JP5400373B2 - 分割電気化学セル及び低コスト高純度水素化物ガス製造方法 - Google Patents
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Description
下記の(a)〜(f)を有する分割電気化学セル:
(a)その少なくとも一部に金属M2を含有する管状外被、
(b)電気絶縁体底部、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室とに分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁された分割材、
(e)金属M1の固体棒材と金属M1 の粒体固定層とからなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む陰極室、
(f)金属M2を含有する管状外被の該少なくとも一部である陽極、陽極ガス出口及び水入口を含む陽極室;
陰極室と陽極室を部分的に充填している、金属水酸化物M3OHを含む電解質水溶液;
陰極ガス出口と接続されている第1の制御弁;
陽極ガス出口と接続されている第2の制御弁;及び
水入口と接続される第3の制御弁
を具備し、且つその陰極及び陽極が、電解質水溶液に少なくとも部分的に浸漬されている、金属M1 の水素化物ガスを発生させるための装置が挙げられる。
(a)その少なくとも一部に金属M2を含有する管状外被と、
(b)電気絶縁体底部と、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋と、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室とに分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁された分割材と、
(e)金属M1の固体棒材と金属M1 の粒体固定層とからなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む陰極室と、
(f)金属M2を含有する管状外被の該少なくとも部分である陽極、陽極ガス出口及び水入口を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、金属M1 の水素化物を発生させるための方法であって、次のステップを含む方法が挙げられる:
陰極室及び陽極室に金属水酸化物M3OHを含む電解質水溶液を提供し、陰極及び陽極を電解質水溶液に少なくとも部分的に浸漬させるステップ;
分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
陰極ガス出口及び陽極ガス出口に接続された制御弁を使用することにより、差圧ΔP=Pc−Paを制御するステップ(ここで、Pc:陰極室の圧力、Pa:陽極室の圧力);
差圧ΔPを増加させるステップ;
陰極室で発生するガスを陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
陽極室で発生するガスを陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
制御弁を閉じるステップ。
下記の(a)〜(f)を有する分割電気化学セル:
(a)管状外被の少なくとも一部に金属ニッケルを含有する管状外被、
(b)電気絶縁体底部、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室とに分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材、
(e)固体棒材Asと金属Asの粒体固定層からなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む陰極室、
(f)金属ニッケルを含有する管状外被の少なくとも一部である陽極、陽極ガス出口及び水入口を含む陽極室;
金属水酸化物M3OHを含み、陰極室及び陽極室を少なくとも部分的に充填している電解質水溶液;
陰極ガス出口と接続されている第1の制御弁;
陽極ガス出口と接続されている第2の制御弁;
水入口と接続される第3の制御弁
を具備する装置であって、その陰極及び陽極が、電解質溶液に少なくとも部分的に浸漬されている、砒素金属の水素化物ガスを発生させるための装置が挙げられる。
(a)その少なくとも一部に金属ニッケルを含有する管状外被と、
(b)電気絶縁体底部と、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋と、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室とに分割する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材と、
(e)固体棒材Asと金属As粒体固定層とからなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む陰極室と、
(f)金属ニッケルを含有する管状外被の少なくとも一部である陽極、陽極ガス出口及び水入口を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、砒素金属水素化物ガスを発生させるための方法であって、次のステップを含む方法が挙げられる:
陰極室及び陽極室に金属水酸化物M 3 OHを含む電解質水溶液を提供し、陰極及び陽極を電解質水溶液に少なくとも部分的に浸漬させるステップ;
分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
陰極ガス出口と陽極ガス出口に接続される制御弁を使用することにより差圧ΔP=Pc−Paを制御するステップ(ここで、Pc:陰極室の圧力、Pa:陽極室の圧力);
差圧ΔPを増加させるステップ;
陰極室で発生するガスを陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
陽極室で発生するガスを陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
制御弁を閉じるステップ。
下記の(a)〜(c)を有する分割電気化学セル:
(a)金属M2を少なくとも部分的に含有するU字形管状外被であって、そのU字形管状外被の片側が、陰極室を形成し、U字形管状外被の他の側が、陽極室を形成し、且つU字形管状外被の底部分が、陰極室と陽極室とを接続するが陰極ガスと陽極ガスとを混合させない電気絶縁体を含むU字形管状外被、
(b)金属M1の固体棒材及び金属M1 の粒体固定層からなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む電気絶縁体上蓋を含む陰極室、
(c)金属M2を含有するU字形管状外被の他の側である陽極、並びに陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋を含む陽極室;
金属水酸化物M3OHを含み、陰極室及び陽極室を部分的に充填している電解質水溶液;
陰極ガス出口と接続される第1の制御弁;
陽極ガス出口と接続される第2の制御弁;及び
水入口と接続される第3の制御弁
を具備する装置であって、陰極及び陽極が電解質水溶液に浸漬されている、砒素金属の水素化物ガスを発生させるための装置が挙げられる。
(a)金属M2を少なくとも部分的に含有するU字形管状外被であって、そのU字形管状外被の片側が、陰極室を形成し、U字形管状外被の他の側が、陽極室を形成し、且つU字形管状外被の底部分が、陰極室と陽極室とを接続するが陰極ガスと陽極ガスとを混合させない電気絶縁体を含むU字形管状外被と
(b)金属M1の固体棒材及び金属M1 の粒体固定層からなる群から選択される陰極、及び陰極ガス出口を含む電気絶縁体上蓋を含む陰極室と
(c)金属M2を含有するU字形管状外被の他の側である陽極、並びに陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、金属M1 の水素化物ガスを発生させるための方法であって、次のステップを含む方法が挙げられる:
陰極室及び陽極室に金属水酸化物M 3 OHを含む電解質水溶液を提供し、陰極及び陽極を電解質水溶液に少なくとも部分的に浸漬させるステップ;
分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
陰極ガス出口及び陽極ガス出口に接続される制御弁を使用することにより差圧ΔP=Pc−Paを調節するステップ(ここで、Pc:陰極室の圧力、Pa:陽極室の圧力);
差圧ΔPを増加させるステップ;
陰極室で発生するガスを陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
陽極室で発生するガスを陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
制御弁を閉じるステップ。
20=陽極室と陰極室とを分離し、陽極又は陰極の回路から電気的に絶縁される固体の隔壁。絶縁材料(例えば高密度ポリエチレン)又は陽極及び陰極の回路から絶縁される場合の金属、例えばステンレス鋼から作ることができる。
21=不電導性の透過性隔膜。
22=分割電気化学セルジャケットからの冷却液出口。
23=分割電気化学セルジャケットへの冷却液入口。
24=陽極ガス口と陰極ガス口を有し、且つ陽極及び陰極の回路から電気的に絶縁されている固体蓋。
25=陰極室。
26=陽極室。
27=伝熱ジャケット(不電導性液体)。
28=分割電気化学セル底部からの酸素形成を抑制する、分割電気化学セル底部上の電気絶縁体。
29=陽極室と陰極室とを接続し、陽極室と陰極室から電気的に絶縁されている液体導管底部。
30=砒素電極、固体棒材又は粒体固定層。
31=陽極としてもはたらき、典型的な構成がニッケルである分割電気化学セル外被。
33=砒素層と電気的に接触させるための金属棒材。
40=陰極室からの陰極ガス出口。
41=陽極室からの陽極ガス出口。
42=差圧変換器/制御器。
43=高圧変換器/スイッチ。
44=電気電源。
45=給水入口。
50=電源に対する高圧アラーム信号。
51=電源に対する差圧制御信号。
52=陽極電力接続。
53=陰極電力接続。
54=高圧入力。
55=陰極室からの差圧入力。
56=陽極室からの差圧入力。
57=陰極ガス制御弁に対する制御信号。
58=水制御弁に対する制御信号。
59=陽極ガス制御弁に対する制御信号。
80=陰極ガス制御/計測弁。
81=陽極ガス制御/計測弁。
82=水制御/計測弁。
1.差動変換器/制御器42を、陽極室及び陰極室からの差圧入力信号、55及び56間で測定される、固有のプログラミングされた差圧の設定値に到達した場合に、制御信号51を用いて、電源44からの電流を切るようにプログラミングすることができる。
2.圧力入力54から測定された高圧変換器/調節器43への全圧力が、プログラム圧力を越える場合に、緊急の停止が同様に可能である。43からの信号が、制御信号50を通じて電源44に達して、電力を停止する。
3.代替の制御機構は、55と56との差圧が制御設定値を越える場合に、陰極制御弁80及び/又は陽極制御弁81を制御する。
実施例1
実施例2
実施例3
Claims (24)
- 下記の(a)〜(f)を有する分割電気化学セル:
(a)少なくとも一部に金属M2を含有する管状外被、
(b)電気絶縁体底部、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室に分割する分割材であって、陽極回路と陰極回路から電気的に絶縁された分割材、
(e)金属M1の固体棒材及び金属M1の粒体固定層からなる群から選択される陰極、及び該陰極ガス出口を含む該陰極室、
(f)金属M2を含有する管状外被の該少なくとも一部である陽極、該陽極ガス出口及び該水入口を含む陽極室;
該陰極室と該陽極室とを部分的に充填している、水酸化物M3OHを含む電解質水溶液;
該陰極ガス出口と接続されている第1の制御弁;
該陽極ガス出口と接続されている第2の制御弁;及び
該水入口と接続されている第3の制御弁
を具備し、且つ
該陰極の該金属M1と該陽極の該金属M2が、該電解質水溶液に少なくとも部分的に浸漬しており;該M 1 が、アンチモンSb、砒素As、ゲルマニウムGe、鉛Pb、カドミウムCd及びこれらの組合せからなる群から選択される金属または金属合金であり;該M 2 が、ニッケル、銅、ステンレス鋼、アルミニウム、及びこれらの組合せからなる群から選択される、陽極の酸素発生に適切な金属または金属合金であり;該M 3 が、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される金属又はNH 4 である、
金属M1の水素化物ガスを発生させるための装置。 - 該分割材が、該電気絶縁体上蓋から該電解質水溶液中に少なくとも部分的に延びて陽極ガスと陰極ガスとの混合を防ぐ固体の不透過性の隔壁である、請求項1に記載の装置。
- 該分割材が、固体の不透過性の隔壁と多孔質の透過性隔膜との組合せであって、該多孔質の透過性隔膜の孔寸法は、気泡の混合を防ぐために、陽極室及び該陰極室において発生する気泡より小さく、且つ該分割材が、該電気絶縁体上蓋から該電解質水溶液中に少なくとも部分的に延びて陽極ガスと陰極ガスの混合を防ぐ、請求項1に記載の装置。
- 該電解質水溶液中のM3OHが、2重量%〜45重量%の範囲である、請求項1に記載の装置。
- 該M3OHが、NaOH,KOH,LiOH,CsOH,NH4OH及びこれらの組合せからなる群から選択される、請求項4に記載の装置。
- 該分割電気化学セルの該管状外被を被覆する伝熱ジャケットをさらに含む装置であって、該伝熱ジャケットが冷却液を循環させるための流入口と流出口を有する請求項1に記載の装置。
- (a)少なくとも一部に金属M2を含有する管状外被と、
(b)電気絶縁体底部と、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋と、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室に分離する分割材であって、陽極回路と陰極回路から電気的に絶縁されている分割材と、
(e)金属M1の固体棒材及び金属M1の粒体固定層からなる群から選択される陰極、及び該陰極ガス出口を含む該陰極室と、
(f)該金属M2を含有する管状外被の少なくとも一部である陽極、該陽極ガス出口及び該水入口を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、金属M1の水素化物ガスを発生させるための方法であって、次のステップを含む方法:
水酸化物M3OHを含む電解質水溶液を、該陰極室及び該陽極室に提供し、該陰極の該金属M1及び該陽極の該金属M2を、少なくとも部分的に該電解質水溶液に浸漬させるステップ、ここで該M 1 は、アンチモンSb、砒素As、ゲルマニウムGe、鉛Pb、カドミウムCd及びこれらの組合せからなる群から選択される金属または金属合金であり、該M 2 は、ニッケル、銅、ステンレス鋼、アルミニウム、及びこれらの組合せからなる群から選択される、陽極の酸素発生に適切な金属または金属合金であり、該M 3 は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される金属又はNH 4 である;
該分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
該陰極ガス出口及び該陽極ガス出口に接続された制御弁を使用することにより、差圧ΔP=Pc−Paを制御するステップ(ここで、Pc:該陰極室の圧力、Pa:該陽極室の圧力);
該差圧ΔPを増加させるステップ;
該陰極室において発生するガスを該陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
該陽極室において発生するガスを該陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
該制御弁を閉じるステップ。 - 該電解質水溶液中のM3OHが2重量%〜45重量%の範囲である、請求項7に記載の方法。
- 該電力が、100A/m2〜15,000A/m2の範囲の一定電流密度、または2ボルト〜15ボルトの範囲の定電圧Vにより供給され;Pc及びPaが、50,000Pa〜500,000Paの範囲であり;ΔPが、1Pa〜10,000Paの範囲であり;該分割電気化学セルを、15℃〜100℃の範囲の温度で作動され;且つ水を、該陽極室に連続的またはバッチ式で加えられる、請求項7に記載の方法。
- (a)少なくとも一部に金属ニッケルを含む管状外被と、
(b)電気絶縁体底部と、
(c)陰極ガス出口、陽極ガス出口及び水入口を含む電気絶縁体上蓋と、
(d)分割電気化学セルを陰極室と陽極室に分離する分割材であって、陽極と陰極の回路から電気的に絶縁されている分割材と、
(e)固体棒材As及び金属As粒体の固定層からなる群から選択される陰極、及び該陰極ガス出口を含む陰極室と、
(f)金属ニッケルを含む管状外被の少なくとも一部である陽極、該陽極ガス出口及び該水入口を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、砒素金属水素化物ガスを発生させるための方法であって、次のステップを含む方法:
水酸化物M3OHを含む電解質水溶液を、該陰極室及び該陽極室に提供し、該陰極の該As及び該陽極の該金属ニッケルを、少なくとも部分的に電解質水溶液に浸漬させるステップ、ここで該M 3 は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される金属又はNH 4 である;
該分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
該陰極ガス出口及び該陽極ガス出口に接続された制御弁を使用することにより、差圧ΔP=Pc−Paを制御するステップ(ここで、Pc:該陰極室の圧力、Pa:該陽極室の圧力);
該差圧ΔPを増加させるステップ;
該陰極室において発生するガスを該陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
該陽極室において発生するガスを該陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
該制御弁を閉じるステップ。 - 該電解質水溶液中のM3OHを2重量%〜45重量%の範囲とする、請求項10に記載の方法。
- 該M3OHが、NaOH、KOH、LiOH、CsOH、NH4OH及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項11に記載の方法。
- 該電力が、100A/m2〜15,000A/m2の範囲の一定電流密度、または2ボルト〜15ボルトの範囲の定電圧Vにより供給であり;Pc及びPaが、50,000Pa〜500,000Paの範囲であり;ΔPが、1Pa〜10,000Paの範囲であり;該分割電気化学セルが、15℃〜100℃の範囲の温度で作動され;且つ水が、該陽極室に連続的又はバッチ式で加えられる、請求項10に記載の方法。
- 下記の(a)〜(c)を有する分割電気化学セル:
(a)少なくとも部分的に金属M2を含有するU字形管状外被であって、該U字形管状外被の片側が、陰極室を形成し、該U字形管状外被の他の側が、陽極室を形成し、且つ該U字形管状外被の底部分が、該陰極室と該陽極室とを接続するが陰極ガスと陽極ガスとを混合させない電気絶縁体を含むU字形管状外被と
(b)金属M1の固体棒材及び金属M1の粒体固定層からなる群から選択される陰極と、陰極ガス出口を有する電気絶縁体上蓋とを含む陰極室と、
(c)金属M2を含有する該U字形管状外被の該他の側である陽極と、陽極ガス出口及び水入口を有する電気絶縁体上蓋とを含む陽極室;
該陰極室及び該陽極室を部分的に充填している、水酸化物M3OHを含む電解質水溶液;
該陰極ガス出口と接続されている第1の制御弁;
該陽極ガス出口と接続されている第2の制御弁;
該水入口と接続される第3の制御弁
を具備し、かつ
該陰極の該金属M1と該陽極の該金属M2が、該電解質水溶液に浸漬しており;該M 1 が、アンチモンSb、砒素As、ゲルマニウムGe、鉛Pb、カドミウムCd及びこれらの組合せからなる群から選択される金属または金属合金であり;該M 2 が、ニッケル、銅、ステンレス鋼、アルミニウム、及びこれらの組合せからなる群から選択される、陽極の酸素発生に適切な金属または金属合金であり;該M 3 が、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される金属又はNH 4 である、
金属M1の水素化物ガスを発生させるための装置。 - 該分割電気化学セルの該管状外被を被覆する伝熱ジャケットをさらに含む装置であって、該伝熱ジャケットが循環冷却液の流入口と流出口を有する、請求項14に記載の装置。
- 該電解質水溶液中のM3OHが、2重量%〜45重量%の範囲である、請求項14に記載の装置。
- 該M3OHが、NaOH、KOH、LiOH、CsOH、NH4OH及びこれらの組合せからなる群から選択される、請求項16に記載の装置。
- (a)少なくとも部分的に金属M2を含有するU字形管状外被であって、該U字形管状外被の片側が、陰極室を形成し、該U字形管状外被の他の側が、陽極室を形成し、且つ該U字形管状外被底部分が、該陰極室と該陽極室とを接続するが陰極ガスと陽極ガスとを混合させない電気絶縁体を含むU字形管状外被と
(b)金属M1の固体棒材と金属M1の粒体固定層からなる群から選択される陰極と、陰極ガス出口を有する電気絶縁体上蓋とを含む陰極室と、
(c)金属M2を含有する該U字形管状外被の該他の側である陽極、並びに陽極ガス出口及び水入口を有する電気絶縁体上蓋を含む陽極室と
を含む分割電気化学セルにおいて、金属M1の水素化物ガスを発生させるための方法であって、次のステップを含む方法:
水酸化物M3OHを含む電解質水溶液を、該陰極室及び該陽極室に提供し、該陰極の該金属M1及び該陽極の該金属M2を、少なくとも部分的に電解質水溶液に浸漬させるステップ、ここで該M 1 は、アンチモンSb、砒素As、ゲルマニウムGe、鉛Pb、カドミウムCd及びこれらの組合せからなる群から選択される金属または金属合金であり、該M 2 は、ニッケル、銅、ステンレス鋼、アルミニウム、及びこれらの組合せからなる群から選択される、陽極の酸素発生に適切な金属または金属合金であり、該M 3 は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からなる群から選択される金属又はNH 4 である;
該分割電気化学セルに電力を供給するステップ;
該陰極ガス出口及び該陽極ガス出口に接続された制御弁を使用することにより、差圧ΔP=Pc−Paを制御するステップ(ここで、Pc:該陰極室の圧力、Pa:該陽極室の圧力);
該差圧ΔPを増加させるステップ;
該陰極室において発生するガスを該陰極ガス出口を通じて水素化物ガスとして放出させるステップ;
該陽極室において発生するガスを該陽極ガス出口を通じて放出させるステップ;及び
該制御弁を閉じるステップ。 - 該電解質水溶液中の金属水酸化物M3OHが2重量%〜45重量%の範囲である、請求項18に記載の方法。
- 該電力が、100A/m2〜15,000A/m2の範囲の一定電流密度、または2ボルト〜15ボルトの範囲の定電圧Vにより供給され;Pc及びPaが、50,000Pa〜500,000Paの範囲であり;ΔPが、1Pa〜10,000Paの範囲であり;該分割電気化学セルが、15℃〜100℃の範囲の温度で作動され;且つ水が、該陽極室に連続的又はバッチ式で加えられる、請求項18に記載の方法。
- 該分割材が、該電気絶縁体上蓋から少なくとも部分的に電解質水溶液中に延びて陽極ガスと陰極ガスとの混合を妨げる固体の不透過性の隔壁である、請求項7に記載の方法。
- 該分割材が、固体の不透過性の隔壁と多孔質の透過性隔膜との組合せであって、該多孔質の透過性隔膜の孔寸法は、気泡の混合を防ぐために、該陽極室及び該陰極室において発生する気泡より小さく、且つ該分割材が、該電気絶縁体上蓋から少なくとも部分的に電解質水溶液中に延びて陽極ガスと陰極ガスの混合を防ぐ、請求項7に記載の方法。
- 該分割材が、該電気絶縁体上蓋から少なくとも部分的に電解質水溶液中に延びて陽極ガスと陰極ガスとの混合を妨げる固体の不透過性の隔壁である、請求項10に記載の方法。
- 該分割材が、固体の不透過性の隔壁と多孔質の透過性隔膜との組合せであって、該多孔質の透過性隔膜の孔寸法は、気泡の混合を防ぐために、該陽極室及び該陰極室において発生する気泡より小さく、且つ該分割材が、該電気絶縁体上蓋から少なくとも部分的に電解質水溶液中に延びて陽極ガスと陰極ガスの混合を防ぐ、請求項10に記載の方法。
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WO2011140322A1 (en) | 2010-05-05 | 2011-11-10 | Benham Roger A | Pressure density differential device |
US8361303B2 (en) * | 2010-09-02 | 2013-01-29 | Air Products And Chemicals, Inc. | Electrodes for electrolytic germane process |
WO2014043651A2 (en) | 2012-09-14 | 2014-03-20 | Liquid Light, Inc. | High pressure electrochemical cell and process for the electrochemical reduction of carbon dioxide |
CN102903937B (zh) * | 2012-10-24 | 2014-09-17 | 大连交通大学 | U型液相反应器 |
CN103014746B (zh) * | 2013-01-06 | 2015-06-03 | 东北电力大学 | 一种电解法制备液体高铁酸盐装置及其工艺 |
US8765518B1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-07-01 | International Business Machines Corporation | Chalcogenide solutions |
US9528191B2 (en) * | 2014-02-26 | 2016-12-27 | Air Products And Chemicals, Inc. | Electrolytic apparatus, system and method for the efficient production of nitrogen trifluoride |
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US20220090275A1 (en) * | 2020-09-10 | 2022-03-24 | Utica Leaseco, Llc | Systems and methods for high-rate electrochemical arsine generation |
US20220074057A1 (en) * | 2020-09-10 | 2022-03-10 | Utica Leaseco, Llc | Systems and methods for large scale gas generation |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3078218A (en) * | 1958-08-04 | 1963-02-19 | Union Carbide Corp | Hydrogenation of halogen compounds of elements of groups iii and iv of the periodic system |
US3109791A (en) * | 1960-07-27 | 1963-11-05 | Hooker Chemical Corp | Method of preparing phosphine |
US3109793A (en) * | 1960-07-27 | 1963-11-05 | Hooker Chemical Corp | Method of preparing phosphine |
US3404076A (en) * | 1965-04-15 | 1968-10-01 | Shell Oil Co | Electrolytic preparation of hydrides |
US3755128A (en) * | 1970-09-15 | 1973-08-28 | Isotopes Inc | Electrolysis system and method |
US4178224A (en) * | 1978-01-19 | 1979-12-11 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for generation and control of dopant and reactive gases |
US4374014A (en) * | 1981-03-20 | 1983-02-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | High pressure electrolytic oxygen generator |
JPS63133464A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 固体電解質型燃料電池 |
JP2686609B2 (ja) * | 1987-07-27 | 1997-12-08 | 日本重化学工業株式会社 | 燃料電池 |
JPS6431352U (ja) | 1987-08-17 | 1989-02-27 | ||
CA2010482C (en) * | 1989-04-18 | 1998-08-25 | Gardy Cadet | Process for the fabrication of devices; utilizing electrochemically generated gases |
US5474659A (en) * | 1989-04-18 | 1995-12-12 | At&T Corp. | Process and apparatus for generating precursor gases used in the manufacture of semiconductor devices |
US5158656A (en) * | 1991-03-22 | 1992-10-27 | Electron Transfer Technologies, Inc. | Method and apparatus for the electrolytic preparation of group IV and V hydrides |
FR2710043B1 (fr) * | 1993-09-17 | 1995-10-13 | Air Liquide | Procédé et dispositif de génération d'arsine par voie électrolytique. |
JP3889813B2 (ja) * | 1995-12-06 | 2007-03-07 | エレクトロン・トランスファー・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 半導体加工用の水素化物ガスを一定組成で供給するための方法と装置 |
US6080297A (en) * | 1996-12-06 | 2000-06-27 | Electron Transfer Technologies, Inc. | Method and apparatus for constant composition delivery of hydride gases for semiconductor processing |
JP3637039B2 (ja) * | 2002-07-26 | 2005-04-06 | 忠彦 水野 | 水素ガスの発生方法および水素ガス発生装置 |
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