JP5305698B2 - Method for manufacturing glass substrate for magnetic disk, method for manufacturing magnetic disk, and glass substrate for magnetic disk - Google Patents
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Description
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、かかるガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する磁気ディスク製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板に関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, a method of manufacturing a magnetic disk using such a glass substrate, and a glass substrate for a magnetic disk.
磁気ディスク用ガラス基板の製造工程における研削工程では、従来、鋳鉄定盤を用いて、遊離砥粒を含む研削液(スラリ)をガラス基板と定盤との間に供給しながら研削を行うラッピングが行われている。このとき、研削を行うにつれて、定盤の研削面の平滑性は低下していく。 In the grinding process in the manufacturing process of a glass substrate for magnetic disks, conventionally, lapping is performed by using a cast iron surface plate and grinding while supplying a grinding liquid (slurry) containing loose abrasive grains between the glass substrate and the surface plate. Has been done. At this time, the smoothness of the ground surface of the surface plate decreases as grinding is performed.
このように平滑性が低下した研削面を修正する場合は、典型的には、遊星歯車方式の定盤を用い、上定盤と下定盤との間に修正リングを挟み、研削工程と同様に、遊離砥粒を供給しながら、定盤を圧接させて研削を行うことで、定盤が削れ、定盤の平滑性を回復させていた。かかる修正で定盤が削れて発生した切子は、定盤から排出されず、砥石として機能する。すなわち定盤の平滑性は、この切子と遊離砥粒とを利用して修正されることとなる。 When correcting a ground surface with reduced smoothness as described above, typically, a planetary gear-type surface plate is used, and a correction ring is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate, in the same manner as in the grinding process. The surface plate was shaved by supplying pressure to the surface plate while supplying free abrasive grains, and the smoothness of the surface plate was recovered. The facets generated when the surface plate is shaved by such correction are not discharged from the surface plate and function as a grindstone. That is, the smoothness of the surface plate is corrected by using the facets and loose abrasive grains.
上述のような研削と修正とを繰り返すラッピング等の方法は、遊離砥粒法と呼ばれる。しかしながら、遊離砥粒法を用いる研削は、加工時間がかかって能率が悪く、また縁部にダレを生じるなどの問題点があった。一方、近年、定盤による研削に要求される精度が高まり、ガラス基板の平滑性を今まで以上に向上させる必要が生じている。 A method such as lapping that repeats grinding and correction as described above is called a loose abrasive method. However, grinding using the loose abrasive method has problems such as long processing time, poor efficiency, and sagging at the edges. On the other hand, in recent years, the accuracy required for grinding with a surface plate has increased, and it has become necessary to improve the smoothness of glass substrates more than ever.
これらの事情により、ラッピング等の遊離砥粒法は、近年開発された、微粒ダイヤモンドを含有する微粒レジノイドボンドダイヤモンドを固定砥粒として研削面に貼り付けた定盤による、固定砥粒法に置き換えられつつある(特許文献1〜特許文献3)。 Due to these circumstances, the loose abrasive method such as lapping has been replaced by a fixed abrasive method that has been developed in recent years, using a surface plate in which fine resinoid bond diamond containing fine diamond is affixed to the grinding surface as fixed abrasive. (Patent Documents 1 to 3).
しかし、かかる固定砥粒法の定盤を用いてガラス基板の主表面を研削した場合も、研削が継続されるにつれて、砥粒が脱落して研削面の平滑性が低下し、次第にガラス基板へ平滑性を付与できなくなるという欠点がある。具体的には、定盤の研削面にウネリが形成されてしまう。 However, even when the main surface of the glass substrate is ground using the surface plate of the fixed abrasive method, as the grinding is continued, the abrasive grains fall off and the smoothness of the ground surface is gradually lowered, and gradually to the glass substrate. There is a drawback that smoothness cannot be imparted. Specifically, undulation is formed on the ground surface of the surface plate.
このようなウネリを修正するために、砥石を用いて定盤研削面の平滑性を修正する方法がある。具体的には、砥石が削れることにより発生した切子が研削剤として作用し、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を貼り付けた定盤の平滑性を修正することになる(特許文献4)。
しかしながら、砥石を用いて定盤の平滑性を修正した場合、ガラス基板の研削工程によって発生したウネリより大きな形状波長のウネリを生じてしまう。これは、砥石が、鋳鉄製修正リングと同程度の板厚を有し、曲げに対して強いためである。生じるウネリの形状波長が大きいほど、定盤の平滑性は修正前より向上するものの、依然としてウネリは残存する。このウネリを修正しなければ、定盤は、研削工程において、ガラス基板へ平滑性を付与できない。 However, when the smoothness of the surface plate is corrected using a grindstone, undulation having a shape wavelength larger than that generated by the grinding process of the glass substrate is generated. This is because the grindstone has the same thickness as the cast iron correction ring and is strong against bending. Although the smoothness of the surface plate is improved as the shape wavelength of the undulation generated is larger than before correction, the undulation still remains. Unless this undulation is corrected, the surface plate cannot impart smoothness to the glass substrate in the grinding process.
本発明はこのような課題に鑑み、固定砥粒を貼り付けた定盤のウネリを効率よく的確に修正することで、平滑性に優れた磁気ディスク用ガラス基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法と、かかるガラス基板から磁気ディスクを製造する磁気ディスク製造方法と、平滑性に優れた磁気ディスク用ガラス基板とを提供することを目的とする。 In view of such problems, the present invention is a method for producing a magnetic disk glass substrate that is excellent in smoothness by efficiently and accurately correcting the undulation of a surface plate to which fixed abrasive grains are bonded. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method, a magnetic disk manufacturing method for manufacturing a magnetic disk from such a glass substrate, and a magnetic disk glass substrate excellent in smoothness.
本発明による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、上述の課題を解決するために、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤を用いてガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程の後に、修正面がガラス材料で構成された修正部材の修正面と、定盤の研削面とを、互いに押圧させて摺動させる修正工程とを含むことを特徴とする。これによって定盤の研削面の平滑性が高められる。 In order to solve the above-described problem, the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is a grinding method in which a main surface of a glass substrate is ground using a surface plate in which fixed abrasive grains containing diamond particles are arranged on a grinding surface. And a correction step in which the correction surface of the correction member whose correction surface is made of a glass material and the ground surface of the surface plate are pressed against each other and slid after the grinding step. This improves the smoothness of the ground surface of the surface plate.
本発明による磁気ディスク用ガラス基板の他の製造方法は、上述の課題を解決するために、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤を用いてガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程の後に、修正面がガラス材料で構成された修正部材の修正面と、定盤の研削面とを、互いに押圧させて摺動させるとともに、定盤の研削面にクーラントを供給し、クーラントを循環させて濾過することにより、修正工程中に生じる切子を研削面から除去する修正工程とを含むとよい。 Another method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is to grind the main surface of a glass substrate using a surface plate in which fixed abrasive grains including diamond particles are arranged on a grinding surface in order to solve the above-described problems. And after the grinding process, the correction surface of the correction member whose correction surface is made of a glass material and the grinding surface of the surface plate are pressed against each other and slid, and the grinding surface of the surface plate is cooled with coolant. It is good to include the correction process which removes the facet which arises during a correction process from the grinding surface by supplying and circulating coolant and filtering.
このように切子を除去する理由は、次の通りである。すなわち、クーラント用の容器と定盤との間で循環するクーラント中に切子が存在した場合、流れの途中で水分が蒸発したり、波が発生したりし、凝集して異物となってキズ発生を引き起こすおそれがあるからである。 The reason for removing the facets in this way is as follows. In other words, if there is a face in the coolant that circulates between the coolant container and the surface plate, moisture will evaporate in the middle of the flow, or waves may be generated, agglomerating and forming foreign objects. It is because there is a possibility of causing.
上述の修正工程は、遊星歯車方式を用いて行うとよい。 The correction process described above may be performed using a planetary gear system.
また、上述の研削工程の前に、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を定盤の研削面に配備する固定砥粒配備工程と、定盤の研削面と、前記ガラス基板より厚く、修正面が金属材料で構成された金属製修正部材の修正面とを、遊離砥粒を含む研削液を供給しながら、互いに押圧させて摺動させる初期修正工程と、前記定盤の研削面と、ダミーガラスとを互いに押圧させて摺動させる平滑性準備工程とを含むとよい。 Further, prior to the above-described grinding step, a fixed abrasive grain disposing step of disposing fixed abrasive grains containing diamond particles on the ground surface of the surface plate, a ground surface of the surface plate, and a thicker correction surface than the glass substrate An initial correction step in which a correction surface of a metal correction member made of a material is slid while being pressed against each other while supplying a grinding liquid containing loose abrasive grains, a grinding surface of the surface plate, a dummy glass, It is good to include the smoothness preparation process which presses and mutually slides.
このように、金属性修正部材と遊離砥粒を含む研削液とを用いて定盤の平滑性を修正した場合には、修正部材とクーラントとを用いて修正した場合とは異なり、実際の研削工程で使用できるほどの平滑性は得られない。しかし、定盤にダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を固着した直後には、とりわけ平滑性が劣っているため、数100μm程度の大きな取代を取って修正を行うことができ、粗い修正ではあるものの、定盤全体の平滑性を改善することができる。 As described above, when the smoothness of the surface plate is corrected using the metallic correction member and the grinding fluid containing loose abrasive grains, the actual grinding is different from the case where the correction is performed using the correction member and the coolant. Smoothness that can be used in the process cannot be obtained. However, immediately after fixing the fixed abrasive grains containing diamond particles to the surface plate, the smoothness is particularly inferior, so it is possible to take a large machining allowance of about several hundreds μm, although it is a rough correction, The smoothness of the entire platen can be improved.
また、その後、実際の研削工程で使用できるほどの平滑性を準備するために、ダミーガラスを研削して粗さを低減すればよい。このように、大きな取代の修正と小さな取代の修正とを組み合わせることにより、本発明では、効率的に定盤のウネリを修正することができる。 Thereafter, in order to prepare such smoothness that can be used in an actual grinding process, the dummy glass may be ground to reduce the roughness. Thus, by combining the correction of the large machining allowance and the modification of the small machining allowance, the undulation of the surface plate can be corrected efficiently in the present invention.
本発明による磁気ディスクの製造方法は、上述のいずれかの方法によって製造したガラス基板に少なくとも磁性層を形成することによって製造することを特徴とする。 The method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention is characterized in that it is manufactured by forming at least a magnetic layer on a glass substrate manufactured by any one of the methods described above.
上述の磁性層は、CoCrPt基合金から成る垂直磁気記録層を含んでよい。 The magnetic layer described above may include a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt-based alloy.
本発明による磁気ディスク用ガラス基板は、上述の磁気ディスクの製造方法を用いて製造され、DFH(Dynamic Flying Height)ヘッド対応の磁気ディスク用のガラス基板であることを特徴とする。 A glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is manufactured using the above-described magnetic disk manufacturing method, and is a glass substrate for a magnetic disk compatible with a DFH (Dynamic Flying Height) head.
本発明によれば、固定砥粒を貼り付けた定盤のウネリを的確かつ効果的に修正することで、平滑性に優れた磁気ディスク用ガラス基板を製造し、かかるガラス基板から磁気ディスクを製造することが可能である。 According to the present invention, a glass substrate for a magnetic disk excellent in smoothness is manufactured by accurately and effectively correcting the undulation of a surface plate to which a fixed abrasive is attached, and a magnetic disk is manufactured from the glass substrate. Is possible.
次に添付図面を参照して本発明による磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスク製造方法の実施形態を詳細に説明する。図中、本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。また、同様の要素は同一の参照符号によって表示する。 Embodiments of a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate and a method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the figure, elements not directly related to the present invention are not shown. Similar elements are denoted by the same reference numerals.
図1は、本発明の実施形態を適用する定盤に含まれる、ガラス基板用のキャリヤを示す図である。ガラス基板100は、下定盤10の上にて、外周にギヤを有するキャリヤ110に保持され、このキャリヤ110を太陽ギヤ120、インターナルギヤ130に噛合させる。太陽ギヤ120を矢印方向に回転させることにより、各キャリヤ110はそれぞれの矢印方向に遊星歯車として自転しながら公転する。
FIG. 1 is a view showing a glass substrate carrier included in a surface plate to which an embodiment of the present invention is applied. The
図5(a)は図1のキャリヤ110のA−A断面図であり、下定盤10に対して上定盤140が上下方向に移動可能であって、上下からキャリヤ110を挟み、ガラス基板100の研削を行う様子を示している。図5(a)に示すように、上定盤140と下定盤10とには、それぞれ、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150が研削面に配備され、かかる定盤200が回転することにより、ガラス基板100の主表面が研削される。
5A is a cross-sectional view taken along line AA of the
なお、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150は、図5(a)に示す、複数のダイヤモンド粒子を樹脂で結合することによりペレット状にしたものとしてもよいし、図6に示すように、ダイヤモンド粒子を、樹脂を用いた接着、あるいは電着によって、上下の定盤140、10に平面的に接着させたダイヤモンドシート160を用いてもよい。
The fixed abrasive 150 including diamond particles may be formed into a pellet by bonding a plurality of diamond particles as shown in FIG. 5A with a resin, or as shown in FIG. Alternatively, a
研削加工を継続するにつれて、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150またはダイヤモンドシート160を固着した定盤の研削面には、半波長が60〜70mmのウネリが生じてしまう。そして、このウネリが残存する状態でガラス基板の研削加工を行った場合には、ガラス基板の平滑性(基板主表面全体における高低差)が悪化してしまう。
As grinding is continued, undulation with a half wavelength of 60 to 70 mm is generated on the ground surface of the surface plate to which the fixed
そこで、本発明の実施形態の目的は、後述するように、固定砥粒150、160が配備された定盤の研削面を平滑化することである。ペレット状の固定砥粒150を用いる場合は、下定盤に関しては高さが均一となり、上下の定盤に関してはそれらが平行かつ平坦となることが平滑化を意味する。ダイヤモンドシート160の場合は、その研削面が平滑化されることを意味する。
Therefore, an object of the embodiment of the present invention is to smooth the ground surface of the surface plate on which the fixed
このような修正を行うには、定盤に発生した上記ウネリを、修正部材を用いて修正する必要がある。この修正部材の材料は、上記ウネリを修正できるものであればいかなるものでもよいが、ガラス材料が好ましい。 In order to perform such correction, it is necessary to correct the undulation generated on the surface plate using a correction member. Any material can be used for the correction member as long as it can correct the undulation, but a glass material is preferable.
図2は本発明の実施形態に用いる修正部材の例である、ガラス修正リングを示す図である。図2(a)(b)に示すガラス修正リング202A、202Bは、いずれも、図1に示すキャリヤ110と置換可能な構成を有する。すなわち、外周にギヤを有するキャリヤ210A、210Bに保持され、金属製の心材220A、220Bの上下にガラスを貼り付けたものとしてよい。あるいは、図示しないものの、心材のない板状のガラスとしてもよい。ここで、ガラス修正リングの修正面を構成するガラス材料は、加工対象であるガラス基板100のそれと同じものでよく、異なるものでもよい。
FIG. 2 is a view showing a glass correction ring which is an example of a correction member used in the embodiment of the present invention. Each of the glass correction rings 202A and 202B shown in FIGS. 2A and 2B has a configuration that can replace the
図2(a)のガラス230Aは、キャリヤ210Aの円周に沿って貼り付けられた矩形のガラスである。キャリヤ210Aの中央部は円形の空洞になっていて、ガラスは貼られていない。図2(b)のガラス230Bも、キャリヤ210Bの円周に沿って、より細かいピッチで、矩形のガラスを、内外2つの円形に貼り付けたものである。内側の円形に沿って貼られたガラスは、角がトリミングされた略正方形の形状を有する中央の空洞によって、あたかも侵食されたかのような形状となっている。
The
図2(a)(b)に示すように、ガラス修正リング202A、202Bのガラスは、キャリヤの円周に沿って配置されていて、キャリヤ全体はガラスによって被覆されていない。これは、キャリヤ全体がガラスになると、定盤と接触した場合に摩擦力が大きくなりすぎ、定盤に対してガラス修正リングを回転させることができず、定盤の研削面の平滑性の向上という目的が達成できなくなるからである。また、キャリヤ全体がガラスによって被覆される必要がないことから、ガラスその他の材料コストを節約する利点もある。 As shown in FIGS. 2A and 2B, the glass of the glass correction rings 202A and 202B is disposed along the circumference of the carrier, and the entire carrier is not covered with the glass. This is because when the entire carrier is made of glass, the frictional force becomes too large when it comes into contact with the surface plate, and the glass correction ring cannot be rotated relative to the surface plate, improving the smoothness of the ground surface of the surface plate. This is because the purpose cannot be achieved. There is also the advantage of saving glass and other material costs since the entire carrier need not be coated with glass.
図3は、図2に示したガラス修正リングが、図1のキャリヤと置換可能であることを示す図である。ガラス基板100の研削時には遊星歯車として各キャリヤ110を用い、定盤の平滑性の修正時には、各キャリヤ110に換えて、図2(a)(b)に示すガラス修正リング202A、202Bのいずれかを遊星歯車とすることが可能である。なお、図3では代表として、キャリヤ110をガラス修正リング202Aに置換している。
FIG. 3 is a view showing that the glass correction ring shown in FIG. 2 can be replaced with the carrier shown in FIG. When the
図4は、図3に示す置換の結果を示す図である。図4(a)はキャリヤ110を、図2(a)に示すガラス修正リング202Aに置換した図、図4(b)はキャリヤ110を、図2(b)に示すガラス修正リング202Bに置換した図である。このようにして、研削対象であるガラス基板100のキャリヤ110を、ガラス修正リング202Aまたは202Bに置換し、ガラス基板100の研削を行ったときと同様に定盤を回転させることにより、定盤の研削面がガラス修正リング202Aまたは202Bによって削られ、平滑性が修正されることとなる。
FIG. 4 is a diagram showing the result of the replacement shown in FIG. FIG. 4A is a view in which the
図5は定盤200の断面図を示し、図5(a)は図1のA−A断面図、図5(b)は図4(a)のX−X断面図である。ガラス基板100の研削時には、図5(a)に示すように、キャリヤ110を上下の定盤140、110で挟み、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150が配備された研削面と、ガラス基板100の主表面とを、互いに押圧させて摺動させることによって、ガラス基板100の研削が行われる。
5 shows a cross-sectional view of the
一方、定盤200の研削面の平滑性の修正時には、図5(b)に示すように、キャリヤ110と置換した修正リング202Aを、研削時と同様に上下の定盤140、110で挟み、互いに押圧させて摺動させる。これによって、研削面の固定砥粒150が削られ、それらの高さが一様になる。すなわち、研削工程において低下した、研削面の平滑性が修正され、研削時に、研削対象であるガラス基板100に対して、平滑性を付与できる状態にまで、研削面の平滑性が回復する。
On the other hand, when correcting the smoothness of the ground surface of the
図6は図4(b)のY−Y断面図である。なお、図6では、ペレット状の固定砥粒150でなく、上下の定盤140、10に平面的に接着させたダイヤモンドシート160を用いている。
FIG. 6 is a YY cross-sectional view of FIG. In FIG. 6, a
図5(b)および図6のいずれの場合も、ガラス修正リング202A、202Bのうち、修正面を構成するガラス230A、230Bは、図5(a)に示すガラス基板100以上の厚さを有する。
5B and 6B, among the glass correction rings 202A and 202B, the
このような厚さを持たせている理由は、修正リング202A、202Bの修正能力を高めるためである。上下の定盤140、10のような両面研磨機の場合、それらの間に挟まれる被加工対象の厚さが厚いほど、曲げ強度が強くなるためか、加工がしやすい。修正リング202A、202Bによって上下の定盤140、10を修正するときも同様であり、修正リングが厚いほど修正能力は向上する。すなわち、ガラス基板100のように薄い被加工対象を加工して発生したウネリは、被加工対象より厚い対象を加工することで、低減させることが可能である。
The reason for having such a thickness is to increase the correction capability of the correction rings 202A and 202B. In the case of a double-side polishing machine such as the upper and
このような厚さのガラス材料で構成されたガラス修正リング202Aまたは202Bの修正面と、上下の定盤10、140の研削面とを、クーラントを供給しながら、互いに押圧させて摺動させることにより、上下の定盤140、10の研削面の平滑性を高めることができる。
The correction surface of the
ガラス修正リング202A、202Bを用いれば、60〜70mmの半波長のウネリを修正して、定盤の平滑性を向上させることができる。ガラス修正リング202A、202Bの修正面の平坦度(触針式表面粗さ測定装置を用いて測定領域8mmの領域を測定)は、0.2μm以下が好ましく、0.1μm以下がより好ましい。 If the glass correction rings 202A and 202B are used, it is possible to improve the smoothness of the surface plate by correcting the undulation of a half wavelength of 60 to 70 mm. The flatness of the correction surfaces of the glass correction rings 202A and 202B (measurement area of 8 mm is measured using a stylus type surface roughness measuring device) is preferably 0.2 μm or less, and more preferably 0.1 μm or less.
なお上述のように、ガラス修正リングは、ガラス基板100以上の厚さを有することが、定盤のウネリを修正するうえで好ましい。
As described above, it is preferable that the glass correction ring has a thickness equal to or larger than that of the
図7は図4に示す修正リングを用いて定盤の修正を行う際の研削装置の全体図である。研削装置300は下定盤10と上定盤140との間に、インターナルギヤ130を上下方向から挟む。インターナルギヤ130内には、研削時にはキャリヤ110が保持され、定盤の平滑性の修正時にはガラス修正リング202Aまたは202Bが保持される。なお図7では、上下の定盤140、10に平面的に接着させたダイヤモンドシート160を用いて研削面としている。
FIG. 7 is an overall view of the grinding apparatus when the surface plate is corrected using the correction ring shown in FIG. The grinding
研削工程または修正工程では、いずれも、既に述べたように、外周にギヤを有するキャリヤ110またはガラス修正リング202Aもしくは202Bをインターナルギヤ130内に遊星歯車として保持し、太陽ギヤ120を回転させる。これにより、ガラス基板の主表面またはガラス修正リング202Aもしくは202Bの修正面と、上下の定盤10、140の研削面とを、クーラントを供給しながら、互いに押圧させ、摺動させる。
In either the grinding process or the correction process, as described above, the
修正工程では、容器302内のクーラント310をポンプ320によって定盤200内に供給し、循環させる。この修正工程では、工程中に生じる、上下の定盤10、140の研削面が削られた切子を、定盤200の研削面から除去する。具体的には、クーラント310を循環させる際に、下定盤10内に設けられたフィルタ330で濾過し、そのフィルタ330に切子を滞留させる。
In the correction process, the
この修正工程において、上下の定盤10、140の研削面に配備されているペレット状の固定砥粒150またはダイヤモンドシート160の取代は、5〜30μmとするとよい。
In this correction process, the machining allowance of the pellet-shaped fixed abrasive 150 or the
図8は本発明の実施形態の処理の流れを示すフローチャートである。ガラス基板の研削を行う際には、まず、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150または160を定盤の研削面に配備する固定砥粒配備工程を行う(ステップS400)。
FIG. 8 is a flowchart showing the flow of processing according to the embodiment of the present invention. When grinding a glass substrate, first, a fixed abrasive grain arranging step is carried out in which the fixed
次に、定盤200の研削面と、前記ガラス基板より厚く、修正面が金属材料で構成された金属製修正部材の修正面とを、遊離砥粒を含む研削液を供給しながら、互いに押圧させて摺動させる初期修正工程を行う(ステップS410)。
Next, the ground surface of the
初期修正工程については図示を省略するが、この工程は、図7に示すものと同様の方式にて実行可能である。かかる初期修正工程を行う理由は、定盤200にダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150または160を固着した直後は、定盤200の研削面の平滑性がとりわけ低下しているからである。このときに定盤200の研削面に生じているウネリは、後に行われるガラス製リングを用いた修正で修正されるウネリ(半波長60〜70mm)より大きな形状波長のウネリであり、これを修正する必要がある。
Although the illustration of the initial correction process is omitted, this process can be executed in the same manner as shown in FIG. The reason for performing the initial correction process is that the smoothness of the ground surface of the
したがって、この場合には、本発明の実施形態におけるガラス修正リングでなく、鋳鉄製修正リングと、遊離研磨砥粒(例えば、粒径8〜15μm)を含むスラリとを用いて修正することが好ましい。かかる鋳鉄製修正リングと遊離研磨砥粒を含むスラリとを用いる場合には、ガラス修正リングによる修正時のそれより大きな、数100μm程度の取代によって、より大きな形状波長のウネリ成分を修正することができるからである。 Therefore, in this case, it is preferable to correct using a cast iron correction ring and a slurry containing loose abrasive grains (for example, a particle size of 8 to 15 μm) instead of the glass correction ring in the embodiment of the present invention. . When such a cast iron correction ring and a slurry containing loose abrasive grains are used, it is possible to correct the undulation component of a larger shape wavelength by a machining allowance of about several hundred μm, which is larger than that at the time of correction by the glass correction ring. Because it can.
このように鋳鉄などの金属製修正リングと遊離砥粒を含む研削液とを用いて定盤200の平滑性を初期修正した場合には、ガラス修正リング202A、202Bとクーラント310とを用いて修正した場合とは異なり、実際の研削工程で使用できるほどの平滑性は得られない。
Thus, when the smoothness of the
つまり、ガラス修正リング202A、202Bおよびクーラント310を用いた場合における修正と、鋳鉄製修正リングおよび遊離研磨砥粒を含むスラリを用いた場合における修正とでは、修正される形状波長および修正後の定盤の粗さが異なる。
In other words, the correction when the glass correction rings 202A and 202B and the
そこで、実際の研削工程で使用できる程度の平滑性を得るために、初期修正後には、ダミーガラスを研削して、粗さを低減させる(ステップS420)。 Therefore, in order to obtain smoothness that can be used in the actual grinding process, the dummy glass is ground after the initial correction to reduce the roughness (step S420).
その後、研削工程を行い、数10バッチのガラス基板の主表面を研削する(ステップS430)。研削工程の後に、研削工程にて低下した定盤200の平滑性を修正するため、研削対象であるガラス基板のバッチ間に、ガラス修正リング202A、202Bおよびクーラント310を用いて、定盤の修正を行う(ステップS440)。このとき修正されるウネリは、半波長が60〜70mmであり、取代は、5〜30μmとするとよい。
Then, a grinding process is performed and the main surface of several tens batches of glass substrates is ground (step S430). After the grinding process, in order to correct the smoothness of the
[実施例]
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
[Example]
Embodiments of a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate and a method for manufacturing a magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. This glass substrate for magnetic disk and magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.6 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm, It is manufactured as a magnetic disk having a predetermined shape such as a plate thickness of 0.381 mm) and a 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter of 12 mm, outer diameter of 48 mm, plate thickness of 0.508 mm). Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.
(1)形状加工工程およびラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング(研削)加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス(結晶化ガラス)を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
(1) Shape processing step and lapping step In the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to this example, first, the surface of the plate-like glass is lapped (ground) to obtain a glass base material. Cut the glass disc. Various plate glasses can be used as the plate glass. This plate-like glass can be manufactured by using a known manufacturing method such as a press method, a float method, a downdraw method, a redraw method, or a fusion method using a molten glass as a material. Of these, plate glass can be produced at low cost by using the pressing method. As the material of the plate glass, amorphous glass or glass ceramics (crystallized glass) can be used. As the material for the plate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used. In particular, as an amorphous glass, an aluminosilicate glass can be preferably used in that it can be chemically strengthened and a magnetic disk substrate excellent in flatness of the main surface and substrate strength can be supplied.
本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、Li2O:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 In this example, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% Chemically strengthened glass contained as
次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。 Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed from above and below on both sides of the plate glass, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively to perform lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.
(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング、チャンファリング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング、チャンファリング)。
(2) Cutting process (coring, forming, chamfering)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the center of the glass substrate to obtain an annular glass substrate (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming, chamfering).
(3)固定砥粒法による研削工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、研削加工を行った。その具体的な手順は、図8のフローチャートに示した通りである。この研削工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Grinding process by fixed abrasive method Next, grinding was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate. The specific procedure is as shown in the flowchart of FIG. By performing this grinding process, it is possible to remove in advance the fine unevenness formed on the main surface in the cutting process and end face polishing process, which are the previous processes, and the subsequent polishing process for the main surface can be performed in a short time. Can be completed.
図9は本発明の実施例の比較対象である、比較例の定盤断面プロフィールを時系列に沿って示すグラフであり、図10は本発明の実施例の定盤断面プロフィールを時系列に沿って示すグラフである。ここでプロフィールとは、上定盤140の研削面の高さを、所定の基準高さである0ミクロンと比較したものである。
FIG. 9 is a graph showing the surface plate cross-sectional profile of the comparative example along the time series, which is a comparison object of the embodiment of the present invention, and FIG. 10 shows the surface plate cross-sectional profile of the embodiment of the present invention along the time series. It is a graph shown. Here, the profile is a comparison of the height of the ground surface of the
図9(a)は、比較例において、定盤200にダイヤモンド粒子を含む固定砥粒150または160を固着した直後に鋳鉄製修正リングによる初期修正を行った後の定盤断面プロフィールを示す。これは、本発明の実施形態のフローチャートを示す図8におけるステップ410が実行された後の状態に等しい。このプロフィールは、基準高さである0ミクロンの上下に分布していて、しかも、不連続な点がばらついた状態になっている。
FIG. 9A shows a platen cross-sectional profile after initial correction by a cast iron correction ring immediately after fixing fixed
比較例において、図9(a)の状態から、50バッチのガラス基板を研削した後のプロフィールを、図9(b)に示す。研削面は削れて、激しく波打ったプロフィールとなっていて、平滑性が著しく低下したことが分かる。この50バッチのガラス基板の平坦度は、3μm(触針式表面粗さ測定装置を用いて測定領域8mmの領域を測定)であった。そして、その後、さらに50バッチのガラス基板を検索した結果、ガラス基板の平坦度は、10μmとなった。 In the comparative example, the profile after grinding 50 batches of glass substrates from the state of FIG. 9A is shown in FIG. It can be seen that the ground surface is sharpened and has a severely wavy profile, and the smoothness is significantly reduced. The flatness of these 50 batches of glass substrates was 3 μm (measurement area of 8 mm was measured using a stylus type surface roughness measuring apparatus). And after that, as a result of searching 50 batches of glass substrates, the flatness of the glass substrate became 10 micrometers.
一方、図10(a)は、本発明の実施例において、図8の初期修正(ステップS410)およびダミーガラスの研削(ステップS420)後の定盤断面プロフィールを示す。ガラス基板100の研削工程の直前の状態として、図10(a)と図9(a)とを比較すると、本発明の実施例のほうが、最高値と最低値の差も少なく、不連続な点がばらつくこともなく、明らかに、定盤断面の平滑性に優れている。
On the other hand, FIG. 10A shows a surface plate cross-sectional profile after the initial correction (step S410) and dummy glass grinding (step S420) of FIG. 8 in the embodiment of the present invention. When FIG. 10 (a) and FIG. 9 (a) are compared as the state immediately before the grinding process of the
図10(b)は本実施例において、図10(a)の状態から、20バッチのガラス基板を研削した後のプロフィール、すなわち図8の研削工程(ステップS430)後の定盤断面プロフィールを示す。研削面は削れて平滑性は低下しているが、比較例の研削後の状態を示す図9(b)と比較してみると、明らかに平滑性には優れている。 FIG. 10B shows a profile after grinding 20 batches of glass substrates from the state of FIG. 10A in this embodiment, that is, a cross-sectional profile of the surface plate after the grinding step (step S430) of FIG. . Although the ground surface is shaved and the smoothness is lowered, the smoothness is clearly superior when compared with FIG. 9B showing the state after grinding in the comparative example.
図10(c)は本実施例において、図10(b)の状態から、ガラス修正リングによる修正工程、すなわち図8の修正工程(ステップS440)を30分間行った後の定盤断面プロフィールを示す。プロフィールの波がなくなり、最高値と最低値の差も少なくなり、平滑性が回復したことが分かる。 FIG.10 (c) shows the surface plate cross-sectional profile after performing the correction process by a glass correction ring, ie, the correction process (step S440) of FIG. 8, for 30 minutes from the state of FIG.10 (b) in a present Example. . It can be seen that the wave of the profile disappears, the difference between the maximum value and the minimum value decreases, and the smoothness is restored.
図10(d)は本実施例において、図10(c)の状態から、さらに50バッチのガラス基板を研削した後のプロフィール、すなわち図8の研削工程(ステップS430)が繰り返された後の定盤断面プロフィールを示す。この50バッチのすべての研削加工後のガラス基板の平坦度は、3μm以下となり、比較例と比較しても、ガラス基板の平滑性に優れている。この後も、ステップS440とS430とは交互に繰り返してよい。 FIG. 10 (d) shows the profile after grinding 50 batches of glass substrates from the state of FIG. 10 (c), that is, after the grinding step (step S430) in FIG. The board cross section profile is shown. The flatness of the glass substrates after grinding of all 50 batches is 3 μm or less, and the smoothness of the glass substrates is excellent even when compared with the comparative example. Thereafter, steps S440 and S430 may be alternately repeated.
(4)端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。
(4) End surface grinding | polishing process Next, mirror polishing was performed with the brush grinding | polishing method about the outer peripheral end surface of the glass substrate. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.
そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、200〜300枚ほどの多数枚を積層して研磨した場合であっても、内孔の公差や真円度が低下することなく良好な状態であった。 And the glass substrate which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face of the glass substrate was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium. In particular, the inner peripheral end face was in a good state without a decrease in tolerance and roundness of the inner hole even when a large number of about 200 to 300 sheets were laminated and polished.
(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.
この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。 The glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned.
次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。 Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foamed resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.
この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。 The glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.
(6)化学強化工程
次に、ガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、まず硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した粉末状の化学強化塩を、固体の化学強化塩として用意し、塩投入容器に投入して、電磁波発生器によって加熱溶融した。
(6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate was chemically strengthened. For chemical strengthening, first prepare a powdered chemical strengthening salt mixed with potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) as a solid chemical strengthening salt, put it into a salt charging container, and heat it with an electromagnetic wave generator. Melted.
このように、ガラス基板中のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化された。 Thus, lithium ions and sodium ions in the glass substrate were replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate was strengthened.
化学強化処理を終えたガラス基板を、20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。 The glass substrate that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a 20 ° C. water bath and rapidly cooled, and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning bath of pure water and IPA (isopropyl alcohol) sequentially.
上記の如く、ラッピング工程、切り出し工程、研削工程、端面研磨工程、第1および第2研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。 As described above, a flat and smooth, high-rigidity glass substrate for a magnetic disk is obtained by performing a lapping process, a cutting process, a grinding process, an end face polishing process, first and second polishing processes, and a chemical strengthening process. Obtained.
(7)磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(7) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate obtained through the above-described processes, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.
上述の磁気ディスクの製造方法を用いて製造された磁気ディスク用ガラス基板は、DFH(Dynamic Flying Height)ヘッド対応の磁気ディスク用のガラス基板である。 The glass substrate for a magnetic disk manufactured using the above-described magnetic disk manufacturing method is a glass substrate for a magnetic disk compatible with a DFH (Dynamic Flying Height) head.
磁気ヘッド浮上量の制御を安定化し、更なる低浮上量化を図るための技術の1つとして、近年、DFH(Dynamic Flying Height)という技術が開発されている。磁気ヘッドにヒータ素子を埋め込み、磁気ヘッドの動作時に、ヒータ素子を発熱させ、その熱によって磁気ヘッドが熱膨張し、磁気ディスクに向かってわずかに突出する。これにより、磁気ヘッドと磁気ディスク主表面との間の磁気的な間隙である磁気的スペーシングをその時にのみ小さくすることが可能である。すなわち、DFHとは、磁気ヘッドの磁気ディスクからの浮上量を低浮上量化することが可能な技術である。 In recent years, a technique called DFH (Dynamic Flying Height) has been developed as one of the techniques for stabilizing control of the flying height of the magnetic head and further reducing the flying height. A heater element is embedded in the magnetic head, and the heater element generates heat during operation of the magnetic head. The heat causes the magnetic head to thermally expand and slightly protrude toward the magnetic disk. As a result, the magnetic spacing, which is the magnetic gap between the magnetic head and the main surface of the magnetic disk, can be reduced only at that time. That is, DFH is a technology that can reduce the flying height of a magnetic head from a magnetic disk.
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.
本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、かかるガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する磁気ディスク製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板に適用可能である。 The present invention is applicable to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, a method for manufacturing a magnetic disk using such a glass substrate, and a glass substrate for a magnetic disk.
10 下定盤
140 上定盤
150 固定砥粒
160 ダイヤモンドシート
200 定盤
202A、202B ガラス修正リング
210A、210B キャリヤ
230A、230B ガラス
310 クーラント
10
Claims (9)
前記定盤の研削面と、ガラス基板より厚く、修正面が金属材料で構成された金属製修正部材の修正面とを、遊離砥粒を含む研削液を供給しながら、互いに押圧させて摺動させる初期修正工程と、
前記初期修正工程の後に、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤を用いてガラス基板の主表面を研削する研削工程と、
前記研削工程の後に、修正面がガラス材料で構成された修正部材の修正面と、前記定盤の研削面とを、互いに押圧させて摺動させる修正工程とを含み、
前記研削工程では、複数の前記ガラス基板を保持するキャリアを用いて、該ガラス基板の主表面を研削し、
前記修正工程で用いられる前記修正部材は、前記キャリアと置換可能な大きさを有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 A fixed abrasive grain deployment step of deploying fixed abrasive grains containing diamond particles on the grinding surface of the surface plate;
Slide the grinding surface of the surface plate and the correction surface of the metal correction member, which is thicker than the glass substrate and the correction surface is made of a metal material, while pressing each other while supplying a grinding liquid containing loose abrasive grains. An initial correction process,
After the initial correction step, a grinding step of grinding the main surface of the glass substrate using a surface plate provided with fixed abrasive grains containing diamond particles on the grinding surface;
After the grinding step, the correction surface includes a correction surface of a correction member made of a glass material and a correction step in which the grinding surface of the surface plate is pressed against each other and slid.
In the grinding step, using a carrier that holds a plurality of the glass substrates, the main surface of the glass substrate is ground,
The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein the correction member used in the correction step has a size that can replace the carrier.
前記定盤の研削面と、ガラス基板より厚く、修正面が金属材料で構成された金属製修正部材の修正面とを、遊離砥粒を含む研削液を供給しながら、互いに押圧させて摺動させる初期修正工程と、
前記初期修正工程の後に、ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒が研削面に配備された定盤を用いてガラス基板の主表面を研削する研削工程と、
前記研削工程の後に、修正面がガラス材料で構成された修正部材の修正面と、前記定盤の研削面とを、互いに押圧させて摺動させるとともに、前記定盤の研削面にクーラントを供給し、該クーラントを循環させて濾過することにより、前記修正工程中に生じる切子を前記研削面から除去する修正工程とを含み、
前記研削工程では、複数の前記ガラス基板を保持するキャリアを用いて、該ガラス基板の主表面を研削し、
前記修正工程で用いられる前記修正部材は、前記キャリアと置換可能な大きさを有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 A fixed abrasive grain deployment step of deploying fixed abrasive grains containing diamond particles on the grinding surface of the surface plate;
Slide the grinding surface of the surface plate and the correction surface of the metal correction member, which is thicker than the glass substrate and the correction surface is made of a metal material, while pressing each other while supplying a grinding liquid containing loose abrasive grains. An initial correction process,
After the initial correction step, a grinding step of grinding the main surface of the glass substrate using a surface plate provided with fixed abrasive grains containing diamond particles on the grinding surface;
After the grinding step, the correction surface of the correction member whose correction surface is made of a glass material and the grinding surface of the surface plate are pressed against each other and slid, and the coolant is supplied to the grinding surface of the surface plate. And a correction step of removing facets generated during the correction step from the ground surface by circulating and filtering the coolant,
In the grinding step, using a carrier that holds a plurality of the glass substrates, the main surface of the glass substrate is ground,
The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein the correction member used in the correction step has a size that can replace the carrier.
前記定盤の研削面と、ダミーガラスとを互いに押圧させて摺動させる平滑性準備工程を含むことを特徴とする請求項1から5までのいずれか1項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 Before the grinding process,
The glass substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 5, further comprising a smoothness preparation step in which the ground surface of the surface plate and the dummy glass are pressed against each other and slid. Production method.
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