JP5311024B2 - 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 - Google Patents
液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5311024B2 JP5311024B2 JP2009010389A JP2009010389A JP5311024B2 JP 5311024 B2 JP5311024 B2 JP 5311024B2 JP 2009010389 A JP2009010389 A JP 2009010389A JP 2009010389 A JP2009010389 A JP 2009010389A JP 5311024 B2 JP5311024 B2 JP 5311024B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positioning
- head
- liquid ejecting
- base plate
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 101
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 20
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 49
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 49
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/19—Assembling head units
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/20—Modules
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Ink Jet (AREA)
Description
かかる態様では、ノズル開口は、フォトリソグラフィー法により形成された位置決めプレートの位置決め調整穴を介して、第2の基準との相対的な位置が高精度に規定される。また、第2の基準は第1の基準に位置決めされる。したがってノズル開口は、液体噴射ヘッドユニットのノズル開口側の平面視において、第1の基準から所定距離だけ離れた位置に高精度に配列される。このようにノズル開口をベースプレートの所定の位置に高精度に配列することができるので、液滴の吐出特性に優れた液体噴射ヘッドユニットが提供される。また、第2の基準を第1の基準に位置決めするだけで、液体噴射ヘッドのノズル開口がベースプレートの所定位置に高精度に配列されるため、液体噴射ヘッドの高精度な配置を容易に行うことができる。
かかる態様では、ノズル開口は、フォトリソグラフィー法により形成された位置決めプレートの位置決め調整穴を介して、第2の基準との相対的な位置が高精度に規定されている。また、第2の基準は、ベースプレートに設けられた第1の基準に位置決めされるものである。したがって、液体噴射ヘッドがベースプレートに取り付けられると、ノズル開口が、液体噴射ヘッドユニットのノズル開口側の平面視において、第1の基準から所定距離だけ離れた位置に高精度に位置するようになっている。このように本態様の液体噴射ヘッドは、そのノズル開口をベースプレートに対して高精度に配列することができる。また、第2の基準を第1の基準に位置決めするだけで、液体噴射ヘッドのノズル開口がベースプレートの所定位置に高精度に配列されるため、液体噴射ヘッドは、高精度な配置を容易に行えるものとなっている。
かかる態様では、ノズル開口は、フォトリソグラフィー法により形成された位置決めプレートの位置決め調整穴を介して、第2の基準との相対的な位置が高精度に規定されている。また、第2の基準は第1の基準に位置決めされている。したがってノズル開口は、液体噴射ヘッドユニットのノズル開口側の平面視において、第1の基準から所定距離だけ離れた位置に高精度に配列されている。このように本態様の液体噴射ヘッドユニットは、そのノズル開口がベースプレートに対して高精度に配列されるので、液滴の吐出特性に優れている。また、第2の基準を第1の基準に位置決めするだけで、液体噴射ヘッドのノズル開口がベースプレートの所定位置に高精度に配列されるため、液体噴射ヘッドユニットでは、液体噴射ヘッドのベースプレートに対する高精度な配置を容易に行うことができる。
かかる態様では、液体噴射ヘッドを簡易に且つ高精度に位置決めできる液体噴射装置が提供される。
かかる態様では、ベースプレートに対して高精度かつ容易に取り付けすることができる液体噴射ヘッドが提供される。
〈実施形態1〉
図1は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドユニットの一例であるインクジェット式記録ヘッドユニットの概略斜視図であり、図2は、本発明の実施形態1に係るインクジェット式記録ヘッドユニットの平面図であり、図3は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略斜視図であり、図4は、図2のA−A’断面図である。
実施形態1では、第1の基準と第2の基準として、位置決めピン22とこれに嵌合する位置決めピン挿通孔42とを例示したが、これに限定されず、例えば、第2の基準は第1の基準に当接しうる面であってもよい。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
Claims (9)
- 複数のノズル開口が並設されたノズル列を有する液体噴射ヘッドと、前記液体噴射ヘッドを搭載したベースプレートとを備える液体噴射ヘッドユニットの製造方法であって、
前記ベースプレートに設けられた第1の基準に位置決めされる第2の基準及び位置決め調整穴を位置決めプレートにフォトリソグラフィー法により形成する第1の工程と、
前記位置決め調整穴と前記ノズル開口とが所定の配置となるように前記位置決めプレートを前記液体噴射ヘッドに取り付ける第2の工程と、
前記第1の基準と前記第2の基準とを位置決めした状態で前記液体噴射ヘッドを前記ベースプレートに固定する第3の工程とを備える
ことを特徴とする液体噴射ヘッドユニットの製造方法。 - 請求項1に記載する液体噴射ヘッドユニットの製造方法において、
前記第2の工程では、複数の前記位置決めプレートを複数の前記液体噴射ヘッドにそれぞれ取り付け、
前記第3の工程では、前記ベースプレートに設けられた複数の前記第1の基準に前記第2の基準をそれぞれ位置決めした状態で前記液体噴射ヘッドを前記ベースプレートに固定する
ことを特徴とする液体噴射ヘッドユニットの製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載する液体噴射ヘッドユニットの製造方法において、
前記第1の工程では、前記位置決めプレートの中央部を挟んで対向するように前記位置決めプレートの周縁部に2つの前記位置決め調整穴をフォトリソグラフィー法により形成する
ことを特徴とする液体噴射ヘッドユニットの製造方法。 - 請求項1〜請求項3の何れか一項に記載する液体噴射ヘッドユニットの製造方法において、
前記第1の基準は、前記ベースプレートの表面に設けられた位置決めピンであり、
前記第1の工程では、前記第2の基準として前記位置決めピンの外周が内接する貫通孔を前記位置決めプレートに形成し、前記位置決め調整穴を当該貫通孔よりも狭い径で形成する
ことを特徴とする液体噴射ヘッドユニットの製造方法。 - 請求項1〜請求項3の何れか一項に記載する液体噴射ヘッドユニットの製造方法において、
前記第1の工程では、前記第2の基準として前記第1の基準に当接する面を前記位置決めプレートに形成する
ことを特徴とする液体噴射ヘッドユニットの製造方法。 - 複数のノズル開口が並設されたノズル列を有する液体噴射ヘッドであって、
ベースプレートに設けられた第1の基準に位置決めされる第2の基準及び位置決め調整穴がフォトリソグラフィー法により形成された位置決めプレートを備え、
前記位置決めプレートの前記位置決め調整穴と前記ノズル開口とが所定の位置に位置決めされている
ことを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項6に記載する液体噴射ヘッドを前記ベースプレート上に複数搭載したことを特徴とする液体噴射ヘッドユニット。
- 請求項7に記載する液体噴射ヘッドユニットを具備することを特徴とする液体噴射装置。
- 複数のノズル開口が並設されたノズル列を有する液体噴射ヘッドの製造方法であって、
前記液体噴射ヘッドを搭載するベースプレートに設けられた第1の基準に位置決めされる第2の基準及び位置決め調整穴を位置決めプレートにフォトリソグラフィー法により形成する第1の工程と、
前記位置決め調整穴と前記ノズル開口とが所定の配置となるように前記位置決めプレートを前記液体噴射ヘッドに取り付ける第2の工程とを具備する
ことを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009010389A JP5311024B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 |
US12/689,851 US20100182377A1 (en) | 2009-01-20 | 2010-01-19 | Liquid ejecting head, liquid ejecting head unit, method for fabricating the same, and liquid ejecting apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009010389A JP5311024B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010167607A JP2010167607A (ja) | 2010-08-05 |
JP5311024B2 true JP5311024B2 (ja) | 2013-10-09 |
Family
ID=42336626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009010389A Active JP5311024B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100182377A1 (ja) |
JP (1) | JP5311024B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5293410B2 (ja) * | 2009-05-29 | 2013-09-18 | コニカミノルタ株式会社 | ラインヘッドユニットの組立方法 |
JP6094036B2 (ja) * | 2012-02-23 | 2017-03-15 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置 |
US9592663B2 (en) | 2012-05-02 | 2017-03-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting head unit and liquid ejecting apparatus |
JP6119173B2 (ja) | 2012-05-02 | 2017-04-26 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッドモジュール及び液体噴射装置 |
JP6146081B2 (ja) | 2013-03-26 | 2017-06-14 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット、液体噴射装置、および、液体噴射ヘッドユニットの製造方法 |
CN110446610B (zh) * | 2017-03-24 | 2021-02-09 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷墨头单元以及喷墨头单元的制造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2831380B2 (ja) * | 1988-06-21 | 1998-12-02 | キヤノン株式会社 | オリフィスプレート及びインクジェット記録ヘッドの製造方法,ならびに該オリフィスプレートを用いたインクジェット記録装置 |
US5257043A (en) * | 1991-12-09 | 1993-10-26 | Xerox Corporation | Thermal ink jet nozzle arrays |
JP4141674B2 (ja) * | 2001-10-22 | 2008-08-27 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出ヘッド、その拭取り方法およびこれを備えた電子機器 |
US7234798B2 (en) * | 2002-08-30 | 2007-06-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink jet printer |
JP5380767B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2014-01-08 | セイコーエプソン株式会社 | ヘッドユニット組立方法 |
US8205964B2 (en) * | 2008-01-08 | 2012-06-26 | Ricoh Company, Ltd. | Head array unit, image forming apparatus including same, and method for manufacturing the head array unit |
JP5423019B2 (ja) * | 2008-07-04 | 2014-02-19 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッドユニット及び画像形成装置 |
JP2010030069A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドモジュール、及び、液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 |
JP2010042625A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッドモジュール、及び、液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 |
-
2009
- 2009-01-20 JP JP2009010389A patent/JP5311024B2/ja active Active
-
2010
- 2010-01-19 US US12/689,851 patent/US20100182377A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100182377A1 (en) | 2010-07-22 |
JP2010167607A (ja) | 2010-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8262197B2 (en) | Manufacturing method for liquid ejecting head unit, and liquid ejecting apparatus | |
JP4912222B2 (ja) | インクジェットヘッドアッセンブリおよびインクジェットヘッドの製造方法 | |
JP5311024B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及びそれらの製造方法並びに液体噴射装置 | |
JP5218770B2 (ja) | 液体噴射ヘッドユニット及び液体噴射装置 | |
JP5708904B2 (ja) | 液体噴射ヘッドユニット及びその製造方法並びに液体噴射装置 | |
US20110221822A1 (en) | Liquid ejection head and liquid ejection apparatus | |
US20060187274A1 (en) | Housing used in inkjet head | |
US8191991B2 (en) | Liquid ejecting head unit and liquid ejecting apparatus | |
US20080239023A1 (en) | Liquid ejecting head | |
US7643144B2 (en) | Alignment apparatus and alignment method | |
JP5678463B2 (ja) | 液体噴射ヘッド、液体噴射ヘッドユニット及び液体噴射装置 | |
JP5614082B2 (ja) | 液体噴射ヘッドユニットの位置決め機構、液体噴射ヘッドユニット、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドユニットの製造方法 | |
JP5821547B2 (ja) | 液体噴射ヘッドモジュールの製造方法及び液体噴射ヘッドモジュール並びに液体噴射装置 | |
JP4407698B2 (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
US11358405B2 (en) | Droplet deposition head alignment system | |
JP2010042625A (ja) | 液体噴射ヘッドモジュール、及び、液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 | |
JP2011183711A (ja) | 液体噴射ヘッドユニットの製造方法 | |
JP2012179805A (ja) | 液体噴射ヘッドモジュールの製造方法及び液体噴射ヘッドモジュール | |
JP6431611B2 (ja) | プリントヘッド・ダイ・アセンブリ | |
JP2011101982A (ja) | 液体噴射ヘッドの製造方法 | |
JP2013099868A (ja) | 液体噴射ヘッドモジュールの製造方法 | |
JP2010240846A (ja) | 液滴吐出ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130327 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130618 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5311024 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |