JP5295385B2 - 気泡発生方法及び気泡発生装置 - Google Patents
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Description
液体が満たされる配管の途中に設置されて液体を移送するポンプを高速回転することで、前記ポンプの下流側の前記配管の途中に設置されて液体内に所定のガスの気泡を発生する差圧発生部に直径の小さい微細気泡を発生させる高速回転工程と、
前記ポンプを前記高速回転から、前記高速回転よりも回転数の低い低速回転と、前記ポンプの回転を停止する回転停止との、いずれかの回転状態へ切り替える第1の切替工程と、
前記回転状態への切り替えを起因とする前記液体と前記ガスとの差圧を前記差圧発生部に発生させることで前記ガスを吸引させ、吸引された前記ガスによって前記微細気泡に比べて直径の大きい気泡である大径気泡を前記液体内に発生させるガス吸引工程と、
前記ポンプの前記回転状態を、高速回転に切り替える第2の切替工程と
を備え、
前記高速回転工程、前記第1の切替工程、前記ガス吸引工程、前記第2の切替工程を、この順番で繰り返すことを特徴とする。
(風呂給湯装置1の構成)
図1は、実施の形態1における風呂給湯装置1(液体移送装置の一例)を示す概略構成図である。図1に示すように、風呂給湯装置1は、大きく分けてヒートポンプユニット2と、貯湯タンクユニット3と、浴槽4とから構成されている。
ヒートポンプユニット2は、外気の熱を二酸化炭素(CO2)冷媒に移す空気用熱交換器5、冷媒を圧縮する圧縮機6、冷媒の熱で水を加熱する水加熱用熱交換器(放熱器)7、冷媒を冷却する膨張弁8からなる。これらは冷媒用循環配管9により順に接続されて、冷熱サイクルを構成する。冷凍サイクルは貯湯タンクユニット3に熱を供給する。
貯湯タンクユニット3は、ヒートポンプユニット2の冷熱サイクルにより供給された熱により水を温水10に変え、貯湯タンク11に貯蔵する湯沸機能と、浴槽4に温水10を供給する給湯機能と、浴槽4の浴水12とを追い焚きする追い焚き機能を有している。貯湯タンク11には、貯湯タンク11に上水を供給するための上水管13に繋がれた給水配管14が設けられている。ヒートポンプユニット2の水加熱用熱交換器7は、熱で貯湯タンク11の水を温水10に変えるが、貯湯タンクユニット3では、水加熱用熱交換器7に循環ポンプ15を介して通水する湯沸配管17が、設けられている。また、貯湯タンク11の温水10を浴槽4に供給するため蛇口18まで給湯配管19も設けられている。さらに、貯湯タンク11には、追い焚き用熱交換器20に温水を供給する加熱配管21と、温水10を循環させる循環ポンプ22とが設けられている。追い焚き用熱交換器20は、貯湯タンク11の温水10で浴槽4の浴水12を追い焚きする。追い焚き用循環配管24は循環ポンプ23により追い焚き用熱交換器20に通水する。浴槽4には、浴水12を追い焚きするため、追い焚き用循環配管24が接続され、また、追い焚き用循環配管24には気泡注入用のエジェクタ25a(他のエジェクタを含め、エジェクタは差圧発生部の一例である)が取り付けられている。その他、浴槽4に水を供給する給水配管26が蛇口18に接続されている。また、追い焚き用循環配管24に上水を供給する給水管27と、湯沸配管17とには、それぞれ気泡注入用のエジェクタ25b、25cが取り付けらている。エジェクタ25bは三方弁28を介して追い焚き用循環配管24に接続されている。またエジェクタ25a、25b、25cには、水の逆流を防止するための逆止弁38a、38b、38cおよび空気の出入りを制御するための電磁弁39a、39b、39cが接続されている。
風呂給湯装置1は、制御部40(流量制御部の一例)を備えている。制御部40は、循環ポンプや、電磁弁などの制御可能な装置に電気的に接続しており、これらを制御する。制御部40は、例えばマイクロコンピュータであり、以下の実施の形態1〜9で説明する制御は、制御部40によって実行される。なお、図1では制御部40は、便宜的に循環ポンプ23のみに接続するよう図示している。しかし、実際には、制御部40は、他の循環ポンプ、電磁弁にも電気的に接続されている。なお、ここでは通常、配管に取り付けられている開閉弁類は省略している。
図2は、本発明で使用される気泡注入用のエジェクタ25aの概略構成と動作原理を示す図である。エジェクタ25aは、管路30に、狭窄部31と、流体32の流入口33と流出口34と、気体が注入されるガス吸引口35とを持つ。エジェクタ25aは、管路30の狭窄部31で流体の流速を高め、その部分で発生する減圧現象(通常ベルヌーイの定理と呼ばれる)を利用して、ガス吸引口35から外部の気体36を吸引し、流体に微細気泡37を導入する機能を有する。このためエジェクタ25aを使用することで、基本的にはポンプ等を使用することなく流体32に微細気泡37を注入することが可能となる。エジェクタ25aは、差圧によりガスを吸引する。差圧は、エジェクタ25aのガス吸引口35のガス側のガス圧力と、エジェクタ25aの狭窄部31の水の圧力との圧力差である。ガス吸引口35からのガス吸引は、エジェクタ25aの狭窄部31の水の圧力が、ガス吸引口35のガス側のガス圧力よりも低い場合におこる。大気(空気)の場合は、ガスが吸引されるべき差圧を負圧という場合がある。後述の図6では「負圧」という用語を用いている。
微細気泡の中で、マイクロバブルと称される直径が100μm以下の気泡は体積に比して表面積が非常に大きい特徴を有する。気泡の表面は疎水性のため皮脂などの汚れを吸着する特性がある。このことからマイクロバブルを多く発生させて、汚れ対象部位に接触させることで、高効率の洗浄を達成することができる。
エジェクタの特性は、狭窄部の大きさ、ガス吸引口の開口位置、ガス吸引口位置や径などによって変わる。例えば、ガス吸引口の開口位置を上流側あるいは下流側へずらすことで大幅にエジェクタの特性を変えることができる。実際には風呂給湯装置の配管長によって必要な気泡径、気泡の密度が要求されるがエジェクタの構造を変更することにより、設置条件に応じた微細気泡の供給が可能となる。また、エジェクタの素材については、真鍮、ステンレス、チタン、銅、アルミニウムあるいはそれらの合金、メッキを施したもの、ポリプロピレンやポリエチレンなどの各種樹脂などが使用できる。
図1に示すように、ここでは、貯湯タンク11に貯えられた水を温水にするために、空気中の熱を利用するヒートポンプ方式の熱交換器による加熱方式について説明する。
(1)まず、空気用熱交換器5で外気の熱を吸収したCO2冷媒は蒸発され、冷媒用循環配管9を通って圧縮機6で圧縮されて高温高圧の気体となり水加熱用熱交換器7に送られる。
(2)一方、上水管13から給水配管14を経て貯湯タンク11に注水された水は、循環ポンプ15により湯沸配管17を通って、水加熱用熱交換器7に送り込まれる。そしてこの水は、圧縮機6によって水加熱用熱交換器7に送り込まれた高温の冷媒との熱交換により加熱され、再び貯湯タンク11に戻される。
(3)また、水加熱用熱交換器7で熱を奪われた冷媒は、膨張弁8で減圧され液体となって再び空気用熱交換器5に戻され、外気の熱を吸収して、冷媒用循環配管9内を循環して冷熱サイクルを構成する。
(4)上述の操作を繰り返すことにより貯湯タンク11の水の温度は高められ、所定の温度を持つ温水10として貯蔵される。貯湯タンク11の温水10は、給湯配管19を介して、蛇口18から浴槽4に供給され、入浴に供される。浴水12の温度を調整するために、上水管13から給水配管26を利用して上水を浴槽4に供給される。また、図示していないが、浴槽4に、浴水12を張るのに浴槽4内に設けられた注水口から温水10を供給することもある。
次に、追い焚き用熱交換器20と、追い焚き用熱交換器20に接続される追い焚き用循環配管24とを洗浄する動作について説明する。浴槽4の浴水12を追い焚きする場合は、貯湯タンクユニット3の貯湯タンク11から、温水10が、循環ポンプ22により、加熱配管21を通って追い焚き用熱交換器20へ導かれる。一方、浴槽4の浴水12は、循環ポンプ23により追い焚き用循環配管24を通り、追い焚き用熱交換器20へ送られる。追い焚き用熱交換器20では、貯湯タンク11の温水10と浴水12との熱交換により、温水10は浴水12により熱を奪われ低温水となって加熱配管21を通って貯湯タンク11に戻される。一方、浴水12は温水10から熱をもらってより高い温度となり、浴槽4に追い焚き用循環配管24を通って戻される。これを繰り返すことにより、追い焚きされた浴水12の温度は入浴に適した湯温になる。
しかし、この追い焚き時の浴水12の循環により、浴水12には、人の入浴にともなって溶解される皮脂、有機物や塵が混入される。これらの汚れ物質は、追い焚き用熱交換器20および追い焚き用循環配管24の内壁に付着し、熱交換効率の低下や配管の詰まりを誘発する原因となる。特に、風呂給湯装置の小型化のため、追い焚き用熱交換器20としては、層間が1mmと狭いプレートを積層したプレート型熱交換器が使用されることが多いので、この層間に汚れが付着し易い。このため、非入浴時に、追い焚き用熱交換器20および追い焚き用循環配管24の洗浄を定期的に実施することが好ましい。
このため、実施の形態1では、追い焚き用熱交換器20および追い焚き用循環配管24の洗浄の際に、浴槽4に溜めた清浄な水を循環ポンプ23により追い焚き用熱交換器20に循環させる。この清浄な水の流れによって、追い焚き用熱交換器20の手前(下流側)の追い焚き用循環配管24に設けられたエジェクタ25aのガス吸引口35から空気が引き込まれる。そして、エジェクタ25a内部で発生する気液混相流により微細気泡が生成され、エジェクタ25aの流出口34から追い焚き用熱交換器20に微細気泡が送り込まれる。この追い焚き用熱交換器20の細管や追い焚き用循環配管24の内壁に付着した汚れ物質は、生成された微細気泡の表面に付着し、浴槽4に送出される。このようにして、浴水12を循環させることにより、追い焚き用熱交換器20および追い焚き用循環配管24が洗浄される。
エジェクタ25bは、浴槽4とエジェクタ25aとの間の追い焚き用循環配管24には気泡が注入されず非洗浄部分が発生するため、この間の洗浄を行うため上水管13と循環ポンプ23とエジェクタ25aとの間に設けられる。エジェクタ25bは、逆止弁29を介して上水あるいは貯湯タンク11の温水10に気泡を注入して洗浄するものである。
またエジェクタ25cにより生成された気泡は循環ポンプ15により湯沸配管17を介して水加熱用熱交換器7を洗浄するが、これは水加熱用熱交換器7に堆積するスケール成分の除去を目的とする。
スケールなどの固形成分の汚れは配管内に強固に付着する傾向があるため、微細気泡の剥離作用だけでは除去は困難である。この場合、物理的せん断力が固形成分除去に有効であることから、この物理的せん断力を高めるために、大きい径の気泡(後述のように直径1mm以上程度の気泡。以下、大径気泡という場合がある)を注入して配管内の流れに変化をもたせることが効果的である。
通常、風呂給湯装置が一般住宅に設置される場合、風呂給湯装置から使用箇所まで、例えば、住戸内の浴槽までの配管長さは様々で2mから30mまで想定される。浴槽4とエジェクタ25aとが離れており、さらに浴槽が二階に設置されている場合は、エジェクタ25aにかかる水の圧力が高くなる。この場合、エジェクタ25aで引き込まれる空気の量が少ない場合は微細気泡が生成するが、大きい径の気泡が生成されなくなる。このため追い焚き用熱交換器20や追い焚き用循環配管24の内部に蓄積したスケール成分を洗浄除去することができなくなるという課題がある。
(1)まず電磁弁39aを開き、
(2)循環ポンプ23を動作させて浴水12の循環の流れを形成する。
(3)定常的な循環の流れとなるまで待機した。この時、水の流量計54は7L/min、ガス流量計55は約60mL/minを示していた。このとき配管内を観察すると、100μm以下の微細気泡が多数発生していることが確認できた。
(4)次に循環ポンプ23の供給電力を瞬時に停止させた。このときにガス流量計55を観察すると、最大500mL/min程度となる多量の空気の吸引が観察された。
さらに、循環ポンプ23の動作時間T1(第1の期間)と停止時間T2(第2の期間)の最適化を図るため、以下の実験を行った。
(1)まず循環ポンプ23の回転数と流量とをモニタリングし、循環ポンプ23を高速で回転させ、ほぼ定常状態になるまでの時間を計測した。本実験では2.0〜2.5秒でほぼ定常状態となったことから、動作時間T1を2.5秒に設定した。
(2)次に循環ポンプ23を動作させ2.5秒時に停止させ、2.0秒間放置した。この時、水の流量計54、ガス流量計55、圧力計56、57の値をモニタリングした。
すなわち、この実験結果から、循環ポンプ23を連続で動作させるかわりに以下の各工程(1)〜(4)を順番に動作させることで、大径気泡が発生することが判明した。
(1)ある程度の時間で循環ポンプ23を高速回転で動作させる工程(高速回転工程)である。
(2)循環ポンプ23を停止へと切り替える切替工程(第1の切替工程)である。なお実施の形態2で後述するが、回転停止ではなく、ポンプの回転数をダウンさせてもよい。高速回転状態のポンプを、停止あるいは低速回転へ切り替えることを第1の切替工程という場合がある。
(3)循環ポンプ23を停止させた時に発生するガス吸引工程(ガス吸引工程)である。
(4)循環ポンプ23を再び高速回転に切り替える工程(第2の切替工程)である。停止あるいは低速回転状態のポンプを高速回転へ切り替えることを第2の切替工程という場合がある。
図6(a)〜(c)は、前記の現象を説明する図である。この現象の原理を図6を参照しながら説明する。図6では圧力計56と57はゲージ式のものであり、点線部分が大気圧を示しており、時計回り方向が正圧、時計回りと反対方向が負圧となっていることを意味する。
(a)循環ポンプ23が回転しているときは、追い焚き用循環配管24の内部は正圧で浴水12は流れている。
(b)循環ポンプ23が回転を停止した直後は、追い焚き用循環配管24の内部の浴水12は慣性力を持っているため、急に流れが止まるわけではなく、ある程度流れ続けることができる。しかし、循環ポンプ23は停止しており、循環ポンプ23の近傍の浴水12は流れることはないためエジェクタ25aの内部で差圧が発生する。
(c)この状態が1秒程度継続している間は、この差圧を解消するために、エジェクタ25aに空気が吸引される。空気が吸引されてエジェクタ25aの内部の差圧状態が解消すると、空気の吸引がなくなり、水は静止状態となる。
図7は実験結果を示す。図7に、循環ポンプ23の「連続運転」の場合、および「T1=2.5秒、T2=1.5秒」に設定した運転の場合の二つの運転条件について、配管の内壁の洗浄力について実験を行った結果を示す。実験では、ポリエチレン配管の内壁に皮脂汚れに相当するトリオレインが塗布された。図3において追い焚き用循環配管24の浴槽4との間、すなわち出口部分に設置し、循環ポンプ23を動作させて1分間洗浄を行った。有機分濃度の分析方法は、専用の抽出溶媒であるS−316でポリエチレン配管の内壁に残留したトリオレインを溶解させ、液中の有機分濃度を赤外分光法の原理で定量化し、単位面積当たりの汚れ量を汚染度(単位はμg/cm2)として求めた。図7から、「T1=2.5秒、T2=1.5秒」が、「連続運転」の場合と比較して汚染度が2/3以下となる結果を得た。すなわち、循環ポンプ23を間欠的に動作させた方が、皮脂汚れが良好に除去できる結果となった。
次に、実施の形態1によるスケール付着抑制効果を確認する実験の結果について説明する。追い焚き用熱交換器20に、水温80℃の高硬度水(硬度200mg−CaCO3/L)を5時間流通させたときの熱交換器の内面に付着したスケール量を分析した。スケール量の分析方法としては、着したスケールを1モル/Lの希塩酸で抽出した後、高速液体クロマトグラフィ分析装置を使ってカルシウムイオン量を測定した。
なお、実施の形態1ではガスは空気としたが、他のガス種、たとえば窒素、水素、酸素、ネオン、アルゴン、二酸化炭素、オゾンなどを用いてもよい。特に、オゾンは強い酸化力を持つので、オゾンを含む微細気泡を用いると、汚れの除去効果が向上するとともに、水中に存在する菌の殺菌やカビ類の除去も可能となり、より一層高い効果を得られる。また、水のpHを酸性やアルカリ性にすることも汚れの除去作用に有効である。
次に実施の形態2を説明する。本実施の形態2は、実施の形態1における風呂給湯装置の循環ポンプ23を停止させるのでなく、回転数を一定以下に制御する。すなわち、循環ポンプ23の動作している工程での時間をT1とし、循環ポンプ23を低回転で動作している工程での時間はT2として、回転数の増減を行うものである。つまりポンプの動作時間T1のうちのT2は低回転期間とする。他の構成要素は、実施の形態1と同様であるので説明を省略する。
本実施の形態3では、実施の形態1における風呂給湯装置の動作時の様子を示す。図4および図5において、ガス吸引工程の途中のBの地点で、循環ポンプ23を高速回転に切り替えるものである。すなわち、ガス吸引工程でエジェクタ25aの内部が大気圧に戻る前に循環ポンプ23を高速回転に切り替える。ただし、ガス吸引工程から高速回転に切り替える時点は図4内のBである必要はなく、その前後であってもよい。
図10は実施の形態4の風呂給湯装置1の構成を示す図である。図10を参照して実施の形態4を説明する。実施の形態4では、図10に示すように、実施の形態1における風呂給湯装置1において、電磁弁58を循環ポンプ23の上流側、すなわち浴槽4側に設置した。他の構成要素は、実施の形態1と同様であるので説明を省略する。
図11は実施の形態5の風呂給湯装置1の構成を示す図である。本実施の形態5では、図11に示すように実施の形態1における風呂給湯装置において、追い焚き用循環配管24の内部の水圧を測定する圧力センサ59(圧力検出部)をエジェクタ25aの下流側に設置した。他の構成要素は、実施の形態1と同様であるので説明を省略する。
この場合、水圧35kPaでのガス流量は400mL/minであるのに対し、水圧50kPaの場合ではガス流量は60mL/minと、約15%と大きく減少した。
図12は実施の形態6の風呂給湯装置1の構成を示す図である。本実施の形態6では、図12に示すように実施の形態1における風呂給湯装置において、気泡の合一を抑制する添加剤を注入する添加剤供給装置43(添加剤供給部)を設置したものである。他の構成要素は、実施の形態1と同様であるので説明を省略する。添加剤の添加は、例えば、制御部40が添加剤供給装置43を制御することで行う。
アルコール系化合物を主とする水酸基含有化合物(a1)、
アミノ基含有化合物(a2)、
カルボキシル基含有化合物(a3)
が好ましい。
さらに好ましいのはのa1うちの1価のアルコール(a11)
および2〜8価の多価アルコール(a12)、
並びに(a2)のうちのモノアミン類(a21)
およびポリアミン類(a22)
およびアルカノールアミン類(a23)
である。
とりわけ好ましいのは(a12)である。
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、1−ペンタノール、アリルアルコール、合成もしくは天然の高級アルコール[例えば、炭素数14〜15の合成アルコール(市販品としては「ドバノール45」三菱化学株式会社製など)等の炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜8の1価アルコールが挙げられる。
エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチルペンタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼンおよび2,2−ビス(4,4’−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン等の炭素数2〜18の2価アルコール;グリセリンおよびトリメチロールプロパン等の炭素数3〜18の3価アルコール;並びに、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、トリグリセリン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、キシリット、マンニット、ジペンタエリスリトール、グルコース、フルクトースおよびショ糖等の4〜8価のアルコール;が挙げられる。
フェノールおよび炭素数1〜6のアルキル基を有するアルキルフェノール(例えば、クレゾールおよびp−エチルフェノール等)等の1価フェノールが挙げられる。
ピロガロール、カテコール、ヒドロキノン、ビスフェノール(例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等)およびトリスフェノール(例えば、トリスフェノールPA等)等の多価フェノールが挙げられる。
セルロース系化合物(例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよびそれらのケン化物等)、ゼラチン、デンプン、デキストリン、ノボラック樹脂(例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等)、ポリフェノール、ポリブタジエンポリオール、ひまし油系ポリオール、並びにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの(共)重合体およびポリビニルアルコール等の多官能(2〜100)ポリオール等のその他の多価アルコール;等が挙げられる。
アンモニア、モノアミン類(a21)、ポリアミン類(a22)、アミノアルコール類(a23)およびその他のアミノ化合物(a24)があげられる。
炭素数1〜20のアルキルモノアミン類(ブチルアミン等)、炭素数6〜18の芳香族モノアミン(アニリン等)のモノアミン類等が挙げられる。
エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンおよびジエチレントリアミン等の脂肪族ポリアミン;ピペラジンおよびN−アミノエチルピペラジン等の複素環式ポリアミン類;ジシクロヘキシルメタンジアミンおよびイソホロンジアミン等の脂環式ポリアミン;フェニレンジアミン、トリレンジアミン、ジエチルトリレンジアミン、キシリレンジアミン、ジフェニルメタンジアミン、ジフェニルエ−テルジアミンおよびポリフェニルメタンポリアミン等の芳香族ポリアミン;ジカルボン酸と過剰のポリアミン類との縮合により得られるポリアミドポリアミン;並びにポリエーテルポリアミン等が挙げられる。
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびトリイソプロパノールアミン等のアミノアルコール(この場合はアルコールとアミンの両方の活性水素がp価の価数に相当する)が挙げられる。
図13は実施の形態7の風呂給湯装置1の構成を示す図である。本実施の形態7では、図13に示すように実施の形態1における風呂給湯装置1において、追い焚き用循環配管24の途中にベンチュリ効果を発生するベンチュリ管44(分散部)を設置したものである。他の構成要素は、実施の形態1と同様であるので説明を省略する。
図14は、実施の形態8のベンチュリ管44を示す。本実施の形態8では、図14のベンチュリ管44において、絞り部分45を可動とする構成である。
実施の形態8のベンチュリ管44は、狭窄部31の水が通る流路の断面(通過断面)をシャッター状(あるいはカメラの絞りのごとく)に広げたり狭めたりすることを可能な構成である。また、制御部40の制御によって、通過断面を広げたり狭めたりすることができる(制御工程)。他の構成要素は、実施の形態7と同様であるので説明を省略する。
次に、図15は実施の形態9による給湯装置100を示す概略の構成図である。これまでの実施の形態1〜8は、浴水を供給する風呂給湯装置についてのものであったが、本実施の形態9は、給湯や暖房に用いられる一般の給湯装置について説明する。
Claims (12)
- 液体が満たされる配管の途中に設置されて液体を移送するポンプを高速回転することで、前記ポンプの下流側の前記配管の途中に設置されて液体内に所定のガスの気泡を発生する差圧発生部に直径が100μm以下の微細気泡を発生させる高速回転工程と、
前記ポンプを前記高速回転から、前記高速回転よりも回転数の低い低速回転と、前記ポンプの回転を停止する回転停止との、いずれかの回転状態へ切り替える第1の切替工程と、
前記回転状態への切り替えを起因とする前記液体と前記ガスとの差圧を前記差圧発生部に発生させることで前記ガスを吸引させ、吸引された前記ガスによって直径が1mm以上の大径気泡を前記液体内に発生させるガス吸引工程と、
前記ポンプの前記回転状態を、高速回転に切り替える第2の切替工程と
を備え、
前記高速回転工程、前記第1の切替工程、前記ガス吸引工程、前記第2の切替工程を、この順番で繰り返すことを特徴とする気泡発生方法。 - 前記ガス吸引工程は、
前記ガスの吸引量が、徐々に増加してピークとなり、ピークから次第に減少することを特徴とする請求項1記載の気泡発生方法。 - 前記配管に満たされた液体は、水であり、
前記差圧発生部の下流側の前記配管の途中には、前記配管内の水に熱を供給する熱交換器が設置されたことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の気泡発生方法。 - 前記差圧発生部の上流側の前記配管の途中には、制御により開閉する電磁弁が設置され、
前記気泡発生方法は、さらに、
前記第1の切替工程と前記第2の切替工程との切替タイミングに応じて、前記電磁弁の開閉を制御する電磁弁制御工程を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の気泡発生方法。 - 前記差圧発生部の下流側の前記配管の途中には、前記配管の内部の液体の圧力を検出する圧力検出部が配置され、
前記第1の切替工程は、
あらかじめ求められたプロファイルであって、前記圧力検出部によって検出された前記液体の圧力の検出値と前記差圧発生部によって吸引されるガス吸引量との関係を示すプロファイルと、
前記圧力検出部が検出した前記液体の圧力の検出値と
の比較に基づいて前記回転状態に切り替え、
前記第2の切替工程は、
前記プロファイルと前記圧力検出部が検出した検出値との比較に基づいて、前記高速回転に切り替えることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の気泡発生方法。 - 前記配管に満たされた液体は、水であり、
前記差圧発生部の下流側の前記配管の途中には、前記配管内の水に熱を供給する熱交換器が設置され、
前記圧力検出部は、
前記差圧発生部の下流側であって、かつ、前記熱交換器の上流側の位置に配置されたことを特徴とする請求項5記載の気泡発生方法。 - 前記配管の途中には、気泡を微細化する添加剤を液体中に供給する添加剤供給部が設置され、
前記気泡発生方法は、さらに、
前記添加剤供給部に前記添加剤を液体中に供給させる添加剤供給工程を備えたことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の気泡発生方法。 - 前記差圧発生部よりも下流側の前記配管の途中には、液体内で合一した微細気泡を複数の微細気泡に分散させる分散部が設置されたことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の気泡発生方法。
- 前記分散部は、
液体の通過する通過断面の大きさが、制御により可変であり、
前記気泡発生方法は、さらに、
前記通過断面の大きさを制御する制御工程を備えたことを特徴とする請求項8記載の気泡発生方法。 - 液体が満たされる配管と、
前記配管の途中に設置され、通過する液体の流量に応じて所定のガスに対する差圧を発生することにより所定のガスを吸引し、吸引された前記ガスによって液体内に気泡を注入する差圧発生部と、
第1の期間の間、前記差圧発生部を通過する液体の流量を所定の目標値まで増加させることにより前記差圧発生部にわずかな差圧を発生させて前記ガスを吸引させ、吸引させたガスによって液体内に直径が100μm以下の微細気泡を注入させ、引き続いて次の第2の期間の間、前記差圧発生部を通過する液体の流量を前記所定の目標値から減少させることにより前記差圧発生部に前記わずかな差圧の絶対値に比べて絶対値の大きい差圧を発生させて前記ガスを吸引させ、吸引させた前記ガスによって液体内に直径が1mm以上の大径気泡を注入させ、前記第1の期間の処理と前記第2の期間の処理とを順次に繰り返し実行する流量制御部と
を備えたことを特徴とする気泡発生装置。 - 前記気泡発生装置は、
前記差圧発生部の上流側の前記配管の途中に設置されて液体を移送するポンプを備え、
前記流量制御部は、
前記第1の期間の間、前記ポンプを高速回転させることで前記差圧発生部を通過する液体の流量を所定の目標値まで増加させ、前記第2の期間の間、前記ポンプの回転数を、前記高速回転よりも回転数の低い低速回転と、前記ポンプの回転を停止する回転停止との、いずれかの回転状態に制御することで前記差圧発生部を通過する液体の流量を前記所定の目標値から減少させることを特徴とする請求項10記載の気泡発生装置。 - 前記気泡発生装置は、
前記差圧発生部の上流側の前記配管の途中に設置されて制御により開閉する電磁弁を備え、
前記流量制御部は、
前記第1の期間の間、前記電磁弁を開状態に制御することで前記差圧発生部を通過する液体の流量を所定の目標値まで増加させ、前記第2の期間の間、前記電磁弁を閉状態に制御することで前記差圧発生部を通過する液体の流量を前記所定の目標値から減少させることを特徴とする請求項10または11のいずれかに記載の気泡発生装置。
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