JP5350396B2 - 保護板で被覆された電子表示装置の製造法 - Google Patents

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Description

本発明は、保護シートによって被覆された表示板を有する電子表示装置を製造する方法に関する。この保護シートには所望により表示板と組み合わせようとするカラーフィルターが具備されていてもよい。また、本発明は、このような装置を得るために上記の表示板を設置する基板にも関する。本発明は、一般にカラーおよびモノクロディスプレーに応用でき、特に、微小な表示板を有する小型の表示装置に適用できるものである。
公知のように、例えば、OLED(有機発光ダイオード)を用いた装置のような微小な表示板を有する表示装置は、画素マトリックスからなる有効域と、その有効域に隣接するように配置された、典型的には電気接点の配列である電気接続域とからなっている。このような微小表示装置は、シリコンウエハーが典型例である半導体基板を覆って微小表示板の有効域を形成する画素のカラードットそれぞれの上に光学カラーフィルターを合体させることで構成される。これらのフィルターは通常、微小表示板を外部環境の湿気や酸素から保護するために表示板に接合されるガラスシートの内側の面に、不浸透性カプセル化法によって形成される。
一般に、上記の合体は、UV架橋性接着フィルムを、微小表示板の全表面もしくはフィルターを具備した保護シートの内側の全表面に貼り付けることで行われる。これは、微小表示板の有効域だけに、この種の接着剤を塗布することが技術的に困難なためである。しかしながら、微小表示板に保護シートを貼り付け、その合体させたシート越しに紫外線照射を行って接着剤を架橋させると、結果的に接続域の電気接点を固化した接着剤が覆ってしまうことがある。このため、その後で行われる、有効域と接続域の境界線でシートを切除して接点を「解放・露出」させる作業が複雑になることがある。
このように保護シートによって微小表示板の電気接触が阻害されてしまう問題を解決するため、従来、上記のような架橋性接着剤は、特に、以下のようにして塗布されてきた。
― 例えば、米国特許US−B2−6825612明細書に記載されているように微小表示板の有効域を取り囲むように、その内側に縁状に塗布する。しかし、これには有効域がシートによって十分に保護されないという欠点がある。
― あるいは、スクリーン印刷を用いて有効域のみに選択的に塗布する。しかし、これには接着剤を塗布するポイントを定めるのに高い精度が必要とされる欠点がある。
― さらには、保護シートの接合面を事前に加工して、電気接点に対向する部分に、貼り付ける接着フィルムの厚さよりも十分に大きな深さを持つ空隙を設けて、接着剤が空隙内に溜まるようにする方法もある。しかし、この方法は、シートの事前加工が必要であるという欠点がある。
国際特許WO−A−2007/005228公報には、微小表示板に接合するための拡張部もしくは基底部が具備された保護シートの接合法が開示されている。この方法は、順に、
― シートの拡張部と微小表示部との境界面に接着剤をビーズ状に塗布する工程、
― 拡張部の外側に、カプトン(Kapon[商品名])タイプの感光性樹脂と、その上に無機封止層、特に、前記樹脂を覆うような封止層を設ける工程、および
― 最終的に、ビーズ状の接着剤の上に位置し、接合体を封止するのに必要な部分の無機層だけが得られるように、上記の樹脂とその樹脂を被覆している無機層を溶解除去する工程、からなっている。
この、上記公報に記載された方法の大きな欠点は、保護シートに拡張部を形成することや、その拡張部に沿って接着剤と感光樹脂を正確に塗布する必要があることなどから、実際に行うことが困難な点である。
本発明の目的の一つは、上記の欠点を改善した、電子表示装置の製造法を提供することにある。この装置には、画素マトリックスから形成された有効域と電気接続域とからなる、例えば、微小表示板のような表示板の少なくとも一方の側に基板が設けられている。また、この表示板は電磁波の照射によって架橋する接着剤によって保護シートと合体しており、その保護シートはこの電磁波を透過するとともに、表示板と合体するための接合面を備えている。この製造法は、
a)電気接続域に接続域を接着剤から保護するための少なくとも1層の有機層を形成したのちに、実質的に架橋していない状態の接着剤を、表示板の表面全体および/または保護シートの接合面全体に塗布する工程、
b)接着剤を介して表示板に前記接合面を合わせる工程、
c)保護シートを通して上記の照射を行って接着剤を架橋させる工程、および
d)接続域を覆っている部分の保護シートを取り除き、それと同時もしくは、その後の表面処理によって、保護層を接続域から取り除いて、接続域を電気接触できるようにする工程、からなっている。
本発明の製造法においては、上記の保護層はジアミン類から誘導される化合物およびヘテロ環式有機金属錯体からなる群から選ばれる少なくとも1つの有機化合物を基礎としている。
この有機保護層が、接続域の電気接点を接着剤の溶剤や外部の湿気から保護することを可能にするものであるだけでなく、有効域と接続域の境界線でシートを切ってこれらの電気接点を解放・露出させる作業と同時またはその後に、簡単に除去できるものであることは注目すべきことである。
また、本発明の有機保護層によって接続域が効果的に保護されるので、上記した従来の方法で行われたようなビーズ状の接着剤を選択的に塗布する場合に比べて、簡単に接着剤を表示板の表面全体および/または保護シートの内側面全体に塗布できることも注目すべきである。
この保護層と接続域との接着力は弱くて、上記の工程d)において上記した部分の接着剤の付いたシートとともに直接、機械的剥離によって除去できるようになっていることが好ましい。
あるいは、保護層は、その層に適した溶媒によって工程d)の後に溶解、除去してもよい。溶媒の例としては、アセトン、アルコール、あるいは水などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明のもう一つの特徴として、保護層の有機化合物が、表示装置の表示板の一部を構成していることが挙げられる。
このように表示板を製造するためにすでに利用されている一般的な材料を接合に用いることに、特段の工程を追加する必要がないことは注目すべきことである。
上記の保護層は5nmから100nmの厚さで、蒸発法もしくは液体法で形成することが好ましい。
また、保護層は
― N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(NPB)、N,N1−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(TPD)、4,4'4''−トリス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)トリスフェニルアミン(1T−NATA)および4,4'4''−トリス(N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ)トリスフェニルアミン(2T−NATA)からなる群から選ばれるジアミン誘導体;
― キノリンもしくはベンゾキノリンから誘導される有機金属錯体、好ましくは、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(III)(Alq3)、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)ガリウム(III)(Gaq3)、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)インジウム(III)(Inq3)、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)(Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリルム(BeBq2)およびビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(BAlq3)からなる群から選ばれる有機金属錯体;また、あるいは
― オキザノール系あるいはチアゾール系配位子を有する有機金属錯体、好ましくは、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(Zn(BOX)2)およびビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(Zn(BTZ)2)
からなっているか、もしくは、これらを基礎としていることが好ましい。
この保護層は、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(NPB)もしくはトリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(III)(Alq3)からなっていることが、さらに好ましい。
なお、本明細書において「電子表示装置」という表現は、一般に知られている、いかなるディスプレイ機器として理解しても良い。例えば、LCD(液晶ディスプレイ)やFED(電界放出型ディスプレイ)などを例として挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、表示板の有効域についても、それがアクティブマトリックス型であるかパッシブマトリックス型であるかは問題ではない。
本発明によって製造される装置の表示板は、有機型、無機型いずれかのタイプのエレクトロルミネッセンス微小表示板であることが好ましい。すなわち、表示板は、それぞれアノード、カソードとして作用する上下2枚の電極に挟まれた少なくとも1枚の有機(もしくは無機)フィルムを具備し、それらの電極の少なくとも一方はこの微小表示板からの発光に対して透明になっていることが好ましい。
また、この表示板はOLED(有機発光ダイオード)表示板で、その有機フィルムに用いられている少なくとも1つの有機化合物を基本とした本発明による有機保護層が、その中に具備されていることが、さらに好ましい。
本発明の製造法において用いることのできる有機化合物として上記したものは、他の化合物を使用することも可能ではあるが、特に、OLED表示板のHTL(ホール移動層)、EML(発光層)およびETL(電子移動層)に制限なく用いられるものであることは注目すべきことである。
基板および保護シートを作成するのに用いることのできる材料は、前者については、どのような半導体材料でもよく、シリコンあるいはガラス上に設けたシリコンが好ましい。後者については、上記の照射を透過し、かつ表示板からの発光を好適に透過する材料であれば何でもよく、例えば、ガラスやプラスチックなどが例として挙げられる。
保護シートは、特にカラーデイスプレイの場合、表示板との接合面に光学カラーフィルターを設けても良い。この場合、上記の工程b)において、表示板の画素それぞれの対応するカラードットに向かい合うようにフィルターを配置する。本発明による装置の表示板では、この保護シートに、さらなる光学カラーフィルターを付加する必要がなく、このシートによって表示板が簡単にカプセル化できるのは注目すべきことである。
本発明のもう一つの特徴として、有効域の外側、例えば、表示板の外縁部に近接して、コネクタを少なくとも1通りに配置することで、表示板の接続域を形成できることが挙げられる。
本発明による製造法に用いられる接着剤は、可視域あるいは可視域外、例えば、特に限定するものではないが、紫外域などの電磁放射線によって架橋できるものであれば、いかなる接着剤でも良い。このような紫外放射などによって架橋可能な接着剤としては、例えば、1成分もしくは2成分アクリル系接着剤やエポキシ系接着剤が挙げられる。
本発明による電子表示装置の基板は、少なくとも一方の側がOLED(有機発光ダイオード)微小表示板のような表示板で覆われていて、画素マトリックスで形成された有効域と電気接続域とからなっている。この表示板は、電磁放射線によって架橋可能な接着剤を介して、この放射線を透過し、表示板と接合する接合面を有する保護シートと実質的に表面全体が接合している。また、接続域は上記の接着剤から保護するための少なくとも一つの有機層で被覆されているが、この有機層は、接続域が電気接触できるようにするために、接続域に接合した部分の保護シートを取り除いたり、あるいは、保護シートを取り除いた後に溶解したりすることで、接続域から直接に取り除くことができる。
本発明における基板では、上記の保護層はジアミン誘導化合物およびヘテロ環式有機金属錯体からなる群から選ばれる少なくとも一つの有機化合物を基礎にしているが、この有機化合物は表示板の構成要素に用いられていることが好ましく、この保護層と接続域との接着力は充分に弱く、また厚さが5nmから100nmの間であることが好ましい。
上記のように、保護層は蒸発法や液体法によって形成され、上記の有機化合物は表示板構成物中に用いられていることが好ましい。
以下、添付した図面を参照しながら本発明の他の長所、特徴、詳細を明らかにするが、添付の図面は、単なる例に過ぎないものである。
カラーフィルター付きの保護シートで被覆されることになる、本発明による表示装置の微小表示板の有効域と接続域とを模式的に示した平面図である。 保護シートに架橋性接着剤を塗布して、接続域を予め本発明の有機保護層で被覆しておいた図1の微小表示板と接合するところを示した、本発明の表示装置の拡大模式断面図である。 保護シートを微小表示板に合わせた後に接着剤を架橋させる工程を示した、図2の表示装置の模式断面図である。 微小表示板の有用な部分を確保するため、すなわち、接続域の接続点を解放露出させるために、架橋工程の後に基板と保護シートを一部切除するところを示した、図3の表示装置の模式断面図である。 微小表示板の接続域から有機層が切除によってはぎ取られたところを示した、図4の装置の模式断面図である。
図1に示したカラー電子表示装置1はOLED型の例であり、公知のように、典型的にはシリコンあるいはガラス上に設けたシリコンでできた基板2(図2−5参照)、および、その上に形成された、画素マトリックスからなる有効域4と有効域4の外部にある電気接続域5を有する微小表示板3で構成されている。有効域4は、図2−5で、ソースS、ゲートG、ドレインD、2個のトランジスタT1およびT2、キャパシタ「Capa」の各記号で表わされた集積回路構造の上部に位置している。接続域5は、例えば、微小表示板3に集積された電極7と8の間の電位差を確保するためのコネクタまたは電気接点6の配列からなっている。
図2−5に示したOLED型電界発光微小表示板3の例では、有機フィルム9(単層もしくは複層)が両電極間、すなわち、下部電極7と上部電極8の間に挿入されている。下部電極7と上部電極8は、それぞれ、装置1のアノードとカソードとして機能し、これらの内、少なくとも一方は表示板3が発する光に対して透明で、装置1が光を外部に放射できるようになっている。上記の有機インターカレーションフィルム9は、電極7、8から放出された電子や正孔が内部を移動し、再結合して励起子を生成することで発光できるようになっている。
図2に示したように、保護シート1を微小表示板3とUV架橋性接着剤10を介して合体させる工程に先立って、本発明の無機保護層15、すなわち、接続域5の電気接点6を接着剤10や外部環境の湿気から保護できるような層を、微小表示板の接続域5上に形成する。
公知のように、保護シート11はカプセルカバーを形成するもので、典型的には、ガラス製あるいはプラスチック製である。また、この保護シート11は紫外線を透過するが、さらに微小表示板3が発する光も透過し、このシート11越しに発光が起こることが好ましい。さらに、微小表示板3と接合する内表面11aにはカラーフィルター12、13および14(赤、緑および青色フィルター)が、それぞれ、有効域4の各画素のカラードットに対向するように設けられていても良い。
UV架橋性接着剤10として使用できるものとしては、例えば、以下のような接着剤を挙げることができる。すなわち、デロ・カチオボンド(DELO Katiobond)45952(一成分エポキシ);デロ・フォトボンド(DELO Photobond)4302(一成分アクリレート);ダイマック(Dymax)425(一成分アクリレート);ダイマック(Dymax)X−516−99−E(一成分アクリレート);ダイマック(Dymax)628−VLV(一成分アクリレート);ポリテック(polytec)PI OG146(一成分エポキシ);ポリテック(polytec)PI OG114−4(一成分エポキシ);ポリテック(polytec)PI 301−2、パートAおよびB(二成分エポキシ);ポリテック(polytec)PI 301−2FL、パートAおよびB(二成分エポキシ);ポリテック(polytec)PI OG142−13(一成分エポキシ);およびエポテクニ(Epotecni)OAD061一成分エポキシ)などである。
上記したように、本発明による有機保護層15は、接続域5との接着力が充分に弱くて、次の工程で接着剤10によって覆われた保護シート11の一部がはぎ取られるときに機械的破断によって直接、剥離できるように、および/または、この剥離の後に適当な溶剤による溶解によって簡単に除去できるようになっている。この保護層15は微小表示板3を製作する際に、すでに、例えば、電子素子を形成するためや発光材料として用いられている有機化合物を基礎としていると好都合である。特に、例えば、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(NPB)のようなジアミン誘導体や、例えば、トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(III)(Alq3)のようなヘテロ環式有機金属錯体から誘導される有機化合物を基礎としていることが好ましい。
前記保護層の厚さは5nmから100nmであり、蒸発法で形成されることが好ましい。また、保護層は、例えばインクジェットプリントのような液体法で形成することも可能である。
保護シート11と微小表示板3との間にある接着剤10を架橋させる工程(図3に図示)の後で、得られた接合体を接続域5の外縁部に沿った線上で切り、次に、保護シート11を有効域4と接続域5との境界線上で切って、接続域5を解放・露出させても良い(図4参照)。
有機層5と接続域5との接着力が非常に弱いおかげで、上記のようにして保護シート11が部分的に切除されるときに、有機層5が接着剤10とともに完全に除去されてしまうことがある。このような場合は図5に示した装置を直接に得ることが出来る。この装置では、接続域5は全く自由に、必要な電気接続とアクセスすることができる。
保護シート11の部分的切除で、この有機層15を完全に除去することが出来ない場合は、残った層を、例えば、アセトン、アルコールあるいは水など適当な溶媒で溶解除去する。この除去は、レーザーを用いたり、あるいは他の適当な方法を用いたりして行ってもよい。
上記のようにして、本発明による有機保護層によって、微小表示板3の接続域5を保護シート11に接合する際に、次の工程である接続域5の電気接続を確保する作業に悪影響を及ぼす恐れなく、接続域5を効果的に保護することが出来るようになることは注目すべきことである。

Claims (15)

  1. 基板(2)と、その少なくとも一方の側に設けられ、画素マトリックスからなる有効域(4)と電気接続域(5)とを有する表示板(3)とを具備する電子表示装置(1)の製造法であって、
    前記表示板が、電磁放射線によって架橋する接着剤(10)を介して、前記放射線を透過し、かつ前記表示板と接合する面(11a)を有する保護シート(11)と合体しており、
    前記製造法が、
    a)実質的に架橋していない状態の接着剤を、表示板の電気接続域に接続域を接着剤から保護するための少なくとも1層の有機層である保護層(15)を形成した後に、表示板の表面全体および/または保護シートの接合面全体に塗布する工程、
    b)前記接着剤を介して表示板に前記接合面を合わせる工程、
    c)保護シートを通して前記放射線を照射して接着剤を架橋させる工程、および
    d)接続域を電気接触できるようにするために、接続域を覆っている部分の保護シートを取り除き、それと同時もしくは、その後の表面処理によって、保護層を接続域から取り除く工程からなっていて、
    前記保護層が、ジアミン誘導化合物およびヘテロ環式有機金属錯体からなる群から選ばれる少なくとも1つの有機化合物を基礎としていることを特徴する電子表示装置の製造法。
  2. 前記有機化合物が表示板(3)の構成の一部を形成していることを特徴とする請求項1に記載の製造法。
  3. 前記保護層(15)が5nmから100nmの厚さであり、蒸発法もしくは液体法によって形成することを特徴とする請求項1または2に記載の製造法。
  4. 前記保護層(15)が、上記工程d)において接着剤(10)で覆われた部分のシート(11)とともに直接、除去できるほど弱く接続域(5)と接着していることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の製造法。
  5. 前記保護層(15)が、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(NPB)、N,N1−ジフェニル−N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(TPD)、4,4'4''−トリス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)トリスフェニルアミン(1T−NATA)および4,4'4''−トリス(N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ)トリスフェニルアミン(2T−NATA)からなる群から選ばれるジアミン誘導体を基礎としていることを特徴する請求項4に記載の製造法。
  6. 前記保護層(15)が、キノリンもしくはベンゾキノリンから誘導される有機金属錯体を基礎としていることを特徴する請求項4に記載の製造法。
  7. 前記保護層(15)が、オキザノール系あるいはチアゾール系配位子を有する有機金属錯体を基礎としていることを特徴する請求項4に記載の製造法。
  8. 前記保護層(15)が、上記工程d)において接着剤(10)で覆われた部分のシート(11)とともに直接、除去できるほど弱く接続域(5)と接着しており、その工程d)おける除去が、機械的な剥離によって行われることを特徴する請求項1から7のいずれかに記載の製造法。
  9. 前記保護層(15)が、工程d)の後で、この層に適する溶媒で溶解する工程で除去されることを特徴する請求項1から7のいずれかに記載の製造法。
  10. 接着剤(10)が紫外線照射によって架橋可能であることを特徴する請求項1から9のいずれか1項に記載の製造法。
  11. 接続域(5)が、表示板(3)の周縁近くに配置されたコネクタ(6)の少なくとも一つの配列で形成されていて、前記基板(2)が半導体であることを特徴する請求項1から10のいずれか1項に記載の製造法。
  12. 前記保護シート(11)には、表示板(3)との接合面(11a)上に光学カラーフィルター(12、13、14)が備えられていて、それらフィルターが工程b)において前記各画素の対応するカラードットに対向するように接合されることとともに、前記保護シート(11)が表示板の発する光を透過し、かつ、例えば、ガラスやプラスチックで出来ているものであることを特徴する請求項1から11のいずれか1項に記載の製造法。
  13. 前記表示板(3)が電界発光微小表示板であることを特徴する請求項1から12のいずれか1項に記載の製造法。
  14. 前記表示板(3)が、前記有機フィルム(9)中に用いられている少なくとも一つの有機化合物を基礎とする前記保護層(15)を有するOLED(有機発光ダイオード)微小表示板であることを特徴する請求項13に記載の製造法。
  15. 一方の側に画素マトリックスからなる有効域(4)と電気接続域(5)とを具備する表示板(3)が設けられていて、前記表示板が電磁放射線によって架橋する接着剤(10)を介して、前記放射線を透過し、かつ前記表示板と接合する面(11a)を有する保護シート(11)と実質的に全面で合体するようになっており、また前記接続域は接着剤から保護するための少なくとも一つの有機層である保護層(15)によって被覆されているが、この層は接続域を電気的に接続できるようにするため、接続域に接合している保護シートの一部を取り除くことによって直接に、あるいは、その後の溶解によって除去できるようになっている電子表示装置(1)用基板(2)であって;前記保護層がジアミン誘導化合物およびヘテロ環式有機金属化合物とからなる群より選ばれる少なくとも一つの有機化合物を基礎にしており、かつ、この保護層が好ましくは前記接続域と充分に弱く接着しており、その厚さが5nmから100nmであることを特徴する電子表示装置(1)用基板(2)。
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