JPH04132087A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH04132087A
JPH04132087A JP2250268A JP25026890A JPH04132087A JP H04132087 A JPH04132087 A JP H04132087A JP 2250268 A JP2250268 A JP 2250268A JP 25026890 A JP25026890 A JP 25026890A JP H04132087 A JPH04132087 A JP H04132087A
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JP
Japan
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circuit
high voltage
nonvolatile memory
voltage generation
semiconductor integrated
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Application number
JP2250268A
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Japanese (ja)
Inventor
Tamotsu Takahashi
保 高橋
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To realize the efficiency design of circuit block area and low power consumption by incorporating a high voltage generation circuit generating the high voltage for write-in in a first nonvolatile generation storage block and commonly utilizing the high voltage to a second nonvolatile storage block. CONSTITUTION:The high voltage necessary for write-in to memory elements Y11 to Y22 is formed by a high voltage generation circuit VPPG equipped with a nonvolatile storage circuit MC2. In short, though the high voltage generation circuit VPPG is incorporated in one nonvolatile storage circuit MC2, it is commonly used in the other nonvolatile storage circuit MC1. Thus, the occupancy area of the nonvolatile storage part can be formed small by the sharing of the high voltage generation circuit VPPG, and the high voltage generation circuit VPPG includes an oscillation circuit and a boosting circuit so that its power consumption can become relatively high, the power consumption can be remarkably reduced comparing with the case providing the nonvolatile storage circuits MC1 and MC2 respectively.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関し、例えば、用途
の異なる複数からなる不揮発性記憶ブロックを備えた半
導体集積回路装置に利用して有効な°技術に関するもの
である。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device. It's about technology.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

EPROM (イレーザブル&プログラマブル・リード
・オンリー・メモリ)を内蔵したlチップマイクロコン
ピュータがある。このようなEFROM内蔵の1チツプ
マイクロコンピユータに関しては、例えば、■日立製作
所から販売されている’HD6301YJがある。
There is an l-chip microcomputer with a built-in EPROM (erasable and programmable read-only memory). As for such a one-chip microcomputer with a built-in EFROM, there is, for example, 'HD6301YJ' sold by Hitachi, Ltd.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本願発明者にあっては、その記憶データの種類に応じて
複数からなるEFROMを搭載して大規模集積回路の開
発することを考えた。すなわち、EFROM−を用いて
、プログラム開発から製品完成までの開発期間を短縮し
て、所望の回路機能を持つ新製品をいち早く市場に出す
ことができる。
The inventor of the present application considered developing a large-scale integrated circuit equipped with a plurality of EFROMs depending on the type of stored data. That is, by using EFROM-, the development period from program development to product completion can be shortened, and new products with desired circuit functions can be brought to market quickly.

上記のような1チフプマイクロコンピユータでは単一の
EFROMを内蔵するものである。しかしながら、要求
される機能が複雑化するに従い、EPROMも記憶情報
の内容、例えばデータ処理手順を示すプログラムや、処
理されるべきデータに対応した係数や変数といったデー
タテーブル等に応じて複数種類を設けることが必要にな
る。
A single-chip microcomputer as described above has a single built-in EFROM. However, as the required functions become more complex, EPROMs are also available in multiple types depending on the content of the stored information, such as programs indicating data processing procedures and data tables such as coefficients and variables corresponding to the data to be processed. It becomes necessary.

この発明の目的は、複数の不揮発性記憶ブロックを持ち
、回路ブロック面積の効率設計と低消費電力化を実現し
た半導体集積回路装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that has a plurality of nonvolatile memory blocks and achieves efficient design of circuit block area and low power consumption.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細嘗の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[Means for Solving the Problems] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、第1の不揮発性記憶ブロックに書き込み用の
高電圧を発生する高電圧発生回路を内蔵させ、その高電
圧を第2の不揮発性記憶ブロックに対しても共通に用い
るようにする。
That is, a high voltage generation circuit that generates a high voltage for writing is built into the first nonvolatile memory block, and the high voltage is commonly used for the second nonvolatile memory block as well.

【作 用〕[For production]

上記した手段によれば、比較的大きな消費電流と占有面
積を持つ高電圧発生回路が共用化できるから、複数の不
揮発性記憶ブロックを備えた半導体集積回路装置におけ
る回路ブロック面積の効率設計と低消費電力化が実現で
きる。
According to the above-mentioned means, a high voltage generation circuit with a relatively large current consumption and occupied area can be shared, so it is possible to efficiently design the circuit block area and reduce consumption in a semiconductor integrated circuit device equipped with a plurality of nonvolatile memory blocks. Electricity can be realized.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明に係る半導体集積回路装置に構成
される不揮発性記憶部の一実施例のブロック図が示され
ている。同図の各回路ブロックは。
FIG. 1 shows a block diagram of an embodiment of a nonvolatile memory section configured in a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. Each circuit block in the same figure.

図示しない他の回路ブロックとともに公知の半導体集積
回路の製造技術によって、特に制限されないが、単結晶
シリコンのような1個の半導体基板上において形成され
る。
It is formed together with other circuit blocks (not shown) on a single semiconductor substrate such as, but not limited to, single-crystal silicon by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

この実施例の不揮発性記憶部は、2つの不揮発性記憶回
路MCIとMC2から構成される。1つの不揮発性記憶
回路MC2は、同図においてデコーダDCR2を中心に
して上下に分割された2つのメモリアレイMARY21
.22と、上記各メモリアレイMARY21.22に対
応して設けられた入出力回路11021.22を含んで
いる。
The nonvolatile memory section of this embodiment is composed of two nonvolatile memory circuits MCI and MC2. One nonvolatile memory circuit MC2 is divided into two memory arrays MARY21 vertically centered around decoder DCR2 in the figure.
.. 22, and input/output circuits 11021.22 provided corresponding to each of the memory arrays MARY21.22.

上記入出力回路11021.22は、メモリアレイMA
RY21.22に対応したデータ線の中からカラム系の
アドレスデコード出力により選択されるものを実質的な
入力回路の出力端子と出力回路の入力端子が結合される
共通データ線に接続するカラムスイッチを含むものであ
る。
The input/output circuit 11021.22 is connected to the memory array MA
A column switch is used to connect the data line selected by the address decode output of the column system from among the data lines corresponding to RY21.22 to the common data line to which the output terminal of the actual input circuit and the input terminal of the output circuit are coupled. It includes.

制御回路C0NTは、アドレスバスABから供給される
アドレス信号とコントロールバスCBから供給される制
御信号を受け、上位ビットのアドレスから上記不揮発性
記憶回路MC2に割り当てられたアドレス入力を検出す
ると、それに対応した下位ビットのアドレスをデコーダ
DCR2に供給して、上記メモリアレイMARY21.
22の選択動作を行わせる。また、制御信号から書き込
み/読み出し又はベリファイ等の動作モードを識別し、
それぞれの動作に必要なタイミング信号を発生して、上
記選択されたメモリアレイMARY21.22やそれに
対応した入出力回路l1021.22に伝える。
The control circuit C0NT receives an address signal supplied from the address bus AB and a control signal supplied from the control bus CB, and when it detects the address input assigned to the nonvolatile memory circuit MC2 from the address of the upper bit, it responds to the address signal supplied from the address bus AB and the control signal supplied from the control bus CB. The address of the lower bits is supplied to the decoder DCR2, and the memory array MARY21.
22 selection operations are performed. In addition, the operation mode such as write/read or verify is identified from the control signal,
Timing signals necessary for each operation are generated and transmitted to the selected memory array MARY21.22 and the corresponding input/output circuit l1021.22.

EFROMにおいては、メモリセルへのデータの書き込
み動作時に、メモリ素子のゲートとドレイン電極に高電
圧を印加し、ソース、ドレイン間の電位勾配により発生
したホットエレクトロン(電子)をフローティングゲー
トに注入する。このようなフローティングゲートへの電
子の注入によってメモリ素子のしきい値電圧が高くされ
、電子の注入が行われないメモリ素子のしきい値電圧が
低いままにされることよって、記憶情報の10“と“1
″に対応される。
In an EFROM, when writing data to a memory cell, a high voltage is applied to the gate and drain electrodes of the memory element, and hot electrons generated due to the potential gradient between the source and drain are injected into the floating gate. By injecting electrons into the floating gate, the threshold voltage of the memory element is increased, and the threshold voltage of the memory element in which no electrons are injected is kept low. and “1
” corresponds to

この実施例では、このようなメモリ素子への書き込み動
作に必要な高電圧を内部に設けられた高電圧発生回路V
PPGにより発生される。この高電圧発生回路VPPG
は、約5vのような比較的低い動作電圧により動作させ
られ、内蔵の発振回路又はそれが搭載される半導体集積
回路装置におけるシステムクロックのような周期的なパ
ルス信号を用いて、キャパシタとチャージシェアを利用
した昇圧回路により約15Vのような高い電圧を形成す
る。このような高電圧発生回路VPPGの内蔵化によっ
て、メモリ素子への上記のような書き込み動作のときに
、外部から高電圧の供給が不要にできる。
In this embodiment, a high voltage generating circuit V provided internally generates the high voltage necessary for writing to the memory element.
Generated by PPG. This high voltage generation circuit VPPG
It is operated with a relatively low operating voltage of about 5V, and uses a built-in oscillation circuit or a periodic pulse signal such as the system clock of the semiconductor integrated circuit device in which it is mounted to perform charge sharing with the capacitor. A high voltage of about 15V is generated by a booster circuit using . By incorporating such a high voltage generating circuit VPPG, it is possible to eliminate the need for externally supplying a high voltage during the above-described write operation to the memory element.

この実施例の半導体集積回路装置では、機能の多様化等
のために、上記のような不揮発性記憶部には、上記不揮
発性記憶回路MC2とは種類の異なるデータの格納に用
いられる不揮発性記憶回路MCIが設けられる。この不
揮発性記憶回路MCIは、同図においてデコーダDCR
1を中心にして上下に分割された2つのメモリアレイM
ARY11.12と、上記各メモリアレイMARY11
゜22に対応して設けられた入出力回路11011゜1
2を含んでいる。上記入出力回路11011゜12は、
メモリアレイMARY11.12に対応したデータ線の
中からカラム系のアドレスデコード出力により選択され
るものを実質的な入力回路の出力端子と出力回路の入力
端子が結合される共通データ線に接続するカラムスイッ
チを含むものである。
In the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, in order to diversify functions, etc., the nonvolatile memory section described above includes a nonvolatile memory used to store data of a different type from the nonvolatile memory circuit MC2. A circuit MCI is provided. This nonvolatile memory circuit MCI is a decoder DCR in the same figure.
Two memory arrays M divided vertically with 1 at the center
ARY11.12 and each of the above memory arrays MARY11
Input/output circuit 11011゜1 provided corresponding to ゜22
Contains 2. The input/output circuit 11011゜12 is
A column that connects the data line selected by the address decode output of the column system from among the data lines corresponding to the memory arrays MARY11 and MARY11 to the common data line to which the output terminal of the actual input circuit and the input terminal of the output circuit are coupled. It includes a switch.

そして、上記のようなメモリ素子への書き込みに必要な
高電圧は、上記の不揮発性記憶回路MC2に設けられた
高電圧発生回路VPPGにより形成されたものを用いる
。すなわち、上記高電圧発生回路VPPGは、1つの不
揮発性記憶回路MC2側に内蔵されているけれども、他
の不揮発性記憶回路MCIに対しても共通に用いられる
。このような高電圧発生回路VPPGの共用化によって
、不揮発性記憶部の占有面積を小さく形成することがで
きる。
The high voltage necessary for writing into the memory element as described above is generated by the high voltage generating circuit VPPG provided in the nonvolatile memory circuit MC2. That is, although the high voltage generation circuit VPPG is built in one nonvolatile memory circuit MC2, it is also commonly used for other nonvolatile memory circuits MCI. By sharing the high voltage generating circuit VPPG in this way, the area occupied by the nonvolatile memory section can be made small.

高電圧発生回路VPPGは、上記のような発振回路や昇
圧回路を含むので比較的大きな消費電力となる。そのた
め、不揮発性記憶回路MC1,MC2のそれぞれに設け
る場合に比べて消費電力を大幅に低減できる。そして、
高電圧発生回路vpPGは、上記のような周期的なパル
ス信号に従い。
Since the high voltage generation circuit VPPG includes the oscillation circuit and booster circuit as described above, it consumes relatively large amount of power. Therefore, power consumption can be significantly reduced compared to the case where each of the nonvolatile memory circuits MC1 and MC2 is provided. and,
The high voltage generating circuit vpPG follows the periodic pulse signal as described above.

比較的大きな容量値を持つキャパシタの充放電動作を行
うために、昇圧動作において回路の接地電位点や電源電
圧線に比較的大きなパルス性のノイズの発生を伴うもの
である。上記のように高電圧発生回路VPPGの共用化
によって、上記パルス性ノイズも低減でき、動作の安定
化も図られるものとなる。
In order to charge and discharge a capacitor having a relatively large capacitance value, a relatively large pulse noise is generated at the ground potential point of the circuit and the power supply voltage line during the boosting operation. By sharing the high voltage generating circuit VPPG as described above, the above-mentioned pulse noise can be reduced and the operation can be stabilized.

この実施例では、不揮発性記憶回路MC2に設けられた
制御回路C0NTにおけるアドレス識別機能により、上
記他の1つの不揮発性記憶回路MCIのアドレス選択動
作も識別を行う、すなわち、制御回路C0NTは、シス
テムアドレスの上位ビットから不揮発性記憶回路MCI
に割り当てられたアドレスを検出すると、それに対応し
た下位ビットのアドレス信号を不揮発性記憶回路MCI
のアドレスデコーダDCR1に供給して、不揮発性記憶
回路MCI側のアドレス選択動作を行わせる。
In this embodiment, the address identification function of the control circuit C0NT provided in the nonvolatile memory circuit MC2 also identifies the address selection operation of the other nonvolatile memory circuit MCI. Nonvolatile memory circuit MCI from the upper bit of the address
When detecting the address assigned to
is supplied to the address decoder DCR1 of the address decoder DCR1 to perform an address selection operation on the nonvolatile memory circuit MCI side.

このとき、制御バスCBから供給される制御信号により
、書き込み/読み出し又はベリファイ等の動作モードを
識別し、それぞれの動作に必要なタイミング信号を発生
して、上記選択された不揮発性記憶回路MCI側のメモ
リアレイMARY11゜12やそれに対応した入出力回
路11011,12に伝える。
At this time, the operation mode such as write/read or verify is identified by the control signal supplied from the control bus CB, and timing signals necessary for each operation are generated, and the selected nonvolatile memory circuit MCI side The information is transmitted to the memory array MARY11-12 and the corresponding input/output circuits 11011 and 12.

このような制御回路C0NTの共用化により、動作モー
ドの識別回路やタイミング発生部等が共通化できるから
、回路の簡素化が可能になるものである。
By sharing the control circuit C0NT in this manner, the operation mode identification circuit, timing generation section, etc. can be made common, thereby making it possible to simplify the circuit.

また、各不揮発性記憶回路MC1,MC2に割り当てら
れるシステムアドレスは、第2図のアト7レスマツプ図
に示すように重複することのないようにされる。それ故
、上記のような制御回路C0NTを共通化しても何等問
題ない。′また、この実施例では、不揮発性記憶回路M
CIとMC2の間にダミーエリアが設けられる。このダ
ミーエリアは、機能の変更や拡張に伴い、不揮発性記憶
回路MCI又はMC2の記憶容量を増大させるときに使
えるよう考慮して設けられている。
Furthermore, the system addresses assigned to each of the nonvolatile memory circuits MC1 and MC2 are made such that they do not overlap, as shown in the address map of FIG. Therefore, there is no problem even if the control circuit C0NT as described above is shared. 'Also, in this embodiment, the nonvolatile memory circuit M
A dummy area is provided between CI and MC2. This dummy area is provided so that it can be used when increasing the storage capacity of the nonvolatile memory circuit MCI or MC2 due to changes or expansions in functionality.

書き込み動作は、EFROMライターを用いて行われる
。この場合、上記のように2つの不揮発性記憶回路MC
IとMC2をダミーエリアを挟んで連続的なアドレスを
割り当てることにより、EPROMライターからは見掛
は上1つの不揮発性記憶回路として見做して書き込み及
びベリファイを行うことができる。すなわち、不揮発性
記憶回路MCIは、アドレス0からJまで、不揮発性記
憶回路MC2はアドレスKからLまでのアドレスが割り
当てられているが、上記ダミーエリアを含んで連続アド
レスとすることにより、アドレス0からLまでのアドレ
ス空間が割り当てられた1つの不揮発性記憶回路と見做
すことができる。これにより、不揮発性記憶回路MCI
とMC2の書き込み動作をEPROMライターにより一
括して行うことができるから、書き込み動作の簡略化が
可能になるものである。そして、このような書き込み動
作において、上記のような高電圧発生回路■PPGを共
用化しても何等問題にならない。
Write operations are performed using an EFROM writer. In this case, as described above, two nonvolatile memory circuits MC
By assigning consecutive addresses to I and MC2 with a dummy area in between, the EPROM writer can perform writing and verification while apparently viewing them as one non-volatile memory circuit. That is, the nonvolatile memory circuit MCI is assigned addresses 0 to J, and the nonvolatile memory circuit MC2 is assigned addresses K to L, but by making the addresses continuous including the dummy area, address 0 is assigned. It can be regarded as one non-volatile memory circuit to which address spaces from to L are allocated. As a result, the nonvolatile memory circuit MCI
Since the write operations of MC2 and MC2 can be performed all at once by the EPROM writer, the write operation can be simplified. In such a write operation, no problem arises even if the high voltage generating circuit (PPG) as described above is shared.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)  第1の不揮発性記憶回路(ブロック)に書き
込み用の高電圧を発生する高電圧発生回路を内蔵させ、
そ−の高電圧第2の不揮発性記憶ブロックに対しても共
通に用いるようにすることより、比較的大きな消費電流
と占有面積を持つ高電圧発生回路が共用化できるから、
複数の不揮発性記憶ブロックを備えた半導体集積回路装
置における回路ブロック面積の効率設計と低消費電力化
が実現できるという効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) a first nonvolatile memory circuit (block) has a built-in high voltage generation circuit that generates a high voltage for writing;
By using the same high voltage second non-volatile memory block, the high voltage generating circuit, which consumes relatively large current and occupies a large area, can be shared.
It is possible to achieve the effect of realizing efficient design of circuit block area and reduction of power consumption in a semiconductor integrated circuit device including a plurality of nonvolatile memory blocks.

偉) 上記(1)により、昇圧動作のときに比較的大き
なパルス性のノイズの発生を伴う高電圧発生回路が1個
で済むから動作の安定化が可能になるという効果が得ら
れる。
(I) According to (1) above, only one high voltage generating circuit is required, which generates relatively large pulse noise during boosting operation, so that the operation can be stabilized.

(3)  制御回路の共通化により、回路の簡素化が可
能になるという効果が得られる。
(3) By sharing the control circuit, it is possible to simplify the circuit.

(4)複数の不揮発性記憶回路に対してダミーエリアを
介して連続アドレスを割り当てることにより、プログラ
ムライターでの書き込みが簡単に行えるという効果が得
られる。
(4) By allocating consecutive addresses to a plurality of nonvolatile memory circuits via a dummy area, it is possible to easily write data using a program writer.

以上本発明者によりなされた発明を実施例に基づき具体
的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、不揮発性記憶回
路(ブロック)の数は、上記のように2つの他、3個以
上であってもよい。この場合、上記のように・1つの不
揮発性記憶回路にのみ昇圧回路又は制御回路を設けて、
それを他の不揮発性記憶回路も共通に用いるようにする
ことによっていっそうの占有面積の効率設計や低消費電
力化が図られる。上記EFROMは、それが搭載される
半導体集積回路装置において消去用の窓が省略されたパ
ッケージとすることより、消去機能を不能にされたもの
であってもよいことはいうまでもない、このような1回
限りの書き込み方式を採る場合でも、前記のようにプロ
グラム開発から製品完成までの開発期間を短縮して、所
望の回路I!能を持つ新製品をいち早く市場に出すよに
することができる。不揮発性記憶回路は、EFROMの
他EEPROM (エレクトリカリ・イレーザブル&プ
ログラマブル・リード・オンリー・メモリ)であっても
よい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-mentioned Examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the number of nonvolatile memory circuits (blocks) may be three or more, instead of two as described above. In this case, as mentioned above, a booster circuit or control circuit is provided only in one nonvolatile memory circuit,
By making it common to other non-volatile memory circuits, it is possible to achieve even more efficient design of the occupied area and lower power consumption. It goes without saying that the above-mentioned EFROM may be a package in which the erasing function is disabled in the semiconductor integrated circuit device in which it is mounted, or the erasing window may be omitted. Even when using a one-time writing method, as mentioned above, the development period from program development to product completion can be shortened and the desired circuit I! It is possible to bring new products with high performance to the market as soon as possible. The nonvolatile memory circuit may be EEPROM (Electrically Erasable & Programmable Read Only Memory) in addition to EFROM.

上記不揮発性記憶回路は、高電圧発生回路や制御回路を
内蔵したマクロセル化された複数種類の基本ブロックと
、高電圧発生回路や制御回路が省略されてマクロセル化
された複数種類の拡張ブロックとを用意しておき、1つ
の基本ブロックと拡張ブロックの組み合わせにより種々
形態の不揮発性記憶部が構成できる。
The above-mentioned non-volatile memory circuit includes multiple types of basic blocks that are configured as macro cells and have built-in high voltage generation circuits and control circuits, and multiple types of expansion blocks that are configured as macro cells and have high voltage generation circuits and control circuits omitted. Various types of non-volatile storage units can be configured by combining one basic block and an extended block.

この発明は、複数からなる不揮発性記憶回路を備えた半
導体集積回路装置に広く利用できるものである。
The present invention can be widely used in semiconductor integrated circuit devices including a plurality of nonvolatile memory circuits.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、第1の不揮発性記憶回路に書き込み用の高
電圧を発生する高電圧発生回路を内蔵させ、その高電圧
第2の不揮発性記憶回路に対しても共通に用いるように
することより、比較的大きな消費電流と占有面積を持つ
高電圧発生回路が共用化できるから、複数の不揮発性記
憶回路を備えた半導体集積回路装置における回路ブロッ
ク面積の効率設計と低消費電力化が実現できる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, by incorporating a high voltage generation circuit that generates a high voltage for writing into the first nonvolatile memory circuit and using it in common for the high voltage second nonvolatile memory circuit, it is possible to Since the high voltage generation circuit, which consumes a large amount of current and occupies a large area, can be shared, it is possible to realize an efficient design of the circuit block area and a reduction in power consumption in a semiconductor integrated circuit device equipped with a plurality of nonvolatile memory circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に係る半導体集積回路装置に設けら
れる不揮発性記憶部の一実施例を示すブロック図、 第2図は、そのアドレス割り当ての一実施例を示すメモ
リマツプ図である。 MCI、MC2・・不揮発性記憶回路、MARY11〜
22・・メモリアレイ、DCRI、DCR2・・アドレ
スデコーダ、l1011〜22・・入出力回路、C0N
T・・制御回路、VPPG・・高電圧発生回路。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a non-volatile memory section provided in a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, and FIG. 2 is a memory map diagram showing an embodiment of address assignment thereof. MCI, MC2...Nonvolatile memory circuit, MARY11~
22...Memory array, DCRI, DCR2...Address decoder, l1011-22...I/O circuit, C0N
T: Control circuit, VPPG: High voltage generation circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)書き込み用の高電圧を発生する高電圧発生回路を内
蔵する第1の不揮発性記憶ブロックと、上記第2の不揮
発性記憶ブロックとを備え、上記第1の不揮発性記憶ブ
ロックに設けられた高電圧発生回路により形成された高
電圧を第2の不揮発性記憶ブロックに対しても共通に用
いることを特徴とする半導体集積回路装置。 2)上記第1及び第2の不揮発性記憶ブロックはマクロ
セル化されたものであり、他の回路機能を持つマクロセ
ル化された回路ブロックとともに1つの半導体集積回路
に構成されるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3)上記第1の不揮発性記憶ブロックには、半導体集積
回路装置に搭載される複数の不揮発性記憶ブロックに対
して共通に用いられる制御回路が設けられるものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1又は第2項記載の
半導体集積回路装置。
[Scope of Claims] 1) A first nonvolatile memory block incorporating a high voltage generation circuit that generates a high voltage for writing, and the second nonvolatile memory block, the first nonvolatile memory block A semiconductor integrated circuit device characterized in that a high voltage generated by a high voltage generation circuit provided in a memory block is also commonly used for a second nonvolatile memory block. 2) The above-mentioned first and second non-volatile memory blocks are configured into macro cells, and are configured into one semiconductor integrated circuit together with macro cell circuit blocks having other circuit functions. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1. 3) The first nonvolatile memory block is provided with a control circuit that is commonly used for a plurality of nonvolatile memory blocks mounted on a semiconductor integrated circuit device. A semiconductor integrated circuit device according to scope 1 or 2.
JP2250268A 1990-09-21 1990-09-21 Semiconductor integrated circuit device Pending JPH04132087A (en)

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