and catalyst-coated membrane production device | |
WO2007100105A1 (en) | Multi x-ray generator and multi-radiography system | |
WO2015136919A1 (en) | Charging member, production method for charging member, electrophotographic device, and process cartridge | |
JP7015383B2 (en) | MBFEX tube | |
TWI580458B (en) | Neutron capture therapy device and nuclear conversion device | |
EP2353648B1 (en) | Particle beam treatment apparatus and irradiation nozzle apparatus | |
JP2009529993A (en) | Apparatus and method for electronically changing the properties of a three-dimensional molded part and use of the method | |
JP6270471B2 (en) | Method for producing elastic roller | |
JP5490310B2 (en) | Sensitivity correction method for dose monitoring apparatus and particle beam therapy apparatus | |
JP5522440B2 (en) | Electron beam irradiation apparatus and electron beam irradiation method | |
JP2010256617A (en) | Method of manufacturing surface modified rubber roller | |
JP5414497B2 (en) | Manufacturing method of rubber roller | |
JP2008216001A (en) | Weatherability testing machine | |
CN106955118B (en) | Unienergy correction method for CT shape filter defects | |
JP5472728B2 (en) | Radiation measurement equipment | |
CN109833053A (en) | The dual intensity antidote of CT shape filter defect | |
JP2016034373A (en) | X-ray CT apparatus | |
JP5876684B2 (en) | Method for manufacturing charging roller and conductive roller | |
JP2010516409A (en) | System and method for non-destructive decontamination of sensitive electronics using soft x-ray radiation | |
JP5832262B2 (en) | Manufacturing method of conductive roller | |
JP2011196837A (en) | X-ray measuring instrument | |
JP5621392B2 (en) | Electron beam irradiation method | |
JP5436163B2 (en) | Method for manufacturing charging member | |
JP3900996B2 (en) | Electron beam irradiation processing equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170711 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170911 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171128 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171226 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6270471 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |