JP5294919B2 - 被加工物の製造方法 - Google Patents
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Description
101 形状修正加工用イオンビーム
102 平滑化加工用イオンビーム
103 ラスター走査軌跡
104 被加工物表面形状
105 設計形状
106 誤差形状
112 プロペラ型シャッター
Claims (6)
- 複数の荷電粒子ビームを被加工物表面に対して同じ相対運動をさせながら同時に照射して加工を行う被加工物の製造方法において、
前記複数の荷電粒子ビームのうちの第1の荷電粒子ビームを用いて、前記相対運動の速度を可変制御することによって被加工物表面の形状修正加工を行い、
前記複数の荷電粒子ビームのうちの第2の荷電粒子ビームを用いて、被加工物表面の単位面積に対する到達粒子数を一定に保つように、前記相対運動の速度変化に応じて前記第2の荷電粒子ビームを可変制御することによって被加工物表面の平滑化加工を行うことを特徴とする被加工物の製造方法。 - 前記第2の荷電粒子ビームの可変制御は、前記第2の荷電粒子ビームの照射時間のパルス制御によって行うことを特徴とする請求項1に記載の被加工物の製造方法。
- 前記第2の荷電粒子ビームの可変制御は、前記第2の荷電粒子ビームの電流量の制御によって行うことを特徴とする請求項1に記載の被加工物の製造方法。
- 前記第2の荷電粒子ビームは20〜500eVの低エネルギーであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の被加工物の製造方法。
- 前記第1の及び前記第2の荷電粒子ビームの照射位置において、前記相対運動の方向に対して前記第1の荷電粒子ビームの後方に前記第2の荷電粒子ビームのビーム中心があることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の被加工物の製造方法。
- 前記被加工物は、光学素子または光学素子を成形するための金型であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の被加工物の製造方法。
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