JP5311140B2 - イオンビーム測定方法 - Google Patents
イオンビーム測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5311140B2 JP5311140B2 JP2009273353A JP2009273353A JP5311140B2 JP 5311140 B2 JP5311140 B2 JP 5311140B2 JP 2009273353 A JP2009273353 A JP 2009273353A JP 2009273353 A JP2009273353 A JP 2009273353A JP 5311140 B2 JP5311140 B2 JP 5311140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion beam
- monitor
- ion
- detectors
- small holes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 title claims description 118
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
しかも、ビームモニタは、複数のビーム検出器を千鳥状に配置した構成をしており、かつ各ビーム検出器のイオンビーム入口部の正面形状は円形をしているので、複数のビーム検出器をX方向により高密度で配置することが可能であり、従ってX方向における測定の分解能をより高めることができる。
更に、ビームモニタをY方向だけでなくX方向にも可動にしているので、ビームモニタをX方向に移動させることができ、それによって、ビームモニタによるX方向の測定の分解能を更に高めることができる。
θ=tan-1(L2 /L1 )
αX =tan-1(L4 /L3 )
αY =tan-1(L5 /L3 )
10 ビームモニタ
12 ビーム検出器
20 ビームモニタ
22 ビーム検出器
40a、40b 駆動装置
60 マスク板
62 小孔
Claims (2)
- イオンビームの設計上の進行方向をZ方向とし、Z方向と実質的に直交する面内において互いに実質的に直交する2方向をX方向およびY方向とすると、X方向の寸法よりもY方向の寸法が大きいリボン状のイオンビーム(2)についての測定方法であって、
前記リボン状のイオンビーム(2)の一部を通過させる小孔(62)をY方向に1以上有するマスク板(60)と、このマスク板(60)の下流側に設けられていて、前記小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)を受けてそのビーム電流をそれぞれ検出する複数のビーム検出器(12)をX方向に有していて、Y方向に可動のビームモニタ(10)とを用いて、当該ビームモニタ(10)をY方向に移動させることによって、前記各小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)のX方向およびY方向における中心位置(x3 、y3 )をそれぞれ測定し、当該測定したX方向およびY方向における中心位置(x3 、y3 )とそれに対応する前記小孔(62)間のX方向およびY方向における距離(L4 、L5 )ならびに前記マスク板(60)とビームモニタ(10)間のZ方向における距離(L3 )に基づいて、前記各小孔(62)を通過したイオンビーム(2a)のX方向およびY方向における発散角(αX 、αY )をそれぞれ測定することを特徴としており、
かつ前記ビームモニタ(10)は、前記X方向に直線状に並べた複数のビーム検出器(12)を前記Y方向に2行に、千鳥状に配置した構成をしており、かつ前記各ビーム検出器(12)のイオンビーム入口部の正面形状は円形をしており、
更に前記Y方向に可動のビームモニタ(10)は、前記X方向にも可動であることを特徴とするイオンビーム測定方法。 - 前記マスク板(60)は、前記小孔(62)をY方向に複数個有している、請求項1記載のイオンビーム測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009273353A JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009273353A JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006329507A Division JP2008146863A (ja) | 2006-12-06 | 2006-12-06 | イオンビーム測定方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013003126A Division JP2013065578A (ja) | 2013-01-11 | 2013-01-11 | ビーム検出器の不良チェック方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010050108A JP2010050108A (ja) | 2010-03-04 |
JP5311140B2 true JP5311140B2 (ja) | 2013-10-09 |
Family
ID=42066988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009273353A Active JP5311140B2 (ja) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | イオンビーム測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5311140B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6150632B2 (ja) | 2013-06-26 | 2017-06-21 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオンビーム測定装置及びイオンビーム測定方法 |
JP6440809B2 (ja) * | 2017-11-28 | 2018-12-19 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | ビーム照射装置 |
JP2019121465A (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-22 | 株式会社アルバック | イオン注入装置、ファラデーカップ集合装置 |
JP6985951B2 (ja) | 2018-02-08 | 2021-12-22 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置および測定装置 |
CN109581470A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-05 | 德淮半导体有限公司 | 用于离子束测量的装置和方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01320748A (ja) * | 1988-06-23 | 1989-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電粒子ビームの電流密度分布測定装置 |
JPH03193455A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-23 | Seiko Epson Corp | インクジェットヘッド |
JP4339539B2 (ja) * | 2001-12-27 | 2009-10-07 | オリンパス株式会社 | 超音波用穿刺針 |
JP2004093151A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Japan Atom Energy Res Inst | 多孔スリットと可動式発光体を用いた荷電粒子ビームの質の測定法 |
US7377228B2 (en) * | 2002-09-23 | 2008-05-27 | Tel Epion Inc. | System for and method of gas cluster ion beam processing |
JP2005127800A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Toshiba Corp | 電子線照射装置と照射方法および電子線描画装置 |
JP2005311019A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Hitachi Ltd | 半導体パワーモジュール |
US7078714B2 (en) * | 2004-05-14 | 2006-07-18 | Nissin Ion Equipment Co., Ltd. | Ion implanting apparatus |
JP2005353537A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Ulvac Japan Ltd | イオン注入装置 |
US6989545B1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-24 | Axcelis Technologies, Inc. | Device and method for measurement of beam angle and divergence |
-
2009
- 2009-12-01 JP JP2009273353A patent/JP5311140B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010050108A (ja) | 2010-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5311140B2 (ja) | イオンビーム測定方法 | |
JP2008146863A (ja) | イオンビーム測定方法 | |
TWI421642B (zh) | 使用x射線的疊對量測 | |
JP6150632B2 (ja) | イオンビーム測定装置及びイオンビーム測定方法 | |
US8848198B2 (en) | Method for determining the tilt of an image sensor | |
CN1650181A (zh) | 用于测试电路板的设备和方法以及用于该设备和方法的测试探头 | |
CN103454070B (zh) | 一种基于ccd探测的x射线组合折射透镜聚焦性能测试方法 | |
KR20160128365A (ko) | 검사 설비, 검사 방법 및 검사 시스템 | |
JP4970204B2 (ja) | 真直度測定装置、厚み変動測定装置及び直交度測定装置 | |
KR20160102244A (ko) | 광학 검사를 위한 비-이미징 코히어런트 라인 스캐너 시스템 및 방법 | |
JP5181824B2 (ja) | イオンビーム照射装置及びイオンビーム測定方法 | |
JP2001305108A (ja) | 渦流探傷装置 | |
US10127648B2 (en) | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method | |
CN103454071A (zh) | 一种x射线组合折射透镜的聚焦性能测试方法 | |
JP2013065578A (ja) | ビーム検出器の不良チェック方法 | |
CN110207595A (zh) | 一种回归反光球长度标准杆长度测量装置及其测量方法 | |
CN103383363A (zh) | 微衍射 | |
CN111474598B (zh) | 电子部件装载状态检测装置 | |
JP7375458B2 (ja) | 外観検査装置及び、不良検査方法 | |
JPH07311163A (ja) | X線反射率測定装置及び測定方法 | |
JP4841458B2 (ja) | 結晶試料の形状評価方法および形状評価装置、プログラム | |
JP5851254B2 (ja) | 検査装置、検査方法および検査プログラム | |
TWI383152B (zh) | Detection device | |
JP2006349351A (ja) | 3次元微細形状測定方法 | |
CN2739607Y (zh) | 聚焦镜球差与焦斑能量分布测量仪 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120820 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121015 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20121120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130111 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130121 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130429 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130619 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5311140 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |