KR20210047858A - Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는 폴리이미드수지로서, 구성단위A가, 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1), 및 식(a-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하고, 구성단위B가, 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위(B-1)를 포함하는, 폴리이미드수지에 관한 것으로, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션인 필름의 형성이 가능한 폴리이미드수지, 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름을 제공한다.

Figure pct00019

(식 중, X1~X4는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~5의 알킬렌기, 탄소수 2~5의 알킬리덴기, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -CO-를 나타낸다.)The present invention is a polyimide resin having a structural unit A derived from a tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from a diamine, wherein the structural unit A is a structural unit derived from a compound represented by formula (a-1) (A-1) and at least one constitutional unit selected from the group consisting of constitutional units (A-2) derived from compounds represented by formula (a-2), and constitutional unit B is represented by the general formula ( Containing at least one structural unit (B-1) selected from the group consisting of a structural unit derived from a compound represented by b1-1), and a structural unit derived from a compound represented by general formula (b2-1) , It relates to a polyimide resin, and provides a polyimide resin, a polyimide varnish, and a polyimide film capable of forming a film having excellent colorless transparency and further low retardation.
Figure pct00019

(In the formula, X 1 to X 4 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O- Or -CO-.)

Description

폴리이미드수지, 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름Polyimide resin, polyimide varnish and polyimide film

본 발명은 폴리이미드수지, 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide resin, a polyimide varnish, and a polyimide film.

폴리이미드수지는, 전기·전자부품 등의 분야에 있어서 다양한 이용이 검토되고 있다. 예를 들어, 액정디스플레이나 OLED디스플레이 등의 화상표시장치에 이용되는 유리기판을, 디바이스의 경량화나 플렉서블화를 목적으로 하여, 플라스틱기판으로 대체하는 것이 요망되고 있으며, 해당 플라스틱기판으로서 적합한 폴리이미드필름의 연구가 진행되고 있다. 이러한 용도의 폴리이미드필름에는 무색투명성이 요구된다.Polyimide resins have been studied for various uses in fields such as electric and electronic parts. For example, it is desired to replace glass substrates used in image display devices such as liquid crystal displays and OLED displays with plastic substrates for the purpose of reducing device weight or flexibility, and polyimide films suitable as corresponding plastic substrates. Research is ongoing. The polyimide film for this purpose is required to have colorless transparency.

나아가, 폴리이미드필름의 요구특성으로서 복굴절에 의한 위상차가 작고, 리타데이션이 낮은 것이 요구된다.Further, as required characteristics of the polyimide film, it is required that the retardation due to birefringence is small and retardation is low.

특허문헌 1에는, 복굴절이 저감된 필름을 부여하는 폴리이미드수지로서, 디아민의 아미노기 중 적어도 일방이 주쇄에 대해 메타위치(位)에 결합하고 있는 디아민(예를 들어, 메타페닐렌디아민)을 이용하여 얻어지는 폴리이미드수지가 개시되어 있다.In Patent Document 1, as a polyimide resin providing a film with reduced birefringence, a diamine (for example, metaphenylenediamine) in which at least one of the amino groups of the diamine is bonded to the meta position with respect to the main chain is used. The resulting polyimide resin is disclosed.

특허문헌 2에는, 내열성, 투과율, 저선팽창계수 및 저리타데이션이 우수한 필름을 부여하는 폴리이미드수지로서, 특정구조의 테트라카르본산잔기 및 디아민잔기와, 굴곡부위를 갖는 테트라카르본잔기 및/또는 디아민잔기를 포함하는 폴리이미드수지가 개시되며, 구체적으로, 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산이무수물, 3,3’,4,4’-비시클로헥산테트라카르본산이무수물, 피로멜리트산무수물, 2,2’-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 및 4,4’-디아미노디페닐설폰을 이용하여 얻어지는 폴리이미드수지가 개시되어 있다.In Patent Document 2, as a polyimide resin that imparts a film excellent in heat resistance, transmittance, low linear expansion coefficient and low retardation, a tetracarboxylic acid residue and a diamine residue having a specific structure, a tetracarboxylic acid residue having a bent portion, and/or A polyimide resin containing a diamine residue is disclosed, and specifically, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 3,3',4,4'-bicyclohexanetetracarboxylic acid are Polyimide resins obtained using anhydride, pyromellitic anhydride, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, and 4,4'-diaminodiphenylsulfone are disclosed.

일본특허공개 H8-134211호 공보Japanese Patent Laid-Open No. H8-134211 국제공개 제2015/125895호International Publication No. 2015/125895

상기 서술한 바와 같이, 폴리이미드필름에는 다양한 특성이 요구되는데, 그들 특성을 동시에 만족시키는 것은 용이하지 않다.As described above, although various properties are required for the polyimide film, it is not easy to satisfy these properties at the same time.

본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것으로, 본 발명의 과제는, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션인 필름의 형성이 가능한 폴리이미드수지, 그리고 이 폴리이미드수지를 포함하는 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of such a situation, and the subject of the present invention is a polyimide resin capable of forming a film having excellent colorless transparency and further low retardation, and a polyimide varnish and polyimide resin including the polyimide resin. It is in providing mid-film.

본 발명자들은, 특정의 구성단위의 조합을 포함하는 폴리이미드수지가 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 발명을 완성시키기에 이르렀다.The inventors of the present invention have found that a polyimide resin containing a combination of a specific structural unit can solve the above problem, and have come to complete the invention.

즉, 본 발명은, 하기의 [1]~[9]에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [9].

[1][One]

테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는 폴리이미드수지로서,A polyimide resin having a structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from diamine,

구성단위A가, 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1), 및 하기 식(a-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하고,Structural unit A is a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1), and a structural unit (A-2) derived from a compound represented by the following formula (a-2). It contains at least one constituent unit selected from the group consisting of,

구성단위B가, 하기 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위(B-1)를 포함하는, 폴리이미드수지.Structural unit B is at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b1-1), and a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b2-1) Polyimide resin containing a structural unit (B-1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, X1~X4는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~5의 알킬렌기, 탄소수 2~5의 알킬리덴기, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -CO-를 나타낸다.)(In the formula, X 1 to X 4 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O- Or -CO-.)

[2][2]

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율이 5~100몰%인, 상기 [1]에 기재된 폴리이미드수지.The polyimide resin according to the above [1], wherein the proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is 5 to 100 mol%.

[3][3]

구성단위A가 구성단위(A-1)를 포함하고, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율이 45~100몰%인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 폴리이미드수지.The polyimide according to [1] or [2], wherein the structural unit A contains the structural unit (A-1), and the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is 45 to 100 mol%. Suzy.

[4][4]

구성단위(B-1)가, 하기 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 하기 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는, 상기 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드수지.The structural unit (B-1) is a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-1), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-2), and the following formula: The polyimide resin according to any one of [1] to [3], comprising at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from the compound represented by (b1-1-3).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

[5][5]

구성단위B가, 추가로 하기 식(b-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2), 하기 식(b-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-3), 및 하기 식(b-4)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는, 상기 [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드수지.Constituent unit B is a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2) (B-2), and a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-3) (B-3) , And at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit (B-4) derived from a compound represented by the following formula (b-4). The described polyimide resin.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[6][6]

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2), 구성단위(B-3), 및 구성단위(B-4)의 합계가 차지하는 비율이 5~95몰%인, 상기 [5]에 기재된 폴리이미드수지.The polyie according to [5], wherein the proportion of the total of the structural unit (B-2), the structural unit (B-3), and the structural unit (B-4) in the structural unit B is 5 to 95 mol%. Suzy Mid.

[7][7]

구성단위A가, 추가로 하기 식(a-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-3)를 포함하는, 상기 [1]~[6] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드수지.The polyimide resin according to any one of the above [1] to [6], wherein the structural unit A further contains a structural unit (A-3) derived from a compound represented by the following formula (a-3).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

[8][8]

상기 [1]~[7] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 폴리이미드바니시.A polyimide varnish obtained by dissolving the polyimide resin according to any one of the above [1] to [7] in an organic solvent.

[9][9]

상기 [1]~[7] 중 어느 하나에 기재된 폴리이미드수지를 포함하는, 폴리이미드필름.A polyimide film containing the polyimide resin according to any one of the above [1] to [7].

본 발명에 따르면, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션인 필름의 형성이 가능한 폴리이미드수지, 그리고 이 폴리이미드수지를 포함하는 폴리이미드바니시 및 폴리이미드필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, a polyimide resin capable of forming a film having excellent colorless transparency and further low retardation, and a polyimide varnish and a polyimide film including the polyimide resin can be provided.

[폴리이미드수지][Polyimide resin]

본 발명의 폴리이미드수지는, 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 가지며, 구성단위A가, 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1), 및 하기 식(a-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하고,The polyimide resin of the present invention has a structural unit A derived from a tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from a diamine, and the structural unit A is derived from a compound represented by the following formula (a-1). And at least one structural unit selected from the group consisting of a unit (A-1) and a structural unit (A-2) derived from a compound represented by the following formula (a-2),

구성단위B가, 하기 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위(B-1)를 포함한다.Structural unit B is at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b1-1), and a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b2-1) It includes a structural unit (B-1).

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 중, X1~X4는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~5의 알킬렌기, 탄소수 2~5의 알킬리덴기, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -CO-를 나타낸다.)(In the formula, X 1 to X 4 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O- Or -CO-.)

<구성단위A><Constituent Unit A>

구성단위A는, 폴리이미드수지에 차지하는 테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위로서, 구성단위A는, 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1), 및 하기 식(a-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함한다.Structural unit A is a structural unit derived from a tetracarboxylic dianhydride occupied in the polyimide resin, and the structural unit A is a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1), and It contains at least one structural unit selected from the group consisting of structural units (A-2) derived from compounds represented by the following formula (a-2).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식(a-1)로 표시되는 화합물은, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산이무수물이다.The compound represented by formula (a-1) is 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride.

구성단위A가 구성단위(A-1)를 포함함으로써, 필름의 무색투명성, 내열성, 및 열안정성이 향상된다.When the structural unit A contains the structural unit (A-1), the colorless transparency, heat resistance, and thermal stability of the film are improved.

식(a-2)로 표시되는 화합물은, 4,4’-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산무수물이다.The compound represented by formula (a-2) is 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride.

구성단위A가 구성단위(A-2)를 포함함으로써, 필름의 투명성이 향상되고, 폴리이미드의 유기용제에 대한 용해성이 향상된다.When the structural unit A contains the structural unit (A-2), the transparency of the film is improved, and the solubility of the polyimide in the organic solvent is improved.

구성단위A는, 구성단위(A-1), 및 구성단위(A-2)의 양방을 포함하고 있을 수도 있는데, 바람직하게는 구성단위(A-1), 또는 구성단위(A-2) 중 어느 일방을 포함하고, 보다 바람직하게는 구성단위(A-1)를 포함한다.Constituent unit A may include both a constituent unit (A-1) and a constituent unit (A-2), preferably among the constituent units (A-1) or (A-2) Either one is included, and more preferably the structural unit (A-1) is included.

구성단위A가 구성단위(A-1) 및 구성단위(A-2)를 포함하는 경우, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1) 및 (A-2)의 합계의 비율은, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 70몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 구성단위(A-1) 및 (A-2)의 합계의 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다.When the constituent unit A includes the constituent unit (A-1) and the constituent unit (A-2), the ratio of the sum of the constituent units (A-1) and (A-2) in the constituent unit A is preferably Preferably it is 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the ratio of the total of the structural units (A-1) and (A-2) is not particularly limited, that is, 100 mol%.

구성단위A가 구성단위(A-1)를 포함하는 경우, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율은, 바람직하게는 45몰% 이상, 보다 바람직하게는 70몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 그 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다. 마찬가지로, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율은, 바람직하게는 45~100몰%, 보다 바람직하게는 70~100몰%, 더욱 바람직하게는 90~100몰%, 특히 바람직하게는 99~100몰%이다.When the structural unit A contains the structural unit (A-1), the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is preferably 45 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, It is more preferably 90 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the ratio is not particularly limited, that is, 100 mol%. Similarly, the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is preferably 45 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, still more preferably 90 to 100 mol%, particularly preferably It is 99 to 100 mol%.

구성단위A가 구성단위(A-2)를 포함하는 경우, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-2)의 비율은, 바람직하게는 45몰% 이상, 보다 바람직하게는 70몰% 이상, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이다. 그 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다. 마찬가지로, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-2)의 비율은, 바람직하게는 45~100몰%, 보다 바람직하게는 70~100몰%, 더욱 바람직하게는 90~100몰%, 특히 바람직하게는 99~100몰%이다.When the structural unit A contains the structural unit (A-2), the proportion of the structural unit (A-2) in the structural unit A is preferably 45 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, It is more preferably 90 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more. The upper limit of the ratio is not particularly limited, that is, 100 mol%. Similarly, the proportion of the structural unit (A-2) in the structural unit A is preferably 45 to 100 mol%, more preferably 70 to 100 mol%, further preferably 90 to 100 mol%, particularly preferably It is 99 to 100 mol%.

구성단위A는, 추가로 하기 식(a-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-3)를 포함하고 있을 수도 있다.The structural unit A may further contain a structural unit (A-3) derived from a compound represented by the following formula (a-3).

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식(a-3)으로 표시되는 화합물은, 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2’’-노보난-5,5’’,6,6’’-테트라카르본산이무수물이다. 구성단위A가 구성단위(A-3)를 포함함으로써, 필름의 무색투명성이 향상된다.The compound represented by formula (a-3) is nobonan-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-novonane-5,5'',6,6''-tetra It is a carboxylic acid dianhydride. When the structural unit A contains the structural unit (A-3), the colorless transparency of the film is improved.

구성단위A가 구성단위(A-3)를 포함하는 경우, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-13)의 비율은, 바람직하게는 55몰% 이하, 보다 바람직하게는 30몰% 이하이다.When the constituent unit A contains the constituent unit (A-3), the proportion of the constituent unit (A-13) in the constituent unit A is preferably 55 mol% or less, more preferably 30 mol% or less. .

구성단위A가 구성단위(A-3)를 포함하는 경우, 구성단위A는, 바람직하게는 구성단위(A-1) 및 구성단위(A-3)를 포함하고, 보다 바람직하게는 구성단위(A-1) 및 구성단위(A-3)로 이루어진다. When the structural unit A includes the structural unit (A-3), the structural unit A preferably includes the structural unit (A-1) and the structural unit (A-3), and more preferably, the structural unit ( It consists of A-1) and a structural unit (A-3).

구성단위A는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 구성단위(A-1)~(A-3) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 테트라카르본산이무수물로는, 특별히 한정되지 않으나, 피로멜리트산이무수물, 3,3’,4,4’-디페닐설폰테트라카르본산이무수물, 3,3’,4,4’-벤조페논테트라카르본산이무수물, 2,2’,3,3’-벤조페논테트라카르본산이무수물, 4,4’-옥시디프탈산무수물, 3,3’,4,4’-비페닐테트라카르본산이무수물, 2,3,3’,4’-비페닐테트라카르본산이무수물, 2,2’,3,3’-비페닐테트라카르본산이무수물 등의 방향족 테트라카르본산이무수물; 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산이무수물, 1,2,4,5-시클로펜탄테트라카르본산이무수물, 비시클로[2.2.2]옥타-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산이무수물, 및 디시클로헥실테트라카르본산이무수물 등의 지환식 테트라카르본산이무수물; 그리고 1,2,3,4-부탄테트라카르본산이무수물 등의 지방족 테트라카르본산이무수물을 들 수 있다.Structural unit A may contain structural units other than structural units (A-1) to (A-3) within a range that does not impair the effects of the present invention. The tetracarboxylic acid dianhydride giving such a structural unit is not particularly limited, but pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4 ,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,3',4,4'- Aromatic tetracarboxylic acids such as biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, etc. anhydride; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]octa-7-ene-2,3,5 Alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as ,6-tetracarboxylic dianhydride and dicyclohexyltetracarboxylic dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, such as 1,2,3,4-butane tetracarboxylic dianhydride, are mentioned.

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 테트라카르본산이무수물이란 방향환을 1개 이상 포함하는 테트라카르본산이무수물을 의미하고, 지환식 테트라카르본산이무수물이란 지환을 1개 이상 포함하고, 또한 방향환을 포함하지 않는 테트라카르본산이무수물을 의미하고, 지방족 테트라카르본산이무수물이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 테트라카르본산이무수물을 의미한다.On the other hand, in the present specification, the aromatic tetracarboxylic dianhydride refers to a tetracarboxylic dianhydride containing at least one aromatic ring, and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride includes at least one alicyclic ring, and the aromatic ring It means a tetracarboxylic acid dianhydride which does not contain, and the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride means a tetracarboxylic acid dianhydride which does not contain neither an aromatic ring nor an alicyclic ring.

구성단위A에 임의로 포함되는 구성단위(A-1)~(A-3) 이외의 구성단위는, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.Constituent units other than the constituent units (A-1) to (A-3) optionally included in the constituent unit A may be one type or two or more types.

구성단위A는, 상기 구성단위(A-1)~(A-3) 이외의 구성단위를 포함하지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the structural unit A does not contain structural units other than the structural units (A-1) to (A-3).

<구성단위B><Constituent Unit B>

구성단위B는, 폴리이미드수지에 차지하는 디아민에서 유래하는 구성단위로서, 하기 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위(B-1)를 포함한다.Structural unit B is a structural unit derived from a diamine occupied in the polyimide resin, and a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b1-1), and a compound represented by the following general formula (b2-1) It contains at least one structural unit (B-1) selected from the group consisting of derived structural units.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식(b1-1) 및 (b2-1) 중, X1~X4는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~5의 알킬렌기, 탄소수 2~5의 알킬리덴기, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -CO-를 나타낸다.In formulas (b1-1) and (b2-1), X 1 to X 4 are each independently a single bond, a C 1 to C 5 alkylene group, a C 2 to C 5 alkylidene group, -S-, -SO -, -SO 2 -, -O-, or -CO-.

구성단위B가 구성단위(B-1)를 포함함으로써, 필름의 무색투명성이 향상되고, 리타데이션값이 저하된다. 구성단위(B-1)는, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.When the structural unit B contains the structural unit (B-1), the colorless transparency of the film is improved, and the retardation value is lowered. The structural unit (B-1) may be one type or two or more types.

일반식(b1-1)로 표시되는 화합물은, X1 및 X2를 개재하여 3개의 벤젠환이 연결되고, 중앙의 벤젠환의 1,3위치에 X1 및 X2가 결합한 골격을 가지며, 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물은, X3 및 X4를 개재하여 3개의 벤젠환이 연결되고, 중앙의 벤젠환의 1,2위치에 X3 및 X4가 결합한 골격을 갖고 있다. 폴리이미드수지에 있어서의 구성단위B 중에 이러한 골격구조를 가짐으로써, 저리타데이션이 우수한 필름을 형성하는 것이 가능해진다.The compound represented by the general formula (b1-1) is, X 1, and is connected to three benzene ring via the X 2, X 1 and X 2 have the skeleton is bonded to the benzene ring of the 1,3 position in the center, formula the compound represented by (b2-1) is, X 3 and X 4 is connected to ring 3 via the benzene, and has a backbone combines the X 3 and X 4 on the benzene ring and second position of the center. By having such a skeletal structure in the structural unit B in the polyimide resin, it becomes possible to form a film excellent in low retardation.

일반식(b1-1) 및 (b2-1)에 있어서의 X1~X4는, 저리타데이션이 우수한 필름을 형성하는 관점으로부터, 각각 독립적으로, 바람직하게는 탄소수 3~5의 알킬리덴기, -SO2-, 또는 -O-를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소수 3~5의 알킬리덴기, 또는 -O-를 나타내고, 더욱 바람직하게는 이소프로필리덴기, 또는 -O-를 나타내고, 보다 더욱 바람직하게는 이소프로필리덴기를 나타낸다. X 1 to X 4 in the general formulas (b1-1) and (b2-1) are each independently, preferably an alkylidene group having 3 to 5 carbon atoms from the viewpoint of forming a film excellent in low retardation , -SO 2 -, or -O-, more preferably an alkylidene group having 3 to 5 carbon atoms, or -O-, more preferably an isopropylidene group or -O-, and more More preferably, it represents an isopropylidene group.

일반식(b1-1)에 있어서의 X1 및 X2는, 각각 상이한 기를 갖고 있을 수도 있는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. 마찬가지로, 식(b2-1)에 있어서의 X3 및 X4는, 각각 상이한 기를 갖고 있을 수도 있는데, 동일한 기인 것이 바람직하다. Although X 1 and X 2 in General Formula (b1-1) may each have different groups, it is preferable that they are the same group. Similarly, although X 3 and X 4 in formula (b2-1) may each have different groups, it is preferable that they are the same group.

일반식(b1-1) 및 (b2-1)에 있어서의 아미노기는, 각각의 아미노기가 결합하는 벤젠환과 결합하는 X1~X4 중 어느 하나에 대해, 이 벤젠환의 파라위치 또는 메타위치에 결합하는 것이 바람직하다.The amino group in the general formulas (b1-1) and (b2-1) is bonded to the para-position or meta-position of the benzene ring with respect to any one of X 1 to X 4 bonded to the benzene ring to which each amino group is bonded It is desirable to do it.

구성단위(B-1)는, 상기 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위를 포함하는 것이 바람직하고, 하기 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 하기 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다.The structural unit (B-1) preferably includes a structural unit derived from a compound represented by the general formula (b1-1), and a constitution derived from a compound represented by the following formula (b1-1-1) At least one constitution selected from the group consisting of a unit, a constituent unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-2), and a constituent unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-3) It is more preferable to include a unit.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식(b1-1-1)로 표시되는 화합물은, 1,3-비스[2-(4-아미노페닐)-2-프로필]벤젠이고,The compound represented by formula (b1-1-1) is 1,3-bis[2-(4-aminophenyl)-2-propyl]benzene,

식(b1-1-2)로 표시되는 화합물은, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠이고,The compound represented by formula (b1-1-2) is 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene,

식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물은, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠이다.The compound represented by formula (b1-1-3) is 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene.

식(b1-1-1)~식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물 중에서는, 바람직하게는 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물, 및 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물이고, 보다 바람직하게는 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물이다.Among the compounds represented by formulas (b1-1-1) to (b1-1-3), preferably, compounds represented by formula (b1-1-1), and formula (b1-1-2) It is at least one compound selected from the group consisting of the compounds represented, and more preferably is a compound represented by formula (b1-1-1).

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율은, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 15몰% 이상, 더욱 바람직하게는 45몰% 이상, 특히 바람직하게는 75몰% 이상이다. 구성단위(B-1)의 비율의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다. 구성단위B는 구성단위(B-1)만으로 이루어져 있을 수도 있다.The proportion of the constituent unit (B-1) in the constituent unit B is preferably 5 mol% or more, more preferably 15 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, particularly preferably 75 mol%. That's it. The upper limit of the proportion of the structural unit (B-1) is not particularly limited, that is, 100 mol%. Constituent unit B may consist of only constituent units (B-1).

구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율은, 바람직하게는 5~100몰%, 보다 바람직하게는 15~100몰%, 더욱 바람직하게는 45~100몰%, 특히 바람직하게는 75~100몰%이다.The proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is preferably 5 to 100 mol%, more preferably 15 to 100 mol%, still more preferably 45 to 100 mol%, particularly preferably It is 75-100 mol%.

구성단위(B-1)가 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위를 포함하는 경우, 구성단위(B-1) 중에 있어서의 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위의 비율은, 바람직하게는 50~100몰%, 보다 바람직하게는 75~100몰%, 더욱 바람직하게는 90~100몰%, 특히 바람직하게는 95~100몰%이다.When the structural unit (B-1) contains a structural unit derived from the compound represented by the formula (b1-1-1), it is represented by the formula (b1-1-1) in the structural unit (B-1). The proportion of the constituent units derived from the compound is preferably 50 to 100 mol%, more preferably 75 to 100 mol%, still more preferably 90 to 100 mol%, and particularly preferably 95 to 100 mol%. .

구성단위B는 구성단위(B-1) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위로는, 특별히 한정되지 않으나, 하기 식(b-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2), 하기 식(b-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-3), 및 하기 식(b-4)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는 것이 바람직하다.Constituent unit B may include constituent units other than the constituent unit (B-1). The structural unit is not particularly limited, but a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-2) (B-2), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b-3) ( It is preferable to include at least one structural unit selected from the group consisting of B-3) and a structural unit (B-4) derived from a compound represented by the following formula (b-4).

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식(b-2)로 표시되는 화합물은, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판이고,The compound represented by formula (b-2) is 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane,

식(b-3)으로 표시되는 화합물은, 4,4’-디아미노디페닐에테르이고,The compound represented by formula (b-3) is 4,4'-diaminodiphenyl ether,

식(b-4)로 표시되는 화합물은, 1,4-비스[2-(4-아미노페닐)-2-프로필]벤젠이다.The compound represented by formula (b-4) is 1,4-bis[2-(4-aminophenyl)-2-propyl]benzene.

구성단위B가 구성단위(B-2)~(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는 경우, 구성단위(B-2)~(B-4) 중 2종 이상을 포함하고 있을 수도 있는데, 구성단위(B-2)~(B-4) 중 1종의 구성단위를 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 구성단위B가 구성단위(B-2), 구성단위(B-3), 또는 구성단위(B-4)를 포함하는 것이 바람직하다.When the constituent unit B contains at least one constituent unit selected from the group consisting of constituent units (B-2) to (B-4), at least two of the constituent units (B-2) to (B-4) Although it may contain, it is preferable to include one of the structural units (B-2) to (B-4). That is, it is preferable that the structural unit B includes a structural unit (B-2), a structural unit (B-3), or a structural unit (B-4).

구성단위B가 구성단위(B-2)~(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는 경우, 구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2)~(B-4)의 합계가 차지하는 비율은, 바람직하게는 5~95몰%, 보다 바람직하게는 7~85몰%, 더욱 바람직하게는 10~55몰%, 특히 바람직하게는 12~25몰%이다.When structural unit B contains at least one structural unit selected from the group consisting of structural units (B-2) to (B-4), structural units (B-2) to (B-) in structural unit B The proportion occupied by the total of 4) is preferably 5 to 95 mol%, more preferably 7 to 85 mol%, still more preferably 10 to 55 mol%, and particularly preferably 12 to 25 mol%.

구성단위B는 구성단위(B-1)~(B-4) 이외의 구성단위를 포함할 수도 있다. 그러한 구성단위를 부여하는 디아민으로는, 특별히 한정되지 않으나, 1,4-페닐렌디아민, p-자일릴렌디아민, 3,5-디아미노안식향산, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2’-디메틸비페닐-4,4’-디아민, 2,2’-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4’-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4’-디아미노디페닐설폰, 4,4’-디아미노벤즈아닐리드, 3,4’-디아미노디페닐에테르, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민, N,N’-비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, 4,4’-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 2,2-비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판 및 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠 등의 방향족 디아민; 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 및 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산 등의 지환식 디아민; 그리고 에틸렌디아민 및 헥사메틸렌디아민 등의 지방족 디아민을 들 수 있다.The structural unit B may include structural units other than the structural units (B-1) to (B-4). The diamine giving such a structural unit is not particularly limited, but 1,4-phenylenediamine, p-xylylenediamine, 3,5-diaminobenzoic acid, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2'- Dimethylbiphenyl-4,4'-diamine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoro Propane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,4'-diaminodiphenylether, 1-(4-aminophenyl)-2,3-dihydro- 1,3,3-trimethyl-1H-inden-5-amine, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 2,2 -Bis(4-(4-aminophenoxy)phenyl)hexafluoropropane, 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane and 9,9-bis(4-aminophenyl) ) Aromatic diamines such as fluorene and 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene; Alicyclic diamines such as 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane and 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane; And aliphatic diamines, such as ethylenediamine and hexamethylenediamine, are mentioned.

한편, 본 명세서에 있어서, 방향족 디아민이란 방향환을 1개 이상 포함하는 디아민을 의미하고, 지환식 디아민이란 지환을 1개 이상 포함하며, 또한 방향환을 포함하지 않는 디아민을 의미하고, 지방족 디아민이란 방향환도 지환도 포함하지 않는 디아민을 의미한다.Meanwhile, in the present specification, the aromatic diamine means a diamine containing one or more aromatic rings, the alicyclic diamine means a diamine containing one or more alicyclic rings and does not contain an aromatic ring, and aliphatic diamine means It means a diamine which does not contain neither an aromatic ring nor an alicyclic ring.

구성단위B에 임의로 포함되는 구성단위(B-1)~(B-4) 이외의 구성단위는, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.Constituent units other than the constituent units (B-1) to (B-4) optionally included in the constituent unit B may be one type or two or more types.

구성단위B는, 상기 구성단위(B-1)~(B-4) 이외의 구성단위를 포함하지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the structural unit B does not contain structural units other than the structural units (B-1) to (B-4).

본 발명의 폴리이미드수지의 수평균분자량은, 얻어지는 폴리이미드필름의 기계적 강도의 관점으로부터, 바람직하게는 5,000~100,000이다. 한편, 폴리이미드수지의 수평균분자량은, 예를 들어, 겔여과크로마토그래피측정에 의한 표준폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)환산값으로부터 구할 수 있다.The number average molecular weight of the polyimide resin of the present invention is preferably 5,000 to 100,000 from the viewpoint of the mechanical strength of the obtained polyimide film. On the other hand, the number average molecular weight of the polyimide resin can be obtained, for example, from a value in terms of standard polymethyl methacrylate (PMMA) measured by gel filtration chromatography.

본 발명의 폴리이미드수지는, 폴리이미드쇄(구성단위A와 구성단위B가 이미드결합하여 이루어지는 구조) 이외의 구조를 포함할 수도 있다. 폴리이미드수지 중에 포함될 수 있는 폴리이미드쇄 이외의 구조로는, 예를 들어 아미드결합을 포함하는 구조 등을 들 수 있다.The polyimide resin of the present invention may contain a structure other than a polyimide chain (a structure formed by imide bonding of the structural unit A and the structural unit B). Examples of structures other than the polyimide chain that may be contained in the polyimide resin include structures including an amide bond.

본 발명의 폴리이미드수지는, 폴리이미드쇄(구성단위A와 구성단위B가 이미드결합하여 이루어지는 구조)를 주된 구조로서 포함하는 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명의 폴리이미드수지 중에 차지하는 폴리이미드쇄의 비율은, 바람직하게는 50질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 70질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 90질량% 이상이고, 특히 바람직하게는 99질량% 이상이다.It is preferable that the polyimide resin of the present invention contains a polyimide chain (a structure formed by imide bonding of the structural unit A and the structural unit B) as a main structure. Therefore, the proportion of the polyimide chain in the polyimide resin of the present invention is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more, particularly preferably It is 99% by mass or more.

본 발명의 폴리이미드수지를 이용함으로써, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션인 필름을 형성할 수 있으며, 해당 필름이 갖는 호적한 물성값은 이하와 같다.By using the polyimide resin of the present invention, a film having excellent colorless transparency and further low retardation can be formed, and suitable physical property values of the film are as follows.

전광선투과율은, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 85% 이상이고, 보다 바람직하게는 87% 이상이고, 더욱 바람직하게는 88% 이상, 보다 더욱 바람직하게는 89% 이상이다.The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 87% or more, still more preferably 88% or more, even more preferably 89% or more, when a film having a thickness of 30 μm is used.

헤이즈는, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 2.0% 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5% 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.0% 이하이다.When the haze is a film having a thickness of 30 μm, it is preferably 2.0% or less, more preferably 1.5% or less, and still more preferably 1.0% or less.

옐로우인덱스(YI)는, 두께 30μm의 필름으로 했을 때에, 바람직하게는 4.0 이하이고, 보다 바람직하게는 3.5 이하이고, 더욱 바람직하게는 3.0 이하, 보다 더욱 바람직하게는 2.0 이하이다.When the yellow index (YI) is a film having a thickness of 30 μm, it is preferably 4.0 or less, more preferably 3.5 or less, still more preferably 3.0 or less, and even more preferably 2.0 or less.

본 발명에서는, 두께위상차(Rth)가 바람직하게는 90nm 이하, 보다 바람직하게는 70nm 이하, 더욱 바람직하게는 50nm 이하, 보다 더욱 바람직하게는 30nm 이하인 폴리이미드필름으로 할 수 있다. 한편, 본 명세서에 있어서, 「저리타데이션」이란, 두께위상차(Rth)가 낮은 것을 의미하고, 바람직하게는 두께위상차(Rth)가 상기 범위 내에 있는 것을 말한다.In the present invention, a polyimide film having a thickness phase difference (Rth) of preferably 90 nm or less, more preferably 70 nm or less, still more preferably 50 nm or less, and even more preferably 30 nm or less can be used. On the other hand, in the present specification, "low retardation" means that the thickness phase difference Rth is low, and preferably the thickness phase difference Rth is within the above range.

한편, 본 발명에 있어서의 상기 서술한 물성값은, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법으로 측정할 수 있다.On the other hand, the above-described physical property values in the present invention can be specifically measured by the method described in Examples.

본 발명의 폴리이미드수지를 이용함으로써 형성할 수 있는 필름은 내열성 및 기계적 특성도 양호하며, 이하와 같은 호적한 물성값을 갖는다.The film which can be formed by using the polyimide resin of the present invention also has good heat resistance and mechanical properties, and has the following favorable physical property values.

유리전이온도(Tg)는, 바람직하게는 200℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 230℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 250℃ 이상이다.The glass transition temperature (Tg) is preferably 200°C or higher, more preferably 230°C or higher, and still more preferably 250°C or higher.

인장탄성률은, 바람직하게는 2.5GPa 이상이고, 보다 바람직하게는 3.0GPa 이상이고, 더욱 바람직하게는 3.5GPa 이상이다.The tensile modulus is preferably 2.5 GPa or more, more preferably 3.0 GPa or more, and still more preferably 3.5 GPa or more.

인장강도는, 바람직하게는 70MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 90MPa 이상이고, 더욱 바람직하게는 100MPa 이상이다.The tensile strength is preferably 70 MPa or more, more preferably 90 MPa or more, and even more preferably 100 MPa or more.

인장탄성률 및 인장강도는, JIS K7127:1999에 준거하여 측정되는 값이다.Tensile modulus and tensile strength are values measured according to JIS K7127:1999.

[폴리이미드수지의 제조방법][Method of manufacturing polyimide resin]

본 발명의 폴리이미드수지는, 상기 서술한 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 상기 서술한 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하는 테트라카르본산성분과, 상기 서술한 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물을 포함하는 디아민성분을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.The polyimide resin of the present invention is a tetra containing at least one selected from the group consisting of a compound that imparts the structural unit (A-1) described above and a compound that imparts the structural unit (A-2) described above. It can be produced by reacting a carboxylic acid component with a diamine component containing a compound that imparts the structural unit (B-1) described above.

구성단위(A-1)를 부여하는 화합물로는, 식(a-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a-1)로 표시되는 테트라카르본산이무수물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물로는, 식(a-1)로 표시되는 화합물(즉, 이무수물)이 바람직하다.Examples of the compound to impart the structural unit (A-1) include, but are not limited to, the compound represented by the formula (a-1), and may be a derivative thereof within the range to which the same structural unit is imparted. Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the tetracarboxylic acid dianhydride represented by formula (a-1) and the alkyl ester of the tetracarboxylic acid. As the compound giving the structural unit (A-1), a compound represented by formula (a-1) (that is, a dianhydride) is preferable.

마찬가지로, 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물로는, 식(a-2)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a-2)로 표시되는 테트라카르본산이무수물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물로는, 식(a-2)로 표시되는 화합물(즉, 이무수물)이 바람직하다.Similarly, examples of the compound that imparts the structural unit (A-2) include, but are not limited to, the compound represented by the formula (a-2), and may be a derivative thereof within the range of imparting the same structural unit. . Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the tetracarboxylic dianhydride represented by formula (a-2) and the alkyl ester of the tetracarboxylic acid. As the compound giving the structural unit (A-2), a compound represented by formula (a-2) (that is, a dianhydride) is preferable.

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물을 합계로, 바람직하게는 50몰% 이상 포함하고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상 포함하고, 특히 바람직하게는 99몰% 이상 포함한다. 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물의 합계의 함유량의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다. 테트라카르본산성분은 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물과 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물만으로 이루어져 있을 수도 있다.The tetracarboxylic acid component, in total, preferably contains 50 mol% or more, and more preferably 70 mol%, in total, of the compound giving the constituent unit (A-1) and the compound giving the constituent unit (A-2). It contains more than, More preferably, it contains 90 mol% or more, Especially preferably, it contains 99 mol% or more. The upper limit of the total content of the compound giving the structural unit (A-1) and the compound giving the structural unit (A-2) is not particularly limited, that is, 100 mol%. The tetracarboxylic acid component may consist of only the compound which gives the structural unit (A-1) and the compound which gives the structural unit (A-2).

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물, 또는 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물을 포함하는 경우, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물, 또는 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 45몰% 이상 포함하고, 보다 바람직하게는 70몰% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 90몰% 이상 포함한다. 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물, 또는 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물의 함유량의 상한값은 한정되지 않고, 즉, 100몰%이다. 테트라카르본산성분은 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 또는 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물만으로 이루어져 있을 수도 있고, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물만으로 이루어지는 것이 바람직하다.When the tetracarboxylic acid component contains a compound that provides a structural unit (A-1) or a compound that provides a structural unit (A-2), a compound that provides the structural unit (A-1), or a structural unit The compound to which (A-2) is imparted is preferably contained in an amount of 45 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and still more preferably 90 mol% or more. The upper limit of the content of the compound giving the structural unit (A-1) or the compound giving the structural unit (A-2) is not limited, that is, 100 mol%. The tetracarboxylic acid component may consist of only the compound which gives the constituent unit (A-1) or the compound which gives the constituent unit (A-2), and is preferably made of only the compound which gives the constituent unit (A-1) .

테트라카르본산성분은, 저리타데이션의 물성을 손상시키지 않는 범위에서 상기 서술한 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물을 포함할 수도 있다.The tetracarboxylic acid component may contain a compound that imparts the above-described structural unit (A-3) within a range that does not impair the physical properties of low retardation.

구성단위(A-3)를 부여하는 화합물로는, 식(a-3)으로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(a-3)으로 표시되는 테트라카르본산이무수물에 대응하는 테트라카르본산 및 해당 테트라카르본산의 알킬에스테르를 들 수 있다. 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물로는, 식(a-3)으로 표시되는 화합물(즉, 이무수물)이 바람직하다.Examples of the compound to impart the structural unit (A-3) include, but are not limited to, the compound represented by the formula (a-3), and may be a derivative thereof within the range to which the same structural unit is imparted. Examples of the derivative include tetracarboxylic acid corresponding to the tetracarboxylic acid dianhydride represented by formula (a-3) and the alkyl ester of the tetracarboxylic acid. As the compound giving the structural unit (A-3), a compound represented by formula (a-3) (that is, a dianhydride) is preferable.

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물을 포함하는 경우, 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 55몰% 이하, 보다 바람직하게는 30몰% 이하 포함한다. 테트라카르본산성분은, 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물을 포함하는 경우, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물만으로 이루어지는 것이 바람직하다.When the tetracarboxylic acid component contains a compound that imparts the structural unit (A-3), the compound that imparts the structural unit (A-3) is preferably 55 mol% or less, more preferably 30 mol%. Included below. When the tetracarboxylic acid component contains the compound which gives the structural unit (A-3), it is preferable that it consists only of the compound which gives the structural unit (A-1) and the compound which gives the structural unit (A-3) .

테트라카르본산성분은, 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물, 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물, 및 구성단위(A-3)를 부여하는 화합물 이외의 화합물을 포함할 수도 있고, 해당 화합물로는, 상기 서술한 방향족 테트라카르본산이무수물, 지환식 테트라카르본산이무수물, 및 지방족 테트라카르본산이무수물, 그리고 그들의 유도체(테트라카르본산, 테트라카르본산의 알킬에스테르 등)를 들 수 있다.The tetracarboxylic acid component may contain compounds other than the compound which gives the structural unit (A-1), the compound which gives the structural unit (A-2), and the compound which gives the structural unit (A-3), , As the compound, the above-described aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and aliphatic tetracarboxylic dianhydride, and their derivatives (tetracarboxylic acid, alkyl ester of tetracarboxylic acid, etc.) are mentioned. I can.

테트라카르본산성분에 임의로 포함되는 구성단위(A-1)~(A-3)를 부여하는 화합물 이외의 화합물은, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.The number of compounds other than the compound which imparts structural units (A-1) to (A-3) optionally contained in the tetracarboxylic acid component may be one or two or more.

구성단위(B-1)를 부여하는 화합물로는, 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물, 및 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것으로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에 대응하는 디이소시아네이트, 및 일반식(b2-1)로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물로는, 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물, 및 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물(즉, 디아민)이 바람직하다.Examples of the compound giving the structural unit (B-1) include compounds represented by the general formula (b1-1) and compounds represented by the general formula (b2-1), but are not limited thereto, and the same It may be a derivative thereof within the range of giving a structural unit. Examples of the derivatives include diisocyanates corresponding to the compounds represented by general formula (b1-1) and diisocyanates corresponding to diamines represented by general formula (b2-1). As the compound giving the structural unit (B-1), at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the general formula (b1-1) and a compound represented by the general formula (b2-1) (i.e. , Diamine) is preferred.

구성단위(B-1)를 부여하는 화합물로는, 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물, 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물, 및 식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물, 및 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물을 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물을 포함하는 것이 특히 바람직하다.As the compound giving the structural unit (B-1), it is preferable to include the compound represented by the general formula (b1-1), and the compound represented by the formula (b1-1-1) or the formula (b1-1) It is more preferable to contain at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by -2) and a compound represented by formula (b1-1-3), and represented by formula (b1-1-1) It is more preferable to include at least one compound selected from the group consisting of a compound and a compound represented by formula (b1-1-2), and particularly, to include a compound represented by formula (b1-1-1) desirable.

디아민성분은, 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물을, 바람직하게는 5몰% 이상 포함하고, 보다 바람직하게는 15몰% 이상 포함하고, 더욱 바람직하게는 45몰% 이상 포함하고, 특히 바람직하게는 75몰% 이상 포함한다. 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물의 함유량의 상한값은 특별히 한정되지 않으며, 즉, 100몰%이다. 디아민성분은 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물만으로 이루어져 있을 수도 있다.The diamine component contains a compound that imparts the constituent unit (B-1), preferably 5 mol% or more, more preferably 15 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, particularly Preferably it contains 75 mol% or more. The upper limit of the content of the compound that imparts the structural unit (B-1) is not particularly limited, that is, it is 100 mol%. The diamine component may consist of only a compound which imparts a structural unit (B-1).

구성단위(B-1)를 부여하는 화합물이 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물을 포함하는 경우, 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물 중에 있어서의 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물의 비율은, 바람직하게는 50~100몰%, 보다 바람직하게는 75~100몰%, 더욱 바람직하게는 90~100몰%, 특히 바람직하게는 95~100몰%이다.When the compound giving the structural unit (B-1) contains the compound represented by formula (b1-1-1), the formula (b1-1-1) in the compound giving the structural unit (B-1) The proportion of the compound represented by) is preferably 50 to 100 mol%, more preferably 75 to 100 mol%, still more preferably 90 to 100 mol%, and particularly preferably 95 to 100 mol%.

디아민성분은, 무색투명성, 저리타데이션의 물성을 손상시키지 않는 범위에서 상기 서술한 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물, 상기 서술한 구성단위(B-3)를 부여하는 화합물, 및 상기 서술한 구성단위(B-4)를 부여하는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물을 포함할 수도 있다.The diamine component is a compound that imparts the above-described structural unit (B-2), a compound that imparts the above-described structural unit (B-3) within a range that does not impair colorless transparency and low retardation physical properties, and the above At least one compound selected from the group consisting of compounds that impart the structural unit (B-4) described above may also be included.

구성단위(B-2)~(B-4)를 부여하는 화합물로는, 각각 식(b-2)~(b-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있는데, 그것들로 한정되지 않고, 동일한 구성단위를 부여하는 범위에서 그의 유도체일 수도 있다. 해당 유도체로는, 식(b-2)~(b-4)로 표시되는 디아민에 대응하는 디이소시아네이트를 들 수 있다. 구성단위(B-2)~(B-4)를 부여하는 화합물로는, 각각 식(b-2)~(b-4)로 표시되는 화합물(즉, 디아민)이 바람직하다.Examples of the compounds that impart the structural units (B-2) to (B-4) include compounds represented by formulas (b-2) to (b-4), respectively, but are not limited thereto, and have the same constitution. It may be a derivative thereof within the range to which a unit is given. Examples of the derivatives include diisocyanates corresponding to diamines represented by formulas (b-2) to (b-4). As the compound which imparts structural units (B-2) to (B-4), compounds (that is, diamine) represented by formulas (b-2) to (b-4), respectively, are preferable.

디아민성분은, 구성단위(B-2)~(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 부여하는 화합물을 포함하는 경우, 구성단위(B-2)~(B-4) 중 2종 이상의 구성단위를 부여하는 화합물을 포함하고 있을 수도 있는데, 구성단위(B-2)~(B-4) 중 1종의 구성단위를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 구성단위B가 구성단위(B-2)를 부여하는 화합물, 구성단위(B-3)를 부여하는 화합물, 또는 구성단위(B-4)를 부여하는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.When the diamine component contains a compound that imparts at least one structural unit selected from the group consisting of structural units (B-2) to (B-4), structural units (B-2) to (B-4) Although it may contain a compound which gives two or more kinds of structural units, it is preferable to include a compound that gives one kind of structural unit among the structural units (B-2) to (B-4). That is, it is preferable that the structural unit B contains the compound which gives the structural unit (B-2), the compound which gives the structural unit (B-3), or the compound which gives the structural unit (B-4).

디아민성분은, 구성단위(B-2)~(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 부여하는 화합물을 포함하는 경우, 해당 화합물을, 바람직하게는 5~95몰%, 보다 바람직하게는 7~85몰%, 더욱 바람직하게는 10~55몰%, 특히 바람직하게는 12~25몰% 포함한다.When the diamine component contains a compound that imparts at least one structural unit selected from the group consisting of structural units (B-2) to (B-4), the compound is preferably 5 to 95 mol%, It contains more preferably 7 to 85 mol%, still more preferably 10 to 55 mol%, particularly preferably 12 to 25 mol%.

디아민성분은 구성단위(B-1)~(B-4)를 부여하는 화합물 이외의 화합물을 포함할 수도 있고, 해당 화합물로는, 상기 서술한 방향족 디아민, 지환식 디아민, 및 지방족 디아민, 그리고 그들의 유도체(디이소시아네이트 등)를 들 수 있다.The diamine component may contain compounds other than the compound which imparts structural units (B-1) to (B-4), and as the compound, the above-described aromatic diamine, alicyclic diamine, and aliphatic diamine, and these Derivatives (diisocyanate, etc.) are mentioned.

디아민성분에 임의로 포함되는 구성단위(B-1)~(B-4)를 부여하는 화합물 이외의 화합물은, 1종일 수도 있고, 2종 이상일 수도 있다.The number of compounds other than the compound which imparts structural units (B-1) to (B-4) optionally contained in the diamine component may be one or two or more.

본 발명에 있어서, 폴리이미드수지의 제조에 이용하는 테트라카르본산성분과 디아민성분의 투입량비는, 테트라카르본산성분 1몰에 대해 디아민성분이 0.9~1.1몰인 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the amount ratio of the tetracarboxylic acid component and the diamine component used in the production of the polyimide resin is 0.9 to 1.1 moles of the diamine component with respect to 1 mole of the tetracarboxylic acid component.

또한, 본 발명에 있어서, 폴리이미드수지의 제조에는, 상기 서술한 테트라카르본산성분 및 디아민성분 외에, 말단봉지제를 이용할 수도 있다. 말단봉지제로는 모노아민류 혹은 디카르본산류가 바람직하다. 도입되는 말단봉지제의 투입량으로는, 테트라카르본산성분 1몰에 대해 0.0001~0.1몰이 바람직하고, 특히 0.001~0.06몰이 바람직하다. 모노아민류 말단봉지제로는, 예를 들어, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 벤질아민, 4-메틸벤질아민, 4-에틸벤질아민, 4-도데실벤질아민, 3-메틸벤질아민, 3-에틸벤질아민, 아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린 등이 추장된다. 이들 중, 벤질아민, 아닐린을 호적하게 사용할 수 있다. 디카르본산류 말단봉지제로는, 디카르본산류가 바람직하고, 그 일부를 폐환하고 있을 수도 있다. 예를 들어, 프탈산, 무수프탈산, 4-클로로프탈산, 테트라플루오로프탈산, 2,3-벤조페논디카르본산, 3,4-벤조페논디카르본산, 시클로펜탄-1,2-디카르본산, 4-시클로헥센-1,2-디카르본산 등이 추장된다. 이들 중, 프탈산, 무수프탈산을 호적하게 사용할 수 있다.In addition, in the present invention, in the production of the polyimide resin, in addition to the above-described tetracarboxylic acid component and diamine component, an end-sealing agent can also be used. As the terminal sealing agent, monoamines or dicarboxylic acids are preferable. The amount of the terminal sealing agent to be introduced is preferably 0.0001 to 0.1 mol, and particularly preferably 0.001 to 0.06 mol with respect to 1 mol of the tetracarboxylic acid component. Examples of monoamine end caps include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, benzylamine, 4-methylbenzylamine, 4-ethylbenzylamine, 4-dodecylbenzylamine, and 3-methylbenzylamine , 3-ethylbenzylamine, aniline, 3-methylaniline, and 4-methylaniline are recommended. Among these, benzylamine and aniline can be used suitably. As the dicarboxylic acid terminal sealing agent, dicarboxylic acids are preferable, and a part thereof may be cyclized. For example, phthalic acid, phthalic anhydride, 4-chlorophthalic acid, tetrafluorophthalic acid, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid, cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid, 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid and the like are recommended. Among these, phthalic acid and phthalic anhydride can be suitably used.

상기 서술한 테트라카르본산성분과 디아민성분을 반응시키는 방법에는 특별히 제한은 없으며, 공지의 방법을 이용할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular in the method of making the said tetracarboxylic acid component and the diamine component react, A well-known method can be used.

구체적인 반응방법으로는, (1)테트라카르본산성분, 디아민성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 실온~80℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법, (2)디아민성분 및 반응용제를 반응기에 투입하여 용해시킨 후, 테트라카르본산성분을 투입하고, 필요에 따라 실온~80℃에서 0.5~30시간 교반하고, 그 후에 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법, (3)테트라카르본산성분, 디아민성분, 및 반응용제를 반응기에 투입하고, 즉시 승온하여 이미드화반응을 행하는 방법 등을 들 수 있다.As a specific reaction method, (1) a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent are introduced into a reactor, stirred at room temperature to 80°C for 0.5 to 30 hours, and then heated to perform an imidation reaction, ( 2) After dissolving the diamine component and the reaction solvent in the reactor, the tetracarboxylic acid component is added and, if necessary, stirred at room temperature to 80° C. for 0.5 to 30 hours, and then heated to perform an imidation reaction, (3) A method of introducing a tetracarboxylic acid component, a diamine component, and a reaction solvent into a reactor, and immediately raising the temperature to perform an imidation reaction, etc. are mentioned.

폴리이미드수지의 제조에 이용되는 반응용제는, 이미드화반응을 저해하지 않고, 생성되는 폴리이미드를 용해할 수 있는 것이면 된다. 예를 들어, 비프로톤성 용제, 페놀계 용제, 에테르계 용제, 카보네이트계 용제 등을 들 수 있다.The reaction solvent used in the production of the polyimide resin may be any one capable of dissolving the resulting polyimide without inhibiting the imidation reaction. For example, an aprotic solvent, a phenolic solvent, an ether solvent, a carbonate solvent, and the like can be mentioned.

비프로톤성 용제의 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 1,3-디메틸이미다졸리디논, 테트라메틸요소 등의 아미드계 용제, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용제, 헥사메틸포스폴릭아미드, 헥사메틸포스핀트리아미드 등의 함인계 아미드계 용제, 디메틸설폰, 디메틸설폭사이드, 설포란 등의 함황계 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 등의 케톤계 용제, 피콜린, 피리딘 등의 아민계 용제, 아세트산(2-메톡시-1-메틸에틸) 등의 에스테르계 용제 등을 들 수 있다.Specific examples of the aprotic solvent include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethylimidazoli Amide solvents such as dinon and tetramethylurea, lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, phosphorus-containing amide solvents such as hexamethylphospholicamide and hexamethylphosphinetriamide, dimethylsulfone , Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methylcyclohexanone, amine solvents such as picoline and pyridine, acetic acid (2-methoxy- And ester solvents such as 1-methylethyl).

페놀계 용제의 구체예로는, 페놀, o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸, 2,3-자일레놀, 2,4-자일레놀, 2,5-자일레놀, 2,6-자일레놀, 3,4-자일레놀, 3,5-자일레놀 등을 들 수 있다.As a specific example of a phenolic solvent, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6 -Xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, etc. are mentioned.

에테르계 용제의 구체예로는, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스〔2-(2-메톡시에톡시)에틸〕에테르, 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산 등을 들 수 있다.Specific examples of the ether solvent include 1,2-dimethoxyethane, bis(2-methoxyethyl)ether, 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane, and bis[2-(2-me) ether. Oxyethoxy)ethyl] ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane.

카보네이트계 용제의 구체적인 예로는, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the carbonate-based solvent include diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate, and propylene carbonate.

상기 반응용제 중에서도, 아미드계 용제 또는 락톤계 용제가 바람직하다. 상기의 반응용제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수도 있다.Among the above reaction solvents, amide-based solvents or lactone-based solvents are preferable. The above reaction solvents may be used alone or in combination of two or more.

이미드화반응에서는, 딘스타크장치 등을 이용하여, 제조시에 생성되는 물을 제거하면서 반응을 행하는 것이 바람직하다. 이러한 조작을 행함으로써, 중합도 및 이미드화율을 보다 상승시킬 수 있다.In the imidation reaction, it is preferable to perform the reaction while removing water generated during production using a Dean Stark apparatus or the like. By performing such an operation, the degree of polymerization and the imidation ratio can be further increased.

상기의 이미드화반응에 있어서는, 공지의 이미드화촉매를 이용할 수 있다. 이미드화촉매로는, 염기촉매 또는 산촉매를 들 수 있다.In the above imidation reaction, a known imidation catalyst can be used. Examples of the imidation catalyst include a base catalyst or an acid catalyst.

염기촉매로는, 피리딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, α-피콜린, β-피콜린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리에틸렌디아민, 이미다졸, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린 등의 유기염기촉매, 수산화칼륨이나 수산화나트륨, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산수소나트륨 등의 무기염기촉매를 들 수 있다.As a base catalyst, pyridine, quinoline, isoquinoline, α-picoline, β-picoline, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine , Triethylenediamine, imidazole, N,N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, and other organic base catalysts, and inorganic bases such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate and sodium hydrogen carbonate Catalysts.

또한, 산촉매로는, 크로톤산, 아크릴산, 트랜스-3-헥세노익산, 계피산, 안식향산, 메틸안식향산, 옥시안식향산, 테레프탈산, 벤젠설폰산, 파라톨루엔설폰산, 나프탈렌설폰산 등을 들 수 있다. 상기의 이미드화촉매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수도 있다.Further, examples of the acid catalyst include crotonic acid, acrylic acid, trans-3-hexenoic acid, cinnamic acid, benzoic acid, methylbenzoic acid, oxyanic acid, terephthalic acid, benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and the like. The imidation catalyst described above may be used alone or in combination of two or more.

상기 중, 취급성의 관점으로부터, 염기촉매를 이용하는 것이 바람직하고, 유기염기촉매를 이용하는 것이 보다 바람직하고, 트리에틸아민 및 트리에틸렌디아민으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더욱 바람직하고, 트리에틸아민을 이용하거나, 또는 트리에틸아민과 트리에틸렌디아민을 조합하여 이용하는 것이 특히 바람직하다.Among the above, from the viewpoint of handling properties, it is preferable to use a base catalyst, more preferably an organic base catalyst, still more preferably at least one selected from triethylamine and triethylenediamine, and triethylamine. It is particularly preferable to use or to use a combination of triethylamine and triethylenediamine.

이미드화반응의 온도는, 반응률 및 겔화 등의 억제의 관점으로부터, 바람직하게는 120~250℃, 보다 바람직하게는 160~200℃이다. 또한, 반응시간은, 생성수의 유출개시 후, 바람직하게는 0.5~10시간이다.The temperature of the imidation reaction is preferably 120 to 250°C, more preferably 160 to 200°C, from the viewpoint of the reaction rate and suppression of gelation and the like. In addition, the reaction time is preferably 0.5 to 10 hours after the start of outflow of the generated water.

[폴리이미드바니시][Polyimide varnish]

본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 것이다. 즉, 본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드수지 및 유기용매를 포함하고, 해당 폴리이미드수지는 해당 유기용매에 용해되어 있다.The polyimide varnish of the present invention is obtained by dissolving the polyimide resin of the present invention in an organic solvent. That is, the polyimide varnish of the present invention contains the polyimide resin and an organic solvent of the present invention, and the polyimide resin is dissolved in the organic solvent.

유기용매는 폴리이미드수지가 용해되는 것이면 되고, 특별히 한정되지 않으나, 폴리이미드수지의 제조에 이용되는 반응용제로서 상기 서술한 화합물을, 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 이용하는 것이 바람직하다.The organic solvent is not particularly limited as long as the polyimide resin is dissolved, but it is preferable to use the above-described compounds alone or in combination of two or more as the reaction solvent used in the production of the polyimide resin.

본 발명의 폴리이미드바니시는, 중합법에 의해 얻어지는 폴리이미드수지가 반응용제에 용해된 폴리이미드용액 그 자체일 수도 있고, 또는 해당 폴리이미드용액에 대해 다시 희석용제를 추가한 것일 수도 있다.The polyimide varnish of the present invention may be a polyimide solution itself in which a polyimide resin obtained by a polymerization method is dissolved in a reaction solvent, or a diluent solvent may be added to the polyimide solution again.

본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드수지가 비점 130℃ 이하의 저비점용매에 용해되어 이루어지는 것일 수도 있다. 유기용매로서 해당 저비점용매를 이용함으로써, 후술하는 폴리이미드필름을 제조할 때의 가열온도를 낮출 수 있다. 해당 저비점용매로는, 사염화탄소, 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 테트라하이드로푸란, 아세톤 등을 들 수 있고, 그 중에서도 디클로로메탄이 바람직하다.The polyimide varnish of the present invention may be obtained by dissolving the polyimide resin of the present invention in a low-boiling solvent having a boiling point of 130°C or lower. By using the low-boiling solvent as the organic solvent, the heating temperature when producing the polyimide film described later can be lowered. Examples of the low-boiling solvent include carbon tetrachloride, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, and acetone, among which dichloromethane is preferable.

본 발명의 폴리이미드수지는 용매용해성을 갖고 있으므로, 실온에서 안정된 고농도의 바니시로 할 수 있다. 본 발명의 폴리이미드바니시는, 본 발명의 폴리이미드수지를 5~40질량% 포함하는 것이 바람직하고, 10~30질량% 포함하는 것이 보다 바람직하다. 폴리이미드바니시의 점도는 1~200Pa·s가 바람직하고, 5~150Pa·s가 보다 바람직하다. 폴리이미드바니시의 점도는, E형 점도계를 이용하여 25℃에서 측정된 값이다.Since the polyimide resin of the present invention has solvent solubility, it can be obtained as a varnish of high concentration stable at room temperature. The polyimide varnish of the present invention preferably contains 5 to 40 mass% of the polyimide resin of the present invention, and more preferably contains 10 to 30 mass%. The viscosity of the polyimide varnish is preferably 1 to 200 Pa·s, and more preferably 5 to 150 Pa·s. The viscosity of the polyimide varnish is a value measured at 25°C using an E-type viscometer.

또한, 본 발명의 폴리이미드바니시는, 폴리이미드필름의 요구특성을 손상시키지 않는 범위에서, 무기필러, 접착촉진제, 박리제, 난연제, 자외선안정제, 계면활성제, 레벨링제, 소포제, 형광증백제, 가교제, 중합개시제, 감광제 등 각종 첨가제를 포함할 수도 있다.In addition, the polyimide varnish of the present invention is an inorganic filler, an adhesion promoter, a release agent, a flame retardant, an ultraviolet stabilizer, a surfactant, a leveling agent, an antifoaming agent, an optical brightener, a crosslinking agent, It may also contain various additives such as a polymerization initiator and a photosensitizer.

본 발명의 폴리이미드바니시의 제조방법은 특별히 한정되지 않으며, 공지의 방법을 적용할 수 있다.The method for producing the polyimide varnish of the present invention is not particularly limited, and a known method can be applied.

[폴리이미드필름][Polyimide Film]

본 발명의 폴리이미드필름은, 본 발명의 폴리이미드수지를 포함한다. 따라서, 본 발명의 폴리이미드필름은, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션이다. 본 발명의 폴리이미드필름이 갖는 호적한 물성값은 상기 서술한 바와 같다.The polyimide film of the present invention contains the polyimide resin of the present invention. Therefore, the polyimide film of the present invention is excellent in colorless transparency and further low retardation. The suitable physical property values of the polyimide film of the present invention are as described above.

본 발명의 폴리이미드필름의 제조방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 폴리이미드바니시를, 유리판, 금속판, 플라스틱 등의 평활한 지지체 상에 도포, 또는 필름상으로 성형한 후, 이 바니시 중에 포함되는 반응용제나 희석용제 등의 유기용매를 가열에 의해 제거하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 지지체의 표면에는, 필요에 따라, 미리 이형제를 도포해 둘 수도 있다.There is no restriction|limiting in particular in the manufacturing method of the polyimide film of this invention, A well-known method can be used. For example, after applying the polyimide varnish of the present invention onto a smooth support such as a glass plate, a metal plate, or plastic, or forming a film, an organic solvent such as a reaction solvent or a diluting solvent contained in the varnish is heated. A method of removing by If necessary, a release agent may be previously applied to the surface of the support.

바니시 중에 포함되는 유기용매를 가열에 의해 제거하는 방법으로는, 이하의 방법이 바람직하다. 즉, 120℃ 이하의 온도에서 유기용매를 증발시켜 자기지지성 필름으로 한 후, 이 자기지지성 필름을 지지체로부터 박리하고, 이 자기지지성 필름의 단부를 고정하고, 이용한 유기용매의 비점 이상의 온도에서 건조하여 폴리이미드필름을 제조하는 것이 바람직하다. 또한, 질소분위기하에서 건조하는 것이 바람직하다. 건조분위기의 압력은, 감압, 상압, 가압 중 어느 것이어도 된다. 자기지지성 필름을 건조하여 폴리이미드필름을 제조할 때의 가열온도는, 특별히 한정되지 않으나, 200~400℃가 바람직하다.As a method of removing the organic solvent contained in the varnish by heating, the following method is preferable. That is, after evaporating the organic solvent at a temperature of 120°C or lower to form a self-supporting film, the self-supporting film is peeled from the support, the end of the self-supporting film is fixed, and the temperature is above the boiling point of the used organic solvent. It is preferable to dry it in to prepare a polyimide film. In addition, it is preferable to dry it in a nitrogen atmosphere. The pressure in the dry atmosphere may be any of reduced pressure, normal pressure, and pressurization. The heating temperature when drying the self-supporting film to prepare a polyimide film is not particularly limited, but is preferably 200 to 400°C.

본 발명의 폴리이미드바니시에 포함되는 유기용매가 비점 130℃ 이하의 저비점용매인 경우에는, 자기지지성 필름의 가열온도는, 100~180℃가 바람직하다. 나아가, 저비점용매를 제거하여 얻어진 폴리이미드필름을 추가로 유리전이온도 이상의 온도에서 가열하는 어닐처리를 행하는 것이 바람직하다.When the organic solvent contained in the polyimide varnish of the present invention is a low boiling point solvent having a boiling point of 130°C or less, the heating temperature of the self-supporting film is preferably 100 to 180°C. Further, it is preferable to perform an annealing treatment in which the polyimide film obtained by removing the low boiling point solvent is further heated at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature.

또한, 본 발명의 폴리이미드필름은, 폴리아미드산이 유기용매에 용해되어 이루어지는 폴리아미드산바니시를 이용하여 제조할 수도 있다.Further, the polyimide film of the present invention can also be produced using a polyamic acid varnish obtained by dissolving a polyamic acid in an organic solvent.

상기 폴리아미드산바니시에 포함되는 폴리아미드산은, 본 발명의 폴리이미드수지의 전구체로서, 상기 서술한 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 상기 서술한 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하는 테트라카르본산성분과 상기 서술한 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물을 포함하는 디아민성분과의 중부가반응의 생성물이다. 이 폴리아미드산을 이미드화(탈수폐환)함으로써, 최종생성물인 본 발명의 폴리이미드수지가 얻어진다.The polyamic acid contained in the polyamic acid varnish is a precursor of the polyimide resin of the present invention, a compound that provides the structural unit (A-1) and the structural unit (A-2) described above. It is a product of a polyaddition reaction of a tetracarboxylic acid component containing at least one selected from the group consisting of compounds and a diamine component containing a compound that imparts the above-described structural unit (B-1). By imidizing this polyamic acid (dehydration ring closure), the final product, the polyimide resin of the present invention, is obtained.

상기 폴리아미드산바니시에 포함되는 유기용매로는, 본 발명의 폴리이미드바니시에 포함되는 유기용매를 이용할 수 있다.As the organic solvent contained in the polyamic acid varnish, an organic solvent contained in the polyimide varnish of the present invention may be used.

본 발명에 있어서, 폴리아미드산바니시는, 상기 서술한 구성단위(A-1)를 부여하는 화합물 및 상기 서술한 구성단위(A-2)를 부여하는 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하는 테트라카르본산성분과 상기 서술한 구성단위(B-1)를 부여하는 화합물을 포함하는 디아민성분을 반응용제 중에서 중부가반응시켜 얻어지는 폴리아미드산용액 그 자체일 수도 있고, 또는 해당 폴리아미드산용액에 대해 다시 희석용제를 추가한 것일 수도 있다.In the present invention, the polyamic acid varnish contains at least one selected from the group consisting of a compound that imparts the structural unit (A-1) described above and a compound that imparts the structural unit (A-2) described above. It may be a polyamic acid solution itself obtained by polyaddition reaction of a tetracarboxylic acid component and a diamine component containing a compound that imparts the above-described structural unit (B-1) in a reaction solvent, or the polyamic acid It may be that a diluent was added again to the solution.

폴리아미드산바니시를 이용하여 폴리이미드필름을 제조하는 방법에는 특별히 제한은 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들어, 폴리아미드산바니시를, 유리판, 금속판, 플라스틱 등의 평활한 지지체 상에 도포, 또는 필름상으로 성형하고, 이 바니시 중에 포함되는 반응용제나 희석용제 등의 유기용매를 가열에 의해 제거하여 폴리아미드산필름을 얻고, 이 폴리아미드산필름 중의 폴리아미드산을 가열에 의해 이미드화함으로써, 폴리이미드필름을 제조할 수 있다.There is no particular limitation on the method of producing a polyimide film using a polyamic acid varnish, and a known method can be used. For example, polyamic acid varnish is coated on a smooth support such as a glass plate, metal plate, or plastic, or formed into a film, and organic solvents such as reactive solvents or diluting solvents contained in the varnish are removed by heating. Thus, a polyamic acid film is obtained, and a polyimide film can be produced by imidizing the polyamic acid in the polyamic acid film by heating.

폴리아미드산바니시를 건조시켜 폴리아미드산필름을 얻을 때의 가열온도로는, 바람직하게는 50~120℃이다. 폴리아미드산을 가열에 의해 이미드화할 때의 가열온도로는 바람직하게는 200~400℃이다.The heating temperature when drying the polyamic acid varnish to obtain a polyamic acid film is preferably 50 to 120°C. When the polyamic acid is imidized by heating, the heating temperature is preferably 200 to 400°C.

한편, 이미드화의 방법은 열이미드화로 한정되지 않고, 화학이미드화를 적용할 수도 있다.On the other hand, the method of imidation is not limited to thermal imidization, and chemical imidization can also be applied.

본 발명의 폴리이미드필름의 두께는 용도 등에 따라 적당히 선택할 수 있는데, 바람직하게는 1~250μm, 보다 바람직하게는 5~100μm, 더욱 바람직하게는 10~80μm의 범위이다. 두께가 1~250μm임에 따라, 자립막으로서의 실용적인 사용이 가능해진다.The thickness of the polyimide film of the present invention can be appropriately selected depending on the application, etc., preferably in the range of 1 to 250 μm, more preferably 5 to 100 μm, and still more preferably 10 to 80 μm. As the thickness is 1 to 250 μm, practical use as a self-supporting film becomes possible.

폴리이미드필름의 두께는, 폴리이미드바니시의 고형분농도나 점도를 조정함으로써, 용이하게 제어할 수 있다.The thickness of the polyimide film can be easily controlled by adjusting the solid content concentration or viscosity of the polyimide varnish.

실시예Example

이하에, 실시예를 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이들 실시예로 제한되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples. However, the present invention is not limited to these examples at all.

실시예 및 비교예에서 얻은 바니시의 고형분농도 및 필름의 각 물성은 이하에 나타내는 방법에 의해 측정하였다.The solid content concentration of the varnish obtained in Examples and Comparative Examples and the physical properties of each film were measured by the methods shown below.

(1)고형분농도(1) Solid content concentration

바니시의 고형분농도의 측정은, 애즈원주식회사제의 소형전기로 「MMF-1」로 시료를 280℃×120min에서 가열하고, 가열 전후의 시료의 질량차로부터 산출하였다.The measurement of the solid content concentration of the varnish was performed by heating a sample at 280° C. x 120 min with a small electric furnace "MMF-1" manufactured by Asone Co., Ltd., and calculated from the difference in mass of the sample before and after heating.

(2)필름두께(2) Film thickness

필름두께는, 주식회사 미쯔토요제의 마이크로미터를 이용하여 측정하였다.The film thickness was measured using a micrometer manufactured by Mitsutoyo Co., Ltd.

(3)전광선투과율, 옐로우인덱스(YI), 헤이즈(3) Total light transmittance, yellow index (YI), haze

전광선투과율, YI 및 헤이즈는, 일본전색공업주식회사제의 색채·탁도 동시측정기 「COH400」을 이용하여 측정하였다. 전광선투과율 및 YI의 측정은 JIS K7361-1:1997에 준거하고, 헤이즈의 측정은 JIS K7136:2000에 준거하였다.The total light transmittance, YI, and haze were measured using a color and turbidity simultaneous measuring instrument "COH400" manufactured by Nippon Electric Co., Ltd. The measurement of the total light transmittance and YI was based on JIS K7361-1:1997, and the measurement of haze was based on JIS K7136:2000.

(4)두께위상차(Rth)(4) Thickness phase difference (Rth)

두께위상차(Rth)는, 일본분광주식회사제의 엘립소미터 「M-220」을 이용하여 측정하였다. 측정파장 550nm에 있어서의, 두께위상차의 값을 측정하였다. 한편 Rth는, 폴리이미드필름의 면내의 굴절률 중 최대인 것을 nx, 최소인 것을 ny로 하고, 두께방향의 굴절률을 nz로 하고, 필름의 두께를 d로 했을 때, 하기 식에 의해 표시되는 것이다.The thickness phase difference (Rth) was measured using an ellipsometer "M-220" manufactured by Nippon Spectroscopic Co., Ltd. The value of the thickness phase difference at a measurement wavelength of 550 nm was measured. On the other hand, Rth is expressed by the following formula when the largest in-plane refractive index of the polyimide film is nx, the minimum is ny, the refractive index in the thickness direction is nz, and the thickness of the film is d.

Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×dRth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d

실시예 및 비교예에서 사용한 테트라카르본산성분 및 디아민성분, 그리고 그의 약호 등은 하기와 같다.The tetracarboxylic acid component and diamine component, and their abbreviations and the like used in Examples and Comparative Examples are as follows.

<테트라카르본산성분><Tetracarboxylic acid component>

HPMDA: 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산이무수물(미쯔비시가스화학주식회사제; 식(a-1)로 표시되는 화합물)HPMDA: 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.; compound represented by formula (a-1))

CpODA: 노보난-2-스피로-α-시클로펜탄온-α’-스피로-2’’-노보난-5,5’’,6,6’’-테트라카르본산이무수물(JXTG에너지주식회사제; 식(a-3)으로 표시되는 화합물)CpODA: Novonan-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-novonane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride (manufactured by JXTG Energy Co., Ltd.; Compound represented by formula (a-3))

<디아민성분><Diamine component>

BisAM: 1,3-비스[2-(4-아미노페닐)-2-프로필]벤젠(미쯔이화학파인주식회사제, 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물)BisAM: 1,3-bis[2-(4-aminophenyl)-2-propyl]benzene (manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd., a compound represented by formula (b1-1-1))

TPER: 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(와카야마세이카공업주식회사제, 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물)TPER: 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene (Wakayama Seika Industrial Co., Ltd. make, compound represented by formula (b1-1-2))

APBN: 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠(미쯔이화학주식회사제, 식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물)APBN: 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., a compound represented by formula (b1-1-3))

TPEQ: 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠(와카야마세이카공업주식회사제)TPEQ: 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene (manufactured by Wakayama Seika Industrial Co., Ltd.)

3,5-DABA: 3,5-디아미노안식향산(일본순량약품주식회사제)3,5-DABA: 3,5-diaminobenzoic acid (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.)

BAPA: 2,2-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)헥사플루오로프로판(와카야마세이카공업주식회사제)BAPA: 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane (manufactured by Wakayama Seika Industrial Co., Ltd.)

ODA: 4,4’-디아미노디페닐에테르(와카야마세이카공업주식회사제, 식(b-3)으로 표시되는 화합물)ODA: 4,4'-diaminodiphenyl ether (manufactured by Wakayama Seika Industrial Co., Ltd., a compound represented by formula (b-3))

BAPP: 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(와카야마세이카공업주식회사제, 식(b-2)로 표시되는 화합물)BAPP: 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (Wakayama Seika Industrial Co., Ltd. make, compound represented by formula (b-2))

3,4’-DPE: 3,4’-디아미노디페닐에테르(와카야마세이카공업주식회사제)3,4'-DPE: 3,4'-diaminodiphenyl ether (manufactured by Wakayama Seika Industrial Co., Ltd.)

BisAP: 1,4-비스[2-(4-아미노페닐)-2-프로필]벤젠(미쯔이화학파인주식회사제, 식(b-4)로 표시되는 화합물)BisAP: 1,4-bis[2-(4-aminophenyl)-2-propyl]benzene (manufactured by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd., a compound represented by formula (b-4))

실시예 및 비교예에 있어서 사용한, 용매 및 촉매의 상세는 하기와 같다.Details of the solvent and catalyst used in Examples and Comparative Examples are as follows.

γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.)

N,N-디메틸아세트아미드(미쯔비시가스화학주식회사제)N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)

트리에틸렌디아민(동경화성공업주식회사제)Triethylenediamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

트리에틸아민(관동화학주식회사제)Triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)

<실시예 1><Example 1>

반응장치로서 스테인리스제 반월형 교반날개, 질소도입관, 냉각관을 부착한 딘스타크장치, 온도계, 및 유리제 엔드캡을 구비한 0.3L의 5개구 유리제 둥근바닥 플라스크를 사용하고, 이 둥근바닥 플라스크 중에서, BisAM을 25.920g(0.075몰), γ-부티로락톤(미쯔비시케미칼주식회사제)을 35.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.048g, 트리에틸아민을 3.80g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 16.830g(0.075몰)과 γ-부티로락톤을 17.1g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 5.5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 67.71g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 25질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.As a reaction device, a 0.3 L five-necked glass round bottom flask equipped with a stainless steel half-moon stirring blade, a nitrogen introduction tube, a Dean Stark device with a cooling tube, a thermometer, and a glass end cap was used, and in this round bottom flask, 25.920 g (0.075 mol) of BisAM, 35.0 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and as a catalyst, 0.048 g of triethylenediamine and 3.80 g of triethylamine were added, and stirred at 150 rpm under a nitrogen atmosphere. It heated up to 70 degreeC while doing, and obtained the solution. To this solution, 16.830 g (0.075 mol) of HPMDA and 17.1 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 5.5 hours. After 67.71 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 25% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 30μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 30 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 2><Example 2>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, APBN을 24.899g(0.085몰), γ-부티로락톤을 40.0g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 4.30g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 19.074g(0.085몰)과 γ-부티로락톤을 13.7g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 3.3시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 41.6g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 24.899 g (0.085 mol) of APBN, 40.0 g of γ-butyrolactone, and 4.30 g of triethylamine as a catalyst were added, and in a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 19.074 g (0.085 mol) of HPMDA and 13.7 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 3.3 hours. After the addition of 41.6 g of N,N-dimethylacetamide, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 47μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 47 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 3><Example 3>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, TPER을 24.337g(0.083몰), γ-부티로락톤을 45.1g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 2.11g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 18.701g(0.083몰)과 N,N-디메틸아세트아미드를 19.4g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 2.7시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 64.5g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 24질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 24.337 g (0.083 mol) of TPER, 45.1 g of γ-butyrolactone, and 2.11 g of triethylamine as a catalyst were added, and under a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 18.701 g (0.083 mol) of HPMDA and 19.4 g of N,N-dimethylacetamide were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. . The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 2.7 hours. After 64.5 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 24% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 31μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 31 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 1><Comparative Example 1>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, TPEQ를 23.370g(0.080몰), γ-부티로락톤을 40.4g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 0.41g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 80℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 17.934g(0.080몰)과 γ-부티로락톤을 10.1g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 2.5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 103.3g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 23.370 g (0.080 mol) of TPEQ, 40.4 g of γ-butyrolactone, and 0.41 g of triethylamine as a catalyst were added, and under a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 80° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 17.934 g (0.080 mol) of HPMDA and 10.1 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200° C. over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 2.5 hours. After addition of 103.3 g of N,N-dimethylacetamide, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 18μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 18 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 2><Comparative Example 2>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, 3,5-DABA를 28.559g(0.188몰), γ-부티로락톤을 132.1g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 0.95g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 42.132g(0.188몰)과 γ-부티로락톤을 33.03g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 5.0시간 유지하였다. γ-부티로락톤을 90.86g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 28.559 g (0.188 mol) of 3,5-DABA, 132.1 g of γ-butyrolactone, and 0.95 g of triethylamine as a catalyst were added, In a nitrogen atmosphere, the temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 42.132 g (0.188 mol) of HPMDA and 33.03 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 5.0 hours. After 90.86 g of γ-butyrolactone was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 29μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 29 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 3><Comparative Example 3>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BAPA를 42.278g(0.115몰), γ-부티로락톤을 81.8g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 0.58g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 25.877g(0.115몰)과 γ-부티로락톤을 20.4g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 5.0시간 유지하였다. γ-부티로락톤을 153.8g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 42.278 g (0.115 mol) of BAPA, 81.8 g of γ-butyrolactone, and 0.58 g of triethylamine as a catalyst were put in a round bottom flask, and under a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 25.877 g (0.115 mol) of HPMDA and 20.4 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 5.0 hours. After 153.8 g of γ-butyrolactone was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 26μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 26 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 4><Comparative Example 4>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, ODA를 20.024g(0.100몰), γ-부티로락톤을 45.0g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 1.52g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 22.417g(0.100몰)과 γ-부티로락톤을 18.7g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 4.0시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 91.7g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 20.024 g (0.100 mol) of ODA, 45.0 g of γ-butyrolactone, and 1.52 g of triethylamine as a catalyst were added, and in a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 22.417 g (0.100 mol) of HPMDA and 18.7 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 4.0 hours. After 91.7 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 40μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 40 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 5><Comparative Example 5>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BAPP를 43.745g(0.107몰), γ-부티로락톤을 81.4g, 및 촉매로서, 트리에틸아민을 0.54g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 23.887g(0.107몰)과 γ-부티로락톤(미쯔비시화학주식회사제)을 20.3g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 4.0시간 유지하였다. γ-부티로락톤(미쯔비시화학주식회사제)을 154.2g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 43.745 g (0.107 mol) of BAPP, 81.4 g of γ-butyrolactone, and 0.54 g of triethylamine as a catalyst were added, and in a nitrogen atmosphere, The temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm to obtain a solution. To this solution, 23.887 g (0.107 mol) of HPMDA and 20.3 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were added in batches, followed by heating with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was increased over about 20 minutes. It was raised to 190°C. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 4.0 hours. After 154.2 g of γ-butyrolactone (manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 33μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 33 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<비교예 6><Comparative Example 6>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, 3,4’-DPE를 20.024g(0.100몰), γ-부티로락톤을 45.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.065g, 트리에틸아민을 1.52g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 22.417g(0.100몰)과 γ-부티로락톤을 18.7g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 4.0시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 91.7g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 20.024 g (0.100 mol) of 3,4'-DPE, 45.0 g of γ-butyrolactone, and 0.065 g of triethylenediamine as a catalyst, 1.52 g of triethylamine was added, and the temperature was raised to 70°C while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 22.417 g (0.100 mol) of HPMDA and 18.7 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 4.0 hours. After 91.7 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 25μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 25 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

[표 1-1][Table 1-1]

Figure pct00011
Figure pct00011

<실시예 4><Example 4>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, ODA를 14.417g(0.072몰), BisAM을 6.201g(0.018몰), γ-부티로락톤을 40.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.050g, 트리에틸아민을 4.55g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 20.175g(0.090몰)과 γ-부티로락톤을 10.0g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 0.7시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 38.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 14.417 g (0.072 mol) of ODA, 6.201 g (0.018 mol) of BisAM, 40.0 g of γ-butyrolactone, and triethylenediamine as a catalyst Into 0.050g and 4.55g of triethylamine, the temperature was raised to 70°C while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 20.175 g (0.090 mol) of HPMDA and 10.0 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 0.7 hours. After the addition of 38.0 g of N,N-dimethylacetamide, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 42μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 42 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 5><Example 5>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, ODA를 10.012g(0.050몰), BisAM을 17.225g(0.050몰), γ-부티로락톤을 48.7g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.056g, 트리에틸아민을 5.06g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 22.417g(0.10몰)과 γ-부티로락톤을 12.2g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 0.6시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 77.8g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 25질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 10.012 g (0.050 mol) of ODA, 17.225 g (0.050 mol) of BisAM, 48.7 g of γ-butyrolactone, and as a catalyst, triethylenediamine Was added 0.056 g and 5.06 g of triethylamine, and the mixture was heated to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 22.417 g (0.10 mol) of HPMDA and 12.2 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 0.6 hours. After 77.8 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 25% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 34μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 34 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 6><Example 6>

반응장치로서, 실시예 1과 동일한 3.0L의 장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, ODA를 23.228g(0.116몰), BisAM을 159.848g(0.464몰), γ-부티로락톤을 307.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.325g, 트리에틸아민을 29.345g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 130.019g(0.580몰)과 γ-부티로락톤을 76.8g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 2.0시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 300.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 30질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.As a reaction apparatus, the same 3.0 L apparatus as in Example 1 was used, and in a round bottom flask, 23.228 g (0.116 mol) of ODA, 159.848 g (0.464 mol) of BisAM, 307.0 g of γ-butyrolactone, and As a catalyst, 0.325 g of triethylenediamine and 29.345 g of triethylamine were put, and the temperature was raised to 70°C while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 130.019 g (0.580 mol) of HPMDA and 76.8 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 2.0 hours. After addition of 300.0 g of N,N-dimethylacetamide, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 30% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 단계적으로 온도를 높여 가, 최고온도 140℃에서 약 2분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 32μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied on a PET substrate, the temperature was raised step by step, and maintained at a maximum temperature of 140° C. for about 2 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dry film having self-supporting properties. . Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 32 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

[표 1-2][Table 1-2]

Figure pct00012
Figure pct00012

<실시예 7><Example 7>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BAPP를 27.259g(0.066몰), BisAM을 5.719g(0.017몰), γ-부티로락톤을 50.6g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.047g, 트리에틸아민을 4.20g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 18.606g(0.083몰)과 γ-부티로락톤을 12.6g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 200℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 200℃로 0.5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 83.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 25질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 27.259 g (0.066 mol) of BAPP, 5.719 g (0.017 mol) of BisAM, 50.6 g of γ-butyrolactone, and triethylenediamine as a catalyst Was added 0.047 g of triethylamine and 4.20 g of triethylamine, and the mixture was heated to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 18.606 g (0.083 mol) of HPMDA and 12.6 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 200°C over about 20 minutes. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 200°C for 0.5 hours. After 83.0 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 25% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 47μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 47 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 8><Example 8>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BAPP를 16.421g(0.040몰), BisAM을 13.780g(0.040몰), γ-부티로락톤을 40.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.044g, 트리에틸아민을 4.05g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 17.934g(0.080몰)과 γ-부티로락톤을 18.8g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 2.2시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 122.2g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round bottom flask, 16.421 g (0.040 mol) of BAPP, 13.780 g (0.040 mol) of BisAM, 40.0 g of γ-butyrolactone, and triethylenediamine as a catalyst 0.044 g and 4.05 g of triethylamine were added, and the mixture was heated to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 17.934 g (0.080 mol) of HPMDA and 18.8 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 2.2 hours. After 122.2 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 30μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 30 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 9><Example 9>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BAPP를 6.568g(0.016몰), BisAM을 22.048g(0.064몰), γ-부티로락톤을 30.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.044g, 트리에틸아민을 4.05g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 17.934g(0.080몰)과 γ-부티로락톤을 16.6g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 1.4시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 84.4g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 25질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 6.568 g (0.016 mol) of BAPP, 22.048 g (0.064 mol) of BisAM, 30.0 g of γ-butyrolactone, and triethylenediamine as a catalyst 0.044 g and 4.05 g of triethylamine were added, and the mixture was heated to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 17.934 g (0.080 mol) of HPMDA and 16.6 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 1.4 hours. After 84.4 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 25% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 35μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 35 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

[표 1-3][Table 1-3]

Figure pct00013
Figure pct00013

<실시예 10><Example 10>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BisAM을 27.560g(0.080몰), γ-부티로락톤을 30.8g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.022g, 트리에틸아민을 2.02g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 8.967g(0.040몰), CpODA를 15.375g(0.040몰), γ-부티로락톤을 32.9g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 2.0시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 88.0g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 25질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 27.560 g (0.080 mol) of BisAM, 30.8 g of γ-butyrolactone, and 0.022 g of triethylenediamine and 2.02 of triethylamine as a catalyst. g was put, and the temperature was raised to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 8.967 g (0.040 mol) of HPMDA, 15.375 g (0.040 mol) of CpODA, and 32.9 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, followed by heating with a mantle heater, and the reaction system over about 20 minutes I raised my temperature to 190°C. The distilled component was collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 2.0 hours. After addition of 88.0 g of N,N-dimethylacetamide, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a homogeneous polyimide varnish having a solid content concentration of 25% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 38μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 38 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

<실시예 11><Example 11>

실시예 1과 동일한 반응장치를 사용하고, 둥근바닥 플라스크 중에서, BisAP를 13.780g(0.040몰), BisAM을 13.780g(0.040몰), γ-부티로락톤을 40.0g, 및 촉매로서, 트리에틸렌디아민을 0.044g, 트리에틸아민을 4.05g 넣고, 질소분위기하, 150rpm으로 교반하면서 70℃까지 승온하여 용액을 얻었다. 이 용액에, HPMDA를 17.934g(0.080몰)과 γ-부티로락톤을 15.6g, 각각 일괄로 첨가한 후, 맨틀히터로 가열하고, 약 20분에 걸쳐 반응계 내 온도를 190℃까지 올렸다. 유거되는 성분을 포집하고, 반응계 내 온도를 190℃로 3.5시간 유지하였다. N,N-디메틸아세트아미드를 114.8g 첨가 후, 100℃ 부근에서 약 1시간 교반하여, 고형분농도 20질량%의 균일한 폴리이미드바니시를 얻었다.Using the same reaction apparatus as in Example 1, in a round-bottom flask, 13.780 g (0.040 mol) of BisAP, 13.780 g (0.040 mol) of BisAM, 40.0 g of γ-butyrolactone, and triethylenediamine as a catalyst 0.044 g and 4.05 g of triethylamine were added, and the mixture was heated to 70° C. while stirring at 150 rpm under a nitrogen atmosphere to obtain a solution. To this solution, 17.934 g (0.080 mol) of HPMDA and 15.6 g of γ-butyrolactone were added in batches, respectively, and then heated with a mantle heater, and the temperature in the reaction system was raised to 190°C over about 20 minutes. The distilled components were collected, and the temperature in the reaction system was maintained at 190°C for 3.5 hours. After 114.8 g of N,N-dimethylacetamide was added, the mixture was stirred at about 100°C for about 1 hour to obtain a uniform polyimide varnish having a solid content concentration of 20% by mass.

계속해서, 얻어진 폴리이미드바니시를 PET기판 상에 도포하고, 100℃에서 20분 유지하고, 용매를 휘발시킴으로써 자기지지성을 갖는 무색투명한 1차건조필름을 얻었다. 다시 이 필름을 스테인리스틀에 고정하고, 210℃에서 공기분위기하, 20분간 건조함으로써 용매를 제거하여, 두께 35μm의 필름을 얻었다. 이 폴리이미드필름의 평가결과를 표 1에 나타낸다.Subsequently, the obtained polyimide varnish was applied onto a PET substrate, held at 100° C. for 20 minutes, and the solvent was volatilized to obtain a colorless, transparent primary dried film having self-supporting properties. Again, this film was fixed to a stainless steel frame, and the solvent was removed by drying for 20 minutes in an air atmosphere at 210°C to obtain a film having a thickness of 35 μm. Table 1 shows the evaluation results of this polyimide film.

[표 1-4][Table 1-4]

Figure pct00014
Figure pct00014

표 1에 나타내는 바와 같이, 특정의 테트라카르본산성분 및 특정의 디아민성분을 이용하여 제조한 실시예 1~11의 폴리이미드필름은, 무색투명성이 우수하며, 나아가 저리타데이션이었다.As shown in Table 1, the polyimide films of Examples 1 to 11 produced using a specific tetracarboxylic acid component and a specific diamine component were excellent in colorless transparency and further had low retardation.

한편, 디아민성분으로서 구성단위(B-1)를 부여하는 디아민을 사용하지 않는 비교예 1~6의 폴리이미드필름은, 실시예 1~3의 폴리이미드필름과 대비하여, 리타데이션값(Rth)이 컸다.On the other hand, the polyimide films of Comparative Examples 1 to 6, which do not use a diamine that imparts the structural unit (B-1) as a diamine component, compared to the polyimide films of Examples 1 to 3, the retardation value (Rth) This was great.

디아민산성분으로서 BisAM과 ODA를 병용한 실시예 4~6의 폴리이미드필름은, ODA만을 사용하여 제조한 비교예 4의 폴리이미드필름과 대비하여, 리타데이션값(Rth)이 대폭 저감되었다.The polyimide films of Examples 4 to 6 in which BisAM and ODA were used in combination as a diamine acid component, compared with the polyimide film of Comparative Example 4 prepared using only ODA, significantly reduced the retardation value (Rth).

디아민산성분으로서 BisAM과 BAPP를 병용한 실시예 7~9의 폴리이미드필름은, BAPP만을 사용하여 제조한 비교예 5의 폴리이미드필름과 대비하여, 리타데이션값(Rth)이 대폭 저감되었다.The polyimide films of Examples 7 to 9 in which BisAM and BAPP were used in combination as a diamine acid component were compared with the polyimide film of Comparative Example 5 prepared using only BAPP, and the retardation value (Rth) was significantly reduced.

산업상 이용가능성Industrial applicability

본 발명의 폴리이미드필름은, 컬러필터, 플렉서블디스플레이, 반도체부품, 광학부재 등의 각종 부재용의 필름으로서 호적하게 이용된다. 본 발명의 폴리이미드필름은, 액정디스플레이나 OLED디스플레이 등의 화상표시장치의 기판으로서, 특히 호적하게 이용된다.The polyimide film of the present invention is suitably used as a film for various members such as color filters, flexible displays, semiconductor parts, and optical members. The polyimide film of the present invention is particularly suitably used as a substrate for an image display device such as a liquid crystal display or an OLED display.

Claims (9)

테트라카르본산이무수물에서 유래하는 구성단위A 및 디아민에서 유래하는 구성단위B를 갖는 폴리이미드수지로서,
구성단위A가, 하기 식(a-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-1), 및 하기 식(a-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하고,
구성단위B가, 하기 일반식(b1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 일반식(b2-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위(B-1)를 포함하는, 폴리이미드수지.
[화학식 1]
Figure pct00015

(식 중, X1~X4는 각각 독립적으로, 단결합, 탄소수 1~5의 알킬렌기, 탄소수 2~5의 알킬리덴기, -S-, -SO-, -SO2-, -O- 또는 -CO-를 나타낸다.)
As a polyimide resin having a structural unit A derived from tetracarboxylic dianhydride and a structural unit B derived from diamine,
Structural unit A is a structural unit (A-1) derived from a compound represented by the following formula (a-1), and a structural unit (A-2) derived from a compound represented by the following formula (a-2). It contains at least one constituent unit selected from the group consisting of,
Structural unit B is at least one selected from the group consisting of a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b1-1), and a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (b2-1) Polyimide resin containing a structural unit (B-1).
[Formula 1]
Figure pct00015

(In the formula, X 1 to X 4 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O- Or -CO-.)
제1항에 있어서,
구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-1)의 비율이 5~100몰%인, 폴리이미드수지.
The method of claim 1,
The polyimide resin, wherein the proportion of the structural unit (B-1) in the structural unit B is 5 to 100 mol%.
제1항 또는 제2항에 있어서,
구성단위A가 구성단위(A-1)를 포함하고, 구성단위A 중에 있어서의 구성단위(A-1)의 비율이 45~100몰%인, 폴리이미드수지.
The method according to claim 1 or 2,
A polyimide resin, wherein the structural unit A contains the structural unit (A-1), and the proportion of the structural unit (A-1) in the structural unit A is 45 to 100 mol%.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위(B-1)가, 하기 식(b1-1-1)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 하기 식(b1-1-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위, 및 하기 식(b1-1-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 포함하는, 폴리이미드수지.
[화학식 2]
Figure pct00016
The method according to any one of claims 1 to 3,
The structural unit (B-1) is a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-1), a structural unit derived from a compound represented by the following formula (b1-1-2), and the following formula: A polyimide resin containing at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from the compound represented by (b1-1-3).
[Formula 2]
Figure pct00016
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위B가, 하기 식(b-2)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-2), 하기 식(b-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-3), 및 하기 식(b-4)로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(B-4)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 구성단위를 추가로 포함하는, 폴리이미드수지.
[화학식 3]
Figure pct00017
The method according to any one of claims 1 to 4,
Structural unit B is a structural unit (B-2) derived from a compound represented by the following formula (b-2), a structural unit (B-3) derived from a compound represented by the following formula (b-3), and A polyimide resin further comprising at least one structural unit selected from the group consisting of structural units (B-4) derived from compounds represented by the following formula (b-4).
[Formula 3]
Figure pct00017
제5항에 있어서,
구성단위B 중에 있어서의 구성단위(B-2), 구성단위(B-3), 및 구성단위(B-4)의 합계가 차지하는 비율이 5~95몰%인, 폴리이미드수지.
The method of claim 5,
A polyimide resin, wherein the proportion of the total of the structural unit (B-2), the structural unit (B-3), and the structural unit (B-4) in the structural unit B is 5 to 95 mol%.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
구성단위A가, 하기 식(a-3)으로 표시되는 화합물에서 유래하는 구성단위(A-3)를 추가로 포함하는, 폴리이미드수지.
[화학식 4]
Figure pct00018
The method according to any one of claims 1 to 6,
A polyimide resin in which the structural unit A further contains a structural unit (A-3) derived from a compound represented by the following formula (a-3).
[Formula 4]
Figure pct00018
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드수지가 유기용매에 용해되어 이루어지는 폴리이미드바니시.A polyimide varnish obtained by dissolving the polyimide resin according to any one of claims 1 to 7 in an organic solvent. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드수지를 포함하는, 폴리이미드필름.A polyimide film containing the polyimide resin according to any one of claims 1 to 7.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114846052A (en) * 2019-12-26 2022-08-02 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin, polyimide resin composition, polyimide varnish, and polyimide film
CN111662451B (en) * 2020-06-22 2023-04-18 武汉依麦德新材料科技有限责任公司 Transparent polyimide film with low phase retardation effect and preparation method and application thereof
CN112940316B (en) * 2021-02-19 2022-07-29 上海八亿时空先进材料有限公司 Polyimide film and preparation method and application thereof
CN114989432B (en) * 2022-07-08 2023-05-05 中国地质大学(北京) Polyimide, preparation method and application thereof, thermoplastic polyimide engineering plastic, and preparation method and application thereof

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08134211A (en) 1994-11-14 1996-05-28 Hitachi Chem Co Ltd Polyimide for optical part and optical part
WO2015125895A1 (en) 2014-02-21 2015-08-27 三菱化学株式会社 Polyimide precursor and/or polyimide-containing composition, and polyimide film

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3639343A (en) * 1969-02-11 1972-02-01 Du Pont Polyimides and copolyimides from aromatic diamines and alicyclic dianhydrides
JP2000248253A (en) * 1998-12-28 2000-09-12 Mitsui Chemicals Inc Heat resistant adhesive
WO2006043520A1 (en) * 2004-10-19 2006-04-27 Hitachi Cable, Ltd. Polyimide resin composition, liquid crystal alignment film using same and liquid crystal display using such liquid crystal alignment film
EP1829910B1 (en) * 2004-12-24 2011-11-30 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Low water-absorptive polyimide resin and method for producing same
JP2006199945A (en) 2004-12-24 2006-08-03 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Low water absorbable polyimide resin and process for its production
KR101423361B1 (en) * 2007-05-24 2014-07-24 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 Process and apparatus for production of colorless transparent resin film
TWI435902B (en) * 2007-08-20 2014-05-01 Kolon Inc Polyimide film
JP5462631B2 (en) * 2007-11-30 2014-04-02 三井化学株式会社 Polyimide composite material and film thereof
EP2535341B1 (en) * 2010-02-09 2015-08-26 JX Nippon Oil & Energy Corporation Norbornane-2-spiro- a-cycloalkanone-a '-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro- a-cycloalkanone-a '-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid and ester thereof, method for producing norbornane-2-spiro- a-cycloalkanone-a '-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, polyimide obtained using same, and method for producing polyimide
TWI472555B (en) * 2010-12-23 2015-02-11 Ind Tech Res Inst Polyimide polymer, method for manufacturing the same and display device
JP5804778B2 (en) * 2011-06-03 2015-11-04 三井化学株式会社 New polyimide varnish
JP2013067718A (en) * 2011-09-22 2013-04-18 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc Optical laminated film
KR101627734B1 (en) * 2012-08-01 2016-06-07 제일모직주식회사 Composition for coating separator, separator formed by using the coating agent composition, and battery using the separator
KR102073449B1 (en) * 2012-09-18 2020-02-04 우베 고산 가부시키가이샤 Polyimide precursor, polyimide, polyimide film, varnish, and substrate
KR101441344B1 (en) * 2013-01-15 2014-09-18 애경유화주식회사 Co- POLYIMIDES WITH HIGH GAS PERMEABILITY AND SELECTIVITY AND METHODS OF SYNTHESIS THEREOF
TWI544031B (en) * 2015-07-07 2016-08-01 律勝科技股份有限公司 Polyimide resin, thin film and method for manufacturing thereof
JP2017212386A (en) * 2016-05-27 2017-11-30 株式会社村田製作所 Inductor manufacturing method
CN106832277B (en) * 2017-01-09 2020-01-14 深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司 White polyimide film with high elongation and preparation method thereof
TWI634136B (en) * 2017-06-23 2018-09-01 台虹科技股份有限公司 Polyimide polymer and polyimide film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08134211A (en) 1994-11-14 1996-05-28 Hitachi Chem Co Ltd Polyimide for optical part and optical part
WO2015125895A1 (en) 2014-02-21 2015-08-27 三菱化学株式会社 Polyimide precursor and/or polyimide-containing composition, and polyimide film

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