JP5382514B2 - Photosensitive paste and electronic component - Google Patents
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本発明は感光性ペースト、及び電子部品に関し、より詳しくは積層コイル部品等の電子部品の絶縁層の形成に適した感光性ペースト、及び感光性ペーストを使用して形成されたセラミック多層基板やコイル部品等の電子部品に関する。 The present invention relates to a photosensitive paste and an electronic component, and more particularly, a photosensitive paste suitable for forming an insulating layer of an electronic component such as a laminated coil component, and a ceramic multilayer substrate and a coil formed using the photosensitive paste. The present invention relates to electronic parts such as parts.
高周波電子機器の高密度化や高速信号化に伴い、これらの電子機器に内蔵される電子部品では、厚膜で微細加工ができ、良好な寸法精度を有する製造技術が要求されている。 With the increase in the density and high-speed signals of high-frequency electronic devices, electronic components incorporated in these electronic devices are required to have a manufacturing technique that can be finely processed with a thick film and has good dimensional accuracy.
特に、積層コイル部品等では絶縁層と導電パターンとを積層し、導電パターン同士をビアホールで電気的に接続しているため、コイルの小型化に伴い、ビアホールを形成するための貫通孔も高精度な微細加工が必要となる。 In particular, in laminated coil parts, etc., an insulating layer and a conductive pattern are stacked and the conductive patterns are electrically connected to each other through via holes. Therefore, with the miniaturization of the coil, the through holes for forming the via holes are also highly accurate. Fine processing is required.
このためこの種の電子部品では、従来より、微細加工に適した感光性ペーストを使用して絶縁層を形成することが広く行われている。 For this reason, in this type of electronic component, conventionally, an insulating layer is widely formed using a photosensitive paste suitable for fine processing.
そして、特許文献1には、少なくとも無機成分ならびに感光性有機成分を含有する感光性ペーストであって、無機成分として低軟化点ガラス粉末およびシリカ成分の含有率が80〜95モル%であるシリカ系複合酸化物粒子を含有し、無機成分に占めるシリカ系複合酸化物粒子の割合が15〜40体積%である感光性ペーストが提案されている。 And in patent document 1, it is the photosensitive paste which contains an inorganic component and a photosensitive organic component at least, Comprising: The silica type | system | group whose content rate of the low softening point glass powder and a silica component is 80-95 mol% as an inorganic component A photosensitive paste containing composite oxide particles and having a silica composite oxide particle ratio of 15 to 40% by volume in the inorganic component has been proposed.
この特許文献1では、シリカ系複合酸化物粒子がチタニアまたはジルコニアを含有し、コア部をシリカ成分で構成し、シェル部をチタニアまたはジルコニアで構成したコア−シェル構造のフィラーが開示されている。 Patent Document 1 discloses a filler having a core-shell structure in which silica-based composite oxide particles contain titania or zirconia, the core portion is composed of a silica component, and the shell portion is composed of titania or zirconia.
また、感光性ペーストを使用して絶縁層を形成する場合は、良好な絶縁性を確保でき、かつ低温での焼成が可能なガラス材を主成分とする感光性ペーストが広く使用されている。そして、焼結後における絶縁層の機械的強度を確保するためには、ガラス強度を向上させる必要がある。 Moreover, when forming an insulating layer using a photosensitive paste, the photosensitive paste which has a glass material as a main component which can ensure favorable insulation and can be baked at low temperature is widely used. And in order to ensure the mechanical strength of the insulating layer after sintering, it is necessary to improve glass strength.
そして、非特許文献1には、ガラス相を伴うセラミックの強度を向上させる方法として、プレストレス法が紹介されている。 Non-Patent Document 1 introduces a pre-stress method as a method for improving the strength of a ceramic with a glass phase.
このプレストレス法では、母材となるガラス材(以下、「ガラスマトリックス」という。)よりも熱膨張係数の大きい石英等の結晶粒子を前記ガラスマトリックス中に分散させて混在させ、ガラスマトリックスに圧縮応力を付与することにより、ガラスの強度を向上させている。 In this pre-stress method, crystal particles such as quartz having a thermal expansion coefficient larger than that of a glass material (hereinafter referred to as “glass matrix”) as a base material are dispersed and mixed in the glass matrix and compressed into the glass matrix. By applying the stress, the strength of the glass is improved.
すなわち、非特許文献1によれば、ガラスマトリックスと石英等の結晶粒子とでは熱膨張係数が異なるため、焼成後の冷却過程で収縮の度合いが異なり、熱膨張係数の大きい結晶粒子には引張応力が生じ、熱膨張係数の小さいガラスマトリックスには圧縮応力が生じる。そして、ガラスマトリックスに生じた圧縮応力がプレストレスとなり、ガラスの強度を向上させることができる。 That is, according to Non-Patent Document 1, since the glass matrix and crystal particles such as quartz have different coefficients of thermal expansion, the degree of shrinkage differs in the cooling process after firing, and the crystal particles having a large coefficient of thermal expansion have a tensile stress. And a compressive stress is generated in the glass matrix having a small coefficient of thermal expansion. And the compressive stress which arose in the glass matrix turns into prestress, and can improve the intensity | strength of glass.
しかしながら、特許文献1では、上述したようにコア−シェル構造のフィラーを開示しているが、フィラー中のコア部の含有モル量が85〜95モル%と多いため、フィラーでは熱膨張係数の小さいコア部に発生した応力が支配的となり、十分なガラス強度を得ることができない。すなわち、コア部となるシリカの熱膨張係数は、通常、ガラスマトリックスの熱膨張係数よりも小さいが、フィラー中のコア部の含有モル量が85〜95モル%と多いため、フィラーではコア部に発生した応力が支配的となって圧縮応力が生じ、熱膨張係数の大きいガラスマトリックスには引張応力が生じるため、ガラス強度の向上を図ることができない。 However, Patent Document 1 discloses a filler having a core-shell structure as described above, but the filler has a small coefficient of thermal expansion because the content of the core portion in the filler is as large as 85 to 95 mol%. The stress generated in the core portion becomes dominant and sufficient glass strength cannot be obtained. That is, the thermal expansion coefficient of the silica serving as the core part is usually smaller than the thermal expansion coefficient of the glass matrix, but since the content of the core part in the filler is as large as 85 to 95 mol%, The generated stress is dominant, compressive stress is generated, and tensile stress is generated in the glass matrix having a large thermal expansion coefficient. Therefore, the glass strength cannot be improved.
一方、非特許文献1記載のプレストレス法では、ガラスマトリックス中に添加した石英等の結晶粒子の粒径が小さいと、該結晶粒子がガラスマトリックス中に溶融してしまい、結晶粒子には十分な引張応力を生じさせることができない。このため、ガラスマトリックスは十分な圧縮応力を得ることができず、所望の高いガラス強度を得るのは困難である。一方、結晶粒子の粒径が大きい場合は、引張応力を大きくすることは可能であるが、結晶粒子の存在している個所ではガラスマトリックスの量が少なくなるため、結合力が弱くなり、ガラス強度の低下を招く。 On the other hand, in the pre-stress method described in Non-Patent Document 1, when the particle size of crystal particles such as quartz added to the glass matrix is small, the crystal particles are melted in the glass matrix, which is sufficient for the crystal particles. Tensile stress cannot be generated. For this reason, the glass matrix cannot obtain a sufficient compressive stress, and it is difficult to obtain a desired high glass strength. On the other hand, when the crystal grain size is large, it is possible to increase the tensile stress, but the amount of the glass matrix is reduced where the crystal particles are present, so the bond strength is weakened and the glass strength is reduced. Cause a decline.
また、結晶粒子の体積含有量を増加させた場合も、結晶粒子の引張応力は大きくなり、したがってガラスマトリックスの圧縮応力も大きくなるが、結晶粒子にジルコニア等の誘電率の大きな材料を使用すると、電気特性が変動してしまうおそれがあり、材料選択の自由度が狭くなる。さらに、結晶粒子の体積含有量が多くなると、ガラスマトリックスの体積含有量が低下するため、焼結性が悪化し、強度低下を招くおそれがある。 In addition, even when the volume content of the crystal particles is increased, the tensile stress of the crystal particles is increased, and thus the compressive stress of the glass matrix is also increased, but when a material having a large dielectric constant such as zirconia is used for the crystal particles, There is a possibility that the electrical characteristics may fluctuate, and the degree of freedom in material selection becomes narrow. Furthermore, if the volume content of the crystal particles is increased, the volume content of the glass matrix is decreased, so that the sinterability is deteriorated and the strength may be decreased.
また、非特許文献1の方法では、熱膨張係数が、物質固有の値であるため、ガラスマトリックスと結晶粒子との両者の組合せにより、ガラスマトリックスに生じる圧縮応力が決まってしまい、ガラス強度の向上にも限界がある。また、焼結後のガラス層の膜厚よりも大きな粒径の結晶粒子を、ガラスマトリックス中に添加した場合は、焼結後のガラス層の平滑性が損なわれるおそれがある。しかも、この場合、突出した結晶粒子とガラスマトリックスとの界面にクラックが生じ、強度低下を招くおそれがある。 In the method of Non-Patent Document 1, since the thermal expansion coefficient is a substance-specific value, the combination of both the glass matrix and the crystal particles determines the compressive stress generated in the glass matrix, thereby improving the glass strength. There are also limitations. In addition, when crystal particles having a particle size larger than the film thickness of the glass layer after sintering are added to the glass matrix, the smoothness of the glass layer after sintering may be impaired. In addition, in this case, cracks may occur at the interface between the protruding crystal particles and the glass matrix, leading to a decrease in strength.
本発明はこのような事情に鑑みなされたものであって、ガラス強度が高く、フィラー材料の選択の自由度が大きい感光性ペースト、及びこの感光性ペーストを使用したコイル部品等の電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a photosensitive paste having a high glass strength and a high degree of freedom in selecting a filler material, and an electronic component such as a coil component using the photosensitive paste. The purpose is to do.
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究を行なったところ、シェル部をコア部やガラスマトリックスよりも熱膨張係数の小さい材料で形成したコア−シェル構造のセラミックフィラーを母材となるガラス材中に含有させ、かつセラミックフィラーの体積含有量、平均粒径、及びセラミックフィラー中のコア部の体積含有量を所定範囲とすることにより、ガラス強度が高く、かつフィラー材料の選択の自由度が大きい感光性ペーストを得ることができるという知見を得た。 The present inventor conducted intensive research to achieve the above object, and the core material is a ceramic filler having a core-shell structure in which the shell portion is formed of a material having a smaller thermal expansion coefficient than the core portion and the glass matrix. The glass strength is high and the filler material can be freely selected by making it contained in the glass material, and by setting the volume content of the ceramic filler, the average particle diameter, and the volume content of the core part in the ceramic filler within a predetermined range. The knowledge that a high-sensitivity photosensitive paste can be obtained was obtained.
本発明はこのような知見に基づきなされたものであって、本発明に係る感光性ペーストは、コア部と、該コア部よりも熱膨張係数の大きな材料で形成されたシェル部とを有するコアーシェル型のセラミックフィラーが、前記シェル部よりも熱膨張係数の小さいガラスマトリックス中に含有されると共に、前記セラミックフィラーの体積含有率が、1〜30体積%であり、前記セラミックフィラー中のコア部の体積含有率が、0.1〜70体積%であり、かつ、前記セラミックフィラーの平均粒径が15nm〜5000nmであることを特徴としている。 The present invention has been made based on such knowledge, and the photosensitive paste according to the present invention has a core part and a core shell having a shell part made of a material having a larger thermal expansion coefficient than the core part. The ceramic filler of the mold is contained in a glass matrix having a smaller coefficient of thermal expansion than the shell part, and the volume content of the ceramic filler is 1 to 30% by volume, and the core part in the ceramic filler The volume content is 0.1 to 70% by volume, and the average particle size of the ceramic filler is 15 nm to 5000 nm.
また、本発明の感光性ペーストは、前記シェル部の熱膨張係数α1と前記コア部の熱膨張係数α2との差(α1−α2)が1×10-6/℃を超えていることを特徴とするのも好ましい。 In the photosensitive paste of the present invention, the difference (α1-α2) between the thermal expansion coefficient α1 of the shell portion and the thermal expansion coefficient α2 of the core portion exceeds 1 × 10 −6 / ° C. It is also preferable that
さらに、本発明の感光性ペーストは、前記コア部は、石英ガラス、チタン酸アルミニウム、及びコージェライトの中から選択された少なくとも1種が含有され、前記シェル部は、マグネシア、ジルコニア、アルミナ、及びチタニアの中から選択された少なくとも1種が含有されていることを特徴とするのも好ましい。 Further, in the photosensitive paste of the present invention, the core portion contains at least one selected from quartz glass, aluminum titanate, and cordierite, and the shell portion includes magnesia, zirconia, alumina, and It is also preferable that at least one selected from titania is contained.
また、本発明に係る電子部品は、絶縁層と導電層とが交互に積層された部品素体を焼成してなる電子部品において、前記絶縁層が、上記いずれかに記載の感光性ペーストを使用して形成されていることを特徴としている。 The electronic component according to the present invention is an electronic component obtained by firing a component body in which insulating layers and conductive layers are alternately stacked, and the insulating layer uses any of the photosensitive pastes described above. It is characterized by being formed.
上記感光性ペーストによれば、コア部と、該コア部よりも熱膨張係数の大きな材料で形成されたシェル部とを有するコア−シェル型のセラミックフィラーが、前記シェル部よりも熱膨張係数の小さいガラスマトリックス中に含有されると共に、前記セラミックフィラーの体積含有率が、1〜30体積%であり、前記セラミックフィラー中のコア部の体積含有率が、0.1〜70体積%であり、かつ、前記セラミックフィラーの平均粒径が15nm〜5000nmであるので、コア部とシェル部の収縮挙動の相違により、熱膨張係数の小さいコア部には圧縮応力が生じ、熱膨張係数の大きいシェル部には引張応力が生じる。また、シェル部とガラスマトリックスとの間では、熱膨張係数の大きいシェル部に引張応力が生じ、熱膨張係数の小さいガラスマトリックスには圧縮応力が生じる。そして、シェル部とガラスマトリックスとの界面近傍で発生するシェル部側の引張応力は、シェル部とコア部との間に発生した引張応力によって大きくなり、その結果、ガラスマトリックスに発生する圧縮応力も大きくなり、これによりガラス強度の向上を図ることができる。 According to the photosensitive paste, a core-shell type ceramic filler having a core part and a shell part made of a material having a larger thermal expansion coefficient than the core part has a thermal expansion coefficient higher than that of the shell part. While contained in a small glass matrix, the volume content of the ceramic filler is 1 to 30% by volume, and the volume content of the core part in the ceramic filler is 0.1 to 70% by volume, In addition, since the ceramic filler has an average particle size of 15 nm to 5000 nm, due to the difference in shrinkage behavior between the core and the shell, a compressive stress is generated in the core having a small coefficient of thermal expansion, and the shell having a large coefficient of thermal expansion. Tensile stress is generated in. Further, between the shell portion and the glass matrix, tensile stress is generated in the shell portion having a large thermal expansion coefficient, and compressive stress is generated in the glass matrix having a small thermal expansion coefficient. The tensile stress on the shell side that occurs near the interface between the shell and the glass matrix increases due to the tensile stress generated between the shell and the core. As a result, the compressive stress generated in the glass matrix also increases. As a result, the glass strength can be improved.
しかも、上記コアーシェル構造のセラミックフィラーは、単一材料からなるセラミックフィラーをガラスマトリックスに添加した場合に比べ、ガラスマトリックスの圧縮応力が増大することから、少量のセラミックフィラーを添加するだけで、従来よりも大きなガラス強度を得ることが可能となる。 In addition, the core-shell structure ceramic filler increases the compressive stress of the glass matrix compared to the case where a ceramic filler made of a single material is added to the glass matrix. It is possible to obtain a large glass strength.
また、セラミックフィラーの平均粒径も小さくて済み、したがって、セラミックフィラーが焼結後のガラス層から突出することもなく、強度バラツキも小さく、ガラス層の平滑性を損なうことのない感光性ペーストを得ることができる。さらに、セラミックフィラーをコア−シェル構造とすることにより、シェル部とガラスマトリックスとの界面におけるシェル部側の引張応力を増大させているので、少量のセラミックフィラーの添加だけで、ガラス強度を向上させることができ、セラミックフィラーの材料選択の自由度を広げることが可能である。 In addition, the ceramic filler may have a small average particle size, and therefore, the ceramic filler does not protrude from the sintered glass layer, the strength variation is small, and the photosensitive paste that does not impair the smoothness of the glass layer is obtained. Can be obtained. Furthermore, since the ceramic filler has a core-shell structure, the tensile stress on the shell part side at the interface between the shell part and the glass matrix is increased, so that the glass strength is improved only by adding a small amount of the ceramic filler. It is possible to increase the degree of freedom in selecting the ceramic filler material.
また、本発明の電子部品によれば、絶縁層と導電層とが交互に積層された部品素体を焼成してなる電子部品において、前記絶縁層が、上記いずれかに記載の感光性ペーストを使用して形成されているので、高強度で強度バラツキの小さいコイル部品やセラミック多層基板等の各種電子部品を得ることができる。 According to the electronic component of the present invention, in the electronic component obtained by firing a component body in which insulating layers and conductive layers are alternately stacked, the insulating layer includes the photosensitive paste according to any one of the above. Since it is formed by use, it is possible to obtain various electronic components such as a coil component and a ceramic multilayer substrate having high strength and small strength variation.
具体的には、200MPa以上の曲げ強度を有し、かつ製品間の強度バラツキの小さい電子部品を高効率で得ることができる。 Specifically, an electronic component having a bending strength of 200 MPa or more and small strength variation between products can be obtained with high efficiency.
次に、本発明の実施の形態を詳説する。 Next, an embodiment of the present invention will be described in detail.
図1は本発明に係る感光性ペーストを模式的に示した平面図であって、該感光性ペーストは、ガラスマトリックス1中にセラミックフィラー2が含有されている。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a photosensitive paste according to the present invention, and the photosensitive paste contains a
そして、このセラミックフィラー2は、コア部3と該コア部3を被覆するシェル部4とからなるコアーシェル構造を有している。
The
具体的には、シェル部4は、その熱膨張係数α1がコア部3の熱膨張係数α2やガラスマトリックス1の熱膨張係数α3よりも大きい材料で形成されている。
Specifically, the shell part 4 is formed of a material whose thermal expansion coefficient α1 is larger than the thermal expansion coefficient α2 of the
このようにセラミックフィラー2をコアーシェル構造とし、シェル部4の熱膨張係数α1がコア部3の熱膨張係数α2よりも大きい材料を使用することにより、焼成後の冷却過程では、熱膨張係数α2の小さいコア部3には矢印xに示すように圧縮応力が生じ、熱膨張係数α1の大きいシェル部4には矢印y方向に示すように引張応力が生じる。また、シェル部4とガラスマトリックス1との間では、矢印uに示すように熱膨張係数α1の大きいシェル部4に引張応力が生じ、熱膨張係数α3の小さいガラスマトリックス1には矢印vに示すように圧縮応力が生じる。そして、シェル部4は、コア部3との間に発生した引張応力により、該シェル部4とガラスマトリックス1との界面における引張応力が大きくなり、その結果、ガラスマトリックス1に発生する圧縮応力も大きくなる。すなわち、セラミックフィラー2とガラスマトリックス1との間には、シェル部4とガラスマトリックス1間の熱膨張係数差(α1−α3)に起因する応力に加え、コア部3とシェル部4との間の熱膨張係数差(α1−α2)に起因した応力が作用する。そしてこれによりガラスマトリックス1のガラス強度が増大し、焼結後のガラス層の強度を向上させることができる。
As described above, the
表1は、セラミックフィラー2を構成するコア部3とシェル部4の材料を例示したものであり、これらの材料を適宜選択することにより、本発明のコアーシェル型セラミックフィラーを形成することができる。
Table 1 exemplifies materials of the
この表1によれば、コア材料として、例えば、チタン酸アルミニウムを使用した場合は、シェル材料としてチタン酸アルミニウムよりも熱膨張係数の大きなアルミナ、ジルコニア、クリストバライト等を使用することができる。 According to Table 1, for example, when aluminum titanate is used as the core material, alumina, zirconia, cristobalite or the like having a larger thermal expansion coefficient than aluminum titanate can be used as the shell material.
このように必要に応じコア材料及びシェル材料を選択することができ、材料選択の自由度も格段に広い。 As described above, the core material and the shell material can be selected as necessary, and the degree of freedom of material selection is remarkably wide.
尚、シェル部4とコア部3との間で熱収縮の挙動に差が生じるのであれば、熱膨張係数差(α1−α2)は、特に限定されるものではないが、シェル部4に十分な引張強度を生じさせるためには、熱膨張係数差(α1−α2)は、1×10-6/℃を超えているのが好ましい。斯かる観点から、コア部3としては、石英ガラス、チタン酸アルミニウム、コージェライトを使用するのが好ましく、シェル部4としては、マグネシア、ジルコニア、アルミナ、チタニアを使用するのが好ましい。
If there is a difference in the behavior of heat shrinkage between the shell portion 4 and the
そして、本発明の感光性ペーストは、セラミックフィラー2の体積含有率は、1〜30体積%、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率が、0.1〜70体積%、セラミックフィラーの平均粒径が15nm〜5000nmとされている。
In the photosensitive paste of the present invention, the volume content of the
以下、その理由を述べる。 The reason will be described below.
(1)セラミックフィラー2の体積含有率
感光性ペーストにセラミックフィラー2を含有させることにより、ガラス強度を向上させることができる。しかしながら、セラミックフィラー2の体積含有率が1体積%未満になると、セラミックフィラー2の添加効果を発揮することができず、ガラス強度を向上させることが困難である。一方、セラミックフィラー2の体積含有率が30体積%を超えると、セラミックフィラー2の体積含有率が大きくなってガラスマトリックス1の骨格構造が弱くなり、却ってガラス強度の低下を招くおそれがある。
(1) Volume content rate of
そこで、本実施の形態では、セラミックフィラー2の体積含有率が1〜30体積%となるように、セラミックフィラー2とガラスマトリックス1の配合量を調製している。
Therefore, in the present embodiment, the blending amounts of the
(2)セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率
上述したようにセラミックフィラー2をコアーシェル構造とし、シェル部4の熱膨張係数α1がコア部3の熱膨張係数α2よりも大きくなるような材料を選択することによりガラス強度の向上が可能である。しかしながら、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率が、0.1体積%未満になると、コア部3の体積含有量が少ないため、セラミックフィラー2を単一材料で形成したのと略同等のガラス強度しか得ることができなくなる。一方、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率が、70体積%を超えると、コア部3の体積含有量が過剰となってシェル部4に十分な引張応力を生じさせることができず、ガラスマトリックス1には直接、コア部3の応力が作用することとなり、ガラス強度の向上を図ることができない。特に、ガラスマトリックス1の熱膨張係数α3がコア部3の熱膨張係数α2よりも大きい場合は、ガラスマトリックス1に引張応力が生じ、却ってガラス強度の低下を招くおそれがある。
(2) Volume content of the
そこで、本実施の形態では、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率が0.1〜70体積%となるように、コア部3とシェル部4の配合量を調製している。
Therefore, in the present embodiment, the blending amounts of the
(3)セラミックフィラー2の平均粒径
本発明では、コア部3及びシェル部4の熱膨張係数α1、α2、セラミックフィラー2の体積含有率、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率に加え、コア部3の直径dとシェル部4の厚みtを加算したセラミックフィラー2の平均粒径Dも重要である。すなわち、セラミックフィラー2の平均粒径Dが15nm未満になると、平均粒径Dが小さくなりすぎ、焼成時にセラミックフィラー2が溶融・拡散し、所望の高強度ガラスを得ることができなくなる。一方、セラミックフィラー2の平均粒径Dが5000nmを超えると、ガラスマトリックス1とセラミックフィラー2の界面にクラックが入ったりガラス層の平滑性を損なうおそれがあり、強度バラツキも大きくなる。
(3) Average particle diameter of
そこで、本実施の形態では、平均粒径が15nm〜5000nmとなるように、セラミックフィラー2の平均粒径を使用している。
Therefore, in the present embodiment, the average particle size of the
次に、上記感光性ペーストの製造方法を説明する。 Next, the manufacturing method of the said photosensitive paste is demonstrated.
まず、セラミックフィラー2を作製する。
First, the
例えば、コア部3を形成すべき所定粒径のコア材料とシェル部4を形成すべきシェル材料を用意する。
For example, a core material having a predetermined particle diameter for forming the
そして、シェル材料のアルコキシド溶液を作製し、コア材料を前記アルコキシド溶液に添加し、これによりコア材料の表面に非晶質シェル材料層を形成する。 Then, an alkoxide solution of the shell material is prepared, and the core material is added to the alkoxide solution, thereby forming an amorphous shell material layer on the surface of the core material.
次いで、この非晶質シェル材料層を所定温度(例えば、400〜600℃)で焼成して結晶化し、これによりコア部3の体積含有率が0.1〜70体積%のセラミックフィラー2を作製する。
Next, the amorphous shell material layer is fired at a predetermined temperature (for example, 400 to 600 ° C.) to be crystallized, thereby producing a
次に、ガラスマトリックス、感光性ワニス、光重合開始剤、溶剤、及び焼結助剤を含有した所定組成のガラスペーストを用意する。 Next, a glass paste having a predetermined composition containing a glass matrix, a photosensitive varnish, a photopolymerization initiator, a solvent, and a sintering aid is prepared.
ここで、ガラスマトリックスとしては、特に限定されるものではなく、例えば、B−Si−Li−Al系ガラス材、B−Si−Li−Ba系ガラス材、B−Si−Pb−Al系ガラス材、Si−B−K系ガラス材等、各種のガラス材を使用することができる。 Here, the glass matrix is not particularly limited. For example, a B-Si-Li-Al glass material, a B-Si-Li-Ba glass material, and a B-Si-Pb-Al glass material are used. Various glass materials such as Si-BK glass materials can be used.
感光性ワニスや光重合開始剤についても、特に限定されるものではなく、感光性ワニスとしては、例えば、感光性ポリイミド、感光性エポキシ等を使用することができ、光重合開始剤としては、ベンジル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイル安息香酸等を使用することができる。 The photosensitive varnish and the photopolymerization initiator are not particularly limited, and as the photosensitive varnish, for example, photosensitive polyimide, photosensitive epoxy, and the like can be used. As the photopolymerization initiator, benzyl , Benzoin ethyl ether, benzoylbenzoic acid and the like can be used.
溶剤についても、特に限定されるものではなく、エタノール、アセトン、キシレン等を適宜使用することができる。 The solvent is not particularly limited, and ethanol, acetone, xylene and the like can be appropriately used.
さらに、焼結助剤としては、Si−B−Ca−Li−Zn系ガラス材等のSiを含有したガラス材を使用することができる。 Furthermore, as a sintering aid, a glass material containing Si, such as a Si—B—Ca—Li—Zn-based glass material, can be used.
また、必要に応じてチクソ剤、分散剤等を含有させるのも好ましい。 Moreover, it is also preferable to contain a thixotropic agent, a dispersing agent, etc. as needed.
そして、体積含有率が1〜30体積%となるように、上記ガラスペーストにセラミックフィラー2を添加し、三本ロールミルで分散させながら混練し、これにより感光性ペーストが作製される。
And the
このように本発明の感光性ペーストは、コア部3と、該コア部3よりも熱膨張係数の大きな材料で形成されたシェル部4とを有するコア−シェル型のセラミックフィラー2が、シェル部4よりも熱膨張係数の小さいガラスマトリックス1中に含有されると共に、セラミックフィラー2の体積含有率が、1〜30体積%であり、セラミックフィラー2中のコア部3の体積含有率が、0.1〜70体積%であり、かつ、セラミックフィラー2の平均粒径が15nm〜5000nmであるので、シェル部4とガラスマトリックス1との界面近傍で発生するシェル部側の引張応力は、シェル部4とコア部3との間に発生した引張応力によって大きくなり、その結果、ガラスマトリックスに発生する圧縮応力も大きくなり、これによりガラス強度の向上を図ることができる。
As described above, the photosensitive paste of the present invention includes a core-shell
そして、このように単一材料からなるセラミックフィラー2をガラスマトリックス1に添加した場合に比べ、ガラスマトリックス1の圧縮応力が増大することから、少量のセラミックフィラー2を添加するだけで、従来よりも大きなガラス強度を得ることが可能となる。
And since the compressive stress of the glass matrix 1 increases compared with the case where the
また、セラミックフィラー2の平均粒径も小さくて済むので、セラミックフィラー2が、焼結後のガラス層から突出することもなく強度バラツキも小さく、ガラス層の平滑性を損なうことのない感光性ペーストを得ることができる。さらに、セラミックフィラー2をコア−シェル構造とすることにより、シェル部4とガラスマトリックス1との界面におけるシェル部4側の引張応力を増大させているので、少量のセラミックフィラー2の添加だけで、ガラス強度を向上させることができ、セラミックフィラー2の材料選択の自由度を広げることが可能である。
In addition, since the
図2は上記感光性ペーストを使用した電子部品としての積層コイル部品の一実施の形態を示す斜視図である。 FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of a laminated coil component as an electronic component using the photosensitive paste.
すなわち、この積層コイル部品は、部品素体5の両端に外部電極6a、6bが形成されている。
That is, in this laminated coil component,
図3は、部品素体5の分解斜視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view of the
すなわち、部品素体5は、絶縁性基板7を有し、該絶縁性基板7上には上記感光性ペーストを使用して形成された絶縁体層8a〜8dが順次積層されている。また、絶縁性基板7及び絶縁体層8a〜8cの表面にはコイル状の導体パターン9a〜9dが形成され、各導体パターン9a〜9d同士はビアホール10a〜10cを介して電気的に接続されている。そして導体パターン9a及び導体パターン9dの一端部は引出導体11a、11bを形成し、該引出導体11a、11bを介して導体パターン9a〜9dは外部電極6a、6bに接続されている。
That is, the
次に、上記コイル部品の製造方法を説明する。 Next, a method for manufacturing the coil component will be described.
まず、例えば、アルミナ等からなる絶縁性基板7上に、導体形成用感光性ペーストをスクリーン印刷法、スピンコート法、ドクターブレード法等を使用して塗布し、導体膜を形成する。
First, for example, a conductive forming photosensitive paste is applied onto an insulating
ここで、導体形成用感光性ペーストとしては、特に限定されるものではなく、上記本発明の感光性ペースト中、ガラスマトリックスとなるガラス材に代えてAgやCu等の導電性粉末を使用する以外は、同様の組成成分を含有したものを使用することができる。 Here, the conductive forming photosensitive paste is not particularly limited, and in the photosensitive paste of the present invention, a conductive powder such as Ag or Cu is used instead of the glass material to be a glass matrix. Can be used containing the same compositional components.
次いで、上記導体膜を乾燥させた後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光処理する。 Next, after the conductor film is dried, it is exposed through a photomask having a predetermined pattern.
次に、現像処理を行ない、さらに導体膜の不要部分を除去した後、例えば、空気中に、所定条件で焼成処理し、これにより引出導体11aを有するコイル状の導体パターン9aを形成する。
Next, after performing development processing and further removing unnecessary portions of the conductor film, for example, firing treatment is performed in air under predetermined conditions, thereby forming a
次いで、絶縁性基板7上の導体パターン9aを覆うように、本発明の絶縁層形成用感光性ペーストを、スクリーン印刷法、スピンコート法、ドクターブレード法等を使用して塗布し、絶縁膜を形成する。
Next, the insulating layer forming photosensitive paste of the present invention is applied using a screen printing method, a spin coating method, a doctor blade method or the like so as to cover the
次いで、絶縁膜を乾燥させた後、所定のパターンを有するフォトマスクを介して、絶縁膜を露光・現像し、不要部分を除去した後、例えば、空気中、所定条件で焼成処理し、貫通孔を有する絶縁層8aを形成する。
Next, after the insulating film is dried, the insulating film is exposed and developed through a photomask having a predetermined pattern, and unnecessary portions are removed. An insulating
次いで、導体形成用感光性ペーストを貫通孔に充填すると共に、該導体形成用感光性ペーストを絶縁層8a上に塗布し、上述と同様、露光・現像を行なって絶縁層8a上に導体パターン9bを形成する。
Next, the conductive forming photosensitive paste is filled into the through-holes, and the conductive forming photosensitive paste is applied onto the insulating
以下同様の処理を繰り返し、最後に絶縁体層8dを形成した後、外部電極用導電性ペーストを塗布して焼き付け、外部電極6a、6bを形成し、これにより積層コイル部品が製造される。
Thereafter, the same process is repeated, and finally the
このように上記積層コイル部品は、絶縁層8a〜8dが上記感光性ペーストで形成されているので、高強度で強度バラツキの小さいコイル部品を得ることができる。
As described above, since the insulating
具体的には、200MPa以上の曲げ強度を有し、かつ製品間の強度バラツキの小さい電子部品を高効率で得ることができる。 Specifically, an electronic component having a bending strength of 200 MPa or more and small strength variation between products can be obtained with high efficiency.
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記製造方法も単なる一例を示してものであり、上記実施の形態に限定されるものではない。また、上記実施の形態では積層コイル部品を例示して説明したが、セラミック多層基板やLC複合部品にも適用可能なのはいうまでもない。 The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the above manufacturing method is merely an example, and is not limited to the above embodiment. In the above embodiment, the laminated coil component has been described as an example, but it goes without saying that the present invention can also be applied to a ceramic multilayer substrate or an LC composite component.
次に、本発明の実施例を具体的に説明する。 Next, examples of the present invention will be specifically described.
〔セラミックフィラーの作製〕
〔実施例1〜10〕
アルミニウムアルコキシド溶液に粒径5〜2000nmのチタン酸アルミニウム(Al2TiO5)粒子を添加し、チタン酸アルミニウムの表面に厚さ5〜2000nmの非晶質アルミナ層を形成した。
[Production of ceramic filler]
[Examples 1 to 10]
Aluminum titanate (Al 2 TiO 5 ) particles having a particle size of 5 to 2000 nm were added to the aluminum alkoxide solution to form an amorphous alumina layer having a thickness of 5 to 2000 nm on the surface of the aluminum titanate.
次いで、温度500℃で焼成して非晶質アルミナ層を結晶化し、ボールミルで粉砕し、水と混合し、精密ろ過して粗粒を除去した。そしてこれによりコア部の粒径が5〜2000nm、シェル部の厚さが4.5〜1500nm、フィラー粒径が15〜5000nmの実施例1〜10のセラミックフィラーを作製した。 Subsequently, the amorphous alumina layer was crystallized by firing at a temperature of 500 ° C., pulverized with a ball mill, mixed with water, and finely filtered to remove coarse particles. And thereby, the ceramic filler of Examples 1-10 whose particle size of a core part is 5-2000 nm, the thickness of a shell part is 4.5-1500 nm, and a filler particle size is 15-5000 nm was produced.
〔実施例11〕
シリコン系アルコキシド溶液に粒径20nmの石英ガラス粒子を添加し、石英ガラスの表面に厚さ20nmの非晶質シリカ層を形成した。
Example 11
Quartz glass particles having a particle size of 20 nm were added to the silicon-based alkoxide solution to form an amorphous silica layer having a thickness of 20 nm on the surface of the quartz glass.
次いで、温度1200〜1500℃で焼成して非晶質シリカ層を結晶化し、ボールミルで粉砕し、水と混合し、精密ろ過して粗粒を除去した。そしてこれによりコア部の粒径が20nm、シェル部の厚さが15nm、フィラー粒径が50nmの実施例11のセラミックフィラーを作製した。 Next, the amorphous silica layer was crystallized by baking at a temperature of 1200 to 1500 ° C., pulverized with a ball mill, mixed with water, and finely filtered to remove coarse particles. Thus, the ceramic filler of Example 11 having a core part particle size of 20 nm, a shell part thickness of 15 nm, and a filler particle diameter of 50 nm was produced.
〔実施例12〕
アルミニウムアルコキシド溶液に粒径20nmのジルコン粒子を添加し、ジルコンの表面に厚さ20nmの非晶質アルミナ層を形成した。
Example 12
Zircon particles having a particle size of 20 nm were added to the aluminum alkoxide solution to form an amorphous alumina layer having a thickness of 20 nm on the surface of zircon.
次いで、温度500℃で焼成して非晶質アルミナ層を結晶化し、ボールミルで粉砕し、水と混合し、精密ろ過して粗粒を除去した。そしてこれによりコア部の粒径が20nm、シェル部の厚さが15nm、フィラー粒径が50nmの実施例12のセラミックフィラーを作製した。 Subsequently, the amorphous alumina layer was crystallized by firing at a temperature of 500 ° C., pulverized with a ball mill, mixed with water, and finely filtered to remove coarse particles. Thus, the ceramic filler of Example 12 having a core part particle size of 20 nm, a shell part thickness of 15 nm, and a filler particle diameter of 50 nm was produced.
〔比較例1〕
セラミックフィラーを含まないガラスペーストを比較例1とした。
[Comparative Example 1]
A glass paste containing no ceramic filler was used as Comparative Example 1.
〔比較例2、3〕
粒径50nmのチタン酸アルミニウム及びアルミナを用意し、それぞれ比較例2及び3のセラミックフィラーとした。
[Comparative Examples 2 and 3]
Aluminum titanate and alumina having a particle size of 50 nm were prepared and used as ceramic fillers of Comparative Examples 2 and 3, respectively.
〔比較例4〕
チタンアルコキシド溶液とアルミニウムアルコキシド溶液とを混合した混合溶液を作製した。そして、この混合溶液に粒径20nmのアルミナ粒子を添加し、アルミナの表面に厚さ20nmのチタニア及びアルミナからなる非晶質混合層を形成した
次いで、温度1600℃で焼成して非晶質混合層を結晶化し、ボールミルで粉砕し、水と混合し、精密ろ過して粗粒を除去した。そしてこれによりコア部の粒径が20nm、シェル部の厚さが15nm、フィラー粒径が50nmの比較例4のセラミックフィラーを作製した。
[Comparative Example 4]
A mixed solution was prepared by mixing a titanium alkoxide solution and an aluminum alkoxide solution. Then, alumina particles having a particle diameter of 20 nm were added to the mixed solution to form an amorphous mixed layer made of titania and alumina having a thickness of 20 nm on the surface of the alumina. The layer was crystallized, ground with a ball mill, mixed with water and microfiltered to remove coarse particles. This produced a ceramic filler of Comparative Example 4 having a core part particle size of 20 nm, a shell part thickness of 15 nm, and a filler particle diameter of 50 nm.
〔比較例5〜10〕
実施例1と略同様の方法・手順で、比較例5〜10のセラミックフィラーを作製した。
[Comparative Examples 5 to 10]
Ceramic fillers of Comparative Examples 5 to 10 were produced in substantially the same manner and procedure as in Example 1.
〔セラミック焼結体の作製〕
まず、表2に示す成分組成を有する熱膨張係数が5〜6×10−6/℃のガラスペーストを用意した。
[Production of ceramic sintered body]
First, a glass paste having a thermal expansion coefficient of 5-6 × 10 −6 / ° C. having the component composition shown in Table 2 was prepared.
次いで、上記ガラスペーストに上記実施例及び比較例のセラミックフィラーを体積含有量が0〜50体積%となるように添加し、三本ロールミルで分散・混練し、実施例1〜12及び比較例1〜10の感光性ペーストを作製した。 Next, the ceramic fillers of the above examples and comparative examples are added to the glass paste so that the volume content is 0 to 50% by volume, and dispersed and kneaded by a three-roll mill. Examples 1 to 12 and Comparative Example 1 10 photosensitive pastes were prepared.
次いで、この感光性ペーストをポリエチレンテレフタレート(PET)からなるフィルム上にスクリーン印刷し、その後、乾燥→露光→現像→印刷→・・・の処理を繰り返し、厚さ15μmのグリーンシートを作製した。 Subsequently, this photosensitive paste was screen-printed on a film made of polyethylene terephthalate (PET), and then the process of drying → exposure → development → printing →... Was repeated to produce a green sheet having a thickness of 15 μm.
次いで、このグリーンシートを温度850℃で焼成し、実施例1〜12及び比較例1〜10の試料を作製した。 Next, this green sheet was fired at a temperature of 850 ° C., and samples of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 10 were produced.
表3は実施例1〜12の各セラミックフィラーの熱膨張係数、成分組成、フィラー粒径、フィラー含有量を示し、表4は比較例1〜10の各セラミックフィラーの熱膨張係数、成分組成、フィラー粒径、フィラー含有量を示している。 Table 3 shows the thermal expansion coefficient, component composition, filler particle size, filler content of each ceramic filler of Examples 1-12, and Table 4 shows the thermal expansion coefficient, component composition of each ceramic filler of Comparative Examples 1-10. The filler particle size and filler content are shown.
〔試料の評価〕
上記各実施例及び比較例の試料各20個について、オートグラフ(島津製作所社製)を使用し、JIS R−1601に準拠して三点曲げ試験を行い、最大負荷を測定した。そして、試料サイズと最大負荷から平均曲げ強度を求め、さらに曲げ強度の標準偏差σを求めた。
(Sample evaluation)
About each 20 samples of each said Example and a comparative example, the autograph (made by Shimadzu Corp.) was used, the three-point bending test was done based on JISR-1601, and the maximum load was measured. And average bending strength was calculated | required from sample size and the maximum load, and also the standard deviation (sigma) of bending strength was calculated | required.
表5はその測定結果である。尚、表中、平均曲げ強度は試料20個中の平均値を示している。 Table 5 shows the measurement results. In the table, the average bending strength indicates an average value in 20 samples.
比較例1は、ガラスペーストのみで、セラミックフィラーが含まれていないため、平均曲げ強度は150MPaと低いことが確認された。 Since the comparative example 1 is only a glass paste and does not contain a ceramic filler, it was confirmed that the average bending strength was as low as 150 MPa.
比較例2、3は、セラミックフィラーがコア部のみで形成されているため、焼成した場合にコア部の圧縮応力が直接ガラスマトリックスに作用し、このため、200MPa未満の低いガラス強度しか得られなかった。特に、コア部にチタン酸アルミニウムを使用した比較例2は、ガラスマトリックスの熱膨張係数よりも小さいコア材料を使用しているので、ガラスマトリックスに引張強度が付与され、このため平均曲げ強度は80MPaと極端に低下した。 In Comparative Examples 2 and 3, since the ceramic filler is formed only of the core portion, when fired, the compressive stress of the core portion directly acts on the glass matrix, and therefore only a low glass strength of less than 200 MPa can be obtained. It was. In particular, Comparative Example 2 using aluminum titanate in the core portion uses a core material having a coefficient of thermal expansion smaller than that of the glass matrix, so that tensile strength is imparted to the glass matrix, and thus the average bending strength is 80 MPa. And fell extremely.
比較例4は、コア部にアルミナを使用し、シェル部にチタン酸アルミニウムを使用しており、シェル部の熱膨張係数がコア部の熱膨張係数よりも小さいため、コア部に引張応力が作用してシェル部には圧縮応力が作用し、その結果、ガラスマトリックスに引張強度が付与され、このため平均曲げ強度は60MPaと極端に低下した。 In Comparative Example 4, alumina is used for the core part and aluminum titanate is used for the shell part. Since the thermal expansion coefficient of the shell part is smaller than the thermal expansion coefficient of the core part, tensile stress acts on the core part. As a result, compressive stress acted on the shell portion. As a result, tensile strength was imparted to the glass matrix, and the average bending strength was extremely reduced to 60 MPa.
比較例5は、平均曲げ強度が180MPaと低くなった。これはセラミックフィラー中のコア部の体積含有率が0.05体積%と少なく、十分な圧縮応力を得ることができないため、シェル部の引張応力も小さく、このためガラスマトリックスに十分な圧縮応力を付与することができなかったためと思われる。 In Comparative Example 5, the average bending strength was as low as 180 MPa. This is because the volume content of the core part in the ceramic filler is as low as 0.05% by volume and sufficient compressive stress cannot be obtained, so the tensile stress in the shell part is also small, and therefore sufficient compressive stress is applied to the glass matrix. This is probably because the grant was not possible.
比較例6は、セラミックフィラー中のコア部の体積含有率が80体積%と過剰であり、シェル部の体積含有量が小さいため、シェル部に十分な引張強度が生じず、このため圧縮応力も小さく、平均曲げ強度は170MPaと低くなった。 In Comparative Example 6, the volume content of the core portion in the ceramic filler is excessive, such as 80% by volume, and the volume content of the shell portion is small, so that sufficient tensile strength does not occur in the shell portion. The average bending strength was as low as 170 MPa.
比較例7は、試料中のセラミックフィラーの体積含有率が0.5体積%と少ないため、セラミックフィラー2の添加効果を発揮することができず、このため平均曲げ強度が155MPaと低く、しかも標準偏差σが45となって、曲げ強度のバラツキも大きくなった。
In Comparative Example 7, since the volume content of the ceramic filler in the sample is as low as 0.5% by volume, the effect of adding the
比較例8は、試料中のセラミックフィラーの体積含有率が50体積%と過剰であるため、ガラスマトリックスの骨格構造が弱くなり、平均曲げ強度は140MPaと低くなった。 In Comparative Example 8, since the volume content of the ceramic filler in the sample was excessive at 50% by volume, the skeleton structure of the glass matrix became weak and the average bending strength was as low as 140 MPa.
比較例9は、セラミックフィラーの平均粒径が10nmと小さすぎるため、セラミックフィラーが溶融・拡散し、このため平均曲げ強度が180MPaと低くなった。 In Comparative Example 9, since the average particle size of the ceramic filler was too small as 10 nm, the ceramic filler was melted and diffused, and the average bending strength was as low as 180 MPa.
比較例10は、セラミックフィラーの平均粒径が7000nmと大きすぎるため、平均曲げ強度が170MPaと低く、しかも標準偏差σが45となって、曲げ強度のバラツキも大きくなった。 In Comparative Example 10, since the average particle size of the ceramic filler was too large as 7000 nm, the average bending strength was as low as 170 MPa, the standard deviation σ was 45, and the variation in bending strength was also large.
これに対し実施例1〜12は、シェル部がコア部やガラスマトリックスよりも大きな熱膨張係数を有する材料で形成され、前記セラミックフィラーの体積含有率が1〜30体積%の範囲内であり、セラミックフィラー中のコア部の体積含有率が0.1〜70体積%の範囲内であり、さらにセラミックフィラーの平均粒径が15nm〜5000nmの範囲内であるので、平均曲げ強度200〜330MPaの高強度を有し、標準偏差σも30以下と強度バラツキの抑制されることが分かった。特に、セラミックフィラーの体積含有率が15〜30体積%、セラミックフィラーの平均粒径が50〜500nmの実施例1〜5、7、9、11及び12は、焼成しても平均曲げ強度は250MPa以上、標準偏差σが20以下であり、高強度で強度バラツキの小さい感光性ペーストの得られることが分った。 In contrast, in Examples 1 to 12, the shell part is formed of a material having a larger thermal expansion coefficient than the core part or the glass matrix, and the volume content of the ceramic filler is in the range of 1 to 30% by volume, Since the volume content of the core in the ceramic filler is in the range of 0.1 to 70% by volume, and the average particle size of the ceramic filler is in the range of 15 nm to 5000 nm, the average bending strength is 200 to 330 MPa. It was found that the strength variation was suppressed and the standard deviation σ was 30 or less. In particular, Examples 1-5, 7, 9, 11 and 12 having a ceramic filler volume content of 15-30% by volume and a ceramic filler average particle size of 50-500 nm have an average bending strength of 250 MPa even when fired. As described above, it was found that a photosensitive paste having a standard deviation σ of 20 or less, high strength, and small strength variation can be obtained.
尚、実施例1〜10の試料を電極で挟み、静電容量を測定し、測定された静電容量とガラス層の厚みとから誘電率を測定したところ、誘電率の平均値は6であり、誘電率の上昇を抑制できることが分かった。 In addition, when the samples of Examples 1 to 10 were sandwiched between electrodes, the capacitance was measured, and the dielectric constant was measured from the measured capacitance and the thickness of the glass layer, the average value of the dielectric constant was 6. It was found that the increase in dielectric constant can be suppressed.
感光性ペーストを使用して絶縁層を形成した場合であっても、機械的強度の良好な積層コイル部品やセラミック多層基板等の各種電子部品を得ることができる。 Even when the insulating layer is formed using a photosensitive paste, various electronic components such as a laminated coil component and a ceramic multilayer substrate having good mechanical strength can be obtained.
1 ガラスマトリックス(ガラス材)
2 セラミックフィラー
3 コア部
4 シェル部
1 Glass matrix (glass material)
2
Claims (4)
前記セラミックフィラーの体積含有率が、1〜30体積%であり、
前記セラミックフィラー中のコア部の体積含有率が、0.1〜70体積%であり、
かつ、前記セラミックフィラーの平均粒径が15nm〜5000nmであることを特徴とする感光性ペースト。 A core-shell type ceramic filler having a core part and a shell part made of a material having a larger thermal expansion coefficient than the core part is contained in a glass material having a smaller thermal expansion coefficient than the shell part. With
The volume content of the ceramic filler is 1 to 30% by volume,
The volume content of the core part in the ceramic filler is 0.1 to 70% by volume,
And the photosensitive paste characterized by the average particle diameter of the said ceramic filler being 15 nm-5000 nm.
前記シェル部は、マグネシア、ジルコニア、アルミナ、及びチタニアの中から選択された少なくとも1種が含有されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の感光性ペースト。 The core portion contains at least one selected from quartz glass, aluminum titanate, and cordierite,
3. The photosensitive paste according to claim 1, wherein the shell portion contains at least one selected from magnesia, zirconia, alumina, and titania.
前記絶縁層が、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の感光性ペーストを使用して形成されていることを特徴とする電子部品。 In an electronic component formed by firing a component body in which insulating layers and conductive layers are alternately laminated,
An electronic component, wherein the insulating layer is formed using the photosensitive paste according to any one of claims 1 to 3.
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