JP5348541B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、電気的に書換え可能な不揮発性メモリを備えた半導体装置に関し、特に不揮発性メモリの誤った書換えを防止する構成を備えた半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device having an electrically rewritable nonvolatile memory, and more particularly to a semiconductor device having a configuration for preventing erroneous rewriting of a nonvolatile memory.
EEPROM(Electronically Erasable and Programmable Read Only Memory)やフラッシュメモリなどの不揮発性の半導体メモリでは、メモリセルのデータ書換時にはデータ読出時よりも高い電圧がメモリセルに印加される。このため、データ書換の途中で電源遮断や瞬時停電が生じると、メモリセルに記憶されていたデータが破壊される可能性がある。 In a nonvolatile semiconductor memory such as an EEPROM (Electronically Erasable and Programmable Read Only Memory) or a flash memory, a voltage higher than that at the time of data reading is applied to the memory cell at the time of data rewriting of the memory cell. For this reason, if a power interruption or an instantaneous power failure occurs during data rewriting, the data stored in the memory cell may be destroyed.
特開平5−342115号公報(特許文献1)は、特別な補助電源を設けることなしに電源遮断時に生じる得るデータ破壊を防止するための技術を開示する。具体的に、この文献に記載の半導体装置には、主電源からの供給電圧を充電するコンデンサと、コンデンサからの逆流を阻止するダイオードとが設けられる。主電源において電源遮断が発生した場合、コンデンサの放電を安定化電源を介して、CPU(Central Processing Unit)やメモリを含む後続回路に供給する。これにより、CPUによってメモリにデータを保存する時間を確保する。 Japanese Patent Laid-Open No. 5-342115 (Patent Document 1) discloses a technique for preventing data destruction that may occur at the time of power-off without providing a special auxiliary power supply. Specifically, the semiconductor device described in this document is provided with a capacitor that charges the supply voltage from the main power supply and a diode that prevents backflow from the capacitor. When a power interruption occurs in the main power supply, the discharge of the capacitor is supplied to a subsequent circuit including a CPU (Central Processing Unit) and a memory through the stabilized power supply. Thereby, a time for storing data in the memory by the CPU is secured.
また、特開平4−137080号公報(特許文献2)は、論理電源(5V電源)とプログラム電源(12V電源)とによって駆動されるIC(Integrated Circuits)メモリカードにおいて、プログラム電源のみが印加されたために生じるデータの破壊を防止する技術を開示する。具体的に、この文献に記載のICメモリカードは、論理電源の電圧を検出する検出手段と、この検出手段の出力に基づき、プログラム電源をオンおよびオフに制御するスイッチング手段とを備える。 JP-A-4-137080 (Patent Document 2) discloses that only program power is applied to an IC (Integrated Circuits) memory card driven by a logical power supply (5 V power supply) and a program power supply (12 V power supply). Disclosed is a technique for preventing data destruction that occurs in Specifically, the IC memory card described in this document includes detection means for detecting the voltage of the logic power supply and switching means for controlling the program power supply on and off based on the output of the detection means.
しかしながら、特開平5−342115号公報(特許文献1)に記載の技術のように、電源電圧の低下を防止するためにコンデンサを負荷した場合には、回路面積が増加してしまうという問題がある。また、特開平4−137080号公報(特許文献2)のように、データの破壊を防止するために新たな回路を追加すると、回路構成が複雑になるとともに回路面積が増大してしまう。 However, as in the technique described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-342115 (Patent Document 1), there is a problem that the circuit area increases when a capacitor is loaded to prevent a decrease in power supply voltage. . Further, as in JP-A-4-137080 (Patent Document 2), when a new circuit is added to prevent data destruction, the circuit configuration becomes complicated and the circuit area increases.
この発明の目的は、簡単な手段によって、電源遮断時や瞬時停電時に不揮発性メモリへの誤書込の可能性を低減することができる半導体装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of reducing the possibility of erroneous writing to a nonvolatile memory at the time of power interruption or instantaneous power failure by simple means.
この発明の実施の一形態の半導体装置は、第1および第2のメモリアレイと、第1の電源回路と、書換指令部と、第1および第2の電圧供給制御部とを備える。第1および第2のメモリアレイは、電気的に書換可能な不揮発性のメモリセルが複数配列される。第1の電源回路は、各メモリセルのデータ書換に必要な書換電圧を生成する。書換指令部は、第1および第2のメモリアレイのデータ書換を指令する。第1の電圧供給制御部は、第1の書換可能信号が活性化状態の場合に、書換指令部の指令に従って第1の電源回路から第1のメモリアレイに書換電圧を供給する。第2の電圧供給制御部は、第2の書換可能信号が活性化状態の場合に、書換指令部の指令に従って第1の電源回路から第2のメモリアレイに書換電圧を供給する。 A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes first and second memory arrays, a first power supply circuit, a rewrite command unit, and first and second voltage supply control units. In the first and second memory arrays, a plurality of electrically rewritable nonvolatile memory cells are arranged. The first power supply circuit generates a rewrite voltage necessary for rewriting data in each memory cell. The rewrite command unit commands data rewrite of the first and second memory arrays. The first voltage supply control unit supplies a rewrite voltage from the first power supply circuit to the first memory array in accordance with a command from the rewrite command unit when the first rewritable signal is in an activated state. The second voltage supply control unit supplies a rewrite voltage from the first power supply circuit to the second memory array in accordance with a command from the rewrite command unit when the second rewritable signal is in an activated state.
この実施の形態によれば、第1のメモリアレイのデータ書換を行なうときは、第1の書換可能信号のみを活性化し、第2のメモリアレイのデータ書換を行なうときは、第2の書換可能信号のみを活性化するようにできる。したがって、データ書換を行なわないメモリアレイに対しては書換可能信号によって書換電圧の供給が禁止されるので、データの誤書込の可能性を低減することができる。 According to this embodiment, when data rewriting of the first memory array is performed, only the first rewritable signal is activated, and when data rewriting of the second memory array is performed, the second rewritable is possible. Only the signal can be activated. Therefore, since the supply of the rewrite voltage is prohibited by the rewritable signal to the memory array that does not rewrite data, the possibility of erroneous data writing can be reduced.
以下、この発明の各実施の形態について図面を参照して詳しく説明する。なお、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して、その説明を繰返さない。また、以下では、不揮発性メモリを有するマイクロコンピュータを例に挙げて説明するが、この発明は不揮発性メモリを備えた他の種類の半導体装置にも適用可能である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated. In the following description, a microcomputer having a nonvolatile memory will be described as an example. However, the present invention is also applicable to other types of semiconductor devices having a nonvolatile memory.
<実施の形態1>
[マイクロコンピュータの構成]
図1は、この発明の実施の形態1に従うマイクロコンピュータ1の構成を示すブロック図である。図1を参照して、マイクロコンピュータ1(半導体装置)は、CPU2と、RAM(Random Access Memory)3と、不揮発性メモリ4と、周辺回路5と、インターフェース回路7と、これらを相互に接続するデータバス8と、電源回路6(第2の電源回路)とを含む。
<Embodiment 1>
[Microcomputer configuration]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a microcomputer 1 according to the first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a microcomputer 1 (semiconductor device) connects a
電源回路6は、マイクロコンピュータ1の外部から外部電源電圧VCC(たとえば3V)を受けて、外部電源電圧VCCよりも低電圧の内部電源電圧VDD(たとえば1.5V)を生成する。内部電源電圧VDDは、マイクロコンピュータ1の各部に供給される。
The
また、電源回路6は、生成した内部電源電圧VDDの電圧レベルを監視し、内部電源電圧VDDが所定の電圧レベルに達した場合に活性化する監視信号VDDONLを出力する。なお、監視信号VDDONLの信号レベルは、Hレベルのとき電源電圧VCCになり、Lレベルのとき接地電圧GNDになるVCC系の信号である。以下、VCC系の信号であることを明示する場合には、監視信号VDDONL_VCCのように参照符号の末尾にVCCを付す。同様に、Hレベルのとき電源電圧VDDになり、Lレベルのとき接地電圧GNDになるVDD系の信号の場合には、参照符号の末尾にVDDを付して区別する。
The
不揮発性メモリ4は、EEPROMやフラッシュメモリなどの半導体記憶装置である。これらの半導体記憶装置の各メモリセルは、制御ゲートとチャネル層との間に浮遊ゲートを有する。この浮遊ゲートに蓄積された電荷の有無によって各メモリセルに情報が記憶される。なお、浮遊ゲートに代えて窒化ケイ素膜を電荷捕獲層として用いることもできる。
The
この種のメモリセルでは、浮遊ゲートに電荷を注入する場合(書込モード)や浮遊ゲートから電荷を引き出す場合(消去モード)には、通常の動作モードよりも高い電圧を制御ゲート、ソース領域、またはP型ウェルなどに印加する必要がある。そこで、不揮発性メモリ4には、内部電源電圧VDDを昇圧する昇圧回路11(第1の電源回路)が設けられている。昇圧回路(内部電源回路)11は、書込モード、消去モード、読出モードにおいて制御ゲートなどに印加する書込電圧、消去電圧、読出電圧を生成する。なお、この明細書では書込電圧および消去電圧を総称して書換電圧とも称する。また、昇圧回路11で生成される電圧を総称して制御電圧とも称する。
In this type of memory cell, when charge is injected into the floating gate (write mode) or when charge is extracted from the floating gate (erase mode), a voltage higher than the normal operation mode is applied to the control gate, source region, Or it needs to be applied to a P-type well or the like. Therefore, the
図1に示す不揮発性メモリ4には、コード領域10Iとデータ領域10Dとが設けられる。コード領域10Iのメモリアレイは、主としてプログラム情報を格納する。データ領域10Dのメモリアレイは、CPU2の演算処理による処理結果やマイクロコンピュータ1の外部からのデータを格納する。通常、コード領域10Iに格納されたデータの書換回数は、データ領域10Dに格納されたデータの書換回数よりも少ない。これらのコード領域10Iおよびデータ領域10Dの構成の詳細については、図2を参照して後述する。
The
ところで、電源回路6に供給される外部電源電圧VCCが遮断されたり、電源回路6が瞬時停電したりすると、内部電源電圧VDDが低下するので不揮発性メモリ4内部の信号の論理レベルが不定になる。このとき、不揮発性メモリ4がデータ書換中であれば、昇圧回路(内部電源回路)11によって高電圧が生成されているので、高電圧が誤ってメモリセルに印加されてしまいデータが書換えられるおそれがある。
By the way, when the external power supply voltage VCC supplied to the
このようなデータの誤った書換の可能性を低減させるために、不揮発性メモリ4には、マイクロコンピュータ1の外部から書換可能信号FHVED,FHVEI,FHVEXが供給される。これらの書換可能信号FHVED,FHVEI,FHVEXは、VCC系の信号であり、不揮発性メモリ4の複数の領域に個別に対応して設けられている。具体的に、書換可能信号FHVEDはデータ領域10Dに対応し、書換可能信号FHVEIはコード領域10Iに対応する。また、書換可能信号FHVEXは、データ領域10Dおよびコード領域10Iのメモリセルに設けられた特殊領域に対応する。各領域は、対応の書換可能信号が活性化状態の場合に書換可能な状態になるように制御される。このように、複数の領域ごとに書換可能信号が設けられていることによってデータ書換の対象でない領域への高電圧の印加が防止できるので、データを誤って書き換える可能性を低減させることができる。さらに詳しい制御手順については図2〜図8を参照して後述する。
In order to reduce the possibility of such erroneous data rewriting, the
なお、図1に示すように、マイクロコンピュータ1には、外部からマイクロコンピュータ1をリセットするためのリセット信号RSTを受ける端子も設けられている。 As shown in FIG. 1, the microcomputer 1 is also provided with a terminal for receiving a reset signal RST for resetting the microcomputer 1 from the outside.
[不揮発性メモリの構成]
図2は、図1の不揮発性メモリ4の詳細な構成を示すブロック図である。図2には、不揮発性メモリ4の構成要素のうちメモリセルのデータ書換に用いられる構成要素が主として示される。
[Configuration of non-volatile memory]
FIG. 2 is a block diagram showing a detailed configuration of the
図2を参照して、不揮発性メモリ4は、データ領域10Dとコード領域10Iとを含む。これらのデータ領域10Dおよびコード領域10Iには、データを格納するメモリアレイ40D,40Iがそれぞれ設けられる。
Referring to FIG. 2,
データ領域10Dのメモリアレイ40Dは、さらに、通常領域41Dと特殊領域42Dとを含む。通常領域41Dには、CPU2の演算処理による処理結果やマイクロコンピュータ1の外部からのデータが格納される。また、特殊領域42Dには、システム立上げ時のブートプログラムを格納する領域、不良ブロック情報や誤り訂正コードを格納するための冗長バイト、および書換電圧を微調整するための電源トリミング情報を格納する領域などが設けられる。
The memory array 40D in the data area 10D further includes a
コード領域10Iのメモリアレイ40Iも同様に、通常領域41Iと特殊領域42Iとを含む。通常領域41Iには、用途に応じたプログラム情報が格納される。また、特殊領域42Iは、データ領域10Dに設けられた特殊領域42Dと同様に、ブートプログラムおよび電源トリミング情報を格納する領域、および冗長バイトなどが設けられる。
Similarly, the memory array 40I of the code area 10I includes a normal area 41I and a special area 42I. Program information corresponding to the application is stored in the normal area 41I. Further, the special area 42I is provided with an area for storing a boot program and power supply trimming information, a redundant byte, and the like, similar to the
なお、コード領域10Iは不揮発性メモリ4中に複数設けられていてもよい。コード領域10Iが複数設けられた場合は、各コード領域10Iに個別に対応した書換可能信号FHVEIがマイクロコンピュータ1の外部から供給される。
A plurality of code areas 10I may be provided in the
不揮発性メモリ4のデータ領域10Dには、さらに、P/Eシーケンサ21(書換指令部)、内部電源回路11(第1の電源回路)、内部電源回路11の制御信号を発生する電源制御信号発生部22、およびテスト用の内部レジスタ13(テスト制御部)が設けられる。これらの各構成要素11,21,22,13は、データ領域10Dおよびコード領域10Iのメモリアレイ40D,40Iに共用で設けられる。
In the data area 10D of the
データ領域10Dには、さらに、電源スイッチ部14D(ディストリビュータ)、電源スイッチ部14Dの制御信号を発生する電源SW制御信号発生部23D、Xデコーダ15D、およびXデコーダの制御信号を発生するX系制御信号発生部24Dが設けられる。これらの各構成要素14D,23D,15D,24Dは、データ領域10Dのメモリアレイ40Dに専用で設けられる。
The data area 10D further includes a
P/Eシーケンサ21は、図1のCPU2からの指令に従って、データ書込時およびデータ消去時に、内部電源回路11、電源スイッチ部14D、およびXデコーダ15Dを所定のシーケンスで制御するために設けられる。P/Eシーケンサ21からの指令に従って、電源制御信号発生部22、電源SW制御信号発生部23D、およびX系制御信号発生部24Dは、それぞれ、内部電源回路11、電源スイッチ部14D、およびXデコーダ15Dに制御信号を出力する。
P /
内部電源回路11は、内部電源電圧VDDに基づいて、書込、消去、読出などの各動作モードで用いられる制御電圧を生成する。内部電源回路11は、たとえば、チャージポンプ回路によって構成される。内部電源回路11は、電源制御信号発生部22からの制御信号に応じて、所定の電圧まで内部電源電圧VDDを昇圧したり、昇圧を停止したりする。
The internal
電源スイッチ部14Dは、各動作モードに応じて、内部電源回路11で生成された種々の制御電圧(書込電圧、消去電圧、読出電圧)をXデコーダ15D、コラム選択回路(図示省略)、センスアンプ(図示省略)などに分配する。電源スイッチ部14Dは、複数の制御電圧の供給をオン/オフ制御する複数のスイッチを含む。複数のスイッチは、電源SW制御信号発生部23Dからの制御信号に応じて、オン状態またはオフ状態になる。電源スイッチ部14Dおよび電源SW制御信号発生部23Dは、P/Eシーケンサ21の指令に従って内部電源回路11からメモリアレイ40Dへ制御電圧を供給する電圧供給制御部20Dとして機能する。
The
Xデコーダ15Dは、X系制御信号発生部24Dから与えられたXアドレス信号に従って、メモリアレイ40Dのワード線、ソース線、P型ウェルなどに、電源スイッチ部14Dから与えられた制御電圧を供給する。
The
内部レジスタ13は、バーン・イン・テスト時に内部電源回路11の出力電圧を変更するために設けられる。バーン・イン・テスト時には、図1のCPU2からの指令に従って内部レジスタ13にデータが設定される。そして、内部レジスタ13に設定されたデータに応じた制御信号が電源制御信号発生部22から内部電源回路11に出力される。
The
上記と同様に、不揮発性メモリ4のコード領域10Iには、コード領域10Iに専用で、電源スイッチ部14I(ディストリビュータ)、電源スイッチ部14Iを制御する信号を発生する電源SW制御信号発生部23I、Xデコーダ15I、およびXデコーダ15Iを制御する信号を発生するX系制御信号発生部24Iが設けられる。これらの各構成要素の機能はデータ領域10Dの場合と同様であるので説明を繰返さない。なお、電源スイッチ部14Iおよび電源SW制御信号発生部23Iは、P/Eシーケンサ21の指令に従って内部電源回路11からメモリアレイ40Iへ制御電圧を供給する電圧供給制御部20Iとして機能する。
Similarly to the above, the code area 10I of the
[書換可能信号による不揮発性メモリ4の制御]
さて、図1で説明したように、不揮発性メモリ4は、書換可能信号FHVED,FHVEI,FHVEXが活性化状態の場合に、対応の領域が書換可能になるように制御される。以下、具体的な制御方法について説明する。
[Control of
As described with reference to FIG. 1, the
(1.書換可能信号FHVEDによる電源SW制御信号発生部23Dの制御)
まず、データ領域10Dの電源SW制御信号発生部23Dは、書換可能信号FHVEDが活性化状態の場合には、P/Eシーケンサ21の指令に従って、電源スイッチ部14Dの所定のスイッチがオン状態またはオフ状態になるように制御信号を出力する。
(1. Control of power supply SW control signal generator 23D by rewritable signal FHVED)
First, when the rewritable signal FHVED is in the activated state, the power switch control signal generating unit 23D in the data area 10D turns on or off a predetermined switch of the
一方、書換可能信号FHVEDが非活性化状態の場合には、基本的には、電源SW制御信号発生部23Dは、P/Eシーケンサ21の指令内容によらず、電源スイッチ部14Dの高電圧用のスイッチがオフ状態になるような制御信号を出力する。しかし例外的に、電源SW制御信号発生部23Dは、メモリアレイ40Dがデータ書換中の場合にはデータ書換が終了するまで内部電源回路11からメモリアレイ40Dへの高電圧の供給を継続するように電源スイッチ部14Dを制御する。データ書換中にメモリアレイへの書換電圧の供給が急に停止すると、メモリアレイに格納されたデータが破壊されるおそれがあるからである。
On the other hand, when the rewritable signal FHVED is in an inactive state, basically, the power switch control signal generator 23D is for the high voltage of the
このような制御を行なうために、不揮発性メモリ4のデータ領域10Dには、書換可能信号FHVEDの論理状態を保持するラッチ回路30Dが設けられる。ラッチ回路30Dは、さらに、P/Eシーケンサ21から制御信号seqmode_onを受ける。制御信号seqmode_onは、データ書換中に活性化状態(Hレベル)になる信号である。
In order to perform such control, a
具体的に、ラッチ回路30Dは、制御信号seqmode_onが活性化状態(Hレベル)に切替わった時点で、書換可能信号FHVEDの論理状態を保持し、制御信号seqmode_onが非活性化状態(Lレベル)に切替わるまでの間、保持した論理状態を出力する。一方、制御信号seqmode_onが非活性化状態(Lレベル)の間は、ラッチ回路30Dは、入力された書換可能信号FHVEDの論理状態をそのまま出力する。ラッチ回路30Dのさらに詳細な構成については、図3、図4を参照して後述する。
Specifically, the
不揮発性メモリ4のデータ領域10Dには、ラッチ回路30Dの出力をVCC系からVDD系にレベルシフト(降圧)するレベルシフタ12がさらに設けられる。レベルシフタ12は、たとえば、内部電源電圧VDDで動作するインバータ回路によって構成することができる。
The data area 10D of the
電源スイッチ部14D用の電源SW制御信号発生部23Dは、レベルシフタ12によってVDD系に変換されたラッチ回路30Dの出力を書換可能信号fhved_vddとして受ける。電源SW制御信号発生部23Dは、書換可能信号fhved_vddが活性化状態(Hレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令に従って、電源スイッチ部14Dの所定のスイッチがオン状態またはオフ状態になるような制御信号を出力する。一方、電源SW制御信号発生部23Dは、書換可能信号fhved_vddが非活性化状態(Lレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令内容によらず、電源スイッチ部14Dの高電圧用のスイッチがオフ状態になるような制御信号を出力する。
The power switch control signal generator 23D for the
(2.書換可能信号FHVEIによる電源SW制御信号発生部23Iの制御)
書換可能信号FHVEIによるコード領域10Iの電源SW制御信号発生部23Iに対する制御方法は、データ領域10D用の書換可能信号FHVEDの場合と同様である。すなわち、不揮発性メモリ4のデータ領域10Dには、書換可能信号FHVEIの論理状態を保持するラッチ回路30Iが設けられる。ラッチ回路30Iは、さらに、P/Eシーケンサ21から制御信号seqmode_onを受ける。ラッチ回路30Iの具体的な動作は、ラッチ回路30Dと同じである。以下、ラッチ回路30D,30Iを総称する場合、または不特定のものを示す場合にラッチ回路30とも記載する。
(2. Control of power supply SW control signal generator 23I by rewritable signal FHVEI)
The control method for the power supply SW control signal generator 23I of the code area 10I by the rewritable signal FHVEI is the same as that of the rewritable signal FHVED for the data area 10D. In other words, the data area 10D of the
電源スイッチ部14I用の電源SW制御信号発生部23Iは、レベルシフタ12によってVDD系に変換されたラッチ回路30Iの出力を書換可能信号fhvei_vddとして受ける。電源SW制御信号発生部23Iは、書換可能信号fhvei_vddが活性化状態(Hレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令に従って、電源スイッチ部14Iの所定のスイッチがオン状態またはオフ状態になるような制御信号を出力する。一方、電源SW制御信号発生部23Iは、書換可能信号fhvei_vddが非活性化状態(Lレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令内容によらず、電源スイッチ部14Iの高電圧用のスイッチがオフ状態になるような制御信号を出力する。
The power switch control signal generator 23I for the power switch unit 14I receives the output of the latch circuit 30I converted into the VDD system by the
(3.書換可能信号FHVED,FHVEIによる電源制御信号発生部22の制御)
内部電源回路11用の電源制御信号発生部22は、ラッチ回路30D,30Iの出力がレベルシフタ12によってVDD系にレベル変換された書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vddを受ける。電源制御信号発生部22は、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vddの少なくとも一方が活性化状態(Hレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令に従って、内部電源回路11が高電圧を生成するような制御信号を出力する。一方、電源制御信号発生部22は、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vddが両方とも非活性化状態(Lレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令内容によらず、内部電源回路11による高電圧の生成を停止するような制御信号を出力する。
(3. Control of power supply
The power supply
(4.書換可能信号FHVEXによる特殊領域42D,42Iの制御)
メモリアレイ40D,40Iの各特殊領域42D,42Iには、書換可能信号FHVEXがレベルシフタ12によってVDD系にレベル変換された書換可能信号fhvex_vddが供給される。特殊領域42D,42I内のメモリセルは、書換可能信号fhvex_vddが活性化状態(Hレベル)のとき書換可能であり、書換可能信号fhvex_vddが非活性化状態(Lレベル)のとき書換禁止になる。たとえば、フラッシュメモリの場合、書換可能信号fhvex_vddが非活性化状態(Lレベル)のときセルブロックが選択不能になる。
(4. Control of
The
なお、通常、特殊領域42D,42I内のメモリセルに記憶されたデータは、マイクロコンピュータ1の製造者によって書き換えられるものである。したがって、データ書換中に誤ってリセットされ、書換可能信号FHVEXがLレベルに戻る可能性は低いと考えられる。したがって、書換可能信号FHVEXについてはラッチ回路が設けられていない。
Normally, data stored in the memory cells in the
(5.書換可能信号FHVED,FHVEIによる内部電源回路11の制御)
内部電源回路11は、外部から供給された書換可能信号FHVED,FHVEIをラッチ回路30D,30Iを介さずに受ける。内部電源回路11は、書換可能信号FHVED,FHVEIの少なくとも一方が活性化状態(Hレベル)の場合に、電源制御信号発生部22からの制御信号に従って、高電圧(書込電圧、消去電圧などの制御電圧)を生成可能になる。内部電源回路11は、書換可能信号FHVED,FHVEIが両方とも非活性化状態(Lレベル)の場合には、高電圧を生成しない。
(5. Control of internal
Internal
したがって、電源遮断後に図1の電源回路6が復帰する際に、不揮発性メモリ4内部の信号の論理状態が不定になったとしても、書換可能信号FHVED,FHVEIが両方ともLレベルである限り、内部電源回路11は高電圧を生成しない。この結果、メモリセルに誤って高電圧が印加されることを防止できる。
Therefore, even when the logic state of the signal in the
なお、内部電源回路11を構成するチャージポンプ回路には電荷蓄積用のコンデンサが設けられている。このため、メモリセルのデータ書換中に書換可能信号FHVED,FHVEIがLレベルにリセットされたとしても、内部電源回路11の出力が急に減少することはない。したがって、内部電源回路11には、ラッチ回路30D,30Iを介さずに書換可能信号FHVED,FHVEIが直接に供給されている。
The charge pump circuit constituting the internal
(6.書換可能信号FHVED,FHVEI,FHVEXによるテスト用の内部レジスタ13の制御)
テスト用の内部レジスタ13は、VDD系の書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddを受ける。内部レジスタ13の出力は、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddが全て活性化状態(Hレベル)の場合にのみ有効になり、それ以外の場合には内部レジスタ13の出力は無効化される。
(6. Control of test
The test
したがって、電源遮断後に図1の電源回路6が復帰する際に、テスト用の内部レジスタ13の論理状態が不定であったとしても、誤って内部電源回路11がバーン・イン・テスト用の高電圧を生成することはない。この結果、メモリセルに誤ってテスト用の高電圧1が印加されることを防止できる。
Therefore, when the
なお、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddに代えて新たな書換可能信号を用いてテスト用の内部レジスタ13を制御することもできる。しかし、この場合にはマイクロコンピュータ1に新たな外部端子を設ける必要が生じる。上記のように、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddを内部レジスタ13の制御のために共用することによって、マイクロコンピュータ1に設ける外部端子の総数を減らすことができる。
Note that the test
また、外部から入力される電源電圧VCC自体が停電になった後の復帰中には、ラッチ回路30D,30Iの出力(書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd)の論理状態が不定になる。上記のようにラッチ回路を通さない書換可能信号fhved_vddを用いることによって、このような電源電圧VCCの停電後の復帰中においても、メモリセルに誤ってテスト用の高電圧が印加されることを防止できる。
Further, during the recovery after the externally input power supply voltage VCC itself has failed, the logic states of the outputs of the
[ラッチ回路の構成および動作]
以下、図2のラッチ回路30の構成および動作についてさらに詳しく説明する。
[Configuration and operation of latch circuit]
Hereinafter, the configuration and operation of the
図3は、図2のラッチ回路30の構成を示すブロック図である。図2、図3を参照して、ラッチ回路30は、VDD系の制御信号seqmode_onをVCC系の信号に変換(昇圧)するレベルシフタ31と、レベルシフタ31の出力を反転するインバータIV4と、外部電源電圧VCCで動作するDラッチ32とを含む。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the
制御信号seqmode_onは、P/Eシーケンサ21から出力される。制御信号seqmode_onは、メモリアレイ40Dまたは40Iのデータ書換中(書込モード、消去モード)に活性化状態(Hレベル)になり、データ書換以外のときに非活性化状態(Lレベル)になる。
The control signal seqmode_on is output from the P /
インバータIV4は、外部電源電圧VCCによって動作する。インバータIV4の出力信号FhelatchはVCC系の信号である。 Inverter IV4 operates with external power supply voltage VCC. The output signal Fhelatch of the inverter IV4 is a VCC signal.
Dラッチ32は、一般に、入力端子D、出力端子Q、およびクロック入力端子CLKを有する。クロック入力がHレベルの場合、Dラッチ32は、入力端子Dへの入力信号の論理レベルと同じ論理レベルの信号を出力端子Qから出力する。一方、Dラッチ32は、クロック入力がLレベルに切替わった時点の入力信号の論理レベルを入力信号がHレベルに戻るまで保持する。そして、クロック入力がLレベルの間、Dラッチ32は、保持した論理レベルの信号を出力端子Qから出力する。
The
図3の場合、入力端子DにVCC系の書換可能信号FHVED(またはFHVEI)が入力され、クロック入力端子CLKにインバータIV4の出力信号Fhelatch(VCC系)が入力される。Dラッチ32は、外部電源電圧VCCを受けて動作するので、出力端子Qから出力された信号Infhved(またはInfhvei)はVCC系の信号である。Dラッチ32を外部電源電圧VCCによって動作させることによって、図1の電源回路6が停電状態になったとしても、Dラッチ32の出力の論理レベルが不定になることはない。
In the case of FIG. 3, the VCC rewritable signal FHVED (or FHVEI) is input to the input terminal D, and the output signal Fhelatch (VCC system) of the inverter IV4 is input to the clock input terminal CLK. Since the
レベルシフタ31は、VDD系の信号をVCC系の信号に変換(昇圧)する回路である。図3の場合、レベルシフタ31は、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_onをVCC系の信号にレベル変換する。
The
また、レベルシフタ31には、電源電圧VDDが所定の電圧レベルに達しているときに活性化(Hレベル)する監視信号VDDONLがさらに与えられる。レベルシフタ31には、監視信号VDDONLによって、電源遮断後の復帰中で内部電源電圧VDDが低下しているときにレベルシフタ31に貫通電流が流れないように制御している。
Further, the
図4は、図3のレベルシフタ31の構成の一例を示す回路図である。図4を参照して、レベルシフタ31は、PMOS(P-channel Metal Oxide Semiconductor)トランジスタQP1,QP2,QP3と、NMOS(N-channel Metal Oxide Semiconductor)トランジスタQN1,QN2,QN3と、内部電源電圧VDDで動作するインバータIV1,IV2と、外部電源電圧VCCで動作するインバータIV3とを含む。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the
まず、レベルシフタ31の各要素間の接続について説明する。トランジスタQP1,QN1は、この順で電源ノード(VCC)とノードND3との間に接続される。トランジスタQP2,QN2は、この順で電源ノード(VCC)とノードND3との間に、トランジスタQP1,QN1と並列に接続される。トランジスタQP3は、トランジスタQP2と並列に接続される。トランジスタQN3は、ノードND3と接地ノード(GND)との間に接続される。トランジスタQP1のゲートは、トランジスタQP2のドレイン(ノードND2)に接続され、トランジスタQP2のゲートは、トランジスタQP1のドレイン(ノードND1)に接続される。インバータIV1は、制御信号seqmode_onを反転してトランジスタQN1のゲートに出力する。また、インバータIV2は、インバータIV1の出力を反転してトランジスタQN2のゲートに出力する。トランジスタQP3,QN3のゲートには、監視信号VDDONLが入力される。インバータIV3は、ノードND2の電圧を反転および整形して出力する。インバータIV3の出力は、図3のインバータIV4によってさらに反転され、信号FhelatchとしてDラッチ32のクロック入力端子CLKに与えられる。
First, connection between each element of the
次に、図4のレベルシフタ31の動作について説明する。
まず、内部電源電圧VDDが所定の電圧レベルに達するまでは監視信号VDDONL_VCCがLレベルであるので、トランジスタQP3は導通状態である。この結果、トランジスタQP2のドレイン(ノードND2)は電源電圧VCCに等しくなり、レベルシフタ31の出力信号/FhelatchはLレベルに固定される。このように、トランジスタQP3は、内部電源電圧VDDが所定の電圧レベルに達するまでレベルシフタ31の出力が不定にならないように設けられている。
Next, the operation of the
First, since the monitor signal VDDONL_VCC is at the L level until the internal power supply voltage VDD reaches a predetermined voltage level, the transistor QP3 is in the conductive state. As a result, the drain (node ND2) of the transistor QP2 becomes equal to the power supply voltage VCC, and the output signal / Fhelatch of the
内部電源電圧VDDが所定の電圧レベルに達するとトランジスタQN3が導通するので、ノードND3の電圧は接地電圧GNDに等しくなる。さらに、トランジスタQP3は非導通状態になるので、レベルシフタ31は、入力された制御信号seqmode_onに応じた値を出力する。
When internal power supply voltage VDD reaches a predetermined voltage level, transistor QN3 is turned on, so that the voltage at node ND3 becomes equal to ground voltage GND. Further, since the transistor QP3 is in a non-conductive state, the
制御信号seqmode_onがLレベル(GND)の場合、トランジスタQN1が導通状態になり、トランジスタQN2が非導通状態になる。この結果、トランジスタQP1が非導通状態になり、トランジスタQP2が導通状態になるので、ノードND2の電圧は外部電源電圧VCCに等しくなる。これによって、図3のDラッチ32のクロック入力端子CLKには、Hレベル(VCC)の信号Fhelatchが与えられる。
When the control signal seqmode_on is at L level (GND), the transistor QN1 is turned on and the transistor QN2 is turned off. As a result, transistor QP1 is turned off and transistor QP2 is turned on, so that the voltage at node ND2 is equal to external power supply voltage VCC. As a result, an H level (VCC) signal Fhelatch is applied to the clock input terminal CLK of the
一方、制御信号seqmode_onがHレベル(VDD)の場合、トランジスタQN1が非導通状態になり、トランジスタQN2が導通状態になる。この結果、トランジスタQP1が導通状態になり、トランジスタQP2が非導通状態になるので、ノードND2の電圧は接地電圧GNDに等しくなる。これによって、図3のDラッチ32のクロック入力端子CLKには、Lレベル(GND)の信号Fhelatchが与えられる。
On the other hand, when the control signal seqmode_on is at H level (VDD), the transistor QN1 is turned off and the transistor QN2 is turned on. As a result, transistor QP1 is turned on and transistor QP2 is turned off, so that the voltage at node ND2 is equal to ground voltage GND. As a result, the L level (GND) signal Fhelatch is applied to the clock input terminal CLK of the
図5〜図7は、図3のラッチ回路30の動作を示すタイミング図である。以下、図5〜図7を参照しながら、これまでの説明を総括して図3のラッチ回路30の動作について説明する。
5 to 7 are timing charts showing the operation of the
図5は、データ書換時以外の場合のラッチ回路30のタイミング図である。図3、図5を参照して、内部電源電圧VDDはいずれの時間帯もHレベル(VDD)にあるものとする。したがって、監視信号VDDONLもHレベル(VCC)である。また、データ書換中ではないので、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_on(VDD系)はLレベル(GND)である。
FIG. 5 is a timing chart of the
図5の時刻t1〜t2の時間帯のように、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がLレベル(GND)の場合は、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)はLレベル(GND)になる。また、時刻t3〜t4のように、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がHレベル(VCC)の場合は、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)はHレベル(VCC)になる。すなわち、ラッチ回路30は入力信号の論理レベルをそのまま出力する。
When the rewritable signal FHVED (or FHVEI) is at L level (GND) as in the time period from time t1 to time t2 in FIG. 5, the output signal Infhved (or Infhvei) of the
図6は、データ書換時の場合のラッチ回路30のタイミング図である。図3、図6を参照して、内部電源電圧VDDはいずれの時間帯もHレベル(VDD)であり、したがって、監視信号VDDONLはHレベル(VCC)であるものとする。また、リセット信号RST(VCC系)は、いずれの時間帯もLレベル(GND)であり、外部から強制的なリセットは行なわれないものとする。
FIG. 6 is a timing chart of the
図6の時刻t1で、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がLレベルからHレベル(VCC)に切替わる。次の時刻t2までの時間帯では、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_on(VDD系)はLレベル(GND)である。したがって、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)は、入力された書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベルに応じて、時刻t1でLレベルからHレベル(VCC)に切替わる。
At time t1 in FIG. 6, the rewritable signal FHVED (or FHVEI) is switched from L level to H level (VCC). In the time zone up to the next time t2, the control signal seqmode_on (VDD system) output from the P /
次の時刻t2で、制御信号seqmode_on(VDD系)がHレベル(VDD)に切替わると、ラッチ回路30は、この時点t2における書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベル(Hレベル)を保持する。この時刻t2から次の時刻t3までの時間帯では、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_on(VDD系)はHレベル(VDD)を維持する。したがって、ラッチ回路30は、時刻t3まで、保持したHレベル(VCC)の信号の出力を続ける。
When the control signal seqmode_on (VDD system) is switched to the H level (VDD) at the next time t2, the
次の時刻t3で、制御信号seqmode_on(VDD系)がLレベル(GND)に戻ると、ラッチ回路30は、入力された書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベルに応じた論理レベルの信号を出力する。この時刻t3から次の時刻t4までは、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)はHレベルであるので、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)は、Hレベル(VCC)のまま変わらない。
When the control signal seqmode_on (VDD system) returns to the L level (GND) at the next time t3, the
次の時刻t4で、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がLレベル(GND)に戻るので、その変化に応じてラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)もLレベル(GND)に戻る。
At the next time t4, the rewritable signal FHVED (or FHVEI) returns to the L level (GND), so that the output signal Infhved (or Infhvei) of the
図7は、書換中にリセットされた場合のラッチ回路30のタイミング図である。図3、図7を参照して、内部電源電圧VDDはいずれの時間帯もHレベル(VDD)であり、したがって、監視信号VDDONLはHレベル(VCC)であるものとする。図7の場合は、図6の場合と異なり、制御信号seqmode_on(VDD系)がHレベル(VDD)となる時刻t2〜t4の時間帯の途中の時刻t3で、マイクロコンピュータ1が外部から強制的にリセットされる(リセット信号RSTがHレベルに切替わる)。
FIG. 7 is a timing diagram of the
図7の時刻t1で、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がLレベルからHレベル(VCC)に切替わる。次の時刻t2までの時間帯では、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_on(VDD系)はLレベル(GND)である。したがって、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)は、入力された書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベルに応じて、時刻t1でLレベルからHレベル(VCC)に切替わる。
At time t1 in FIG. 7, the rewritable signal FHVED (or FHVEI) is switched from the L level to the H level (VCC). In the time zone up to the next time t2, the control signal seqmode_on (VDD system) output from the P /
次の時刻t2で、制御信号seqmode_on(VDD系)がHレベル(VDD)に切替わると、ラッチ回路30は、この時点t2における書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベル(Hレベル)を保持する。この時刻t2から時刻t4までの時間帯では、P/Eシーケンサ21から出力された制御信号seqmode_on(VDD系)はHレベル(VDD)である。したがって、ラッチ回路30は、時刻t4まで、保持したHレベル(VCC)の信号の出力を続ける。
When the control signal seqmode_on (VDD system) is switched to the H level (VDD) at the next time t2, the
時刻t2とt4との間の時刻t3で、リセット信号RSTがHレベルに切替わり、書換可能信号FHVED(またはFHVEI)がLレベル(GND)に戻る。この時点では、制御信号seqmode_on(VDD系)はHレベル(VDD)のままであるので、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)は、保持したHレベル(VCC)のままである。
At time t3 between times t2 and t4, the reset signal RST switches to the H level, and the rewritable signal FHVED (or FHVEI) returns to the L level (GND). At this time, since the control signal seqmode_on (VDD system) remains at the H level (VDD), the output signal Infhved (or Infhvei) of the
次の時刻t4で、制御信号seqmode_on(VDD系)がLレベル(GND)に戻ると、ラッチ回路30は、入力された書換可能信号FHVED(またはFHVEI)の論理レベルに応じた論理レベルの信号を出力する。書換可能信号FHVED(またはFHVEI)は、既に時刻t3の時点でLレベル(GND)に戻っているので、ラッチ回路30の出力信号Infhved(またはInfhvei)は、時刻t4以降、Lレベル(GND)になる。
When the control signal seqmode_on (VDD system) returns to the L level (GND) at the next time t4, the
次の時刻t5で、リセット信号RSTがLレベル(GND)に戻る。
[まとめ]
図8は、メモリアレイの動作状態に対応した書換可能信号FHVED,FHVEI,VHVEXの論理レベルを示す表である。以下、図2、図8を参照して書換可能信号FHVED,FHVEI,VHVEXによる不揮発性メモリ4の制御方法について総括する。
At the next time t5, the reset signal RST returns to the L level (GND).
[Summary]
FIG. 8 is a table showing logic levels of rewritable signals FHVED, FHVEI, and VHVEX corresponding to the operation state of the memory array. Hereinafter, the control method of the
まず、データ領域10Dにおけるメモリアレイ40Dの通常領域41Dを書換える場合には、書換可能信号FHVEDがHレベル(VCC)になる。これによって、内部電源回路11、電源制御信号発生部22、および電源スイッチ部14D用の電源SW制御信号発生部23Dが活性化される。
First, when the
次に、コード領域10Iにおけるメモリアレイ40Iの通常領域41Iを書換える場合には、書換可能信号FHVEIがHレベル(VCC)になる。これによって、内部電源回路11、電源制御信号発生部22、および電源スイッチ部14I用の電源SW制御信号発生部23Iが活性化される。
Next, when the normal area 41I of the memory array 40I in the code area 10I is rewritten, the rewritable signal FHVEI becomes H level (VCC). As a result, the internal
次に、コード領域10Iにおけるメモリアレイ40Iの特殊領域42Iを書換える場合には、書換可能信号FHVEI,FHVEXがHレベル(VCC)になる。これによって、内部電源回路11、電源制御信号発生部22、および電源スイッチ部14I用の電源SW制御信号発生部23Iが活性化される。さらに、特殊領域42Iのセルブロックが選択可能になるなどして、特殊領域42I内のメモリセルが書換可能になる。
Next, when the special area 42I of the memory array 40I in the code area 10I is rewritten, the rewritable signals FHVEI and FHVEX are set to the H level (VCC). As a result, the internal
次に、データ領域10Dにおけるメモリアレイ40Dの特殊領域42Dを書換える場合には、書換可能信号FHVED,FHVEXがHレベル(VCC)になる。これによって、内部電源回路11、電源制御信号発生部22、および電源スイッチ部14D用の電源SW制御信号発生部23Dが活性化される。さらに、特殊領域42Dのセルブロックが選択可能になるなどして、特殊領域42D内のメモリセルが書換可能になる。
Next, when the
一方、データ書換中でない領域に対応する書換可能信号はLレベル(GND)になる。これによって、電源遮断や瞬時停電の場合に誤ったデータ書込を防止することができる。 On the other hand, the rewritable signal corresponding to the area where data is not being rewritten becomes L level (GND). As a result, erroneous data writing can be prevented in the case of power interruption or instantaneous power failure.
以上のとおり、実施の形態1の不揮発性メモリ4によれば、メモリアレイの各領域に対応した複数の書換可能信号FHVED,FHVEI,FHVEXを用いるという簡単な方法によって、電源遮断や瞬時停電の場合に生じ得る誤ったデータ書込の可能性を低減することができる。したがって、従来技術に比べて、実施の形態1の不揮発性メモリ4の場合には、回路構成が複雑化することもなく、また、回路面積もほとんど増加しない。
As described above, according to the
さらに、書換可能信号FHVED,FHVEIの論理状態を保持するラッチ回路30D,30Iを設けることによって、データ書換中に書換可能信号FHVED,FHVEIがリセットされた場合でも、データ書換を正常に終了させることができる。
Further, by providing the
[変形例1]
図9は、図2の不揮発性メモリ4の変形例としての不揮発性メモリ104の構成を示すブロック図である。図9の不揮発性メモリ104には、マイクロコンピュータ1の外部からテスト用の内部レジスタ113専用の書換可能信号FHVETが供給される。
[Modification 1]
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a
具体的に、図9のデータ領域110Dに設けられたレベルシフタ112は、さらに、書換可能信号FHVET_VCCをVDD系の書換可能信号fhvet_vddにレベル変換する点で、図2のレベルシフタ12と異なる。
Specifically, the
また、図9の内部レジスタ113は、書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddに代えて、書換可能信号fhvet_vddのみを受ける点で、図2の内部レジスタ13と異なる。内部レジスタ113の出力は、書換可能信号fhvet_vddが活性化状態(Hレベル)の場合に有効になる。書換可能信号fhvet_vddが非活性化状態(Lレベル)の場合には、内部レジスタ113の出力は無効化される。
Further, the
その他の点については、図9の不揮発性メモリ104は図2の不揮発性メモリ4と同様であるので、同一または相当する部分については同一の参照符号を付して説明を繰返さない。
Since the
[変形例2]
図10は、図1のマイクロコンピュータ1の変形例としてのマイクロコンピュータ201の構成を示すブロック図である。
[Modification 2]
FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a
図10のマイクロコンピュータ201は、外部電源電圧VCCで動作するレジスタ9(書換可能信号を生成する信号生成回路)をさらに含む点で図1のマイクロコンピュータ1と異なる。レジスタ9は、レジスタ内部の設定データに応じた論理状態の書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCを不揮発性メモリ4に出力する。図1の場合には書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCがマイクロコンピュータ1の外部から与えられていたのに対して、図10の場合には書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCはマイクロコンピュータ201の内部で生成される。
The
図12において不揮発性メモリ4に格納されたデータを書き換える場合には、書換すべき領域に対応した書換可能信号が活性化状態(Hレベル)になるように、レジスタ9のデータが設定される。レジスタ9の設定データは、インターフェース回路7およびデータバス8を介してマイクロコンピュータ201の外部から与えられる。
In FIG. 12, when the data stored in the
上記の構成によれば、書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCを入力するための専用の外部端子を設けなくてよい。したがって、マイクロコンピュータ201に設けられる外部端子数を図1のマイクロコンピュータ1の場合よりも削減することができる。図10のその他の点については図1と同様であるので、同一または相当する部分には同一の参照符号を付して説明を繰返さない。
According to the above configuration, it is not necessary to provide a dedicated external terminal for inputting the rewritable signals FHVED_VCC, FHVEI_VCC, and VHVEX_VCC. Therefore, the number of external terminals provided in the
<実施の形態2>
図11は、この発明の実施の形態2に従うマイクロコンピュータ301の構成を示すブロック図である。
<
FIG. 11 is a block diagram showing a configuration of
図11のマイクロコンピュータ301(半導体装置)は、電源電圧VDDを生成する内部電源回路11を含まずに外部から電源電圧VDDが与えられる点で図1のマイクロコンピュータ1と異なる。すなわち、マイクロコンピュータ301は、駆動用の2つの外部電源電圧VDD,VCCをマイクロコンピュータ301の外部から受ける。
A microcomputer 301 (semiconductor device) in FIG. 11 is different from the microcomputer 1 in FIG. 1 in that the power supply voltage VDD is supplied from the outside without including the internal
図11に示すように、マイクロコンピュータ301は、CPU2、RAM3、不揮発性メモリ304、周辺回路5、インターフェース回路7、およびこれらを相互に接続するデータバス8を含む。外部電源電圧VDDは、これらの構成要素の大部分を動作させるのに用いられる。外部電源電圧VCCは、周辺回路5に含まれるA/D(Analog to Digital)コンバータなどの一部のアナログ回路や、図2で説明したラッチ回路30D,30Iなどを動作させるのに用いられる。なお、実施の形態2の場合、外部電源電圧VCCは、外部電源電圧VDDよりも高い電圧である。
As shown in FIG. 11, the
図11のマイクロコンピュータ301は、さらに、書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCに加えて、書換可能信号FHVED_EXVDD,FHVEI_EXVDD,VHVEX_EXVDDを外部から受ける点で図1のマイクロコンピュータ1と異なる。書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCC,VHVEX_VCCは、VCC系の信号(Hレベル:電源電圧VCC、Lレベル:接地電圧GND)であり、電源電圧VCCで動作する外部の回路から出力された信号である。一方、書換可能信号FHVED_EXVDD,FHVEI_EXVDD,VHVEX_EXVDDは、外部VDD系の信号(Hレベル:電源電圧VDD、Lレベル:接地電圧GND)であり、電源電圧VDDで動作する外部の回路から出力された信号である。なお、図11、図12では、参照符号の末尾にEXVDDを付すことによって、外部VDD系の信号であることが示される。
The
これらの書換可能信号は、不揮発性メモリ304の複数の領域に対応して設けられている。具体的に、書換可能信号FHVED_VCC,FHVED_EXVDDはデータ領域310Dに対応し、書換可能信号FHVEI_VCC,FHVEI_EXVDDはコード領域10Iに対応する。また、書換可能信号FHVEX_VCC,FHVEX_EXVDDは、データ領域10Dおよびコード領域10Iのメモリセルに設けられた特殊領域に対応する。
These rewritable signals are provided corresponding to a plurality of areas of the
このように、各領域に対してVCC系の書換可能信号と外部VDD系の書換可能信号の両方が対応している。そして、各領域は、対応の2つの書換可能信号が両方とも活性化状態の場合に書換可能な状態になるように制御される。これによって、2つの外部電源のうち一方の外部電源が遮断されたり、瞬時停電が生じたりしても、他方の電源系の書換可能信号が非活性化状態(Lレベル)に維持されることによって、停電状態からの復帰時にメモリセルのデータを誤って書き換える可能性を低減させることができる。書換可能信号による不揮発性メモリ304の詳しい制御方法については、図12を参照して説明する。
As described above, both the VCC-type rewritable signal and the external VDD-type rewritable signal correspond to each region. Each area is controlled to be in a rewritable state when both of the corresponding two rewritable signals are activated. As a result, even if one of the two external power supplies is shut off or an instantaneous power failure occurs, the rewritable signal of the other power supply system is maintained in the inactive state (L level). Thus, the possibility of erroneously rewriting data in the memory cell when returning from the power failure state can be reduced. A detailed control method of the
その他、図11のマイクロコンピュータ301には、外部からマイクロコンピュータ1をリセットするためのリセット信号RSTを受ける端子が設けられる。また、マイクロコンピュータ301には、外部電源電圧VDDの電圧レベルが所定の電圧レベルに達した場合に活性化する監視信号VDDONLを受ける端子も設けられる。
In addition, the
図12は、図11の不揮発性メモリ304の詳細な構成を示すブロック図である。図12に示すように、不揮発性メモリ304のデータ領域310Dは、ラッチ回路330D,330I、レベルシフタ50、およびAND回路51〜55がさらに設けられる点で図2のデータ領域10Dと異なる。以下では、これらの異なる点について主に説明し、図2と同一または相当する部分については同一の参照符号を付して説明を繰返さない場合がある。
FIG. 12 is a block diagram showing a detailed configuration of the
まず、ラッチ回路330D,330Iは、図3のラッチ回路30と類似の構成を有するが、レベルシフタ31を含まない点で図3のラッチ回路30と異なる。すなわち、図12のラッチ回路330D(または330I)の場合、Dラッチ32の入力端子Dには外部VDD系の書換可能信号FHVED_EXVDD(またはFHVEI_EXVDD)が入力される。また、Dラッチ32のクロック入力端子CLKには制御信号seqmode_onがインバータIV4で反転された信号が入力される。ここで、制御信号seqmode_onは、実施の形態1の場合と同様に、P/Eシーケンサ21から出力され、メモリアレイ40Dまたは40Iのデータ書換中(書込モード、消去モード)に活性化状態(Hレベル)になり、データ書換以外のときに非活性化状態(Lレベル)になる。なお、ラッチ回路330D,330IにおけるインバータIV4およびDラッチ32は外部電源電圧VCCでなく外部電源電圧VDDで動作する。
First, the latch circuits 330D and 330I have a configuration similar to that of the
上記の構成によって、ラッチ回路330D(または330I)は、制御信号seqmode_onが活性化状態(Hレベル)に切替わった時点で、書換可能信号FHVED_EXVDD(またはFHVEI_EXVDD)の論理状態を保持し、制御信号seqmode_onが非活性化状態(Lレベル)に切替わるまでの間、保持した論理状態を出力する。一方、制御信号seqmode_onが非活性化状態(Lレベル)の間は、ラッチ回路330Dは、入力された書換可能信号FHVED_EXVDD(またはFHVEI_EXVDD)の論理状態をそのまま出力する。 With the above configuration, the latch circuit 330D (or 330I) holds the logic state of the rewritable signal FHVED_EXVDD (or FHVEI_EXVDD) when the control signal seqmode_on is switched to the activated state (H level), and the control signal seqmode_on The held logic state is output until is switched to the inactive state (L level). On the other hand, while the control signal seqmode_on is in an inactive state (L level), the latch circuit 330D outputs the logic state of the input rewritable signal FHVED_EXVDD (or FHVEI_EXVDD) as it is.
レベルシフタ50は、書換可能信号FHVED_VCC,FHVEI_VCCをVCC系からVDD系にレベル変換(降圧)する。レベルシフタ50は、たとえば、外部電源電圧VDDで動作するインバータ回路によって構成することができる。 The level shifter 50 performs level conversion (step-down) of the rewritable signals FHVED_VCC and FHVEI_VCC from the VCC system to the VDD system. The level shifter 50 can be configured by, for example, an inverter circuit that operates at the external power supply voltage VDD.
AND回路51〜55はいずれも外部電源電圧VDDで動作する。AND回路51は、レベルシフタ50によってVDD系にレベル変換された書換可能信号FHVED_VCCと、外部VDD系の書換可能信号FHVED_EXVDDとのAND演算を行ない、演算結果を内部電源回路11に出力する。同様に、AND回路52は、レベルシフタ50によってVDD系にレベル変換された書換可能信号FHVEI_VCCと、外部VDD系の書換可能信号FHVEI_EXVDDとのAND演算を行ない、演算結果を内部電源回路11に出力する。
All of the AND
内部電源回路11は、AND回路51,52の出力のうち少なくとも一方が活性化状態(Hレベル)の場合に、電源制御信号発生部22からの制御信号に従って、高電圧(書込電圧、消去電圧などの制御電圧)を生成する。一方、内部電源回路11は、AND回路51,52の出力が両方とも非活性化状態(Lレベル)の場合には高電圧を生成しない。ここで、AND回路51,52の出力は、VCC系および外部VDD系の両方の書換可能信号が活性化状態(Hレベル)の場合に活性化状態(Hレベル)になる。したがって、外部電源電圧VCC,VDDのうちのいずれかが停電状態になった後の復帰時に、停電状態になったほうの電源系の書換可能信号の論理状態が不定になったしても、他方の電源系の書換可能信号がLレベルである限り内部電源回路11は高電圧を生成しない。この結果、メモリセルに誤って高電圧が印加されることを防止できる。
When at least one of the outputs of the AND
AND回路53は、ラッチ回路30Dの出力がレベルシフタ12によってレベル変換された信号fhved_vddと、ラッチ回路330Dの出力信号fhved_exvddとのAND演算を行ない、演算結果を書換可能信号fhved_andとして出力する。AND回路53から出力された書換可能信号fhved_andは、データ領域310Dの電源SW制御信号発生部23D、テスト用の内部レジスタ13、および電源制御信号発生部22に入力される。
The AND circuit 53 performs an AND operation on the signal fhved_vdd obtained by level conversion of the output of the
AND回路54は、ラッチ回路30Iの出力がレベルシフタ12によってVDD系にレベル変換された信号fhvei_vddと、ラッチ回路330Iの出力信号fhvei_exvddとのAND演算を行ない、演算結果を書換可能信号fhvei_andとして出力する。AND回路54から出力された書換可能信号fhvei_andは、コード領域10Iの電源SW制御信号発生部23I、テスト用の内部レジスタ13、および電源制御信号発生部22に入力される。
The AND circuit 54 performs an AND operation on the signal fhvei_vdd in which the output of the latch circuit 30I is level-converted to the VDD system by the
AND回路55は、書換可能信号FHVEX_VCCがレベルシフタ12によってVDD系にレベル変換された信号fhvex_vddと、外部VDD系の書換可能信号FHVEX_VDDとのAND演算を行ない、演算結果を書換可能信号fhvex_andとして出力する。AND回路55から出力された書換可能信号fhvex_andは、メモリアレイ40D,40Iの各特殊領域42D,42Iおよびテスト用の内部レジスタ13に入力される。
The AND
上記の書換可能信号fhved_and,fhvei_and,fhvex_andは、実施の形態1の書換可能信号fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vddにそれぞれ対応付けられる。 The rewritable signals fhved_and, fhvei_and, and fhvex_and are associated with the rewritable signals fhved_vdd, fhvei_vdd, and fhvex_vdd in the first embodiment, respectively.
たとえば、上記の書換可能信号fhved_andによるデータ領域310Dの電源SW制御信号発生部23Dの制御は、実施の形態1の場合の書換可能信号fhved_vddによる電源SW制御信号発生部23Dの制御と同様である。すなわち、電源SW制御信号発生部23Dは、書換可能信号fhved_andが活性化状態(Hレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令に従って、電源スイッチ部14Dの所定のスイッチがオン状態またはオフ状態になるような制御信号を出力する。一方、電源SW制御信号発生部23Dは、書換可能信号fhved_andが非活性化状態(Lレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令内容によらず、電源スイッチ部14Dの高電圧用のスイッチがオフ状態になるような制御信号を出力する。
For example, control of power supply SW control signal generator 23D in
したがって、電源SW制御信号発生部23Dおよび電源スイッチ部14Dによって構成される電圧供給制御部20Dは、外部から与えられた書換可能信号FHVED_VCC,FHVED_EXVDDが両方とも活性化状態(Hレベル)の場合に、P/Eシーケンサ21の指令に従って、内部電源回路11からXデコーダ15Dを介してメモリアレイ40Dに高電圧(書込電圧、消去電圧などの制御電圧)を供給する。電圧供給制御部20Dは、書換可能信号FHVED_VCC,FHVED_EXVDDの少なくとも一方が非活性化状態(Lレベル)であれば、P/Eシーケンサ21の指令を受けても、基本的には内部電源回路11からメモリアレイ40Dに対して高電圧を供給しない。しかし例外的に、電圧供給制御部20Dは、メモリアレイ40Dがデータ書換中の場合には、ラッチ回路30D,330Dの効果によってデータ書換が終了するまで内部電源回路11からメモリアレイ40Dへの高電圧の供給を継続する。
Therefore, the voltage
このように、VCC系および外部VDD系の2つの書換可能信号FHVED_VCC,FHVED_EXVDDが制御に用いられるので、外部電源電圧VCC,VDDのいずれか一方が停電したとしても、停電からの復帰時にデータ領域310Dのメモリアレイ40Dに誤って高電圧が印加されるのを防止できる。
Thus, since the two rewritable signals FHVED_VCC and FHVED_EXVDD of the VCC system and the external VDD system are used for control, even if one of the external power supply voltages VCC and VDD is interrupted, the
同様に、書換可能信号fhvei_andによるコード領域10Iの電源SW制御信号発生部23Iの制御は、実施の形態1の書換可能信号fhvei_vddによる電源SW制御信号発生部23Iの制御と同じである。この場合も、VCC系および外部VDD系の2つの書換可能信号FHVEI_VCC,FHVEI_EXVDDが制御に用いられるので、外部電源電圧VCC,VDDのいずれか一方が停電したしても、停電状態からの復帰時にコード領域10Iのメモリアレイ40Iに誤って高電圧が印加されるのを防止できる。 Similarly, the control of power supply SW control signal generator 23I in code area 10I by rewritable signal fhvei_and is the same as the control of power supply SW control signal generator 23I by rewritable signal fhvei_vdd in the first embodiment. Also in this case, since the two rewritable signals FHVEI_VCC and FHVEI_EXVDD for the VCC system and the external VDD system are used for control, even if one of the external power supply voltages VCC and VDD fails, a code is returned when the power supply is restored from the power failure state. It is possible to prevent a high voltage from being erroneously applied to the memory array 40I in the region 10I.
以下同様にして、実施の形態2においても、電源制御信号発生部22は、書換可能信号fhved_and,fhvei_andのいずれか一方が活性化状態(Hレベル)のときに活性化される。また、テスト用の内部レジスタ13は、書換可能信号fhved_and,fhvei_and,fhvex_andが全て活性化状態(Hレベル)のときに活性化される。また、メモリアレイ40D,40Iの各特殊領域42D,42Iは書換可能信号fhvex_andが活性化状態のときに活性化される。ここで、各書換可能信号fhved_and,fhvei_and,fhvex_andが活性化状態になるには、外部から与えられるVCC系の書換可能信号と外部VDD系の書換可能信号の両方が活性化状態(Hレベル)になる必要がある。したがって、外部電源電圧VCC,VDDのいずれか一方が停電したしても、停電状態からの復帰時にメモリアレイ40D,40Iに高電圧が誤って印加されるのを防止することができる。
Similarly, also in the second embodiment, the power supply control
今回開示された各実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものでないと考えられるべきである。この発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 Each embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
1,201,301 マイクロコンピュータ、2 CPU、4,104,304 不揮発性メモリ、6 電源回路、10I コード領域、10D,110D,310D データ領域、11 内部電源回路(昇圧回路)、12,112 レベルシフタ、13,113 内部レジスタ、14D,14I 電源スイッチ部、15D,15I Xデコーダ、20D,20I 電圧供給制御部、21 P/Eシーケンサ、22 電源制御信号発生部(内部電源回路11用)、23D 電源SW制御信号発生部(電源スイッチ部14D用)、23I 電源SW制御信号発生部(電源スイッチ部14I用)、30D,30I ラッチ回路、31 レベルシフタ、32 Dラッチ、40D,40I メモリアレイ、41D,41I 通常領域、42D,42I 特殊領域、FHVED_VCC,FHVEI_VCC,FHVEX_VCC,FHVET_VCC 書換可能信号(VCC系)、fhved_vdd,fhvei_vdd,fhvex_vdd,fhvet_vdd 書換可能信号(VDD系)、FHVED_EXVDD,FHVEI_EXVDD,FHVEX_EXVDD,FHVET_EXVDD 書換可能信号(外部VDD系)、VCC,VDD 電源電圧。
1, 201, 301 Microcomputer, 2 CPU, 4, 104, 304 Non-volatile memory, 6 power supply circuit, 10I code area, 10D, 110D, 310D data area, 11 internal power supply circuit (boost circuit), 12, 112 level shifter, 13, 113 Internal register, 14D, 14I Power switch unit, 15D, 15I X decoder, 20D, 20I Voltage supply control unit, 21 P / E sequencer, 22 Power supply control signal generator (for internal power supply circuit 11), 23D Power supply SW Control signal generator (for
Claims (11)
各前記メモリセルのデータ書換に必要な書換電圧を生成する電圧生成回路と、
第1の電源電圧で動作し、前記第1および第2のメモリアレイのデータ書換を指令する書換指令部と、
前記第1のメモリアレイへのデータ書換時に活性化し、前記第2のメモリアレイへのデータ書換時に非活性化する第1の書換可能信号が活性化状態の場合に、前記書換指令部の指令に従って前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第1のメモリアレイへの供給を実施し、前記第1の書換可能信号が非活性化状態の場合に、前記書換指令部の指令に関わらず前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第1のメモリアレイへの供給を遮断する第1の電圧供給制御部と、
前記第2のメモリアレイへのデータ書換時に活性化し、前記第1のメモリアレイへのデータ書換時に非活性化する第2の書換可能信号が活性化状態の場合に、前記書換指令部の指令に従って前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第2のメモリアレイへの供給を実施し、前記第2の書換可能信号が非活性化状態の場合に、前記書換指令部の指令に関わらず前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第2のメモリアレイへの供給を遮断する第2の電圧供給制御部とを備え、
前記第1の書換可能信号と前記第2の書換可能信号は、前記第1の電源電圧とは異なる第2の電源電圧で駆動される、半導体装置。 First and second memory arrays in which a plurality of electrically rewritable nonvolatile memory cells are arranged;
A voltage generation circuit for generating a rewrite voltage necessary for data rewriting of each of the memory cells;
A rewriting command unit that operates in a first power supply voltage, directing the data rewriting of the first and second memory arrays,
When a first rewritable signal that is activated when data is rewritten to the first memory array and deactivated when data is rewritten to the second memory array is in an activated state, the command of the rewrite command unit is followed. performed supply to the first memory array of the writing voltage generated by the voltage generating circuit, the first rewritable signal in the case of non-activated state, regardless of the instruction of the rewrite command unit A first voltage supply control unit configured to cut off supply of the rewrite voltage generated by the voltage generation circuit to the first memory array ;
When a second rewritable signal that is activated when data is rewritten to the second memory array and deactivated when data is rewritten to the first memory array is in an activated state, the command of the rewrite command unit is followed. performed supply to the second memory array of the writing voltage generated by the voltage generating circuit, said second rewritable signal in the case of non-activated state, regardless of the instruction of the rewrite command unit A second voltage supply control unit that cuts off supply of the rewrite voltage generated by the voltage generation circuit to the second memory array ;
The semiconductor device, wherein the first rewritable signal and the second rewritable signal are driven by a second power supply voltage different from the first power supply voltage .
前記第1および第2の書換可能信号は、前記第2の電源電圧で動作する前記半導体装置外部の回路から前記半導体装置に入力された信号である、請求項1に記載の半導体装置。 The semiconductor device further includes a power supply circuit that receives the second power supply voltage from outside and generates the first power supply voltage from the second power supply voltage,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first and second rewritable signals are signals input to the semiconductor device from a circuit outside the semiconductor device that operates at the second power supply voltage.
前記第2の電源電圧を外部から受け、前記第2の電源電圧から前記第1の電源電圧を生成する電源回路と、
前記第2の電源電圧によって動作し、外部からの指令に基づいて前記第1および第2の書換可能信号を生成する信号生成回路とをさらに備える、請求項1に記載の半導体装置。 The semiconductor device includes:
A power supply circuit that receives the second power supply voltage from outside and generates the first power supply voltage from the second power supply voltage;
Operated by the previous SL second power supply voltage, further comprising a signal generating circuit for generating the first and second rewritable signal based on a command from outside, the semiconductor device according to claim 1.
前記電圧生成回路は、前記第1および第2の書換可能信号の両方が非活性化状態の場合に前記書換電圧の生成を停止する、請求項3または4に記載の半導体装置。 The voltage generation circuit can generate the rewritable voltage when at least one of the first and second rewritable signals is activated,
5. The semiconductor device according to claim 3, wherein the voltage generation circuit stops generating the rewrite voltage when both the first and second rewritable signals are inactive.
前記第1の書換可能信号を受け、前記第1のメモリアレイがデータ書換中でない場合には前記第1の書換可能信号の論理状態と同じ論理状態の信号を出力し、前記第1のメモリアレイがデータ書換中の場合には前記第1のメモリアレイがデータ書換を開始した時点の前記第1の書換可能信号の論理状態をデータ書換の終了まで保持し、かつ、保持した論理状態の信号を出力する第1のラッチ回路と、
前記第2の書換可能信号を受け、前記第2のメモリアレイがデータ書換中でない場合には前記第2の書換可能信号の論理状態と同じ論理状態の信号を出力し、前記第2のメモリアレイがデータ書換中の場合には前記第2のメモリアレイがデータ書換を開始した時点の前記第2の書換可能信号の論理状態をデータ書換の終了まで保持し、かつ、保持した論理状態の信号を出力する第2のラッチ回路とをさらに備え、
前記第1の電圧供給制御部は、前記第1のラッチ回路の出力が活性化状態の場合に前記書換指令部の指令に従って前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第1のメモリアレイへの供給を実施し、前記第1のラッチ回路の出力が非活性化状態の場合に前記書換指令部の指令に関わらず前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第1のメモリアレイへの供給を遮断し、
前記第2の電圧供給制御部は、前記第2のラッチ回路の出力が活性化状態の場合に前記書換指令部の指令に従って前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第2のメモリアレイへの供給を実施し、前記第2のラッチ回路の出力が非活性化状態の場合に前記書換指令部の指令に関わらず前記電圧生成回路により生成された前記書換電圧の前記第2のメモリアレイへの供給を遮断する、請求項2〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。 The semiconductor device includes:
When the first rewritable signal is received and the first memory array is not in the middle of data rewriting, a signal having the same logical state as the logical state of the first rewritable signal is output, and the first memory array Is being rewritten, the logic state of the first rewritable signal at the time when the first memory array starts data rewriting is held until the end of data rewriting, and the signal of the held logic state is A first latch circuit for outputting;
When the second rewritable signal is received and the second memory array is not rewriting data, a signal having the same logical state as the logical state of the second rewritable signal is output, and the second memory array When the data is being rewritten, the logic state of the second rewritable signal at the time when the second memory array starts data rewriting is held until the end of data rewriting, and the signal of the held logic state is A second latch circuit for outputting,
The first voltage supply control unit includes the first memory array of the rewrite voltage generated by the voltage generation circuit in accordance with a command of the rewrite command unit when an output of the first latch circuit is in an activated state. performed supply to said first of said first memory array of the rewriting voltage output is generated by the voltage generation circuit irrespective of the command of the rewrite command unit when the inactive mode the latch circuit Shut off the supply to
The second voltage supply control unit is configured to control the second memory array of the rewrite voltage generated by the voltage generation circuit according to a command of the rewrite command unit when an output of the second latch circuit is in an activated state. performed supply to said second memory array of the second of the rewriting voltage output of the latch circuit is generated by the voltage generation circuit irrespective of the command of the rewrite command section for non-activated state The semiconductor device according to claim 2, wherein supply to the device is cut off .
前記電圧生成回路は、前記テスト制御部の指令に従って前記テスト電圧をさらに生成する、請求項6または7に記載の半導体装置。 The semiconductor device has the first and second memory arrays when at least one of the first and second rewritable signals is activated and the third rewritable signal is activated. A test control unit for instructing the voltage generation circuit to generate a test voltage necessary for the test of
The semiconductor device according to claim 6, wherein the voltage generation circuit further generates the test voltage in accordance with a command from the test control unit.
前記電圧生成回路は、前記テスト制御部の指令に従って前記テスト電圧をさらに生成する、請求項6または7に記載の半導体装置。 The semiconductor device is configured to instruct the voltage generation circuit to generate a test voltage necessary for testing the first and second memory arrays when the third rewritable signal is in an activated state. Further comprising
The semiconductor device according to claim 6, wherein the voltage generation circuit further generates the test voltage in accordance with a command from the test control unit.
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