JP5321193B2 - Polyamic acid solution, polyimide and optical device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyamic acid solution capable of providing an aromatic polyimide for optics, showing good light-transmitting properties and a refractive index and having excellent adhesiveness and heat resistance. <P>SOLUTION: The polyamic acid solution is prepared by dissolving a polyamic acid in an organic solvent, the polyamic acid having a specified 9,9-diphenyl fluorene residue and at least one non-fluorene residue selected from specified diphenyl ether residues, diphenyl thioether residues and diphenyl sulfone residues. The polyamic acid contains not less than 40 mass% of the 9,9-diphenyl fluorene residue and has an average polymerization degree of 5 to 100. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、接着、表面保護、光路調整、穴埋めなどの目的で種々の光学装置に用いられるポリイミド材料の前躯体であるポリアミック酸を有機溶剤に溶解したポリアミック酸溶液に関する。また、本発明は、そのポリアミック酸溶液から形成されたポリイミド、並びに、ポリイミド膜が光学装置用基材に積層された光学装置に関する。   The present invention relates to a polyamic acid solution in which a polyamic acid, which is a precursor of a polyimide material used in various optical devices for the purposes of adhesion, surface protection, optical path adjustment, hole filling, and the like, is dissolved in an organic solvent. The present invention also relates to a polyimide formed from the polyamic acid solution and an optical device in which a polyimide film is laminated on a substrate for an optical device.

近年、デジタルカメラ、液晶ディスプレイ、プロジェクター等の光学機器の高性能化、小型化に伴い、それらの光学機器に用いられる種々の光学装置、例えば固体撮像素子、LED、無機偏光板、マイクロレンズアレイ等においては、光学用ポリイミドが、モスアイ型の無反射膜、反射防止膜、導波路膜等の光学薄膜の材料として、あるいはこれらの光学装置における接着、穴埋め、封止、表面保護等を目的として使用されている。   In recent years, as optical devices such as digital cameras, liquid crystal displays, and projectors have been improved in performance and reduced in size, various optical devices used in these optical devices such as solid-state imaging devices, LEDs, inorganic polarizing plates, microlens arrays, etc. Used for optical thin film materials such as moth-eye type non-reflective film, antireflection film, waveguide film, or for the purpose of adhesion, hole filling, sealing, surface protection, etc. in these optical devices Has been.

また、光学機器の中には、200℃を超える温度での使用が想定されている機器や、製造プロセスにおいて350〜400℃で数時間の熱処理を伴う光学機器が存在する。従って、従来の光学用ポリイミドに対しては、良好な透光性、接着性、屈折性のみならず、高い耐熱性を示すことが求められている。   Among optical devices, there are devices that are assumed to be used at temperatures exceeding 200 ° C. and optical devices that involve heat treatment at 350 to 400 ° C. for several hours in the manufacturing process. Therefore, the conventional optical polyimide is required to exhibit not only good translucency, adhesion and refraction, but also high heat resistance.

ところで、従来より光学用ポリイミドとして使用されているものとしては、透光性を有し、屈折率と耐熱性とに優れた芳香族ポリイミド(特許文献1、2)や、耐熱性に優れてはいるが屈折率が比較的低いポリシロキサンに高屈折率のチタンまたはジルコニウム化合物の無機微粒子を配合したポリシロキサン組成物が提案されている(特許文献3)。   By the way, as what is conventionally used as an optical polyimide, it has translucency and has an excellent refractive index and heat resistance, such as an aromatic polyimide (Patent Documents 1 and 2), and heat resistance. However, a polysiloxane composition in which inorganic fine particles of a titanium or zirconium compound having a high refractive index are blended with a polysiloxane having a relatively low refractive index has been proposed (Patent Document 3).

特開2007−332186号公報JP 2007-332186 A 特開2007−277399号公報JP 2007-277399 A 特開2007−246877号公報JP 2007-246877 A

しかしながら、特許文献1、2に記載されたような従来の芳香族ポリイミドは、透光性はあるが、400nm付近の波長の光の吸収が比較的大きく、適用可能な光学装置の種類が非常に少ないという問題があった。また、ポリシロキサン組成物の場合には、配合されている無機微粒子のために光散乱が生じ、透光性が充分ではないという問題があった。また、無機微粒子中の金属不純物が光学装置の性能に悪影響を与えるという問題もあった。   However, the conventional aromatic polyimides described in Patent Documents 1 and 2 are translucent, but absorb relatively large light at wavelengths near 400 nm, and the types of optical devices that can be applied are very large. There was a problem of few. Further, in the case of the polysiloxane composition, there is a problem that light scattering occurs due to the blended inorganic fine particles, and the translucency is not sufficient. There is also a problem that metal impurities in the inorganic fine particles adversely affect the performance of the optical device.

本発明は、以上の従来の技術の課題を解決しようとするものであり、透光性、特に400nm付近の波長の光の透過性が高く、また、無機微粒子を使用しなくても比較的高い屈折率を示し、接着性並びに耐熱性にも優れている光学用芳香族ポリイミドを提供できるポリイミド前駆体であるポリアミック酸溶液を提供することを目的とする。   The present invention is intended to solve the above-described problems of the prior art, and has high translucency, particularly high transmissivity of light having a wavelength near 400 nm, and relatively high without using inorganic fine particles. It is an object of the present invention to provide a polyamic acid solution that is a polyimide precursor that can provide an optical aromatic polyimide that exhibits a refractive index and is excellent in adhesion and heat resistance.

本発明者は、ポリアミック酸を構成する残基の種類と含有割合、ポリアミック酸を構成するテトラカルボン酸二無水物成分の種類と含有割合、並びにジアミン成分の種類と含有割合が、得られるポリイミドの特性に大きな影響を及ぼしていることに着目し、それらについて研究した結果、特定の9,9−ジフェニルフルオレン残基と特定のエーテル系残基とからポリアミック酸を構成し、しかも9,9−ジフェニルフルオレン残基の含有割合を40質量%以上とし、且つポリアミック酸の平均重合度を5〜100とすることにより、上述の目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventor is the type and content ratio of the residue constituting the polyamic acid, the type and content ratio of the tetracarboxylic dianhydride component constituting the polyamic acid, and the type and content ratio of the diamine component of the resulting polyimide. As a result of studying them focusing on the fact that they have a great influence on the properties, polyamic acid is composed of a specific 9,9-diphenylfluorene residue and a specific ether residue, and 9,9-diphenyl The inventors have found that the above object can be achieved by setting the content ratio of the fluorene residue to 40% by mass or more and setting the average degree of polymerization of the polyamic acid to 5 to 100, thereby completing the present invention.

即ち、本発明は、式(1a)、式(1a′)、式(1b)または式(1c)で表される少なくとも一つの9,9−ジフェニルフルオレン残基と、式(2a)、式(2b)または式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させたポリアミック酸溶液であって、該ポリアミック酸が9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%以上含有し、5〜100の平均重合度を有するポリアミック酸溶液を提供する。






































That is, the present invention relates to at least one 9,9-diphenylfluorene residue represented by the formula (1a), the formula (1a ′), the formula (1b) or the formula (1c), the formula (2a), the formula ( A polyamic acid solution in which a polyamic acid having at least one non-fluorene residue selected from a diphenyl ether residue, a diphenyl thioether residue, and a diphenyl sulfone residue represented by 2b) or formula (2c) is dissolved in an organic solvent The polyamic acid contains a 9,9-diphenylfluorene residue in an amount of 40% by mass or more, and provides a polyamic acid solution having an average degree of polymerization of 5 to 100.






































Figure 0005321193
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また、本発明は、上述のポリアミック酸溶液の塗布膜を乾燥し、イミド化して得られた、1.67以上の屈折率及び90%以上の光透過率を示す芳香族ポリイミドを提供する。   The present invention also provides an aromatic polyimide having a refractive index of 1.67 or higher and a light transmittance of 90% or higher, obtained by drying and imidizing the above-mentioned polyamic acid solution coating film.

更に、本発明は、光学装置用基材と、上述のポリアミック酸溶液を、該光学装置用基材に塗布し乾燥し更にイミド化して得られた、1.67以上の屈折率及び90%以上の光透過率を示す芳香族ポリイミド膜とを有する光学装置を提供する。   Furthermore, the present invention provides a refractive index of 1.67 or more and 90% or more obtained by applying the substrate for optical device and the above-mentioned polyamic acid solution to the substrate for optical device, drying and further imidizing. An optical device having an aromatic polyimide film exhibiting a light transmittance of the above is provided.

本発明のポリアミック酸溶液においては、ポリアミック酸を特定の9,9−ジフェニルフルオレン残基と特定のエーテル系残基とから構成し、しかも9,9−ジフェニルフルオレン残基の含有割合を40質量%以上とし、且つポリアミック酸の平均重合度を5〜100とする。このため、このポリアミック酸溶液からは、透光性、特に400nm付近の波長の光の透過性が高く、また、無機微粒子を使用しなくても比較的高い屈折率を示し、接着性並びに耐熱性にも優れている光学用芳香族ポリイミドを提供できる。   In the polyamic acid solution of the present invention, the polyamic acid is composed of a specific 9,9-diphenylfluorene residue and a specific ether residue, and the content of the 9,9-diphenylfluorene residue is 40% by mass. The average degree of polymerization of the polyamic acid is 5 to 100. For this reason, this polyamic acid solution has high translucency, in particular, high transmissivity of light having a wavelength of around 400 nm, and exhibits a relatively high refractive index without using inorganic fine particles. In addition, it is possible to provide an aromatic polyimide for optics that is excellent in the above.

本発明のポリアミック酸溶液は、式(1a)、式(1a′)、式(1b)または式(1c)で表される少なくとも一つの9,9−ジフェニルフルオレン残基と、式(2a)、式(2b)または式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させたポリアミック酸溶液である。   The polyamic acid solution of the present invention comprises at least one 9,9-diphenylfluorene residue represented by formula (1a), formula (1a ′), formula (1b) or formula (1c), formula (2a), A polyamic acid in which a polyamic acid having at least one non-fluorene residue selected from a diphenyl ether residue, a diphenyl thioether residue and a diphenyl sulfone residue represented by the formula (2b) or the formula (2c) is dissolved in an organic solvent It is an acid solution.

本発明において、ポリアミック酸は9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%以上、好ましくは42〜65質量%含有する。9,9−ジフェニルフルオレン残基は、良好な透光性、溶剤可溶性、高屈折性、耐熱性をポリイミドに付与する機能を有する。このため、9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%未満とすると、ポリイミドの耐熱性が過度に低下して変色し、透光性が90%未満となる。ここで、ポリアミック酸における9,9−ジフェニルフルオレン残基は、テトラカルボン酸二無水物成分およびジアミン成分のいずれの由来でもよい。因みに、式(1a)および式(1a′)の9,9−ジフェニルフルオレン残基はテトラカルボン酸二無水物成分由来であり、式(1b)、式(1c)の9,9−ジフェニルフルオレン残基は、ジアミン成分由来である。他方、式(2a)、式(2b)または式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基の内、式(2a)および式(2b)の非フルオレン残基は、ジフェニルエーテル残基またはジフェニルスルフォン残基を有するテトラカルボン酸二無水物成分由来であり、式(2c)の非フルオレン残基は、ジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基またはジフェニルスルフォン残基を有するジアミン成分由来である。   In the present invention, the polyamic acid contains 9,9-diphenylfluorene residue in an amount of 40% by mass or more, preferably 42 to 65% by mass. The 9,9-diphenylfluorene residue has a function of imparting good translucency, solvent solubility, high refractive property, and heat resistance to polyimide. For this reason, when the 9,9-diphenylfluorene residue is less than 40% by mass, the heat resistance of the polyimide is excessively lowered and discolored, and the translucency is less than 90%. Here, the 9,9-diphenylfluorene residue in the polyamic acid may be derived from either a tetracarboxylic dianhydride component or a diamine component. Incidentally, the 9,9-diphenylfluorene residue of formula (1a) and formula (1a ′) is derived from the tetracarboxylic dianhydride component, and the 9,9-diphenylfluorene residue of formula (1b) and formula (1c) The group is derived from a diamine component. On the other hand, among at least one non-fluorene residue selected from the diphenyl ether residue, diphenyl thioether residue and diphenyl sulfone residue represented by the formula (2a), the formula (2b) or the formula (2c), the formula (2a ) And the non-fluorene residue of formula (2b) is derived from a tetracarboxylic dianhydride component having a diphenyl ether residue or a diphenyl sulfone residue, and the non-fluorene residue of formula (2c) is a diphenyl ether residue, diphenyl It is derived from a diamine component having a thioether residue or a diphenylsulfone residue.

上述したように、ポリアミック酸は、9,9−ジフェニルフルオレン残基以外に、式(2a)、(2b)または(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基を40質量%未満、好ましくは20〜38質量%含有する。これらの非フルオレン残基は、ポリイミドの初期に良好な透光性を付与するだけでなく、有機溶媒に対する溶解性を向上させる機能を有する。中でも、式(2c)の非フルオレン残基を使用することが、ポリイミドに柔軟性を付与できる点で好ましい。   As described above, the polyamic acid includes diphenyl ether residue, diphenyl thioether residue and diphenyl sulfone residue represented by the formula (2a), (2b) or (2c) in addition to the 9,9-diphenylfluorene residue. It contains at least one selected non-fluorene residue of less than 40% by weight, preferably 20 to 38% by weight. These non-fluorene residues not only provide good translucency in the initial stage of polyimide, but also have a function of improving solubility in organic solvents. Among these, use of the non-fluorene residue of the formula (2c) is preferable from the viewpoint that flexibility can be imparted to the polyimide.

式(1a)および(1a′)の9,9−ジフェニルフルオレン残基を有するテトラカルボン酸二無水物としては、式(3)に示す9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレンの二無水物(BPAF)、式(4)に示す、9,9−ビス〔4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕フルオレンの二無水物等が挙げられる。式(2a)および(2b)に示す非フルオレン残基を有するテトラカルボン酸二無水物としては、4,4′−オキシジフタ酸二無水物、3,4,3′,4′−ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。






Examples of tetracarboxylic dianhydrides having 9,9-diphenylfluorene residues of formulas (1a) and (1a ′) include 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene represented by formula (3). Dianhydride (BPAF), 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] fluorene dianhydride represented by the formula (4), and the like. Examples of tetracarboxylic dianhydrides having non-fluorene residues represented by the formulas (2a) and (2b) include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-diphenylsulfone tetracarboxylic acid. An acid dianhydride etc. are mentioned.






Figure 0005321193
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また、式(1b)および式(1c)の9,9−ジフェニルフルオレン残基を有するジアミンとしては、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(トルイジン)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等が挙げられる。   Examples of the diamine having a 9,9-diphenylfluorene residue of the formula (1b) and the formula (1c) include 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (3-amino-4). Hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (toluidine) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, and the like.

式(2c)の非フルオレン残基(即ち、ジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテルまたはジフェニルスルフォン残基)を有するジアミンとしては、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル3,4′−ジアミノジフェニルエテール、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、3,5−ビス(4−アミノフェノキシ)安息香酸、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、3,7−ジアミノ−2,8−ジメチルジベンゾチオフェンスルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド等が挙げられる。   Diamines having a non-fluorene residue of formula (2c) (ie diphenyl ether residue, diphenyl thioether or diphenyl sulfone residue) include 4,4'-diaminodiphenyl ether 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,3 -Bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 3,5-bis (4-aminophenoxy) benzoic acid, bis (3-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) sulfone, 3,7-diamino-2,8-dimethyldibenzothiophenesulfone, bis [4 -(3-Aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) ) Phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, bis (4-aminophenyl) And sulfides.

また、ポリアミック酸の平均重合度nは、5〜100、好ましくは10〜70である。平均重合度が5未満であると、ポリイミドの弾性率が低くなりすぎ、100を超えると、ポリアミック酸溶液の粘度が高くなりすぎて、スピンコーターで塗布する場合不都合となる。本発明において、平均重合度は、テトラカルボン酸二無水物成分とジアミン成分とからなる重合単位の平均繰り返し数を意味する。平均重合度nが大きい程、ポリアミック酸の分子量が増大する。   The average degree of polymerization n of the polyamic acid is 5 to 100, preferably 10 to 70. When the average polymerization degree is less than 5, the elastic modulus of the polyimide becomes too low, and when it exceeds 100, the viscosity of the polyamic acid solution becomes too high, which is inconvenient when applied by a spin coater. In the present invention, the average degree of polymerization means the average number of repeating units of a polymer unit composed of a tetracarboxylic dianhydride component and a diamine component. The higher the average degree of polymerization n, the higher the molecular weight of the polyamic acid.

ポリアミック酸の平均重合度nは、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとの仕込みモル比によって決定することができる。この場合、末端封止剤の使用の有無で扱いがことなる。   The average degree of polymerization n of the polyamic acid can be determined by the charged molar ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine. In this case, the handling depends on whether or not the end-capping agent is used.

末端封止剤を用いない場合には、テトラカルボン酸二無水物とジアミンのモル比を、好ましくは1:0.99〜1:0.83、より好ましくは1:0.986〜1:0.90の範囲にすること好ましい。このように、本発明では、テトラカルボン酸二無水物の量をジアミンより多くすることが好ましい。これにより、ポリアミック酸分子の末端を酸無水物末端とすることができ、ポリイミドの接着性を向上させ、また、ポリイミドを熱エージングした場合でも、ポリイミドの透光性を維持することが可能となる。なお、この末端の酸無水物部分は、ポリアミック酸の合成の後、加水分解によりフリーのジカルボン酸となってもよい。   When the end-capping agent is not used, the molar ratio of tetracarboxylic dianhydride to diamine is preferably 1: 0.99 to 1: 0.83, more preferably 1: 0.986 to 1: 0. .90 is preferable. Thus, in the present invention, the amount of tetracarboxylic dianhydride is preferably larger than that of diamine. Thereby, the terminal of a polyamic acid molecule can be made into an acid anhydride terminal, the adhesiveness of the polyimide is improved, and even when the polyimide is thermally aged, the translucency of the polyimide can be maintained. . The terminal acid anhydride portion may be converted to free dicarboxylic acid by hydrolysis after the synthesis of polyamic acid.

具体的な平均重合度nとモル比との関係を次に説明する。即ち、nが5の場合、テトラカルボン酸二無水物とジアミンのモル比は1:0.83であり、nが100の場合は1:0.99に対応している。   A specific relationship between the average degree of polymerization n and the molar ratio will be described below. That is, when n is 5, the molar ratio of tetracarboxylic dianhydride to diamine is 1: 0.83, and when n is 100, it corresponds to 1: 0.99.

末端封止剤を用いる場合には、テトラカルボン酸二無水物とジアミンの仕込み比は、テトラカルボン酸二無水物が多くても、逆にジアミンが多くてもどちらでもかまわないが、テトラカルボン酸二無水物が多い場合は、末端封止剤は単官能アミンを用いることが好ましく、ジアミンが多い場合には末端封止剤は単官能酸無水物を用いることが好ましい。具体的なモル比は以下のとおりである。   In the case of using an end-capping agent, the ratio of tetracarboxylic dianhydride to diamine may be either tetracarboxylic dianhydride or a large amount of diamine. When there are many dianhydrides, it is preferable to use a monofunctional amine as the terminal blocking agent, and when there are many diamines, it is preferable to use a monofunctional acid anhydride as the terminal blocking agent. The specific molar ratio is as follows.

<酸無水物が多い場合>
テトラカルボン酸二無水物:ジアミン:単官能アミン = 1:(0.99〜0.83):(0.02〜0.34)
<ジアミンが多い場合>
テトラカルボン酸二無水物:ジアミン:単官能酸無水物 = (0.99〜0.83):1:(0.02〜0.34)
<When there are many acid anhydrides>
Tetracarboxylic dianhydride: diamine: monofunctional amine = 1: (0.99 to 0.83): (0.02 to 0.34)
<When there are many diamines>
Tetracarboxylic dianhydride: diamine: monofunctional anhydride = (0.99 to 0.83): 1: (0.02 to 0.34)

本発明において使用し得る末端封止剤としては、一般的に用いられる、単官能アミンや単官能酸無水物を用いることができる。また、アセチレン基やマレイミド基のような架橋性の官能基を有する末端封止剤を用いることで、後述する本発明のポリイミドを架橋性ポリイミドとすることも可能である。   As end-capping agents that can be used in the present invention, generally used monofunctional amines and monofunctional acid anhydrides can be used. Moreover, the polyimide of this invention mentioned later can also be made into a crosslinkable polyimide by using the terminal blocker which has a crosslinkable functional group like an acetylene group or a maleimide group.

以上説明したポリアミック酸の好ましい態様としては、酸二無水物成分由来の式(1a)または式(1a′)で表される少なくとも一つの9,9−ジフェニルフルオレン残基と、ジアミン成分由来の式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸が挙げられる。特に好ましい具体的なポリアミック酸を式(5a)に示し、更に具体的なポリアミック酸を式(5b)に示す。この場合、平均重合度nが53で酸無水末端構造であると、9,9−ジフェニルフルオレン残基の質量%は43.2質量%になる。









As a preferable embodiment of the polyamic acid described above, at least one 9,9-diphenylfluorene residue represented by the formula (1a) or the formula (1a ′) derived from the acid dianhydride component and a formula derived from the diamine component And a polyamic acid having at least one non-fluorene residue selected from a diphenyl ether residue, a diphenyl thioether residue and a diphenyl sulfone residue represented by (2c). A particularly preferred specific polyamic acid is shown in the formula (5a), and a more specific polyamic acid is shown in the formula (5b). In this case, when the average degree of polymerization n is 53 and the acid anhydride terminal structure is used, the mass% of the 9,9-diphenylfluorene residue is 43.2 mass%.









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本発明のポリアミック酸溶液は、以上説明したポリアミック酸が有機溶媒に溶解したものである。有機溶媒としては、ポリアミック酸の良溶媒である既知の溶剤を使用することができる。具体的には、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、トリグライム等が好ましく、中でもγ―ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、トリグライムおよび、N,N−ジメチルアセトアミドから選択される少なくとも一種の溶媒が特に好ましい。なお、これらのポリアミック酸に対する溶解度を改善するために、PGMEA、ジグライム、モノグライムなどを併用することができる。   The polyamic acid solution of the present invention is obtained by dissolving the polyamic acid described above in an organic solvent. As the organic solvent, a known solvent which is a good solvent for polyamic acid can be used. Specifically, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, triglyme and the like are preferable, among which γ-butyrolactone, N- Particularly preferred is at least one solvent selected from methyl-2-pyrrolidone, triglyme and N, N-dimethylacetamide. In addition, in order to improve the solubility with respect to these polyamic acids, PGMEA, diglyme, monoglyme, etc. can be used together.

また、本発明のポリアミック酸溶液の適正な溶剤量は、好ましくは70〜95質量%である。70重量%未満であると粘度が高くなりすぎて塗布が困難になる傾向があり、95質量%を超えると皮膜の形成が困難になるからである。   Moreover, the suitable solvent amount of the polyamic acid solution of this invention becomes like this. Preferably it is 70-95 mass%. If the amount is less than 70% by weight, the viscosity tends to be too high and application tends to be difficult. If the amount exceeds 95% by weight, it is difficult to form a film.

本発明のポリアミック酸溶液は、必要に応じて、界面活性剤、透明フィラー、酸化防止剤、老化防止剤、ラジカルクエンチャー、接着促進剤など種々の添加剤を含有することができる。   The polyamic acid solution of the present invention can contain various additives such as a surfactant, a transparent filler, an antioxidant, an antioxidant, a radical quencher, and an adhesion promoter, as necessary.

本発明のポリアミック酸溶液は、公知の方法に準じて調製することができる。例えば、まず、反応容器中に規定量の有機溶剤を投入し、次に撹拌しながら規定量のジアミンを投入し、これを溶解させる。続いて、規定量のテトラカルボン酸二無水物を投入し、室温ないし40℃の範囲内で4〜12時間反応することで、淡黄色のポリアミック酸溶液を得ることができる。   The polyamic acid solution of the present invention can be prepared according to a known method. For example, first, a specified amount of an organic solvent is charged into a reaction vessel, and then a specified amount of diamine is charged while stirring to dissolve it. Subsequently, a light amount of a polyamic acid solution can be obtained by adding a specified amount of tetracarboxylic dianhydride and reacting within a range of room temperature to 40 ° C. for 4 to 12 hours.

なお、本発明のポリアミック酸溶液は、含有するポリアミック酸中のアミック酸残基の一部がイミド化してもよく、部分イミド化ポリアミック酸を含有するポリアミック酸溶液も本発明の一部である。このような部分イミド化ポリアミック酸は、9,9−ジフェニルフルオレン骨格、ジフェニルエーテル骨格やジフェニルスルフォン骨格、ジフェニルヘキサフルオロプロパン骨格、ジフェニルプロパン骨格などを有しているので、通常、有機溶剤に対し、可溶性を有する。   In the polyamic acid solution of the present invention, a part of the amic acid residue in the contained polyamic acid may be imidized, and the polyamic acid solution containing the partially imidized polyamic acid is also a part of the present invention. Such a partially imidized polyamic acid has a 9,9-diphenylfluorene skeleton, a diphenyl ether skeleton, a diphenyl sulfone skeleton, a diphenylhexafluoropropane skeleton, a diphenylpropane skeleton, and the like, and is usually soluble in an organic solvent. Have

また、部分イミド化ポリアミック酸溶液の塗布膜は、すでに部分イミド化されているため、完全イミド化の際に、1)発生水分の量が減少する、2)皮膜の厚み減少量が軽減される、3)収縮による応力歪が軽減される、などの利点が得られる。イミド化の程度はイミド化率で示すことができるが、部分イミド化ポリアミック酸溶液のイミド化率は好ましくは最大95%までである。この程度であれば、以下に示す方法で簡単に部分イミド化することが可能である。また、この95%を超えると、溶液の粘度が上がりすぎるため、ポリアミック酸溶液の塗布性が低下し、好ましくはない。   Further, since the coating film of the partially imidized polyamic acid solution has already been partially imidized, 1) the amount of generated moisture is reduced during the complete imidization, and 2) the thickness reduction amount of the film is reduced. 3) Advantages such as reduction of stress strain due to shrinkage can be obtained. The degree of imidization can be indicated by the imidization rate, but the imidization rate of the partially imidized polyamic acid solution is preferably up to 95%. If it is this grade, it is possible to carry out partial imidation easily by the method shown below. On the other hand, if it exceeds 95%, the viscosity of the solution is excessively increased, so that the applicability of the polyamic acid solution is lowered, which is not preferable.

即ち、ポリアミック酸の部分イミド化の方法は、得られたポリアミック酸溶液を、200℃前後の温度で数時間加熱することで行うことができる。一般的な方法としては、溶液に若干量のキシレンなどの水との共沸溶剤を加え、加熱還流させる。発生したイミド化水を、共沸溶剤とともに系外に排除する。用いる溶剤を、N−メチル−2−ピロリドンやγ−ブチロラクトンにしておけば、その沸点が200℃付近なので、加熱還流させるのに好都合である。この際、特にイミド化触媒を使用する必要はない。   That is, the method of partial imidation of polyamic acid can be performed by heating the obtained polyamic acid solution at a temperature of about 200 ° C. for several hours. As a general method, a small amount of an azeotropic solvent with water such as xylene is added to the solution and heated to reflux. The generated imidized water is excluded from the system together with the azeotropic solvent. If the solvent used is N-methyl-2-pyrrolidone or γ-butyrolactone, its boiling point is around 200 ° C., which is convenient for heating to reflux. At this time, it is not necessary to use an imidization catalyst.

本発明のポリアミック酸溶液(部分イミド化ポリアミック酸溶液も含む)に対しては、好ましくは、溶液中に含まれる不溶解性の不純物微粒子を除去するために、フィルターを用いてろ過を行うフィルター処理を施すことが好ましい。ここで、フィルターのポアサイズは好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下である。フィルターの材質としては、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)よりもナイロンやポリオレフィンの方が好ましい。溶剤との親和性が良いため、圧損が少なくなるからである。また、ろ過圧力は低く、ろ過流量は少ないほうが好ましい。   For the polyamic acid solution of the present invention (including a partially imidized polyamic acid solution), preferably, a filter treatment is performed using a filter in order to remove insoluble impurity fine particles contained in the solution. It is preferable to apply. Here, the pore size of the filter is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less. As a material for the filter, nylon or polyolefin is preferable to PTFE (polytetrafluoroethylene). This is because the pressure loss is reduced due to good affinity with the solvent. Moreover, it is preferable that the filtration pressure is low and the filtration flow rate is small.

また、フィルターでろ過したポリアミック酸溶液(ろ液)に対しては、溶液中に溶け込んでいる溶解性の金属イオン不純物を除去するために、イオン交換樹脂を用いてイオン交換処理することが好ましい。イオン交換樹脂は市販されている粒子状のものを用いることができる。陰イオン交換樹脂と陽イオン交換樹脂とを併用することが好ましい。   In addition, for the polyamic acid solution (filtrate) filtered by a filter, it is preferable to perform an ion exchange treatment using an ion exchange resin in order to remove soluble metal ion impurities dissolved in the solution. As the ion exchange resin, a commercially available particulate resin can be used. It is preferable to use an anion exchange resin and a cation exchange resin in combination.

イオン交換処理の具体例な方法としては、バッチ処理法とカラム処理法の二種類が知られている。バッチ処理法は、2〜20重量%のイオン交換樹脂をそのまま、あるいは溶剤で含侵させたのちに、ポリアミック酸溶液中に投入し、6〜36時間程度攪拌後に、イオン交換樹脂をろ過装置などで取り除く方法である。処理操作が容易となる利点があるが、イオン交換樹脂の単位量当たりの処理量が小さいという欠点があるため、少量のポリアミック酸溶液を処理する場合に適している。他方、カラム処理法は、上下にコックを有した円筒状のガラス製のカラムにイオン交換樹脂を充填して、適切な溶剤を充填した後、ポリアミック酸溶液をポンプや重力などを用いてカラムに通液する方法である。通液速度は、粘度が10〜500mPa・sである場合には、SV(空間速度)値で少なくとも1以下、通常は1/2〜1/10程度にすることが好ましい〔SV値=(1時間当たりの試料の通液流量(容量))/イオン交換樹脂の容量〕。カラム処理法は、イオン交換樹脂の10〜1000倍の容量のポリアミック酸溶液を処理できるという利点があるので、大量処理に適している。   As specific examples of the ion exchange treatment, two types, a batch treatment method and a column treatment method, are known. In the batch treatment method, 2 to 20% by weight of ion exchange resin is impregnated as it is or impregnated with a solvent, and then poured into a polyamic acid solution. After stirring for about 6 to 36 hours, the ion exchange resin is filtered. It is a method of removing with. Although there exists an advantage which processing operation becomes easy, since there exists a fault that the processing amount per unit amount of ion-exchange resin is small, it is suitable when processing a small amount of polyamic acid solution. On the other hand, in the column processing method, a cylindrical glass column having cocks at the top and bottom is filled with an ion exchange resin, filled with an appropriate solvent, and then the polyamic acid solution is applied to the column using a pump or gravity. It is a method of passing liquid. When the viscosity is 10 to 500 mPa · s, the liquid passing speed is preferably at least 1 or less, and usually about 1/2 to 1/10 in terms of SV (space velocity) [SV value = (1 Sample flow rate per hour (volume) / volume of ion exchange resin]. Since the column processing method has an advantage that a polyamic acid solution having a volume 10 to 1000 times that of the ion exchange resin can be processed, it is suitable for mass processing.

イオン交換処理を施されたポリアミック酸溶液については、イオン交換樹脂処理などの工程中に混入する可能性のあるゴミを除去するために、再びフィルター処理を施すことが好ましい。使用するフィルターのポアサイズは、用途によって求められるゴミの除去レベルにより決められるが、通常0.5〜0.05μm程度である。フィルターの材質、ろ過圧力、ろ過速度などに特に制約はない。   The polyamic acid solution that has been subjected to the ion exchange treatment is preferably subjected to a filter treatment again in order to remove dust that may be mixed during a process such as an ion exchange resin treatment. The pore size of the filter to be used is determined by the dust removal level required by the application, but is usually about 0.5 to 0.05 μm. There are no particular restrictions on the filter material, filtration pressure, filtration speed, and the like.

このように得られるポリアミック酸溶液は、固型分を30質量%以下、粘度を10〜500mPa・sに調整することによりスピンコートに適したものとなる。   The polyamic acid solution thus obtained is suitable for spin coating by adjusting the solid content to 30% by mass or less and the viscosity to 10 to 500 mPa · s.

以上説明したポリアミック酸溶液は、ポリイミドを製造するために好ましく適用できる。即ち、ポリアミック酸溶液を、対象物へ塗布・乾燥し、その後加熱することで、対象物上にポリイミドの充填体や薄膜を得ることができる。乾燥したポリアミック酸は、200〜300℃の加熱で容易に脱水し、対応するポリイミドに変換することができる。さらに、300〜400℃の熱処理により、ポリイミドの基材に対する接着性を向上させ、また、ポリイミドの弾性率を向上させることが期待できる。   The polyamic acid solution described above can be preferably applied to produce polyimide. That is, a polyimide filler or a thin film can be obtained on an object by applying and drying the polyamic acid solution to the object and then heating the polyamic acid solution. The dried polyamic acid can be easily dehydrated by heating at 200 to 300 ° C. and converted to the corresponding polyimide. Furthermore, it can be expected that, by heat treatment at 300 to 400 ° C., the adhesion of polyimide to the substrate is improved and the elastic modulus of polyimide is improved.

ポリアミック酸溶液の塗布方法は、スピンコーター、ナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、スクリーン印刷など既存の塗布方法を用いることができる。特に、半導体素子装置を用いて、撮像素子に塗布する際にはスピンコーターが有用である。   As a method for applying the polyamic acid solution, existing coating methods such as spin coater, knife coater, roll coater, bar coater, and screen printing can be used. In particular, a spin coater is useful when applying to an image sensor using a semiconductor element device.

また、ポリアミック酸溶液が塗布される対象としては、用途によって様々であるが、セラミック基板、ガラス基板、サファイア基板、シリコン基板などが代表的に挙げられる。特に、半導体素子装置である撮像素子に適用する場合、シリコン基板が用いられる。   In addition, the target to which the polyamic acid solution is applied varies depending on the application, but representative examples include a ceramic substrate, a glass substrate, a sapphire substrate, and a silicon substrate. In particular, when applied to an image sensor that is a semiconductor element device, a silicon substrate is used.

本発明のポリアミック酸溶液から製造される芳香族ポリイミドは、1.67以上の屈折率及び90%以上の光透過率を示すものである。このような特性を持つポリイミドは、固体撮像素子用の半導体基板などの光学装置用基材に積層され、導波路層、接着層、絶縁層または反射防止膜として好ましく機能することができる。   The aromatic polyimide produced from the polyamic acid solution of the present invention exhibits a refractive index of 1.67 or more and a light transmittance of 90% or more. Polyimide having such characteristics is laminated on a substrate for an optical device such as a semiconductor substrate for a solid-state imaging device, and can preferably function as a waveguide layer, an adhesive layer, an insulating layer, or an antireflection film.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

なお、ポリイミドにおけるイミド化率は、以下の数式に従ってIRスペクトルの特性吸収から算出することができ、以下の実施例では、1376cm−1でのピーク強度の増大率をイミド化率とした。 In addition, the imidation rate in polyimide can be calculated from the characteristic absorption of the IR spectrum according to the following formula, and in the following examples, the rate of increase in peak intensity at 1376 cm −1 was taken as the imidization rate.

Figure 0005321193
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式中、Ps1376は、測定対象であるサンプル(ポリアミック酸)の1376cm−1におけるピーク強度である;Ps1500は、測定対象である試料の1500cm−1におけるピーク強度である;PI1376は、サンプルを400℃で3分間加熱して完全にイミド化して得たポリイミドの1376cm−1におけるピーク強度である;PI1500は、サンプルを400℃で3分間加熱して完全にイミド化して得たポリイミドの1500cm−1におけるピーク強度である。 Wherein, Ps 1376 is the peak intensity at 1376cm -1 samples to be measured (polyamic acid); Ps 1500 is the peak intensity at 1500 cm -1 of sample to be measured; PI 1376, the sample Is a peak intensity at 1376 cm −1 of a polyimide obtained by heating at 400 ° C. for 3 minutes to completely imidize; PI 1500 is a polyimide obtained by heating the sample at 400 ° C. for 3 minutes to completely imidize. It is the peak intensity at 1500 cm −1 .

実施例1
1000mlの三口ガラス製の反応容器に、テトラカルボン酸二無水物として、9,9−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)フルオレン(BPAF)(JFEケミカル社製:純度99.74%)を100.0ミリモル(45.96g)と、ジアミン成分として、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(APB−N)(三井ケミカル社製:純度99.9%)の98.15ミリモル(28.72g)とを仕込み、有機溶剤としてγ−ブチロラクトンを275g加え、撹拌溶解させ、室温で12時間反応させた。これにより、ポリイミド換算固型分20.55%、粘度450mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは53であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は44.3質量%である。
Example 1
In a 1000 ml three-necked glass reaction vessel, 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene (BPAF) (manufactured by JFE Chemical Co., Ltd .: purity 99.74%) as tetracarboxylic dianhydride is 100. 1.0 mmol (45.96 g) and 98.15 mmol (28) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (APB-N) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc .: purity 99.9%) as the diamine component. 72 g), 275 g of γ-butyrolactone as an organic solvent was added, dissolved by stirring, and reacted at room temperature for 12 hours. As a result, a pale yellow polyamic acid solution having a solid content of polyimide equivalent of 20.55% and a viscosity of 450 mPa · s was obtained. The average degree of polymerization n in the design is 53. Therefore, the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 44.3% by mass.

実施例2
有機溶剤を、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に変更した以外は、実施例1を繰り返すことにより、ポリイミド換算固型分20.55%、粘度310mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは53であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は44.3質量%である。
Example 2
Except that the organic solvent was changed to N, N-dimethylacetamide (DMAc), a pale yellow polyamic acid solution having a polyimide equivalent solid content of 20.55% and a viscosity of 310 mPa · s was obtained by repeating Example 1. It was. The average degree of polymerization n in the design is 53. Therefore, the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 44.3% by mass.

実施例3
有機溶剤をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に変更した以外は、実施例1を繰り返すことにより、ポリイミド換算固型分20.55%、粘度295mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは53であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は44.3質量%である。
Example 3
Except that the organic solvent was changed to N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), a pale yellow polyamic acid solution having a polyimide equivalent solid content of 20.55% and a viscosity of 295 mPa · s was obtained by repeating Example 1. It was. The average degree of polymerization n in the design is 53. Therefore, the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 44.3% by mass.

実施例4
ジアミン成分のAPB−Nを98.15ミリモルから87.50ミリモル(25.61g)に変え、且つ溶剤としてγ−ブチロラクトンに代えてDMAcを使用すること以外は、実施例1を繰り返すことにより、ポリイミド換算固型分19.92%、粘度75mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは7であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は46.1質量%である。次に、この溶液100mlにトルエン10mlを加え、還流装置付きの500mlガラス製反応容器中で200℃にて1時間加熱した。留出物は、約15mlであり、トルエンと水とγ−ブチロラクトンの混合溶液であった。この結果、反応容器内にポリイミド換算固型分21.22%、粘度280mPa・sの淡黄色の部分イミド化ポリアミック酸を得た。そのイミド化率は82%であった。
Example 4
By repeating Example 1 except that the APB-N of the diamine component was changed from 98.15 mmol to 87.50 mmol (25.61 g) and DMAc was used instead of γ-butyrolactone as a solvent, polyimide was obtained. A pale yellow polyamic acid solution having a converted solid content of 19.92% and a viscosity of 75 mPa · s was obtained. The average degree of polymerization n in the design is 7, and the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 46.1% by mass. Next, 10 ml of toluene was added to 100 ml of this solution and heated at 200 ° C. for 1 hour in a 500 ml glass reaction vessel equipped with a reflux apparatus. The distillate was about 15 ml, and was a mixed solution of toluene, water and γ-butyrolactone. As a result, a light yellow partially imidized polyamic acid having a polyimide-converted solid content of 21.22% and a viscosity of 280 mPa · s was obtained in the reaction vessel. The imidation ratio was 82%.

実施例5
ジアミン成分のAPB−Nを98.15ミリモルから92.86ミリモル(27.17g)に変え、且つ溶剤としてγ−ブチロラクトンに代えてDMAcを使用すること以外は、実施例1を繰り返すことにより、ポリイミド換算固型分20.24%、粘度95mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは13であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は45.2質量%である。次に、実施例4と同様にして部分イミド化反応を行った。その際、180℃にて1時間加熱した。その結果、反応容器内にポリイミド換算固型分22.02%、粘度315mPa・sの部分イミド化ポリアミック酸を得た。そのイミド化率は75%であった。
Example 5
By repeating Example 1 except that the diamine component APB-N was changed from 98.15 mmol to 92.86 mmol (27.17 g) and DMAc was used instead of γ-butyrolactone as a solvent, a polyimide was obtained. A pale yellow polyamic acid solution having a converted solid content of 20.24% and a viscosity of 95 mPa · s was obtained. The average degree of polymerization n in the design is 13, and therefore the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 45.2% by mass. Next, a partial imidization reaction was performed in the same manner as in Example 4. In that case, it heated at 180 degreeC for 1 hour. As a result, a partially imidized polyamic acid having a polyimide equivalent solid content of 22.02% and a viscosity of 315 mPa · s was obtained in the reaction vessel. The imidation ratio was 75%.

実施例6
ジアミン成分のAPB−Nを98.15ミリモルから96.4ミリモル(28.22g)に変え、且つ溶剤としてγ−ブチロラクトンに代えてDMAcを使用すること以外は、実施例1を繰り返すことにより、ポリイミド換算固型分20.45%、粘度175mPa・sの淡黄色のポリアミック酸溶液を得た。設計の平均重合度nは27であり、従って、分子中の9,9−ジフェニルフルオレン残基量は44.6質量%である。次に、実施例4と同様にして部分イミド化反応を行った。その際、170℃にて1時間加熱した。留出物は約12mlであった。そして、反応容器内に、ポリイミド換算固型分21.08%、粘度415mPa・sの部分イミド化ポリアミック酸を得た。そのイミド化率は60%であった。
Example 6
By repeating Example 1 except that APB-N of the diamine component was changed from 98.15 mmol to 96.4 mmol (28.22 g) and DMAc was used as a solvent instead of γ-butyrolactone, polyimide was obtained. A pale yellow polyamic acid solution having a converted solid content of 20.45% and a viscosity of 175 mPa · s was obtained. The average degree of polymerization n of the design is 27. Therefore, the amount of 9,9-diphenylfluorene residue in the molecule is 44.6% by mass. Next, a partial imidization reaction was performed in the same manner as in Example 4. In that case, it heated at 170 degreeC for 1 hour. The distillate was about 12 ml. A partially imidized polyamic acid having a solid content of 21.08% in terms of polyimide and a viscosity of 415 mPa · s was obtained in the reaction vessel. The imidation ratio was 60%.

<透光性(LP)評価>
実施例1〜3のポリアミック酸又は実施例4〜6の部分イミド化されたポリアミック酸を、γ−ブチロラクトンで粘度200mPa・sとなるように希釈した後、ポアサイズ0.2μmのポリテトラフルオロエチレンメンブレンフィルターでろ過した。得られたろ液を、窒素ガスで満たされたスピンコーター(MS−A100、ミカサ(株))を用いて、厚さ1.0mmの平坦な石英板上に塗布(3000rpm、120秒)した。ポリアミック酸溶液が塗布された石英板を、ホットプレート上に置き、150℃で3分乾燥し、引き続き220℃で3分、300℃で3分のイミド化を行い、膜厚1μmのポリイミド膜を石英板上に得た。
<Evaluation of translucency (LP)>
After diluting the polyamic acid of Examples 1 to 3 or the partially imidized polyamic acid of Examples 4 to 6 with γ-butyrolactone so as to have a viscosity of 200 mPa · s, a polytetrafluoroethylene membrane having a pore size of 0.2 μm Filtered with a filter. The obtained filtrate was applied onto a flat quartz plate having a thickness of 1.0 mm (3000 rpm, 120 seconds) using a spin coater (MS-A100, Mikasa Co., Ltd.) filled with nitrogen gas. A quartz plate coated with a polyamic acid solution is placed on a hot plate, dried at 150 ° C. for 3 minutes, subsequently imidized at 220 ° C. for 3 minutes and at 300 ° C. for 3 minutes to form a polyimide film having a thickness of 1 μm. Obtained on a quartz plate.

次に、得られたポリイミド膜の400nmの波長の光に対する透光性を分光光度計(V−560、日本分光(株))で測定した。得られた初期透光性の結果を表1に示す。実用上、90%以上であることが望まれる。   Next, the translucency with respect to the light of the wavelength of 400 nm of the obtained polyimide film was measured with the spectrophotometer (V-560, JASCO Corporation). The obtained initial translucency results are shown in Table 1. Practically, it is desired to be 90% or more.

次に、透光性を測定したポリイミド膜が上になるように、石英板を窒素雰囲気中でホットプレートに載せ、400℃で1時間熱処理した。その後、再度、分光光度計でポリイミド膜の透光性を測定した。得られた熱処理後の透光性の結果を、初期透光性の結果と比較した。透光性の数値の差が小さい程、耐熱性が良好であることを示している。実用上、5%以内の差であることが望まれる。   Next, the quartz plate was placed on a hot plate in a nitrogen atmosphere and heat-treated at 400 ° C. for 1 hour so that the polyimide film whose translucency was measured was on top. Thereafter, the translucency of the polyimide film was again measured with a spectrophotometer. The obtained translucent result after heat treatment was compared with the initial translucent result. It shows that heat resistance is so favorable that the difference of the numerical value of translucency is small. In practice, the difference is preferably within 5%.

実施例1のポリアミック酸溶液から得たポリイミド膜は、300℃の熱処理後、400nmの波長の光に対し98.5%の高い透光性を有しており、しかも400℃で1時間の熱処理後も、400nmの波長の光に対し95.5%の高い透光性を有しており、差は3.0%に過ぎず、透光性に関する耐熱性は良好であった。他の実施例のポリアミック酸溶液から得たポリイミド膜についても同様に透光性と耐熱性を試験評価し、得られた結果を表1に示す。   The polyimide film obtained from the polyamic acid solution of Example 1 has a high translucency of 98.5% with respect to light having a wavelength of 400 nm after heat treatment at 300 ° C. and heat treatment at 400 ° C. for 1 hour. After that, it had high translucency of 95.5% with respect to light having a wavelength of 400 nm, the difference was only 3.0%, and the heat resistance related to translucency was good. The polyimide films obtained from the polyamic acid solutions of other examples were similarly tested and evaluated for translucency and heat resistance, and the results obtained are shown in Table 1.

<熱重量分析における重量減少率(WL)評価>
各実施例のポリアミック酸溶液約50mg程度をアルミパンに入れ、オーブン中で150℃で1時間乾燥し、熱重量分析用の試料とした。この試料が入ったアルミパンを、熱重量分析装置(TG/DTA6200、SII社(セイコーインスツルメンツ(株)))に投入し、10℃/分の昇温速度で加熱しながら重量変化を測定した。各試料とも、300℃までに十数%の重量減少が観察された。これは残留溶剤とイミド化によるイミド化水の蒸発によるものである。その後、500℃までは重量変化はなく、ほぼ一定であった。500℃に達してからは、その温度を維持しつつ20分後の重量を測定し、300℃到達時点での重量に対する重量減少率を求めた。重量減少率が小さい程、耐熱性が良好であることを意味する。実用上、5%以内であることが望まれる。
<Evaluation of weight loss (WL) in thermogravimetric analysis>
About 50 mg of the polyamic acid solution of each example was placed in an aluminum pan and dried in an oven at 150 ° C. for 1 hour to obtain a sample for thermogravimetric analysis. The aluminum pan containing this sample was put into a thermogravimetric analyzer (TG / DTA6200, SII (Seiko Instruments Inc.)), and the change in weight was measured while heating at a heating rate of 10 ° C./min. In each sample, a weight loss of more than 10% was observed by 300 ° C. This is due to evaporation of residual solvent and imidized water by imidization. Thereafter, there was no change in weight up to 500 ° C., and it was almost constant. After reaching 500 ° C., the weight after 20 minutes was measured while maintaining the temperature, and the weight reduction rate relative to the weight when reaching 300 ° C. was determined. A smaller weight reduction rate means better heat resistance. Practically, it is desired to be within 5%.

<接着性(AD)評価>
各実施例のポリアミック酸溶液を、それぞれの実施例で使用した有機溶剤で粘度200mPa・sとなるように希釈した後、ポアサイズ0.2μmのポリテトラフルオロエチレンメンブレンフィルターでろ過した。得られたろ液を、窒素ガスで満たされたスピンコーター(MS−A100、ミカサ(株))を用いて、厚さ0.7mmの平坦なシリコン基板及び表面が窒化シリコン処理されたシリコン基板の各々に塗布(3000rpm、120秒)した。ポリアミック酸溶液が塗布された各基板を、ホットプレート上に置き、150℃で3分乾燥し、引き続き220℃で3分、300℃で3分のイミド化を行い、膜厚1μmのポリイミド膜を各基板上に得た。
<Adhesiveness (AD) evaluation>
The polyamic acid solution of each example was diluted with the organic solvent used in each example so that the viscosity became 200 mPa · s, and then filtered through a polytetrafluoroethylene membrane filter having a pore size of 0.2 μm. Using the obtained filtrate, a spin coater (MS-A100, Mikasa Co., Ltd.) filled with nitrogen gas, each of a flat silicon substrate having a thickness of 0.7 mm and a silicon substrate having a surface treated with silicon nitride (3000 rpm, 120 seconds). Each substrate coated with the polyamic acid solution is placed on a hot plate, dried at 150 ° C. for 3 minutes, subsequently imidized at 220 ° C. for 3 minutes and at 300 ° C. for 3 minutes to form a polyimide film having a thickness of 1 μm. Obtained on each substrate.

得られたポリイミド膜と基板との接着性を基盤目試験で評価した。まず、カッターナイフを用いて、ポリイミド膜に升目状の切れ込みを入れ、1mm四方のマスを100個作成した。次に、粘着テープ(セロテープ(登録商標)No.405、ニチバン社製)を升目全体に貼り付けた後、瞬時に引き剥がした。100マスのうち基板側に残ったマスの数を数えた。基板側に残るマスの数が多いほど接着性が良好であることを意味する。実用上、100マスのうち実用上80マス以上、好ましくは95マス以上残ることが望まれる。   The adhesion between the obtained polyimide film and the substrate was evaluated by a base eye test. First, using a cutter knife, a grid-like cut was made in the polyimide film to make 100 1 mm square squares. Next, an adhesive tape (Cellotape (registered trademark) No. 405, manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was applied to the entire mesh, and then immediately peeled off. The number of cells remaining on the substrate side out of 100 cells was counted. The larger the number of cells remaining on the substrate side, the better the adhesion. Practically, it is desired that 80 squares or more, preferably 95 squares or more remain out of 100 squares.

<屈折率(RC)評価>
実施例1のポリアミック酸溶液を、γ−ブチロラクトンで粘度180mPa・sとなるように希釈した後、ポアサイズ0.2μmのポリテトラフルオロエチレンメンブレンフィルターでろ過した。得られたろ液を、窒素ガスで満たされたスピンコーター(MS−A100、ミカサ(株))を用いて、厚さ0.7mmの平坦なシリコン基板に塗布(3000rpm、120秒)した。ポリアミック酸溶液が塗布された基板を、ホットプレート上に置き、150℃で3分乾燥し、引き続き220℃で3分、300℃で3分のイミド化を行い、膜厚0.73μmのポリイミド膜を基板上に得た。
<Evaluation of refractive index (RC)>
The polyamic acid solution of Example 1 was diluted with γ-butyrolactone so as to have a viscosity of 180 mPa · s, and then filtered through a polytetrafluoroethylene membrane filter having a pore size of 0.2 μm. The obtained filtrate was applied to a flat silicon substrate having a thickness of 0.7 mm (3000 rpm, 120 seconds) using a spin coater (MS-A100, Mikasa Co., Ltd.) filled with nitrogen gas. The substrate coated with the polyamic acid solution is placed on a hot plate, dried at 150 ° C. for 3 minutes, subsequently imidized at 220 ° C. for 3 minutes and at 300 ° C. for 3 minutes, and a 0.73 μm-thick polyimide film Was obtained on a substrate.

得られたポリイミド膜に対し、屈折率測定装置(モデル2010プリズムカプラ、メトリコン社製)を用いて、屈折率の測定を行った。測定光としては、波長が各々405nm、633nm、830nmのレーザー光を用いた。   The refractive index of the obtained polyimide film was measured using a refractive index measuring device (model 2010 prism coupler, manufactured by Metricon). As measurement light, laser beams having wavelengths of 405 nm, 633 nm, and 830 nm were used.

このポリイミド膜に関し、各波長において得られた屈折率は、1.758、1.678、1.662であった。これより波長と屈折率との関係式を求め、この関係式から、波長550nmでの屈折率を算出した結果、1.695であった。実施例2〜6のポリアミック酸溶液から得たポリイミド膜についても同様に波長550nmでの屈折率を算出したところ、実施例1で得たポリイミド膜の測定結果と略同等であった。なお、実用上、波長550nmでの屈折率が、1.57以上、好ましくは1.67以上であることが望まれる。   Regarding this polyimide film, the refractive indexes obtained at the respective wavelengths were 1.758, 1.678 and 1.661. From this, a relational expression between the wavelength and the refractive index was obtained, and the refractive index at a wavelength of 550 nm was calculated from the relational expression, and as a result, it was 1.695. For the polyimide films obtained from the polyamic acid solutions of Examples 2 to 6, the refractive index at a wavelength of 550 nm was calculated in the same manner, and the results were almost the same as the measurement results of the polyimide film obtained in Example 1. In practice, it is desirable that the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.57 or more, preferably 1.67 or more.

<ガラス転移温度(Tg)評価>
ガラス転移温度はTMA(熱メカニカル分析)及びDSC(示差走査熱量測定)によって測定した。併せて線膨張係数(LEC)も測定した。TMA用の試料としては、各実施例のポリアミック酸溶液を、バーコーターを用いて、銅箔に塗布後、150℃で乾燥後、300℃で1時間の熱処理を行い、銅箔を塩化鉄溶液でエッチアウトして得られた約25μm厚みのポリイミドフィルムを取得し、このフィルムを4mm×30mmのサイズにカットしたものを使用した。
<Evaluation of glass transition temperature (Tg)>
The glass transition temperature was measured by TMA (thermomechanical analysis) and DSC (differential scanning calorimetry). In addition, the linear expansion coefficient (LEC) was also measured. As a sample for TMA, the polyamic acid solution of each example was applied to a copper foil using a bar coater, dried at 150 ° C., and then heat-treated at 300 ° C. for 1 hour. A polyimide film having a thickness of about 25 μm obtained by etching out was obtained, and this film was cut into a size of 4 mm × 30 mm.

実施例1のポリアミック酸溶液から得たポリイミドフィルムのガラス転移温度は254℃であった。また、線膨張係数は53ppmであった。また、DSCによるガラス移転温度は256℃であった。実施例2〜6のポリアミック酸溶液から得たポリイミドフィルムについても同様にガラス転移温度と線膨張係数とを測定したところ、それらのガラス転移温度及び線膨張係数は、実施例1で得たポリイミドフィルムの測定結果と略同等であった。実用上、ガラス転移温度は、使用雰囲気温度が200℃に達することがあるため、200℃以上であることが望まれる。また、線膨張係数は、光学装置における位置ずれを最小限におさえるために、100ppm以下であることが望まれる。













The glass transition temperature of the polyimide film obtained from the polyamic acid solution of Example 1 was 254 ° C. The linear expansion coefficient was 53 ppm. Moreover, the glass transition temperature by DSC was 256 degreeC. When the glass transition temperature and the linear expansion coefficient were measured in the same manner for the polyimide films obtained from the polyamic acid solutions of Examples 2 to 6, the glass transition temperature and the linear expansion coefficient were the polyimide films obtained in Example 1. The measurement results were almost the same. Practically, the glass transition temperature is desired to be 200 ° C. or higher because the use atmosphere temperature may reach 200 ° C. Also, the linear expansion coefficient is desirably 100 ppm or less in order to minimize the positional deviation in the optical device.













Figure 0005321193
Figure 0005321193

表1からわかるように、実施例1〜6のポリアミック酸溶液は、ポリアミック酸が、特定の9,9−ジフェニルフルオレン残基と非フルオレン残基とから構成されており、しかも9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%以上含有し、平均重合度nが5〜100の範囲内であるので、透光性、耐熱性、接着性、屈折性に優れていた。   As can be seen from Table 1, in the polyamic acid solutions of Examples 1 to 6, the polyamic acid is composed of specific 9,9-diphenylfluorene residues and non-fluorene residues, and 9,9-diphenyl. Since it contained 40% by mass or more of fluorene residues and the average degree of polymerization n was in the range of 5 to 100, it was excellent in translucency, heat resistance, adhesiveness and refraction.

実施例7(フィルター処理およびイオン交換処理の効果)
実施例1で得たポリアミック酸溶液を、加圧タンクから圧送し、ポアサイズ0.05μmのフィルター(プロテゴDCR、インテグリス社製)を用いてろ過した。得られたろ液200grを、500mlのフッ素系プラスチック(PFA)ボトルに投入し、更に、イオン交換樹脂(MSPS2−1DRY、オレガノ社製)20grと溶剤のγ−ブチロラクトン(ELグレード)20grとを投入し、PFAボトル中の混合物をジャーミルを用いて12時間回転撹拌した。その後、混合物を、再度、ポアサイズ0.05μmのフィルター(プロテゴDCR、インテグリス社製)を用いてろ過した。これにより、ポリイミド換算固型分18.0%で粘度200mPa・sの精製ポリアミック酸溶液を得た。この溶液の交雑金属イオンの濃度をICP分析により測定した。フィルター処理およびイオン交換処理の双方の処理を行う前と行った後のポリアミック酸溶液のIPC分析結果を表2に示す。

















Example 7 (Effects of filter treatment and ion exchange treatment)
The polyamic acid solution obtained in Example 1 was pumped from a pressurized tank and filtered using a filter (Protego DCR, manufactured by Entegris) having a pore size of 0.05 μm. 200 g of the obtained filtrate was put into a 500 ml fluorine plastic (PFA) bottle, and further 20 g of ion exchange resin (MSPS2-1DRY, manufactured by Oregano) and 20 g of solvent γ-butyrolactone (EL grade) were put. The mixture in the PFA bottle was stirred with a jar mill for 12 hours. Thereafter, the mixture was filtered again using a filter having a pore size of 0.05 μm (Protego DCR, manufactured by Entegris). As a result, a purified polyamic acid solution having a solid content of 18.0% in terms of polyimide and a viscosity of 200 mPa · s was obtained. The concentration of hybrid metal ions in this solution was measured by ICP analysis. Table 2 shows the IPC analysis results of the polyamic acid solution before and after performing both the filter treatment and the ion exchange treatment.

















Figure 0005321193
Figure 0005321193

表2からわかるように、ポリアミック酸溶液にフィルター処理とイオン交換処理とを施すことにより、ポリアミック酸溶液から約0.05μmを超える大きさの不溶解性不純物を除去し、しかもポリアミック酸溶液中の溶解性金属イオン不純物濃度を大きく低減させることができる。このように精製されたポリアミック酸溶液は、スピンコートに適したものであり、また、不純物の金属イオンの存在を嫌う半導体装置への適用に適したものとなる。   As can be seen from Table 2, the polyamic acid solution is filtered and ion-exchanged to remove insoluble impurities having a size exceeding about 0.05 μm from the polyamic acid solution, and in the polyamic acid solution. The concentration of soluble metal ion impurities can be greatly reduced. The purified polyamic acid solution is suitable for spin coating and is suitable for application to a semiconductor device that dislikes the presence of impurity metal ions.

実施例8(穴埋め塗布)
実施例7で調製した精製ポリアミック酸溶液を、スピンコーター(3000rpm、120秒)を用いて、直径0.5μmで深さ2μmの徳利型のバイアホール(但し、バイアホールの開口部の直径は0.25μm)が設けられたシリコン基板表面に、乾燥厚で μmとなるように塗布し、ホットプレート上で、150℃で3分乾燥してポリアミック酸膜を形成し、続いて220℃で3分、更に300℃で3分熱処理してイミド化させ、ポリイミド膜を得た。得られたシリコン基板を、バイアホールの断面が観察できるように切断し、断面を光学顕微鏡で観察したところ、バイアホールにポリイミドが隙間なく充填されていたことが確認できた。
Example 8 (hole filling application)
Using the spin-coater (3000 rpm, 120 seconds), the purified polyamic acid solution prepared in Example 7 was a bottle-shaped via hole having a diameter of 0.5 μm and a depth of 2 μm (however, the diameter of the opening of the via hole was 0). .25 μm) is applied to the silicon substrate surface so as to have a dry thickness of μm, and dried on a hot plate at 150 ° C. for 3 minutes to form a polyamic acid film, followed by 220 ° C. for 3 minutes. Further, it was heat treated at 300 ° C. for 3 minutes to imidize to obtain a polyimide film. The obtained silicon substrate was cut so that the cross section of the via hole could be observed, and the cross section was observed with an optical microscope. As a result, it was confirmed that the via hole was filled with polyimide without a gap.

本発明のポリアミック酸溶液は、透光性、特に400nm付近の波長の光の透過性が高く、また、無機微粒子を使用しなくても比較的高い屈折率を示し、接着性並びに耐熱性にも優れている光学用芳香族ポリイミドを提供できる。この光学用芳香族ポリイミドは、導波路層、接着層、絶縁層または反射防止膜として有用である。   The polyamic acid solution of the present invention has high translucency, in particular, high transmissivity of light having a wavelength of around 400 nm, exhibits a relatively high refractive index without using inorganic fine particles, and has good adhesion and heat resistance. An excellent aromatic polyimide for optical use can be provided. This aromatic polyimide for optics is useful as a waveguide layer, an adhesive layer, an insulating layer or an antireflection film.

Claims (9)

光学装置用基材と、ポリアミック酸溶液を、該光学装置用基材に塗布し乾燥し更にイミド化して得られた、1.67以上の屈折率及び90%以上の光透過率を示す芳香族ポリイミド膜とを有する光学装置であって、
該ポリアミック酸溶液が、式(1a)、式(1a′)、式(1b)または式(1c)で表される少なくとも一つの9,9−ジフェニルフルオレン残基と、式(2a)、式(2b)または式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させたポリアミック酸溶液であって、該ポリアミック酸が9,9−ジフェニルフルオレン残基を40質量%以上含有し、5〜100の平均重合度を有するポリアミック酸溶液であることを特徴とする光学装置
Figure 0005321193
An aromatic substrate having a refractive index of 1.67 or more and a light transmittance of 90% or more obtained by applying a substrate for an optical device and a polyamic acid solution to the substrate for an optical device, drying and further imidizing. An optical device having a polyimide film,
The polyamic acid solution comprises at least one 9,9-diphenylfluorene residue represented by the formula (1a), the formula (1a ′), the formula (1b) or the formula (1c), the formula (2a), the formula ( A polyamic acid solution in which a polyamic acid having at least one non-fluorene residue selected from a diphenyl ether residue, a diphenyl thioether residue, and a diphenyl sulfone residue represented by 2b) or formula (2c) is dissolved in an organic solvent The optical device is a polyamic acid solution containing 40% by mass or more of 9,9-diphenylfluorene residue and having an average degree of polymerization of 5 to 100.
Figure 0005321193
ポリアミック酸が、酸二無水物成分由来の式(1a)または式(1a′)で表される少なくとも一つの9,9−ジフェニルフルオレン残基と、ジアミン成分由来の式(2c)で表されるジフェニルエーテル残基、ジフェニルチオエーテル残基およびジフェニルスルフォン残基から選択される少なくとも一つの非フルオレン残基とを有するポリアミック酸である請求項1記載の光学装置 The polyamic acid is represented by the formula (2c) derived from at least one 9,9-diphenylfluorene residue represented by the formula (1a) or (1a ′) derived from the acid dianhydride component and the diamine component. The optical device according to claim 1, which is a polyamic acid having at least one non-fluorene residue selected from diphenyl ether residues, diphenyl thioether residues and diphenyl sulfone residues. ポリアミック酸の分子末端が、酸無水物またはその加水分解物である請求項1または2記載の光学装置The optical device according to claim 1 or 2, wherein the molecular terminal of the polyamic acid is an acid anhydride or a hydrolyzate thereof. 該ポリアミック酸溶液を構成する有機溶剤が、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、トリグライムおよびN,N−ジメチルアセトアミドからなる群より選択される少なくなくとも一種であり、有機溶剤のポリアミック酸溶液中の含有量が、70〜95質量%である請求項1〜3のいずれかに記載の光学装置 The organic solvent constituting the polyamic acid solution is at least one selected from the group consisting of γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, triglyme and N, N-dimethylacetamide, and the polyamic acid of the organic solvent Content in a solution is 70-95 mass%, The optical apparatus in any one of Claims 1-3. 該ポリアミック酸溶液が、固型分を30質量%以下、粘度を10〜500mPa・sに調整された請求項1〜4のいずれかに記載の光学装置The optical device according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyamic acid solution is adjusted to have a solid content of 30% by mass or less and a viscosity of 10 to 500 mPa · s. 該ポリアミック酸溶液が、フィルター処理とイオン交換処理とが施された請求項1〜5のいずれかに記載の光学装置The optical device according to claim 1 , wherein the polyamic acid solution is subjected to a filter treatment and an ion exchange treatment. 該芳香族ポリイミド膜が、1.67以上の屈折率及び90%以上の光透過率を示す請求項1〜6のいずれかに記載の光学装置 The optical apparatus according to claim 1 , wherein the aromatic polyimide film exhibits a refractive index of 1.67 or more and a light transmittance of 90% or more. 光学装置用基材が、固体撮像素子用の半導体基板である請求項1〜8のいずれかに記載の光学装置。 The optical apparatus substrate, an optical device according to claim 1 is a semiconductor substrate for a solid-state imaging device. 芳香族ポリイミド膜が、導波路層、接着層、絶縁層または反射防止膜である請求項1〜8のいずれかに記載の光学装置。 The aromatic polyimide film, the waveguide layer, the adhesive layer, optical device according to claim 1 which is an insulating layer or antireflective film.
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