JP5292057B2 - Table, sheet peeling apparatus and peeling method using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of cracks on a wafer where protrusions are formed along an external edge thereof. <P>SOLUTION: A sheet peeling device 10 includes: a table 11 for supporting a semiconductor wafer (W); an unreeling means 12 for unreeling a peeling tape (PT), a pushing means 15 for pressing the peeling tape (PT) to an adhesive sheet (S) so as to be adhered thereto; a moving means 16 which allows the peeling tape (PT) and table 11 adhered to the adhesive sheet (S) to carry out relative movement thereof so as to peel the adhesive sheet (S); and a control means 19 for controlling the foregoing means. The table 11 includes a displacement means 20. The displacement means 20 includes a heating means 20A for heating a space enclosed by a semiconductor wafer (W) and mounting tape (MT), and also a cooling means 20B for cooling the space. This results in increasing or decreasing the volume of the space (A). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、テーブル及びこれを用いたシート剥離装置並びに剥離方法に係り、更に詳しくは、半導体ウエハに貼付された接着シートを剥離するために用いられるテーブル及びこれを用いたシート剥離装置並びに剥離方法に関する。   The present invention relates to a table, a sheet peeling apparatus using the same, and a peeling method, and more particularly, a table used for peeling an adhesive sheet affixed to a semiconductor wafer, a sheet peeling apparatus using the same, and a peeling method. About.

近時、半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)にあっては、ウエハ直径が大型化する反面、極薄研削が求められる。このため、極薄に研削されたウエハの搬送において、ウエハはその自重によって反り返ったような状態で搬送されるため、割れてしまうという不都合がある。ここで、かかる不都合を回避すべく、特許文献1に開示される形態としたウエハが利用されている。同文献では、ウエハの外縁側の厚みが、それ以外の領域の厚みより相対的に大きくなるように研削することにより凹部を形成するとともに、ウエハの外縁に沿って凸部を形成することで補強材の役目をし、ウエハが損傷することを防止できるようになっている。   Recently, for semiconductor wafers (hereinafter simply referred to as “wafers”), the wafer diameter is increased, but ultra-thin grinding is required. For this reason, in transporting a wafer that has been ground to an extremely thin thickness, the wafer is transported in a state of being warped by its own weight, so that there is a disadvantage that the wafer is broken. Here, in order to avoid such an inconvenience, a wafer having a form disclosed in Patent Document 1 is used. In the same document, the concave portion is formed by grinding so that the thickness of the outer edge side of the wafer is relatively larger than the thickness of the other region, and the convex portion is formed along the outer edge of the wafer. It serves as a material to prevent the wafer from being damaged.

また、ウエハには、その回路面に保護用の接着シートが貼付され、種々の工程を経た後に剥離されるものとなっている。このような接着シートの剥離装置としては、例えば、特許文献2に開示されている。同装置においては、ウエハがテーブル上で吸着保持されている。また、剥離用テープの一部をウエハに貼付された接着シートの外縁部に溶融接着した後、剥離用テープを把持するチャックを移動することで接着シートを剥離している。   In addition, a protective adhesive sheet is affixed to the circuit surface of the wafer, and is peeled off after various processes. Such an adhesive sheet peeling apparatus is disclosed in, for example, Patent Document 2. In this apparatus, a wafer is held by suction on a table. Further, after a part of the peeling tape is melt bonded to the outer edge portion of the adhesive sheet affixed to the wafer, the adhesive sheet is peeled by moving a chuck that holds the peeling tape.

特開2007−19379号公報JP 2007-19379 A 特開平11−16862号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-16862

しかしながら、前記特許文献2のような剥離装置で特許文献1のような凸部が形成されたウエハから接着シートを剥離する場合、ウエハにおける凹部底側の厚みが極薄となるため、当該底側の面の位置を一定に保つことが困難となる。このため、図4(A)に示されるように、テーブルT上にマウント用テープMT側を載置したときに、ウエハWにおける凹部W1底側が接着シートS側(同図中上側)に撓むように変形した場合、ウエハWが上方に引っ張られる方向のストレスが生じることとなる。このストレスは、剥離用テープPTを用いて接着シートSを剥離する際にウエハWに作用する引っ張り力の方向に沿って発生するものとなり、剥離時にウエハWに作用する力が増大して破損し易くなる、という不都合がある(図4(B)参照)。また、図4(C)に示されるように、凹部W1底側がマウント用テープMT側(同図中下側)に撓むように変形した場合、凹部W1底面がマウント用テープMTに付着し、後工程における作業性が損なわれる、という不都合がある。   However, when the adhesive sheet is peeled from the wafer on which the convex portion as in Patent Document 1 is peeled by the peeling device as in Patent Document 2, the thickness of the concave bottom side of the wafer becomes extremely thin. It is difficult to keep the position of the surface constant. Therefore, as shown in FIG. 4A, when the mounting tape MT side is placed on the table T, the bottom side of the recess W1 in the wafer W is bent toward the adhesive sheet S side (upper side in the figure). When it is deformed, stress in a direction in which the wafer W is pulled upward is generated. This stress is generated along the direction of the tensile force acting on the wafer W when the adhesive sheet S is peeled off using the peeling tape PT, and the force acting on the wafer W during peeling increases and breaks. There is an inconvenience that it becomes easy (see FIG. 4B). Further, as shown in FIG. 4C, when the bottom of the concave portion W1 is deformed so as to bend toward the mounting tape MT (lower side in the figure), the bottom surface of the concave portion W1 adheres to the mounting tape MT. There is an inconvenience that workability in the case is impaired.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、外縁に沿って凸部が形成されたウエハに割れ等の損傷が生じることを防止して支持することができるテーブル及びシート剥離装置並びに剥離方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and an object thereof is to prevent and support the occurrence of damage such as cracks in a wafer in which convex portions are formed along the outer edge. It is an object to provide a table, a sheet peeling apparatus, and a peeling method that can be used.

前記目的を達成するため、本発明のテーブルは、マウント用テープを介して一体化された半導体ウエハ及びリングフレームを、マウント用テープ側から支持するテーブルであって、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間を加熱可能な加熱手段と、前記空間を冷却可能な冷却手段とを備える、という構成を採っている。
また、本発明のテーブルは、マウント用テープを介して一体化された半導体ウエハ及びリングフレームを、マウント用テープ側から支持するテーブルであって、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間の当該マウント用テープ側に位置するテーブルの一部がマウント用テープと共に変位することで、前記空間の体積変更を伴うことなく、前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位可能に設けられる、という構成を採っている。
To achieve the above object, the table of the present invention is a table for supporting a semiconductor wafer and a ring frame integrated via a mounting tape from the mounting tape side,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
Displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position is provided . The displacement means is a heating means capable of heating a space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape, and a cooling means capable of cooling the space. Ru equipped with a door, it adopts a configuration that.
The table of the present invention is a table for supporting the semiconductor wafer and the ring frame integrated via the mounting tape from the mounting tape side,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
Displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position is provided. In this displacement means, a part of the table located on the mounting tape side of the space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape is used for mounting. By being displaced together with the tape, the surface position of the semiconductor wafer can be displaced to a predetermined position without changing the volume of the space.

また、本発明のシート剥離装置は、半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離装置において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側から支持するテーブルと、前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する押圧手段と、接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させて接着シートを剥離する移動手段と、これら手段を制御する制御手段とを備え、
前記テーブルは、半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え
前記制御手段は、ウエハの面がマウント用テープ側に撓んだ形状となるように変位手段を制御する、という構成を採っている。
Further, the sheet peeling apparatus of the present invention is a sheet peeling apparatus for sticking a peeling tape to an adhesive sheet attached to a semiconductor wafer, and peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer via the peeling tape.
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A table for supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame from the mounting tape side, a feeding means for feeding out the peeling tape, a pressing means for pressing the peeling tape against an adhesive sheet, and an adhesive sheet A moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape attached to the table and a control means for controlling these means,
The table includes displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position ,
The control means that controls the displacement means as the surface of the wafer is flexed shape mounting tape side, adopts a configuration that.

本発明において、前記半導体ウエハの面の位置を検出可能な検出手段を更に備え、
前記制御手段は、検出手段の検出データに基づき変位手段を制御することが好ましい。
In the present invention, further comprising a detecting means capable of detecting the position of the surface of the semiconductor wafer,
The control means preferably controls the displacement means based on detection data of the detection means.

また、本発明のシート剥離装置は、半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離装置において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側から支持するテーブルと、前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する押圧手段と、接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させて接着シートを剥離する移動手段と、これら手段を制御する制御手段とを備え、
前記テーブルは、半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間を加熱可能な加熱手段と、前記空間を冷却可能な冷却手段とを備える、という構成を採っている。
Further, the sheet peeling apparatus of the present invention is a sheet peeling apparatus for sticking a peeling tape to an adhesive sheet attached to a semiconductor wafer, and peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer via the peeling tape.
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A table for supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame from the mounting tape side, a feeding means for feeding out the peeling tape, a pressing means for pressing the peeling tape against an adhesive sheet, and an adhesive sheet A moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape attached to the table and a control means for controlling these means,
The table includes a displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position. The displacement means can heat the space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape, and can cool the space. and a Do cooling means, Ru Ttei adopted a configuration that.

更に、本発明のシート剥離方法は、半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離方法において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側からテーブルで支持する工程と、
前記剥離用テープを繰り出す工程と、
前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する工程と、
前記接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させつつ、半導体ウエハの面の位置を検出し、その検出データに基づき半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させるよう制御しながら接着シートを剥離する工程とを行う、という方法を採っている。
Furthermore, the sheet peeling method of the present invention is a sheet peeling method in which a peeling tape is affixed to an adhesive sheet affixed to a semiconductor wafer, and the adhesive sheet is peeled from the semiconductor wafer via the peeling tape.
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A step of supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame with a table from the mounting tape side;
A step of feeding out the peeling tape;
A step of pressing and adhering the peeling tape to an adhesive sheet;
While detecting the position of the surface of the semiconductor wafer while relatively moving the peeling tape affixed to the adhesive sheet and the table, and controlling the surface position of the semiconductor wafer to be displaced to a predetermined position based on the detection data The method of performing the process of peeling an adhesive sheet is taken.

本発明によれば、変位手段を介してウエハの面位置を所定位置に変位できるので、従来のように、ウエハの凹部底側が接着シート側に撓んだり、マウント用テープMT側に撓むように変形して、接着シート剥離時にウエハが損傷することを防止することができる。   According to the present invention, since the surface position of the wafer can be displaced to a predetermined position via the displacing means, the bottom surface of the concave portion of the wafer is deformed so as to bend to the adhesive sheet side or to the mounting tape MT side as in the prior art. Thus, it is possible to prevent the wafer from being damaged when the adhesive sheet is peeled off.

更に、ウエハの面の位置を検出し、その検出データに基づいて変位手段を制御することで、接着シートの剥離に支障が生じないように、ウエハの面を良好な位置に自動的に常時維持することが可能となる。   Furthermore, by detecting the position of the wafer surface and controlling the displacement means based on the detected data, the wafer surface is always automatically maintained at a good position so that there is no problem with the peeling of the adhesive sheet. It becomes possible to do.

また、ウエハの面がマウント用テープ側に撓んだ形状となるように変位手段を制御した場合、ウエハの撓みによるストレスと、剥離用テープによる引っ張り力とが相殺されるように制御でき、剥離時のウエハに作用する負荷をより軽減することが可能となる。   Also, when the displacement means is controlled so that the wafer surface is bent toward the mounting tape side, the stress due to the bending of the wafer and the pulling force due to the peeling tape can be controlled so that the peeling is possible. The load acting on the wafer at the time can be further reduced.

更に、変位手段を加熱手段及び冷却手段により構成することで、簡単な構造により前記空間の体積を増大縮小することができる。   Furthermore, by constituting the displacement means by the heating means and the cooling means, the volume of the space can be increased and reduced by a simple structure.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には、実施形態に係るシート剥離装置の概略正面図が示されている。この図において、シート剥離装置10は、ウエハWを吸着して支持するテーブル11と、ウエハWの回路形成面(図1中上面)に貼付された保護用の接着シートSに接着される帯状の剥離用テープPTを繰り出す繰出手段12と、剥離用テープPTを切断可能に設けられた切断手段14と、剥離用テープPTを接着シートSに押圧して貼付する押圧手段15と、接着シートSに貼付された剥離用テープPTとテーブル11とを相対移動させる移動手段16と、テーブル11の上方に設けられた検出手段18と、テーブル11、繰出手段12、切断手段14、押圧手段15、移動手段16及び検出手段18を全体的に所定制御する制御手段19とを備えて構成されている。   FIG. 1 is a schematic front view of a sheet peeling apparatus according to the embodiment. In this figure, a sheet peeling apparatus 10 is a band-like adhesive bonded to a table 11 for adsorbing and supporting a wafer W, and a protective adhesive sheet S affixed to a circuit forming surface (upper surface in FIG. 1) of the wafer W. The feeding means 12 for feeding the peeling tape PT, the cutting means 14 provided so as to be able to cut the peeling tape PT, the pressing means 15 for pressing the peeling tape PT against the adhesive sheet S, and the adhesive sheet S Moving means 16 for moving the affixed peeling tape PT and table 11 relative to each other, detection means 18 provided above table 11, table 11, feeding means 12, cutting means 14, pressing means 15, moving means 16 and the control means 19 which carries out predetermined control of the detection means 18 as a whole.

前記ウエハWは、リングフレームRFの開口内に配置され、図1中上面に保護用の接着シートSが貼付されている。ウエハWは、同図中下面側が研削されることで形成された凹部W1と、この凹部W1の外周に連なる凸部W2とを備えている。従って、凸部W2は、ウエハWの外縁側の厚みを、それ以外の領域すなわち凹部W1形成領域の厚みより大きくすることでウエハWの外縁に沿って形成される。ウエハWは、凸部W2の同図中下面にだけマウント用テープMTが貼付され、凹部W1の底面(同図中上面)とマウント用テープMTとが非接触に保たれている。これにより、凹部W1内に、ウエハWとマウント用テープMTとで囲まれて閉塞される空間Aが形成される。   The wafer W is disposed in the opening of the ring frame RF, and a protective adhesive sheet S is attached to the upper surface in FIG. The wafer W includes a concave portion W1 formed by grinding the lower surface side in the figure, and a convex portion W2 connected to the outer periphery of the concave portion W1. Accordingly, the convex portion W2 is formed along the outer edge of the wafer W by making the thickness of the outer edge side of the wafer W larger than the thickness of the other region, that is, the concave portion W1 formation region. The wafer W has a mounting tape MT attached only to the lower surface of the convex portion W2 in the figure, and the bottom surface (upper surface in the figure) of the concave portion W1 and the mounting tape MT are kept in non-contact. As a result, a space A enclosed by the wafer W and the mounting tape MT is closed in the recess W1.

前記テーブル11は、リングフレームRFと一体化されたウエハWがマウント用テープMTを下向きとした状態で、そのマウント用テープMT側から支持している。テーブル11は、前記空間Aの体積を増大縮小させることで、ウエハWの面位置を所定の位置に変位させる変位手段20を備えている。ここで、ウエハWの面位置とは、凹部W1の底面の反対側に位置する面のことであって、本実施形態の場合、接着シートSが貼付された回路形成面の位置のことをいう。この変位手段20は、空間Aを加熱可能な加熱手段20Aと、空間Aを冷却可能な冷却手段20Bとからなる。加熱手段20Aは、特に限定されるものではなく、例えば、ヒーターコイル、赤外線ヒータ、温水等が循環する配管等が例示でき、冷却手段20Bは、特に限定されるものではなく、例えば、冷水、フロン、液体窒素等が循環する配管、ペルチェ素子等が例示できる。加熱手段20A及び冷却手段20Bは、テーブル11を平面視したときに、交互に複数設けられている。   The table 11 is supported from the side of the mounting tape MT with the wafer W integrated with the ring frame RF facing the mounting tape MT downward. The table 11 includes a displacing means 20 for displacing the surface position of the wafer W to a predetermined position by increasing or reducing the volume of the space A. Here, the surface position of the wafer W is a surface located on the opposite side of the bottom surface of the recess W1, and in the case of the present embodiment, it refers to the position of the circuit forming surface to which the adhesive sheet S is attached. . The displacement means 20 includes a heating means 20A capable of heating the space A and a cooling means 20B capable of cooling the space A. 20 A of heating means is not specifically limited, For example, a heater coil, an infrared heater, piping etc. which hot water circulates can be illustrated, and cooling means 20B is not specifically limited, For example, cold water, Freon Examples thereof include piping through which liquid nitrogen circulates, Peltier elements, and the like. A plurality of heating means 20A and cooling means 20B are provided alternately when the table 11 is viewed in plan view.

前記繰出手段12は、フレームFに回転可能に支持され、巻回された剥離用テープPTを支持する支持軸21と、モータM1を介して回転可能に設けられた駆動ローラ22と、当該駆動ローラ22との間に剥離用テープPTを挟み込むピンチローラ23とを備えている。なお、フレームFは、直動モータ24を介して図1中上下方向に移動可能に設けられている。   The feeding means 12 is rotatably supported by the frame F and supports a support shaft 21 that supports the wound peeling tape PT, a driving roller 22 that is rotatably provided via a motor M1, and the driving roller. And a pinch roller 23 that sandwiches the peeling tape PT between them. The frame F is provided so as to be movable in the vertical direction in FIG.

前記切断手段14は、カッター刃26と、このカッター刃26を図1中上下方向に移動させる上下用シリンダ28と、この上下用シリンダ28を同図中紙面直交方向に移動させる切断用シリンダ27とを備えて構成されている。カッター刃26の下側には、凹部を上面に有するテープ案内板30が設けられている。テープ案内板30は、ブッシュ31によって、軸32を介して図1中左右方向に移動可能に設けられ、軸32の外周側に設けられたコイルばね33により、常時図1中左側に付勢されている。   The cutting means 14 includes a cutter blade 26, a vertical cylinder 28 for moving the cutter blade 26 in the vertical direction in FIG. 1, and a cutting cylinder 27 for moving the vertical cylinder 28 in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. It is configured with. A tape guide plate 30 having a concave portion on the upper surface is provided below the cutter blade 26. The tape guide plate 30 is provided by a bush 31 so as to be movable in the left-right direction in FIG. 1 via a shaft 32, and is always urged to the left in FIG. 1 by a coil spring 33 provided on the outer peripheral side of the shaft 32. ing.

前記押圧手段15は、直動モータ35と、当該直動モータ35によって上下方向に進退可能に設けられた加熱手段としてのヒータ36Aを有する押圧ヘッド36とを備えている。この押圧手段15は、後述するチャック41により接着シートSの上面側に繰り出された剥離用テープPTを押圧ヘッド36で押圧して加熱することで、剥離用テープPTを接着シートSに溶着して両者を連結するように構成されている。   The pressing means 15 includes a linear motion motor 35 and a pressure head 36 having a heater 36A as a heating means provided so as to be able to advance and retreat in the vertical direction by the linear motion motor 35. The pressing means 15 welds the peeling tape PT to the adhesive sheet S by pressing and heating the peeling tape PT fed to the upper surface side of the adhesive sheet S with the pressing head 36 by a chuck 41 described later. It is comprised so that both may be connected.

前記移動手段16は、テーブル11を図1中左右方向に移動可能に設けられたリニアモータ38及びそのスライダ39と、直動モータ40を介して同左右方向に移動可能に設けられ、剥離用テープPTのリード端領域を把持可能なチャック41とを備えている。   The moving means 16 is provided so as to be movable in the left-right direction through a linear motor 38 and its slider 39 and a linear motor 40 provided to be able to move the table 11 in the left-right direction in FIG. And a chuck 41 capable of gripping the lead end region of the PT.

前記検出手段18は、図示しないブラケットを介してフレームFの下方に取り付けられ、接着シートSの剥離が進行する方向すなわち図1中左右方向に所定間隔毎に設置された複数の光学センサ等の位置センサからなる。検出手段18は、ウエハWの面の位置すなわち図1中上面の高さ位置を検出可能に設けられ、マウント用テープMTの面位置を検出データとして制御手段19に出力可能に設けられている。   The detection means 18 is attached below the frame F via a bracket (not shown), and the positions of a plurality of optical sensors and the like installed at predetermined intervals in the direction in which the peeling of the adhesive sheet S proceeds, that is, in the left-right direction in FIG. It consists of sensors. The detection means 18 is provided so as to be able to detect the position of the surface of the wafer W, that is, the height position of the upper surface in FIG. 1, and is provided so that the surface position of the mounting tape MT can be output to the control means 19 as detection data.

前記制御手段19は、シーケンサやパーソナルコンピュータ等で構成することができる。制御手段19には、操作パネル等からなる図示しない入力手段が接続され、この入力手段により各手段の作動条件やデータ等を入力可能となっている。また、制御手段19は、前記検出手段18の検出データに基づき加熱手段20A及び冷却手段20Bの作動条件を決定し、これらを制御する機能を備えている。   The control means 19 can be constituted by a sequencer, a personal computer or the like. The control means 19 is connected to an input means (not shown) composed of an operation panel and the like, and operating conditions, data and the like of each means can be input by this input means. The control means 19 has a function of determining the operating conditions of the heating means 20A and the cooling means 20B based on the detection data of the detection means 18 and controlling them.

次に、シート剥離装置10による接着シートSの剥離方法について説明する。   Next, the peeling method of the adhesive sheet S by the sheet peeling apparatus 10 will be described.

まず、支持軸21から引き出された剥離用テープPTは、駆動ローラ22及びピンチローラ23の間を経てテープ案内板30上でカッター刃26によって切断されていることとする。   First, it is assumed that the peeling tape PT pulled out from the support shaft 21 is cut by the cutter blade 26 on the tape guide plate 30 through the drive roller 22 and the pinch roller 23.

次に、図示しない搬送手段を介して、接着シートSが貼付され、且つ、リングフレームRFと一体化されたウエハWをマウント用テープMTが下側となるようにテーブル11上に搬送した後、当該マウント用テープMTを吸着して支持させる。次いで、リニアモータ38を介してテーブルTが図1中左方向に搬送される。接着シートSの図1中左端側が押圧ヘッド36の直下に達したことが確認されると、テーブル11の移動が停止して待機状態となる。   Next, after transporting the wafer W to which the adhesive sheet S is attached and the ring frame RF integrated onto the table 11 via the transport means (not shown) so that the mounting tape MT is on the lower side, The mounting tape MT is sucked and supported. Next, the table T is conveyed to the left in FIG. When it is confirmed that the left end side of the adhesive sheet S in FIG. 1 has reached directly below the pressing head 36, the movement of the table 11 is stopped and a standby state is entered.

その後、チャック41が直動モータ40を介してテープ案内板30を右方に移動させて剥離用テープPTを把持し、把持した状態で左方に移動することで当該剥離用テープPTを押圧ヘッド36の下方に引き出す。そして、図1に示されるように、ヒータ36Aにより加熱された押圧ヘッド36を直動モータ35によって下方へ移動させ、剥離用テープPTを接着シートSに加熱しつつ押圧して貼付する。この状態で、シリンダ27、28を作動することで、テープ案内板30上でカッター刃26により剥離用テープPTが切断される。次いで、直動モータ24を作動し、フレームFおよび検出手段18を上方に移動させる。その後、図2に示されるように、接着シートSに貼付された剥離用テープPTとテーブル11とが同図中左右方向に相対移動するように、直動モータ40及びリニアモータ38を介して、チャック41及びテーブル11を移動させる。これにより、接着シートSがウエハW上で折り返されるようになり、同図中左側の外縁から接着シートSが剥離される。   Thereafter, the chuck 41 moves the tape guide plate 30 to the right via the linear motor 40 to grip the peeling tape PT, and moves to the left in the gripped state so that the peeling tape PT is pressed against the pressing head. Pull down below 36. Then, as shown in FIG. 1, the pressing head 36 heated by the heater 36 </ b> A is moved downward by the linear motion motor 35, and the peeling tape PT is pressed and applied to the adhesive sheet S while being heated. In this state, the peeling tape PT is cut by the cutter blade 26 on the tape guide plate 30 by operating the cylinders 27 and 28. Next, the linear motor 24 is operated to move the frame F and the detection means 18 upward. Thereafter, as shown in FIG. 2, through the linear motor 38 and the linear motor 38 so that the peeling tape PT attached to the adhesive sheet S and the table 11 move relative to each other in the left-right direction in FIG. The chuck 41 and the table 11 are moved. As a result, the adhesive sheet S is folded back on the wafer W, and the adhesive sheet S is peeled from the outer edge on the left side in the drawing.

接着シートSの剥離が進行している間、検出手段18の各位置センサによりウエハWの上面の位置が検出される。この検出データの基づき制御手段19により変位手段20における加熱手段20A及び冷却手段20Bの作動時間、作動タイミング等を制御し、空間Aを加熱又は冷却してその体積を増大縮小させ、ウエハWの面の高さ位置を調整する。具体的には、ウエハWの面位置を高くする場合、空間Aを加熱すべく加熱手段20Aを作動させる一方、ウエハWの面位置を低くする場合、空間Aを冷却すべく冷却手段20Bを作動させる。   While the peeling of the adhesive sheet S is in progress, the position of the upper surface of the wafer W is detected by each position sensor of the detection means 18. Based on the detected data, the control means 19 controls the operation time, operation timing, and the like of the heating means 20A and the cooling means 20B in the displacement means 20, and heats or cools the space A to increase or decrease the volume thereof. Adjust the height position. Specifically, when the surface position of the wafer W is increased, the heating unit 20A is operated to heat the space A, while when the surface position of the wafer W is decreased, the cooling unit 20B is operated to cool the space A. Let

ここで、図3に示されるように、ウエハWの面がマウント用テープMTと平行となる位置からマウント用テープMT側(同図中下側)に撓んだ形状となるように制御手段19を介して変位手段20を制御することが好ましい。これによれば、剥離シートPTの引っ張りによる上向きの力と、ウエハWの撓みによる下向きの力とを相殺でき、接着シートSの折り返し位置において、ウエハWの面がマウント用テープMTと平行となるようにして、ウエハWに生じるストレスをできるだけ減少させることができる。   Here, as shown in FIG. 3, the control means 19 is formed so that the surface of the wafer W is bent from the position parallel to the mounting tape MT to the mounting tape MT side (lower side in the figure). It is preferable to control the displacement means 20 via According to this, the upward force caused by the pulling of the release sheet PT and the downward force caused by the bending of the wafer W can be offset, and the surface of the wafer W is parallel to the mounting tape MT at the folded position of the adhesive sheet S. Thus, the stress generated on the wafer W can be reduced as much as possible.

接着シートSの剥離を終えると、図示しない搬送手段によりウエハWが次工程に搬送され、剥離された接着シートSは図示しない回収手段によって回収され、その後、フレームF、チャック41、テーブル11が初期位置に復帰した後、上記同様の動作が繰り返されることとなる。   When the peeling of the adhesive sheet S is completed, the wafer W is transported to the next process by a transporting unit (not shown), and the peeled adhesive sheet S is collected by a collecting unit (not shown). Thereafter, the frame F, the chuck 41, and the table 11 are initialized. After returning to the position, the same operation as described above is repeated.

従って、このような実施形態によれば、テーブル11に載置されたウエハWが接着シートS側に膨張したり、マウント用テープMT側に凹んで当該マウント用テープMTに凹部W1底側が付着することを防止することができる。これにより、従来のように、接着シートS剥離時におけるウエハWの割れの発生を防止でき、後工程においてウエハWの処理も難なく行うことが可能となる。   Therefore, according to such an embodiment, the wafer W placed on the table 11 expands toward the adhesive sheet S, or is recessed toward the mounting tape MT and the bottom side of the recess W1 adheres to the mounting tape MT. This can be prevented. As a result, it is possible to prevent the wafer W from being cracked when the adhesive sheet S is peeled off as in the prior art, and the wafer W can be processed without difficulty in the subsequent process.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.
Therefore, the description limited to the shape disclosed above is an example for easy understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The description by the name of the member which remove | excluded one part or all part is included in this invention.

例えば、変位手段20は、空間Aの体積を増大縮小させる加熱手段20A、冷却手段20B以外に、空間Aの下方に位置するテーブル11の一部がマウント用テープMTと共に上下に変位することで、空間Aの体積変更を伴うことなく、凹部W1の底面位置を変位させてウエハWの面位置を所定の位置に変位させるように構成してもよい。   For example, the displacing unit 20 is configured such that, in addition to the heating unit 20A and the cooling unit 20B that increase and decrease the volume of the space A, a part of the table 11 positioned below the space A is displaced up and down together with the mounting tape MT. You may comprise so that the surface position of the wafer W may be displaced to a predetermined position by displacing the bottom face position of the recessed part W1, without changing the volume of the space A.

また、検出手段18の各位置センサや加熱手段20A及び冷却手段20Bの設置位置は種々の変更が可能である。   The position of each position sensor of the detection means 18, the heating means 20A, and the cooling means 20B can be variously changed.

更に、前記直動モータ24、35、40は、エアシリンダ、油圧シリンダ等の変位手段に代えてもよい。   Furthermore, the linear motion motors 24, 35, 40 may be replaced with displacement means such as an air cylinder or a hydraulic cylinder.

また、接着シートSの剥離動作は、直動モータ40によるチャック41の動作を停止させ、テーブル11のみを移動させてもよいし、逆にリニアモータ38によるテーブル11の動作を停止させ、チャック41のみを移動させてもよい。   In the peeling operation of the adhesive sheet S, the operation of the chuck 41 by the linear motor 40 may be stopped and only the table 11 may be moved, or conversely, the operation of the table 11 by the linear motor 38 may be stopped. You may move only.

更に、剥離用テープPTは、感熱接着性の接着テープや感圧接着性の接着テープを使用することができる。   Furthermore, as the peeling tape PT, a heat-sensitive adhesive tape or a pressure-sensitive adhesive tape can be used.

また、加熱手段20Aや冷却手段20Bは、加熱や冷却ができるものであれば、何ら限定されるものではない。   Further, the heating means 20A and the cooling means 20B are not limited as long as they can be heated and cooled.

更に、検出手段18の位置センサは、光電管、カメラ等、対象物との距離を計測できるものであれば何ら限定されることはない上、図1中左右方向のみならず、同図中紙面直交方向に複数列配置してもよい。   Further, the position sensor of the detecting means 18 is not limited as long as it can measure the distance to the object such as a photoelectric tube or a camera, and is not limited to the horizontal direction in FIG. Multiple rows may be arranged in the direction.

また、マウント用テープMTは、ダイシングテープやその他公知の接着シートであってもよい。   The mounting tape MT may be a dicing tape or other known adhesive sheet.

実施形態に係るシート剥離装置の概略正面図。The schematic front view of the sheet peeling apparatus which concerns on embodiment. 接着シートの剥離中の部分概略正面図。The partial schematic front view in the middle of peeling of an adhesive sheet. 接着シート剥離前の一例を示す部分概略正面図。The partial schematic front view which shows an example before an adhesive sheet peeling. (A)〜(C)は、従来例に係る不具合の説明図。(A)-(C) are explanatory drawings of the malfunction which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

10 シート剥離装置
11 テーブル
12 繰出手段
15 押圧手段
16 移動手段
18 検出手段
19 制御手段
20 変位手段
20A 加熱手段
20B 冷却手段
A 空間
MT マウント用テープ
PT 剥離用テープ
RF リングフレーム
S 接着シート
W 半導体ウエハ
W2 凸部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Sheet peeling apparatus 11 Table 12 Feeding means 15 Pressing means 16 Moving means 18 Detection means 19 Control means 20 Displacement means 20A Heating means 20B Cooling means A Space MT Mounting tape PT Stripping tape RF Ring frame S Adhesive sheet W Semiconductor wafer W2 Convex

Claims (5)

マウント用テープを介して一体化された半導体ウエハ及びリングフレームを、マウント用テープ側から支持するテーブルであって、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間を加熱可能な加熱手段と、前記空間を冷却可能な冷却手段とを備えていることを特徴とするテーブル。
A table for supporting a semiconductor wafer and a ring frame integrated via a mounting tape from the mounting tape side,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
Displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position is provided . The displacement means is a heating means capable of heating a space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape, and a cooling means capable of cooling the space. And a table.
マウント用テープを介して一体化された半導体ウエハ及びリングフレームを、マウント用テープ側から支持するテーブルであって、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間の当該マウント用テープ側に位置するテーブルの一部がマウント用テープと共に変位することで、前記空間の体積変更を伴うことなく、前記半導体ウエハの面位置を所定位置に変位可能に設けられていることを特徴とするテーブル。
A table for supporting a semiconductor wafer and a ring frame integrated via a mounting tape from the mounting tape side,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
Displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position is provided . In this displacement means, a part of the table located on the mounting tape side of the space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape is used for mounting. A table provided so as to be able to displace the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position without changing the volume of the space by being displaced together with the tape.
半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離装置において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側から支持するテーブルと、前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する押圧手段と、接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させて接着シートを剥離する移動手段と、これら手段を制御する制御手段とを備え、
前記テーブルは、半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え
前記制御手段は、ウエハの面がマウント用テープ側に撓んだ形状となるように変位手段を制御することを特徴とするシート剥離装置。
In a sheet peeling apparatus for attaching a peeling tape to an adhesive sheet affixed to a semiconductor wafer and peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer via the peeling tape,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A table for supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame from the mounting tape side, a feeding means for feeding out the peeling tape, a pressing means for pressing the peeling tape against an adhesive sheet, and an adhesive sheet A moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape attached to the table and a control means for controlling these means,
The table includes displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position ,
The sheet peeling apparatus according to claim 1, wherein the control means controls the displacing means so that the surface of the wafer is bent toward the mounting tape .
半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離装置において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側から支持するテーブルと、前記剥離用テープを繰り出す繰出手段と、前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する押圧手段と、接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させて接着シートを剥離する移動手段と、これら手段を制御する制御手段とを備え、
前記テーブルは、半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させる変位手段を備え、この変位手段は、前記半導体ウエハとマウント用テープとで囲まれる空間を加熱可能な加熱手段と、前記空間を冷却可能な冷却手段とを備えていることを特徴とするシート剥離装置。
In a sheet peeling apparatus for attaching a peeling tape to an adhesive sheet affixed to a semiconductor wafer and peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer via the peeling tape,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A table for supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame from the mounting tape side, a feeding means for feeding out the peeling tape, a pressing means for pressing the peeling tape against an adhesive sheet, and an adhesive sheet A moving means for peeling the adhesive sheet by relatively moving the peeling tape attached to the table and a control means for controlling these means,
The table includes a displacement means for displacing the surface position of the semiconductor wafer to a predetermined position . The displacement means can heat the space surrounded by the semiconductor wafer and the mounting tape, and can cool the space. A sheet peeling apparatus comprising a cooling means .
半導体ウエハに貼付された接着シートに剥離用テープを貼付し、当該剥離用テープを介して前記接着シートを半導体ウエハから剥離するシート剥離方法において、
前記半導体ウエハは、外縁側の厚みをそれ以外の領域の厚みより大きくすることで当該外縁に沿って形成される凸部を備え、この凸部にマウント用テープを貼付することでリングフレームと一体化され、
前記一体化された半導体ウエハ及びリングフレームをマウント用テープ側からテーブルで支持する工程と、
前記剥離用テープを繰り出す工程と、
前記剥離用テープを接着シートに押圧して貼付する工程と、
前記接着シートに貼付された剥離用テープと前記テーブルとを相対移動させつつ、半導体ウエハの面の位置を検出し、その検出データに基づき半導体ウエハの面位置を所定位置に変位させるよう制御しながら接着シートを剥離する工程とを行うことを特徴とするシート剥離方法。
In a sheet peeling method for sticking a peeling tape to an adhesive sheet affixed to a semiconductor wafer, and peeling the adhesive sheet from the semiconductor wafer via the peeling tape,
The semiconductor wafer is provided with a convex portion formed along the outer edge by making the thickness of the outer edge side larger than the thickness of the other region, and the mounting tape is attached to the convex portion so as to be integrated with the ring frame. And
A step of supporting the integrated semiconductor wafer and ring frame with a table from the mounting tape side;
A step of feeding out the peeling tape;
A step of pressing and adhering the peeling tape to an adhesive sheet;
While detecting the position of the surface of the semiconductor wafer while relatively moving the peeling tape affixed to the adhesive sheet and the table, and controlling the surface position of the semiconductor wafer to be displaced to a predetermined position based on the detection data And a step of peeling the adhesive sheet.
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