JP5397300B2 - 電着樹脂膜上の金属膜製造方法 - Google Patents
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カチオン電着塗料に金属めっき用触媒核となる金属イオンを混入して、触媒核混入電着塗料を作製する工程と、
前記触媒核混入電着塗料を用い、導電性被塗装媒体表面に触媒核混入電着樹脂膜を形成する工程と、
前記触媒核混入電着樹脂膜上に表出した前記金属イオンを還元して金属触媒核とする工程と、
前記金属触媒核を表面に有する前記触媒核混入電着樹脂膜上に無電解めっき膜を形成する工程と
を含むことを特徴とする。
(1)触媒核混入電着膜の形成
カチオン電着塗料(商品名;エレコートCM、株式会社シミズ製)100重量部、
(Pd/Sn)コロイド溶液(商品名;キャタポジット44、ロームアンドハース社製)100重量部、
両者を攪拌して均一混合する。このとき、この混合比率は、電着塗料の固形物100重量部に対し、Pd2+イオンの含有量が120重量部になる。<触媒核イオン混入電着塗料(S−1)相当>
この混合電着塗料溶液を500ml用い、厚さ2mm、100mm□、のステンレス板2枚をおのおの陽極および陰極とし、15V、20秒間電着を実施。陰極ステンレス板表面に、膜厚20μmの電着塗膜を形成。<触媒核混入電着膜形成(S−4)相当>
(2)銅めっき膜の形成
上記電着塗膜を形成した塗装板を、触媒活性化溶液のアクセレレータ(商品名;キューポジットアクセレレータ19E、ロームアンドハース社製)の17vol%水溶液中に6分間浸漬。<還元化処理(S−5)相当>
次いで、硫酸銅溶液(還元剤;ホルムアルデヒド)中に25分間浸漬。膜厚約0.2μmの無電解銅めっき被膜を形成。<無電解金属めっき(S−6)相当>
次いで、150℃、30分間熱処理して熱硬化、架橋構造を完成。<架橋処理(S−7)相当>
さらに、この塗装板を、硫酸銅を主体とする電気めっき液中、電流密度2.0A/(dm)2、100分間電気めっき。膜厚30μmの電気銅めっき被膜を形成。<電気金属めっき(S−8)相当>
(3)膜密着強度の測定
JIS C 6481の規格により、銅膜密着力、つまり、実質的には、樹脂膜と銅膜(無電解銅めっき幕と電気銅めっき膜からなる膜)との密着強度の測定を行った結果、平均12N/cmを得た。
(1)触媒核混入電着膜の形成
カチオン電着塗料(商品名;エレコートCM、株式会社シミズ製)100重量部、
塩化パラジウム溶液(商品名;アクチベータ、奥野製薬工業社製)100重量部、
両者を攪拌して均一混合する。このとき、この混合比率は、電着塗料の固形物100重量部に対し、Pd2+イオンの含有量が90重量部になる。<触媒核イオン混入電着塗料(S−1)相当>
この混合電着塗料溶液を500ml用い、厚さ2mm、100mm□、のステンレス板2枚をおのおの陽極および陰極とし、15V、20秒間電着を実施。陰極ステンレス板表面に、膜厚20μmの電着塗膜を形成。<触媒核混入電着膜形成(S−4)相当>
(2)銅めっき膜の形成
上記電着塗膜を形成した塗装板を、塩化スズ溶液(商品名;センシタイザ、奥野製薬工業社製)の10vol%水溶液中に5分間浸漬。Pd2+イオンのPd金属へ還元<還元化処理(S−5)相当>
次いで、硫酸銅溶液(還元剤;ホルムアルデヒド)中に25分間浸漬。膜厚約0.2μmの無電解銅めっき被膜を形成。
さらに、この塗装板を、硫酸銅を主体とする電気めっき液中、電流密度2.0A/(dm)2、100分間電気めっき。膜厚30μmの電気銅めっき被膜を形成。<電気金属めっき(S−8)相当>
(3)膜密着強度の測定
JIS C 6481の規格により、銅膜密着力を測定し、平均10N/cmを得た。
(1)電着膜の形成
カチオン電着塗料(商品名;エレコートCM、株式会社シミズ製)を500ml用い、厚さ2mm、100mm□、のステンレス板2枚をおのおの陽極および陰極とし、15V、20秒間電着を実施。陰極ステンレス板表面に、膜厚20μmの電着塗膜を形成。<電着膜形成(RS−2)相当>
次いで、150℃、30分間熱処理して熱硬化、架橋構造を完成。<架橋処理(RS−3)相当>
(2)触媒核形成
前記電着塗膜を形成した塗装板を、酸性のコンディショナ(商品名;サーキュポジットコンディショナ3320、ロームアンドハース社製)の10vol%水溶液中に浸漬。<触媒核付着のための表面調整>
次いで、(Pd/Sn)コロイド溶液(商品名;キャタポジット44、ロームアンドハース社製)の3vol%水溶液中に55℃、3分間浸漬。<触媒核溶液浸漬(RS−4)相当>
(3)銅めっき膜の形成
上記電着塗膜を形成した塗装板を、触媒活性化溶液のアクセレレータ(商品名;キューポジットアクセレレータ19E、ロームアンドハース社製)の17vol%水溶液中に6分間浸漬。<還元化処理(RS−5)相当>
次いで、硫酸銅溶液(還元剤;ホルムアルデヒド)中に25分間浸漬。膜厚約0.2μmの無電解銅めっき被膜を形成。<無電解金属めっき(RS−6)相当>
次いで、120℃、60分間乾燥処理。
(4)膜密着強度の測定
JIS C 6481の規格により、銅膜密着力の測定し、平均1N/cmを得た。
2 電極
3 電着塗料溶液
4 カチオン電着塗料粒子
5 触媒核イオン
6 触媒核
7 触媒核混入電着膜
8 無電解金属めっき膜
9 電気金属めっき膜
10 電着膜
Claims (4)
- カチオン電着塗料に金属めっき用触媒核となる金属イオンを混入して、触媒核混入電着塗料を作製する工程と、
前記触媒核混入電着塗料を用い、導電体表面に触媒核混入電着樹脂膜を形成する工程と、
前記触媒核混入電着樹脂膜上に表出した前記金属イオンを還元して金属触媒核とする工程と、
前記金属触媒核を表面に有する前記触媒核混入電着樹脂膜上に無電解めっき膜を形成する工程と
を含むことを特徴とする電着樹脂膜上の金属膜製造方法。 - さらに、前記無電解金属めっき膜上に電気金属めっき膜を形成する工程と
を含むことを特徴とする請求項1記載の電着樹脂膜上の金属膜製造方法。 - 前記電気金属めっき膜を形成する工程の前または後に、樹脂架橋処理の工程を含むことを特徴とする請求項2記載の電着樹脂膜上の金属膜製造方法。
- 前記金属めっき用触媒核は、パラジウム・スズコロイド溶液あるいは塩化パラジウム溶液を用いて形成することを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の電着樹脂膜上の金属膜製造方法。
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JP2010092650A JP5397300B2 (ja) | 2010-04-13 | 2010-04-13 | 電着樹脂膜上の金属膜製造方法 |
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JP2010092650A JP5397300B2 (ja) | 2010-04-13 | 2010-04-13 | 電着樹脂膜上の金属膜製造方法 |
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