JP5389362B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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- 真空容器内に配置され内部にプラズマが形成される処理室と、前記処理室内の下部に配置され上面に処理対象の試料が載置される試料台と、前記処理室の上方に配置され前記処理室内に処理用のガスを導入するための導入孔を有するガス導入機構と、前記処理室内の下部に配置され前記処理室内の圧力を制御する圧力制御機構と、前記処理室内を排気するためのターボ分子ポンプと、前記試料台の下部に前記ターボ分子ポンプが設置された同軸の排気構造とを備える真空処理装置において、
前記試料台の外周側壁面に設置され前記試料が載置される面に平行である第一の反射板と、前記第一の反射板に平行であるとともに前記第一の反射板から所定の距離離れ前記処理室の内壁面に設置された第二の反射板とをさらに備え、
前記処理室の内壁面と試料台の外周側壁面との間に形成される排気経路に、前記第一の反射板の先端と前記第二の反射板の先端が互いに重なるように配置され、
前記第二の反射板と前記試料台との間に形成される前記排気経路の面積と、前記第一の反射板と前記処理室の内壁面との間に形成される前記排気経路の面積とを等しくし、
前記第一の反射板もしくは前記第二の反射板のいずれかの先端部または前記第一の反射板および前記第二の反射板の先端部がターボ分子ポンプ側に向かって傾斜を付けられたことを特徴とする真空処理装置。 - 請求項1に記載の真空処理装置において、
前記第一の反射板と前記第二の反射板との重なる範囲が5mm〜40mmであることを特徴とする真空処理装置。 - 請求項1に記載の真空処理装置において、
前記所定の距離が20mm〜120mmであることを特徴とする真空処理装置。
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