JP5304499B2 - ストレーナ - Google Patents

Description

本発明は、脱硫吸収塔の液溜部などに設置されるストレーナに関する。

火力発電所等の石炭焚きのボイラの排ガス中には、硫黄酸化物（ＳＯｘ）が含まれている。この排ガス中に含まれる硫黄酸化物は、そのまま大気中に放出した場合には酸性雨等の原因となるため、除去する必要がある。そこで、火力発電所等では、ボイラの下流側に脱硫吸収塔を設置し、処理槽となる液溜部（スラリ液貯溜タンク）にて排ガス中の硫黄酸化物を除去した後、排ガスを大気中に放出するようにしている（例えば、特許文献１参照）。

ところで、脱硫吸収塔の液溜部では、脱硫過程で生成される石膏の粒塊が常に浮遊・対流している。したがって、この液溜部に設置されるスプレ循環用のポンプ吸い込み口から石膏粒塊が流入し、ポンプに吸引されてしまうことを防ぐため、吸い込み口の周りにストレーナを設置している（例えば、特許文献２参照）。

ストレーナは、金網やパンチングメタル等の多孔板と、庇と、開口部（開放部）とからなっている。すなわち、吸い込み口の前方や上方を覆って多孔板が配設され、この多孔板の上方に開口部を介して庇が配設されることで、ストレーナが構成されている。このようなストレーナによれば、多孔板によって石膏粒塊を濾過し液分のみを選択的に吸い込み口に流入させるようになっている。また、このようにして運転することで、多孔板に石膏が付着し、吸い込み面が閉塞してポンプに過剰な負荷がかからないよう、空隙からなる開口部（開放部）が多孔板の上方に設けられている。このように開口部が上方に設けられているため、大きな石膏粒塊はその自重によって沈降することにより、上方の開口部内には流入しないようになっている。

特開昭６１−１８５３０７号公報 特開昭６３−１１０４３号公報

ところが、このように開口部を多孔板の上方に配設しているにもかかわらず、例えば粒径が数十ｍｍと比較的大きな石膏粒塊がこの開口部を通って吸い込み口に流入してしまうことがある。すると、この石膏粒塊がスプレノズルや流量調節弁などを閉塞してしまったり、ポンプや配管の摩耗を促進してしまうといった不都合を生じてしまう。

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、液溜部において生成した粒塊が、開口部を通って吸い込み口に流入してしまうのを防止した、ストレーナを提供することにある。

本発明のストレーナは、粒塊を生成する液を溜める液溜部と、前記液溜部の側壁に設けられた吸い込み口と、前記吸い込み口に連通して設けられて前記液溜部内の前記液を吸い込む吸引ポンプと、を備えてなる液溜装置の、前記吸い込み口を覆って前記液溜部内に設けられるストレーナであって、
少なくとも前記吸い込み口の前方と上方とを覆うとともに、該吸い込み口の上方に対応する部位の一部を開放する開口部を有し、かつ、前記開口部以外の部位に微小開口を多数形成してなるストレーナ本体と、
前記ストレーナ本体の前記開口部の前方に設けられて、前記液中の前記粒塊が前記開口部内に流入するのを妨げる保護カバーと、を備えてなることを特徴としている。

このストレーナによれば、ストレーナ本体の開口部の前方に保護カバーを設けたので、液溜部内の液中に生成した粒塊が開口部内に流入するのが抑制される。

また、前記ストレーナにおいては、前記保護カバーが、前記ストレーナ本体の前記開口部における上端側全体を覆い、かつ、下端側を所定の間隔をあけて覆って設けられており、その下端が、前記開口部の下端縁より下方に位置するよう構成されているのが好ましい。

このようにすれば、特に粒塊が開口部の上方から開口部内に流入するのが確実に防止される。また、開口部の下端側は、保護カバーによって所定の間隔をあけて間接的に覆われているので、粒塊の付着によって吸引ポンプに過剰な負荷がかかることがない。

また、前記ストレーナにおいては、前記保護カバーの下端が、前記開口部の下端縁より下方に位置するよう構成されているのが好ましい。
このようにすれば、開口部の下方から上昇流に乗って上昇する粒塊が、開口部内に流入するのが抑制される。

また、前記ストレーナにおいては、前記保護カバーの下端が、前記ストレーナ本体の前記開口部の下端縁から該ストレーナ本体の下端までの高さの、１／３から２／３の高さ範囲内に位置するよう構成されているのが好ましい。
このようにすれば、開口部の下方から上昇流に乗って上昇する粒塊が、開口部内に流入するのがより一層抑制される。また、保護カバーがストレーナ本体の下端側を全部覆うことなく１／３以上を開放しているため、開口部への流路が保護カバーに覆われずに十分に確保され、したがって吸引ポンプに過剰な負荷がかかることが防止される。

また、前記ストレーナにおいては、前記保護カバーと前記ストレーナ本体との間に、これら保護カバーとストレーナ本体との間の隙間の一部を閉塞する邪魔板が設けられているのが好ましい。
このようにすれば、開口部の下方から保護カバーとストレーナ本体との間の隙間を上昇する上昇流が邪魔板によって遮られることにより、その流れの強さ（速さ）が抑えられる。したがって、この上昇流に粒塊が同伴され、開口部内に流入してしまうのが抑制される。

また、前記ストレーナにおいては、前記邪魔板が、前記保護カバーの内面に設けられた保護カバー側邪魔板と、前記ストレーナ本体の外面に設けられたストレーナ本体側邪魔板とを備えており、これら保護カバー側邪魔板とストレーナ本体側邪魔板とは、鉛直方向において間隔をあけて配置されているのが好ましい。

このようにすれば、前記の上昇流の流れの強さがより一層抑制される。また、上昇流の流れに同伴される粒塊自体も邪魔板に遮られ、再度下降するようになる。したがって、粒塊が開口部内に流入してしまうのがより一層抑制される。

また、前記ストレーナにおいては、前記保護カバーが、微小開口を多数形成してなる多孔板によって形成されているのが好ましい。
このようにすれば、この保護カバーも粒塊を濾過し液分のみを選択的に吸い込み口に流入させるようになり、したがって吸引ポンプにかかる負荷が軽減される。

また、前記ストレーナにおいては、前記ストレーナ本体が、微小開口を多数形成してなる多孔板からなる多孔板部と、該多孔板部の上方に配設された庇部と、前記多孔板部と前記庇部との間に設けられた前記開口部と、を有していてもよい。
さらに、前記ストレーナにおいては、前記液溜装置が脱硫吸収塔であり、前記液溜部は、前記粒塊として石膏を生成する液を溜めるものであってもよい。

本発明のストレーナにあっては、保護カバーを設けたことによって液溜部内の液中に生成した粒塊が開口部内に流入するのを抑制しているので、この粒塊がポンプや配管の摩耗を促進してしまったり、スプレノズルや流量調節弁などを閉塞してしまうといった不都合を防止することができる。

本発明のストレーナを備えた脱硫吸収塔の概略構成図である。 本発明のストレーナの第１実施形態を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は平面図である。 本発明のストレーナの第２実施形態を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は（ｂ）の要部拡大図である。

以下、本発明のストレーナを詳しく説明する。
図１は、本発明のストレーナを備えた脱硫吸収塔の要部を示す断面図であり、図１中符号１は脱硫吸収塔である。なお、以下の図面では、各部材の認識を容易にするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

この脱硫吸収塔１は、石炭焚きのボイラ（図示せず）の下流側に配置されるもので、処理槽となる液溜槽（液溜部）２と、排ガス導入路３と、排ガス排出路４とを備えて構成されている。液溜槽２は、略有底円筒形に形成されたもので、その内部にてボイラから排出された排ガスＸに対し、例えば炭酸カルシウムを含む硫黄除去液Ｙを噴霧することにより、排ガスＸ中から硫黄酸化物を除去するものである。すなわち、排ガスＸ中の硫黄酸化物を硫黄除去液Ｙ中の水酸化カウシウムと反応させ、石膏（硫酸カルシウム）を生成させてこれを液溜槽２中に沈降させることにより、排ガスＸ中から硫黄酸化物を除去している。

この液溜槽２の高さ方向の略中央部には、排ガスＸを液溜槽２内に導入するための排ガス導入口２１が形成されており、この排ガス導入口２１には、ボイラ等と接続された排ガス導入路３が接続されている。また、液溜槽２の上部には、排ガスＸを液溜槽２の外部に排出するための排ガス排出口２２が形成されており、この排ガス排出口２２には、排ガス排出路４が接続されている。そして、この排ガス排出路４の内部には、排ガスＸ中に含まれる硫黄除去液Ｙを排ガスＸ中から捕集除去するための、ミストエリミネータ５が設置されている。

液溜槽２内部の上部には、硫黄除去液Ｙを噴霧するスプレノズル６が複数配置されている。スプレノズル６は、複数段（本例では３段）に亘って配置されており、さらに各段において複数ずつ配置されている。これらスプレノズル６は、該スプレノズル６に対して硫黄除去液Ｙを供給するスプレヘッダ７に接続されている。このスプレヘッダ７には吸引ポンプ８が接続されており、この吸引ポンプ８は、液溜槽２に設けられた吸い込み口９に連通している。

吸い込み口９は、液溜槽２の側壁部の底部側に形成されたもので、配管９ａを介して前記吸引ポンプ８に連通したものである。このような構成のもとに吸引ポンプ８は、吸い込み口９から液溜槽２内の液である硫黄除去液Ｙを吸い込み、これをスプレヘッダ７に圧送することで、スプレノズル６より硫黄除去液Ｙを噴霧し、排ガスＸに気液接触させるようになっている。

また、液溜槽２内には、前記吸い込み口９を覆ってストレーナ１０が設けられている。このストレーナ１０は、本発明の第１実施形態となるもので、図２（ａ）〜（ｃ）に示すようにストレーナ本体１１と保護カバー１２とからなっている。ストレーナ本体１１は、図２（ａ）、（ｂ）に示すように吸い込み口９の前方と斜め上方とを含んで該吸い込み口９の周囲を覆う多孔板部１３と、この多孔板部１３の上方に配設された庇部１６と、多孔板部１３と庇部１６との間に設けられた開口部１７と、を有して構成されたものである。

多孔板部１３は、金網やパンチングメタルなどの、微小開口を多数形成してなるステンレス等の耐食性の金属による多孔板からなるもので、有底円筒を縦方向（軸方向）で二つに分割したうちの一方の形状を有したものである。すなわち、多孔板部１３は、略半円形状の底板部１４と、多孔板を平面視略半円弧状に曲げた半円筒状の側壁部１５とからなっている。なお、底板部１４については、多孔板で形成しても、開口のない板で形成してもよいが、多孔板部１３全体で十分に大きな開口率、例えば５０〜６５％程度を確保するためには、底板部１４についても多孔板で形成するのが好ましい。

また、この多孔板部１３は、図１、図２（ｂ）に示すように前記吸い込み口９を覆ってその前方、すなわち液溜槽２内に突出した状態で、液溜槽２の内壁に取付固定されている。そして、その底板部１４が吸い込み口９の下端より少し下側に配置され、かつ、側壁部１５の上端が吸い込み口９より十分に高くなるように配置されている。すなわち、本実施形態では、多孔板部１３はその側壁部１５の上端が、吸い込み口９の上端より、この吸い込み口９の内径の１．５倍〜２．５倍程度の長さ分、上方に配置されている。
また、この多孔板部１３は、側壁部１５が平面視略半円弧状に曲げられていることにより、その上端側は開放されて、開口した形状になっている。

庇部１６は、多孔板部１３の上方に配設され、したがってこの多孔板部１３の前記した上端側の開口を覆って配設されたものである。すなわち、この庇部１６は、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、円錐の側面（側周面）を縦方向（中心軸方向）に２分割したうちの一方の形状にほぼ等しいもので、平面視略半円形状のものである。また、この庇部１６は、図２（ｃ）に示すようにその外周縁が、多孔板部１３の側壁部１５より外側に延出して形成されている。また、この庇部１６は、多孔板部１３と同様に液溜槽２の内壁に取付固定されており、さらに、多孔板部１３の上端部に複数の支持棒１８を介して連結され、これによって多孔板部１３の上端から離間した状態に配置固定されている。

そして、この庇部１６と多孔板部１３の上端との間の隙間が、前記した開口部１７となっている。この開口部１７は、液溜槽２内に生成した石膏粒塊によって多孔板部１３が目詰まりを起こした際に、吸引ポンプ８に過剰な負荷がかかるのを防止するためのものである。この開口部１７は、多孔板部１３の上端より上方に設けられており、したがって液溜槽２の底面側に配置された吸い込み口９より十分に高い位置となることから、液溜槽２の底面より十分上方に配設されたものとなっている。よって、生成した石膏粒塊がこの開口部１７まで上昇し、ここを通って吸い込み口９に流入してしまうことはほとんどないものの、後述する撹拌装置による撹拌効果などにより、従来では例えば粒径が数十ｍｍと比較的大きな石膏粒塊がこの開口部１７を流入してしまうことがあった。

そこで、本発明のストレーナでは、この開口部１７の前方に保護カバー１２を設けている。保護カバー１２は、液溜槽２内の前記硫黄除去液Ｙ中の石膏粒塊が開口部１７内に流入するのを妨げ、これによって石膏粒塊の流入を抑制するためのものである。すなわち、この保護カバー１２は、前記多孔板部１３の側壁部１５と同様に、金網やパンチングメタルなどのステンレス製の多孔板を、平面視略半円弧状に曲げた半円筒状のものである。ただし、この保護カバー１２は、平面視した状態での半径が側壁部１５より大きく形成され、したがって、その周方向の長さが側壁部１５より一回り大きく形成されている。また、高さは側壁部１５の１／３〜２／３程度に形成されている。

すなわち、この保護カバー１２は、図２（ｂ）に示すように前記庇部１６の外周縁に、これより垂下した状態に取り付けられたもので、多孔板部１３の側壁部１５の前方に、例えば１５０〜２００ｍｍ程度間隔をあけて配設されたものである。なお、この保護カバー１２の下端部には、支持棒（図示せず）が側壁部１５との間に設けられており、これによって保護カバー１２は側壁部１５との間の距離が一定に保持された状態で、側壁部１５の前方に固定されている。

また、この保護カバー１２は、その高さ方向の長さが、多孔板部１３の高さ方向の長さの半分程度になっている。すなわち、保護カバー１２は、その下端が、側壁部１５の上端縁（開口部１７の下端縁）から該側壁部１５の下端（ストレーナ本体１１の下端）までの高さの、１／３から２／３の高さ範囲内に位置するようになっているのが好ましく、本実施形態では、中間に位置するようになっている。

ここで、保護カバー１２の下端を、側壁部１５の高さの１／３から２／３の範囲内に位置させれば、後述するように前記開口部１７の下方から上昇流に乗って上昇する粒塊が開口部１５内に流入するのを、より確実に抑制することができる。また、保護カバー１２がストレーナ本体１１の側壁部１５の下端側を全部覆うことなく、１／３以上を開放するため、開口部１５に通じる流路を、保護カバー１２で全部覆うことなく十分に確保することができ、したがって吸引ポンプ８に過剰な負荷がかかるのを防止することができる。そして、本実施形態では保護カバー１２の下端を側壁部１５の高さの中間に位置させているため、前記した効果がより顕著になる。

図１に戻り、液溜槽２の下部には、該液留層２内に溜められた硫黄除去液Ｙを撹拌するための撹拌装置１９が設けられ、さらに、液溜槽２内に空気を供給するための空気供給管２０が接続されている。硫黄除去液Ｙは、例えば炭酸カルシウムを含有したもので、スプレノズル６から噴霧され、排ガスＸと気液接触させられることにより、この排ガスＸ中の硫黄酸化物を吸収し、液溜槽２内に落下し溜められるようになっている。
なお、液溜層２には、硫黄除去液Ｙを供給するための供給管（図示せず）に接続する液流入口２４が設けられ、また、該硫黄除去液Ｙ及び石膏粒塊を排出するための排出管（図示せず）に接続する排出口２５が設けられている。

次に、このような構成の脱硫吸収塔１の稼働について説明する。
まず、吸引ポンプ８を駆動することにより、液溜槽２に溜められた硫黄除去液Ｙをスプレヘッダ７を介して各スプレノズル６に供給する。そして、スプレノズル６に供給した硫黄除去液Ｙを、各スプレノズル６から下方に向けて放射状に噴霧する。これにより、噴霧された硫黄除去液Ｙは排ガスＸと気液接触させられ、この排ガスＸ中の硫黄酸化物を吸収して液溜槽２内に落下し、ここに溜められる。

このようにして液溜槽２内に溜められた硫黄除去液Ｙは、空気供給管２０を介して供給される空気と共に撹拌装置１９によって撹拌されることにより、含有する炭酸カルシウムが吸収した硫黄酸化物と反応し、硫酸カルシウム（石膏）を析出してその粒塊を生成する。そして、このようにして生成した石膏粒塊は、撹拌装置１９や空気供給管２０による撹拌効果により、液溜槽２内において対流しつつ、より大きな粒塊となるように成長する。

また、このような石膏粒塊を含む硫黄除去液Ｙは、吸引ポンプ８によって循環使用させられるべく、吸い込み口９に吸入させる。その際、十分に成長していない微小な石膏粒塊は、ストレーナ１０の多孔板部１３の微小開口を通過して吸い込み口９に流入するものの、ある程度成長した大半の石膏粒塊は、多孔板部１３や保護カバー１２によって吸い込み口９への流入が邪魔され、多くがここに付着する。

特に、開口部１７の前方には該開口部１７の全体を覆って保護カバー１２が設けられているので、開口部１７に向かってその側方から流れてくる石膏粒塊は、保護カバー１２によって流動が邪魔され、ここで遮断される。
そして、このような稼働時間が長くなると、石膏粒塊の付着によるストレーナ１０の目詰まりが顕著になり、その分、吸引ポンプ８の負荷が増大する。しかし、従来と同様に本実施形態のストレーナ１０も、開口部１７を有しているので、この開口部１７を通じての十分な吸入が可能になっているため、負荷の過剰な増大が回避されている。

また、外径が数十ｍｍ程度にまで成長した比較的大きな粒塊は、その自重によって沈降し、多くが液溜槽２の底部に溜まる。しかし、前記したように撹拌装置１９や空気供給管２０による撹拌効果によって液溜槽２内に上昇流が生じることにより、一部の石膏粒塊はこの上昇流に乗って上昇する。

このようにして上昇する石膏粒塊の一部は、従来では開口部１７の高さにまで到達し、そのまま開口部１７を通って吸い込み口９に流入することがあった。しかし、本実施形態では、保護カバー１２を、その下端が側壁部１５（多孔板部１３）の高さの中間に位置するように構成しているので、開口部１７に到る流路は、ストレーナ本体１１の側壁部１５と、保護カバー１２との間の隙間となる。しかも、この流路となる隙間は、側壁部１５の上側半分の高さ分続くため、この流路（隙間）を大きな石膏粒塊が上昇し続けるのは困難になる。

すなわち、保護カバー１２は、これが側壁部１５の高さの中間位置にまで垂れ下がって設けられていることにより、結果的に大きな石膏粒塊が開口部１７にまで上昇してここに流入するのを邪魔し、この石膏粒塊が吸い込み口に流入するのを良好に防止するものとなる。
また、側壁部１５と保護カバー１２との間の隙間は前記したように例えば２００ｍｍ程度と十分に広く、したがって石膏粒塊を除く硫黄除去液Ｙの流動に関しては何等妨げられることはない。よって、前記したようにストレーナ１０の目詰まりが顕著になっても、開口部１７についてはその流路が依然として確保されるため、吸引ポンプ８に過剰な負荷が生じることが回避される。

このように本実施形態のストレーナ１０にあっては、保護カバー１２を設けたことによって液溜槽２内の液中に生成した石膏粒塊が開口部１７内に流入するのを抑制しているので、この石膏粒塊が吸引ポンプ８や配管９ａの摩耗を促進してしまったり、スプレノズル６やこれに接続される流量調節弁（図示せず）などを閉塞してしまうといった不都合を防止することができる。

また、保護カバー１２を、特に開口部１７における上端側全体を直接覆い、下端側を所定の間隔をあけて間接的に覆った状態に設けているので、石膏粒塊が開口部１７の上方から開口部１７内に流入するのを確実に防止することができる。また、開口部１７の下端側については、保護カバー１２によって所定の間隔をあけて間接的に覆っているので、石膏粒塊の付着によって吸引ポンプ８に過剰な負荷がかかることを防止することができる。
さらに、保護カバー１２の下端が、開口部１７の下端縁より下方に位置するように構成しているので、開口部１７の下方から上昇流に乗って上昇する石膏粒塊が、開口部１７内に流入するのを抑制することができる。

次に、本発明のストレーナの第２実施形態について説明する。図３（ａ）〜（ｃ）は、本発明のストレーナの第２実施形態を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は（ｂ）の要部拡大図である。これらの図において符号３０はストレーナであり、このストレーナ３０も、図２に示したストレーナ１０と同様に、図１に示した脱硫吸収塔１において、前記吸い込み口９を覆って設けられたものである。

このストレーナ３０が図２に示したストレーナ１０と異なるところは、前記保護カバー１２と前記ストレーナ本体１１との間に、これら保護カバー１２とストレーナ本体１１との間の隙間の一部を閉塞する邪魔板３１が設けられている点である。邪魔板３１は、本実施形態では保護カバー１２の内周面に、その全周に亘って取り付けられた保護カバー側邪魔板３２と、ストレーナ本体１１の外周面に、その全周に亘って取り付けられたストレーナ本体側邪魔板３３と、からなっている。

これら保護カバー側邪魔板３２とストレーナ本体側邪魔板３３とは、それぞれ水平方向に沿って配置されており、したがってこれら邪魔板３２、３３は、いずれも半円弧状の細長い板体からなっている。また、これら邪魔板３２、３３は、例えば保護カバー１２とストレーナ本体１１との間隔の半分の幅に形成されており、したがって本実施形態では、それぞれ１００ｍｍ程度の幅に形成されている。

また、これら邪魔板３２、３３は、鉛直方向において間隔をあけて配置されている。すなわち、本実施形態において保護カバー側邪魔板３２は、保護カバー１２の下端に取り付けられており、ストレーナ本体側邪魔板３３は、保護カバー側邪魔板３２の上方、例えば１５０ｍｍ程度上方に取り付けられている。

また、これら邪魔板３２、３３は、ステンレス等の耐食性の金属や硬質樹脂などによって十分な強度で形成されており、前述した撹拌効果による対流や、保護カバー１２とストレーナ本体１１との間を上昇する流れ（上昇流）、さらにはこの上昇流に同伴された石膏粒塊の流れに抗して、これらの流れを十分に妨げる（遮る）ように機能するよう構成されている。このような構成のもとに邪魔板３１（３２、３３）は、特に開口部１７の下方から保護カバー１２とストレーナ本体１１との間の隙間を上昇する上昇流を遮る（妨げる）ようになっている。

したがって、このような邪魔板３１（３２、３３）を備えてなるストレーナ３０にあっては、図２に示したストレーナ１０の作用効果に加え、以下の作用効果を奏する。
邪魔板３１（３２、３３）が、特に開口部１７の下方から保護カバー１２とストレーナ本体１１との間の隙間を上昇する上昇流を遮る（妨げる）ことにより、これに同伴される粒塊が、開口部１７内に流入してしまうのを抑制することができる。すなわち、上昇流を遮ることでその流れの強さ（速さ）を低く抑えることができ、これによってこの上昇流に同伴される粒塊の量を少なくすることができる。

また、特に図２に示したストレーナ１０では、後述するシミュレーション結果より、例えば外径が５ｍｍ以上の比較的大きな粒塊については、これを開口部１７に流入させない効果が高いものの、一方で、外径が２ｍｍ程度の比較的小さな粒塊については、これが上昇流に乗り易いことから、これを開口部１７に流入させない効果が十分に高いとはいえなかった。なお、このような外径が２ｍｍ程度の比較的小さな粒塊は、吸引ポンプ８や配管の摩耗を促進する度合いは少ないものの、スプレノズル６を閉塞させるおそれがあり、したがってこのような粒塊についても、開口部１７に流入させないようにするのが好ましい。

そこで、本実施形態のストレーナ３０では、特に邪魔板３０を設けたことにより、５ｍｍ以上の比較的大きな粒塊についてはもちろん、２ｍｍ程度の比較的小さな粒塊についても、これが開口部１７に流入するのをより確実に防止することができる。したがって、メンテナンスを容易にすることができる。
また、邪魔板３１を、保護カバー側邪魔板３２とストレーナ本体側邪魔板３３とによって構成したので、前記の上昇流の流れの強さをより良好に抑制し、粒塊が開口部１７内に流入してしまうのをより一層抑制することができる。

さらに、保護カバー側邪魔板３２及びストレーナ本体側邪魔板３３をそれぞれ水平方向に沿って配置するとともに、これらを鉛直方向において間隔をあけて配置しているので、前記の上昇流の流れの強をより一層抑制することができ、また、上昇流の流れに同伴される粒塊自体も、これら邪魔板３２、３３によって直接遮り、再度下降させることができる。したがって、本実施形態のストレーナ３０によれば、５ｍｍ以上の比較的大きな粒塊についてはもちろん、２ｍｍ程度の比較的小さな粒塊についても、これが開口部１７に流入するのをより確実に防止することができる。

ここで、図１に示したような液溜槽２に対して図２（ａ）〜（ｃ）に示したストレーナ１０を設置した条件で、石膏粒塊が開口部１７内にどの程度流入するかを数値流体解析（ＣＦＤ）でシミュレーションした結果、外径が５ｍｍ以上の石膏粒塊の流入はほとんど起きないことが確認された。一方、従来のストレーナを設置した条件、すなわち、図２（ａ）〜（ｃ）に示したストレーナ１０において保護カバー１２を除いたストレーナ本体１１のみを設置した条件で、同様のシミュレーションを行った結果、外径が５ｍｍ以上で１０ｍｍ程度までの石膏粒塊が、僅かながら開口部１７内に流入することが分かった。

ただし、前記ストレーナ１０や、保護カバー１２を除いたストレーナ本体１１のみでは、外径が２ｍｍ程度の石膏粒塊については、比較的多くの量（液溜槽２内に存在する粒塊１００個に対してその半数以上の量）が開口部１７内に流入することが分かった。
一方、図３（ａ）〜（ｃ）に示したストレーナ３０を設置した条件で、同様のシミュレーションを行った結果、外径が５ｍｍ以上の石膏粒塊についてはもちろん、外径が２ｍｍ程度の石膏粒塊についても、開口部１７内への流入がほとんど起きないことが確認された。

したがって、本発明のストレーナ１０、３０にあっては、保護カバー１２を設けたことにより、外径が５ｍｍ以上の石膏粒塊が開口部１７内に流入するのを、良好に防止できることが確認された。また、特にストレーナ３０にあっては、邪魔板３１を設けたことにより、外径が２ｍｍ程度の石膏粒塊についても、これが開口部１７内に流入するのを、良好に防止できることが確認された。

なお、前記実施形態では、保護カバー１２を金網やパンチングメタルなどの多孔板によって形成したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば多数のスリットを形成した板体や、開口部を有さない板体によって保護カバーを形成してもよい。
また、その大きさについても、開口部１７の前方に配置されて、該開口部１７の少なくとも一部を間接的に覆っていればよく、そのように構成しても、開口部１７に対して主にその側方（水平方向）から流入する石膏粒塊の流入を妨げることができる。

ただし、保護カバーについては、開口部１７全体に対応してこれを覆うように、該開口部１７全体の前方に所定間隔をあけて設けられているのが好ましく、このようにすれば、石膏粒塊が開口部１７内に流入するのをより一層抑制することができる。

また、前記第２実施形態のストレーナ３０では、邪魔板３１を保護カバー側邪魔板３２とストレーナ本体側邪魔板３３とによって構成したが、本発明における邪魔板は、例えば保護カバー側邪魔板３２とストレーナ本体側邪魔板３３とのうちのいずれか一方のみによって構成されていてもよい。また、これら保護カバー側邪魔板３２とストレーナ本体側邪魔板３３とからなる組を複数組設け、上昇流を遮る機能をより高めるようにしてもよい。さらに、これら保護カバー側邪魔板３２やストレーナ本体側邪魔板３３は、非鉛直方向に配置されていれば、水平に配置されていなくてもよい。また、これら邪魔板３２、３３は、多孔板によって形成されていてもよい。

また、本発明のストレーナは、これが用いられる液溜装置としては前記の脱硫吸収塔に限定されることなく、粒塊を生成する液を溜める液溜部を有し、さらに吸い込み口とこれに連通する吸引ポンプとを備えた液溜装置であれば、他の各種の処理装置などに適用することができる。

１…脱硫吸収塔（液溜装置）、２…液溜槽（液溜部）、８…吸引ポンプ、９…吸い込み口、１０…ストレーナ、１１…ストレーナ本体、１２…保護カバー、１３…多孔板部、１４…底板、１５…側壁部、１６…庇部、１７…開口部、３０…ストレーナ、３１…邪魔板、３２…保護カバー側邪魔板３２、３３…ストレーナ本体側邪魔板、Ｙ…硫黄除去液

Claims (9)

1. 粒塊を生成する液を溜める液溜部と、前記液溜部の側壁に設けられた吸い込み口と、前記吸い込み口に連通して設けられて前記液溜部内の前記液を吸い込む吸引ポンプと、を備えてなる液溜装置の、前記吸い込み口を覆って前記液溜部内に設けられるストレーナであって、
   少なくとも前記吸い込み口の前方と上方とを覆うとともに、該吸い込み口の上方に対応する部位の一部を開放する開口部を有し、かつ、前記開口部以外の部位に微小開口を多数形成してなるストレーナ本体と、
   前記ストレーナ本体の前記開口部の前方に設けられて、前記液中の前記粒塊が前記開口部内に流入するのを妨げる保護カバーと、を備えてなることを特徴とするストレーナ。
2. 前記保護カバーは、前記ストレーナ本体の前記開口部全体に対応してこれを覆うように、該開口部全体の前方に所定間隔をあけて設けられていることを特徴とする請求項１記載のストレーナ。
3. 前記保護カバーは、前記ストレーナ本体の前記開口部における上端側全体を覆い、かつ、下端側を所定の間隔をあけて覆って設けられており、その下端が、前記開口部の下端縁より下方に位置するよう構成されていることを特徴とする請求項１に記載のストレーナ。
4. 前記保護カバーは、その下端が、前記ストレーナ本体の前記開口部の下端縁から該ストレーナ本体の下端までの高さの、１／３から２／３の高さ範囲内に位置するよう構成されていることを特徴とする請求項３に記載のストレーナ。
5. 前記保護カバーと前記ストレーナ本体との間には、これら保護カバーとストレーナ本体との間の隙間の一部を閉塞する邪魔板が設けられていることを特徴とする請求項３又は４に記載のストレーナ。
6. 前記邪魔板は、前記保護カバーの内面に設けられた保護カバー側邪魔板と、前記ストレーナ本体の外面に設けられたストレーナ本体側邪魔板とを備えており、これら保護カバー側邪魔板とストレーナ本体側邪魔板とは、鉛直方向において間隔をあけて配置されていることを特徴とする請求項５記載のストレーナ。
7. 前記保護カバーは、微小開口を多数形成してなる多孔板によって形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のストレーナ。
8. 前記ストレーナ本体は、微小開口を多数形成してなる多孔板からなる多孔板部と、該多孔板部の上方に配設された庇部と、前記多孔板部と前記庇部との間に設けられた前記開口部と、を有してなることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のストレーナ。
9. 前記液溜装置が脱硫吸収塔であり、前記液溜部は、前記粒塊として石膏を生成する液を溜めるものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のストレーナ。

Images